KR101228622B1 - 마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치 - Google Patents

마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치에 관한 것으로, 특히 반도체 공정의 핵심장비인 마스크 얼라이너(Mask aligner)의 웨이퍼 스테이지의 레벨링을 초정밀하게 수행하면서 마스크와 웨이퍼가 평행도를 유지하도록 보정하는 것에 관한 것이다.
이러한 본 발명은 다수의 레벨링 에어쇼버를 이용하여 상기 웨이퍼 스테이지를 3점 지지하면서 초정밀의 레벨링을 수행할 수 있도록 하고, 상기 웨이퍼 스테이지를 상하 자유 유동상태로 받쳐주던 스테이지 고정구를 레벨링이 완료됨과 동시에 일시적으로 고정하여 마스크와 웨이퍼 상호 간의 평행도를 변동 없이 유지할 수 있도록 함을 발명의 기술적인 특징으로 한다.

Description

마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치{Stage leveling device for mask aligner}
본 발명은 반도체 공정의 핵심장비인 마스크 얼라이너(Mask aligner)의 웨이퍼 스테이지의 레벨링을 초정밀하게 수행하면서 마스크와 웨이퍼가 평행도를 유지하도록 보정하는 기술에 관한 것이다.
최근 반도체 소자들의 경우, 경쟁력 확보에 필요한 저비용 고품질의 달성을 위해 고집적화가 필수적이다. 고집적화를 위해서는 트랜지스터 소자의 게이트 산화막 두께 및 채널 길이들을 얇고 짧게 하는 작업 등을 포함하는 스케일다운이 수반되며, 그에 따라 반도체 제조공정의 기술 및 제조 시스템도 다양한 형태로 발전되고 있는 추세이다.
반도체 제조공정 중의 하나인 포토리소그래피(photo-lithography) 공정은 웨이퍼 표면에 묻은 이물질을 제거하는 웨이퍼 세정공정, 감광막이 웨이퍼에 잘 접착되도록 웨이퍼의 표면을 처리하는 표면처리공정, 감광막을 웨이퍼에 원하는 두께로
균일하게 도포하는 감광막 도포공정, 마스크 혹은 레티클(이하, '마스크'라 칭함)이 감광막이 도포된 웨이퍼 위에 위치되어 상기 마스크 위에서 광을 노광시킴으로써 마스크에 그려진 회로패턴이 웨이퍼 상에 형성되도록 하는 정렬 및 노광공정, 노광에 의해 변형된 감광막을 세정액을 통해 제거하는 현상공정으로 구성되는데, 특히 정렬/노광공정을 수행하는 반도체 장치를 마스크 얼라이너(Mask aligner)라고 한다.
상기한 통상의 마스크 얼라이너에는 소정의 패턴이 새겨진 마스크가 안착되는 마스크 스테이지(Mask stages)와, 상기 마스크의 패턴이 식각되는 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 스테이지(Waper stage)와, 이들 사이에 설치되는 투영 광학계를 포함한다.
상기 마스크 스테이지에는 회로 패턴이 형성된 마스크를 안착하고, 상기 웨이퍼 스테이지는 진공으로 흡착된 웨이퍼를 안착한 후 수평 및 수직으로 이동함으로써 노광할 위치를 선정하게 된다.
이와 같은 마스크 얼라이너에 관련한 선행기술로는 「특허출원 제2009-0014342호, 명칭/ 하나의 마스크로 다수의 포토리소그래피작업을 수행하는 마스크얼라이너장치와 이를 이용한 방법」이 제안되고 있다.
상기 선행기술은 웨이퍼를 재치하는 웨이퍼 장착수단을 2차원의 x, y 방향으로 이동 가능하게 하고, 마스크를 지지하는 마스크 장착수단을 2차원의 x, y 방향으로 이동 가능하게 하는 기술이 개시된다.
이와 같은 선행기술을 포함하는 여타 모든 마스크 얼라이너는 2차원의 x, y방향으로만 웨이퍼 장착수단이나 마스크 장착수단을 이동시킬 수 있을 뿐 노광시 웨이퍼의 표면에 나타나는 포커스 불량을 없애기 위한 핵심기술의 최대 관건인 상기 마스크와 웨이퍼 상호 간에 평행도를 유지하도록 보정하는 기술에 대해서는 전혀 개시된 바가 없는 것이었다.
그러나 상기 마스크 얼라이너의 생산과정에서 아주 미세한 설계 및 가공오차는 발생하게 마련이고, 이로 인해 상기 웨이퍼 스테이지에 안착되는 웨이퍼는 아주 미세하게나마 기울어진 경우 렌즈부를 통과한 광은 웨이퍼 상의 정해진 곳(focus)에서 벗어나게 된다. 즉 노광 시 웨이퍼 표면에 국부적인 포커스 불량(디포커스;defocus)이 나타나게 된다.
이로 인해 결국에는 반도체 소자의 품질 및 수율이 저하되는 문제점이 발생함은 물론 디포커스로 인해 마스크의 패턴이 웨이퍼에 정확히 형성되지 않는 문제점이 발생한다.
본 발명은 상기한 종래의 마스크 얼라이너가 내포하고 있는 제반 문제점을 적극적으로 해소하기 위한 것으로, 다수의 레벨링 에어쇼버를 이용하여 상기 웨이퍼 스테이지를 3점 지지하면서 초정밀의 레벨링을 수행할 수 있도록 하고, 상기 웨이퍼 스테이지를 상하 자유 유동상태로 받쳐주던 스테이지 고정구를 레벨링이 완료됨과 동시에 일시적으로 고정하여 마스크와 웨이퍼 상호 간의 평행도를 변동 없이 유지할 수 있도록 함을 발명의 해결과제로 한다.
또한, 본 발명은 상기 웨이퍼 스테이지의 외면을 판스프링의 탄성력을 이용하여 한 쌍의 기준블럭에 밀착되게 밀어주면서 정확한 중심위치를 자동으로 조정할 수 있도록 함을 발명의 해결과제로 한다.
본 발명은 상기한 과제를 해결하기 위한 수단으로 하판의 상부에 다수의 연결봉을 매개로 상판을 이격 설치하고, 상기 상판의 저면에 원주방향을 따라 다수의 레벨링 에어쇼버를 설치하되 상단에 형성된 3점 지지핀은 상판을 관통하여 상부로 노출 설치하며, 상기 상판의 상부에는 웨이퍼 스테이지를 3점 지지핀에 안착 설치하는 한편, 상기 웨이퍼 스테이지에 원주방향을 따라 다수의 가이드볼트를 상하로 관통하여 상판에 일체로 나사결합하고, 상기 하판 및 상판의 사이에는 원주방향을 따라 다수의 고정구 가이드홀더를 연결 설치하며, 상기 고정구 가이드홀더의 내부에는 상판을 관통하여 외부로 노출된 스테이지 고정구를 스프링을 이용하여 상하 자유 유동가능하게 탄력 설치하고, 상기 고정구 가이드홀더와 인접하는 상판의 상부면에는 스테이지 고정실린더를 설치하되 상기 스테이지 고정실린더의 가압헤드는 고정구 가이드홀더를 관통하여 선택적으로 스테이지 고정구를 가압 고정하는 기술을 강구한다.
본 발명에 따르면, 마스크 얼라이너의 생산과정에서 설계 및 가공 상의 미세한 오차가 발생하더라도 상기 웨이퍼 스테이지의 레벨링을 통해 상기 마스크 및 웨이퍼가 상호 간 평행도를 유지하도록 자동 보정함으로써 노광 시 상기 웨이퍼 표면에 발생할 우려가 크던 디포커스 현상을 불식하여 웨이퍼의 품질 및 수율을 획기적으로 향상함은 물론 마스크의 패턴이 웨이퍼에 더욱 정확하게 형성됨으로써 저비용 고품질의 웨이퍼를 양산할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 상기 웨이퍼 스테이지의 중심위치를 자동으로 조정함으로써 마스크의 패턴이 웨이퍼의 표면을 벗어나서 형성되는 오차 발생을 없애 제품의 불량률을 더욱 감소시키는 효과를 제공한다.
도 1은 본 발명이 적용된 스테이지 레벨링장치의 정면도
도 2는 본 발명 스테이지 레벨링장치의 측면도
도 3은 본 발명 도 1의 A-A선 단면도
도 4는 본 발명 스테이지 레벨링장치의 정단면도
도 5는 본 발명의 하판, 상판 및 웨이퍼 스테이지의 분리사시도
도 6은 본 발명 레벨링 에어쇼버의 작동상태 확대단면도
도 7은 본 발명의 스테이지 고정실린더의 작동에 따라 스테이지 고정구가 고정된 상태의 확대단면도
도 8은 본 발명의 상판에 기준블럭 및 판 스프링이 설치된 상태의 평면도
도 9는 본 발명 판 스프링의 설치상태 측단면도
도 10은 본 발명 기준블럭의 설치상태 측단면도
본 발명이 해결하고자 하는 과제의 해결수단을 보다 구체적으로 구현하기 위한 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.
본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 스테이지 레벨링장치(L)의 전체적인 구성을 첨부된 도면에 의거 개략적으로 살펴보면, Z축 방향으로 이동가능하게 설치되는 하판(10)과; 상기 하판(10)의 상부에 이격 설치된 상판(20)과; 상기 상판(20)의 저면에 원주방향을 따라 부착되고, 피스톤로드(31)의 상단에 형성된 3점 지지핀(32)은 상기 상판(20)을 관통하여 상부로 노출된 다수의 레벨링 에어쇼버(30)와; 상기 3점 지지핀(32)의 상단에 안착 설치되는 웨이퍼 스테이지(40)와; 상기 웨이퍼 스테이지(40)를 관통하여 상판(20)에 나사결합되는 다수의 가이드볼트(50)와; 상기 하판(10) 및 상판(20)의 사이에 원주방향을 따라 연결 설치된 다수의 고정구 가이드홀더(60)와; 상기 고정구 가이드홀더(60)의 내부에 상하 이동가능하게 설치되고, 상단에 형성된 고정돌기(71)는 상기 상판(20)을 관통하여 웨이퍼 스테이지(40)의 저면에 밀착되는 스테이지 고정구(70)와; 상기 스테이지 고정구(70)와 하판(10)의 사이에 탄력 설치되는 스프링(80)과; 상기 고정구 가이드홀더(60)와 인접하여 하판(10)에 고정설치되고, 피스톤로드(91)의 선단에 형성된 가압헤드(93)는 고정구 가이드홀더(60)를 관통하여 선택적으로 스테이지 고정구(70)를 가압 고정하는 스테이지 고정실린더(90)의 유기적인 결합구성으로 이루어짐을 알 수 있다.
이하, 상기 개략적인 구성으로 이루어진 본 발명을 실시 용이하도록 좀더 상세하게 설명하기로 한다.
본 발명의 하판(10)은 공지된 Z축 이동장치에 의해 Z축 방향으로 이동가능하게 설치되고, 상기 하판(10)의 상부에는 와셔 형상의 상판(20)이 이격 설치되되 상기 하판(10)과 상판(20)은 원주방향을 따라 동일간격으로 배치된 다수의 연결봉(21)을 매개로 일체화 연결된다.
상기 상판(20)의 저면에는 원주방향을 따라 등간격으로 다수의 레벨링 에어쇼버(30)가 일체로 부착되고, 상기 레벨링 에어쇼버(30)의 피스톤로드(31)의 상단에 형성되는 3점 지지핀(32)은 상기 상판(20)에 형성된 핀 작동공(22)을 관통하여 상부로 노출됨으로써 웨이퍼 스테이지(40)를 3점 지지할 수 있게 된다.
여기에서 본 발명의 레벨링 에어쇼버(30)의 내부에는 에어가 공급됨으로써 완충력을 발휘하게 되고, 상기 에어의 공급량에 따라 완충력을 미세하게 조절할 수 있으며, 특히 본 발명에서는 3개소에 설치됨으로써 가장 안정적으로 웨이퍼 스테이지(40)를 3점 지지함은 물론 레벨링을 원활하게 수행할 수 있게 된다.
나아가 상기 3점 지지핀(32)은 상단부가 반구형으로 형성됨으로써 웨이퍼 스테이지(40)와 점 접촉을 이루면서 더욱 원활하게 레벨링을 수행한다.
그리고 상기 레벨링 에어쇼버(30)의 하측 부위는 상기 하판(10)에 접촉하면서 간섭됨을 방지할 수 있도록 상기 레벨링 에어쇼버(30)의 하측 선상에 위치하는 하판(10)의 해당 지점에는 다수의 간섭방지 요부(11)가 방사상으로 함몰 형성된다.
상기 3점 지지핀(32)의 상단에 웨이퍼 스테이지(40)가 안착되고, 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 상부에는 공지된 웨이퍼 척(1)이 설치됨으로써 웨이퍼(2)를 진공흡착으로 고정할 수 있게 된다.
상기 웨이퍼 스테이지(40)는 원주방향을 따라 다수의 볼트 체결공(41)이 형성되고, 도 9와 같이 상기 볼트 체결공(41)을 관통하여 다수의 가이드볼트(50)가 결합되며, 상기 가이드볼트(50)의 하측은 상판(20)을 관통하여 나사결합된 채 록크너트(52)가 결합됨으로써 상기 웨이퍼 스테이지(40)가 상판(20)과 분리되지 않는 일체성을 유지할 뿐만 아니라 레벨링을 수행할 때에는 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 하부 이동을 원활하게 안내하며, 상기 웨이퍼 스테이지(40)와 상판(20)과의 간격을 일정하게 유지시키는 초기 설정을 자유롭게 조절할 수 있는 효과를 제공한다.
한편, 상기 하판(10) 및 상판(20)은 상호 마주하는 면에 원주방향을 따라 등간격으로 다수의 홀더 끼움홈(14)(24)이 함몰 형성되고, 상기 홀더 끼움홈(14)(24)에는 원통형을 갖는 다수의 고정구 가이드홀더(60)의 양측이 끼움 상태로 일체화 연결 설치된다.
이와 같은 고정구 가이드홀더(60)의 내부에는 스테이지 고정구(70)가 상하 자유 이동가능하게 설치되되 상기 스테이지 고정구(70)의 상단에 형성되는 고정돌기(71)는 상판(20)을 관통하여 웨이퍼 스테이지(40)의 저면에 밀착되며, 상기 스테이지 고정구(70)와 하판(10)의 사이에는 스프링(80)이 탄력 설치됨으로써 상기 스테이지 고정구(70)는 상하 자유 유동상태를 유지할 수 있게 된다.
이때 상기 고정돌기(71)는 3점 지지핀(32)가 동일하게 상단부가 반구형으로 형성됨으로써 웨이퍼 스테이지(40)와 점 접촉을 이루면서 레벨링을 수행함에 있어 작동의 원활성을 제공하고, 상기 스테이지 고정구(70)의 저면에는 스프링 지지홈(72)이 추가로 함몰 형성되고, 상기 스프링 지지홈(72)에 스프링(80)의 상부가 더욱 안정적으로 끼움 지지됨으로써 압축/팽창과정에서 뒤틀림을 효과적으로 방지한다.
아울러 상기 고정구 가이드홀더(60)의 내부 하측에는 상단에 안착홈(74)이 형성된 스프링 피스톤(75)이 추가로 삽입 설치되고, 상기 안착홈(74)에는 스프링(80)의 하부가 안착되며, 상기 스프링 피스톤(75)의 하측에 위치하는 하판(10)을 관통하여 탄성 조절구(76)가 나사결합됨으로써 상기 탄성 조절구(76)의 정역회전 조작에 따라 상기 스프링 피스톤(75)은 상하로 이동하면서 상기 스프링(80)의 탄성을 자유롭게 조절할 수 있게 된다.
또한, 상기 고정구 가이드홀더(60)와 인접하여 하판(10)의 상부면에는 스테이지 고정실린더(90)가 고정설치되고, 상기 스테이지 고정실린더(90)의 피스톤로드(94) 선단에는 가압헤드(93)가 형성되며, 상기 가압헤드(93)는 고정구 가이드홀더(60)에 형성된 헤드 통공(73)을 관통하여 선형운동을 하면서 선택적으로 상기 스테이지 고정구(70)의 측면을 가압하면서 고정상태를 유지한다.
즉, 상기 스테이지 고정구(70)는 스프링(80)의 탄성력을 제공받아 레벨링을 수행할 때에는 상하 자유 유동상태로 상기 웨이퍼 스테이지(40)를 안정적으로 받쳐주며, 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 레벨링이 완료되면 스테이지 고정실린더(90)의 작동에 따라 일시적으로 고정상태를 유지하면서 상기 웨이퍼 스테이지(40)를 고정시키는 역할을 수행함으로써 마스크(3)와 웨이퍼(2)가 상호 초정밀의 평행도를 유지할 수 있게 된다.
이러한 구성으로 이루어진 본 발명은 Z축 이동장치의 작동에 따라 하판(10)을 비롯한 상기 스테이지 레벨링장치(L) 전체가 Z축 방향으로 승강하면 웨이퍼 척(1)에 안착되는 웨이퍼(2)는 함께 승강하면서 마스크 장착대(4)에 고정상태로 장착된 마스크(3)의 저면 어느 한 지점에 상부면이 밀착된 후 순차적으로 상부면의 전체영역이 밀착되면서 자동 레벨링을 수행함으로써 상기 마스크(3)와 초정밀의 평행도를 유지하는 자동 보정이 이루어진다.
또한, 상기 레벨링 과정에서 3점 지지핀(32)은 상기 마스크(3)에 웨이퍼(2)가 밀착될 때 발생하는 충격을 완전하게 흡수함으로써 마스크(3)나 웨이퍼(2)의 손상을 원천 봉쇄하고, 상기 웨이퍼(2)의 레벨링이 완료되면 웨이퍼 스테이지(40)를 상하 자유 유동상태로 받쳐주던 스테이지 고정구(70)를 일시적으로 고정함으로써 상기 마스크(3)와 웨이퍼(2) 상호 간의 평행도를 변동 없이 유지할 수 있게 된다.
한편, 본 발명은 상기 웨이퍼 스테이지(40)가 X축, Y축 방향으로 유동하지 않고 항상 정확한 중심위치를 유지하도록 자동조정하는 신규의 중심위치 자동조정장치(100)의 기술이 추가로 접목되며, 상기 중심위치 자동조정장치(100)는 상판(20)의 외주면에 설치되는 한 쌍의 기준블럭(101) 및 판 스프링(103)으로 구성된다.
이와 같은 한 쌍의 기준블럭(101)은 도 8 내지 도 10과 같이 상판(20)의 후방 양측 외주면에 각각 일체로 부착되는 것으로, 상부의 내면에는 기준볼(102)이 돌출 형성되고, 상기 기준볼(102)은 웨이퍼 스테이지(40)의 외주면에 밀착됨으로써 상기 웨이퍼 스테이지(40)가 외향으로 밀리지 않고 고정된 기준위치를 제공하는 역할을 수행한다.
또한, 상기 판 스프링(103)은 상판(20)의 전방 중앙 하부면에 일체로 부착된 스프링 고정브라켓(104)의 외면에 부착되는 것으로, 상부의 내면에는 푸싱볼(105)이 돌출 형성되며, 상기 푸싱볼(105)은 판 스프링(103)의 탄성을 이용하여 웨이퍼 스테이지(40)의 외주면을 기준블럭(101) 쪽으로 밀어줌으로써 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 올바른 중심위치를 자동으로 조정하는 특별한 효과를 제공한다.
나아가 상기 푸싱볼(105)은 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 외주면에 함몰 형성된 볼홈(107)에 끼워짐으로써 중심위치 자동보정의 기능을 수행함은 물론 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 회전 유동을 방지하는 효과를 추가 제공한다.
1: 웨이퍼 척 2: 웨이퍼
3: 마스크 4: 마스크 장착대
10: 하판 11: 간섭방지 요부
20: 상판 22: 핀 작동공
30: 레벨링 에어쇼버 32: 3점 지지핀
40: 웨이퍼 스테이지 50: 가이드볼트
60: 고정구 가이드홀더 70: 스테이지 고정구
71: 고정돌기 72: 스프링 지지홈
74: 안착홈 75: 스프링 피스톤
76: 탄성 조절구 80: 스프링
90: 스테이지 고정실린더 93: 가압헤드
100: 중심위치 자동조정장치 101: 기준블럭
102: 기준볼 103: 판 스프링
104: 스프링 고정브라켓 105: 푸싱볼

Claims (8)

  1. Z축 방향으로 이동가능하게 설치되고, 레벨링 에어쇼버(30)가 간섭됨을 방지하는 다수의 간섭방지 요부(11)가 방사상으로 함몰 형성된 하판(10)과;
    상기 하판(10)의 상부에 이격 설치되되 다수의 연결봉(21)을 매개로 하판(10)과 일체화 연결된 상판(20)과;
    상기 상판(20)의 저면에 원주방향을 따라 부착되고, 피스톤로드(31)의 상단에 형성된 3점 지지핀(32)은 상기 상판(20)을 관통하여 상부로 노출된 다수의 레벨링 에어쇼버(30)와;
    상기 3점 지지핀(32)의 상단에 안착 설치되는 웨이퍼 스테이지(40)와;
    상기 웨이퍼 스테이지(40)를 관통하여 상판(20)에 나사결합되는 다수의 가이드볼트(50)와;
    상기 하판(10) 및 상판(20)의 사이에 원주방향을 따라 연결 설치된 다수의 고정구 가이드홀더(60)와;
    상기 고정구 가이드홀더(60)의 내부에 상하 이동가능하게 설치되고, 상단에 형성된 고정돌기(71)는 상기 상판(20)을 관통하여 웨이퍼 스테이지(40)의 저면에 밀착되는 스테이지 고정구(70)와;
    상기 스테이지 고정구(70)와 하판(10)의 사이에 탄력 설치되는 스프링(80)과;
    상기 고정구 가이드홀더(60)와 인접하여 하판(10)에 고정설치되고, 피스톤로드(91)의 선단에 형성된 가압헤드(93)는 고정구 가이드홀더(60)를 관통하여 선택적으로 스테이지 고정구(70)를 가압 고정하는 스테이지 고정실린더(90)로 이루어진 것을 특징으로 하는 마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서,
    3점 지지핀(32) 및 고정돌기(71)의 상단부는 상기 웨이퍼 스테이지(40)와 점 접촉에 의한 원활한 레벨링을 위해 반구형으로 형성된 것을 특징으로 하는 마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    하판(10)을 포함하는 스테이지 레벨링장치(L)의 승강시 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 상단에 설치되는 웨이퍼 척(1)에 안착되는 웨이퍼(2)는 마스크 장착대(4)에 장착된 마스크(3)의 저면에 전면 밀착되면서 자동 레벨링을 수행하고, 상기 3점 지지핀(32)은 상기 마스크(3)에 웨이퍼(2)가 밀착될 때 발생하는 충격을 흡수하는 것을 특징으로 하는 마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    스테이지 고정구(70)의 저면에는 스프링 지지홈(72)이 추가로 함몰 형성되고, 상기 스프링 지지홈(72)에 스프링(80)의 상부가 끼움 지지되는 것을 특징으로 하는 마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    고정구 가이드홀더(60)의 내부 하측에는 스프링 피스톤(75)이 추가로 삽입 설치되고, 상기 스프링 피스톤(75)의 상단에 형성된 안착홈(74)에 스프링(80)의 하부가 안착되며, 상기 스프링 피스톤(75)은 하판(10)을 관통하여 나사결합된 탄성 조절구(76)의 조작에 따라 상하로 이동하면서 상기 스프링(80)의 탄성을 조절하는 것을 특징으로 하는 마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상판(20)의 외주면에는 중심위치 자동조정장치(100)가 추가로 구비되고, 상기 중심위치 자동조정장치(100)는;
    상기 상판(20)의 후방 양측 외면에 각각 부착되고, 상부 내면에 돌출 형성된 기준볼(102)은 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 외면에 밀착되면서 기준위치를 제공하는 한 쌍의 기준블럭(101)과;
    상기 상판(20)의 전방 중앙 하부면에 스프링 고정브라켓(104)이 부착되고, 상기 스프링 고정브라켓(104)의 외면에 부착되되, 상부 내면에 돌출 형성된 푸싱볼(105)은 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 외면을 기준블럭(101) 쪽으로 밀어주어 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 중심위치를 자동조정하는 판 스프링(103)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치.
  8. 제 7항에 있어서,
    푸싱볼(105)은 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 외면에 함몰 형성된 볼홈(107)에 끼워지면서 상기 웨이퍼 스테이지(40)의 회전 유동을 방지하는 것을 특징으로 하는 마스크 얼라이너용 스테이지 레벨링장치.
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