CN219225300U - 曝光机及其吸盘 - Google Patents

曝光机及其吸盘 Download PDF

Info

Publication number
CN219225300U
CN219225300U CN202223417170.9U CN202223417170U CN219225300U CN 219225300 U CN219225300 U CN 219225300U CN 202223417170 U CN202223417170 U CN 202223417170U CN 219225300 U CN219225300 U CN 219225300U
Authority
CN
China
Prior art keywords
sucker
suction cup
hole
main body
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202223417170.9U
Other languages
English (en)
Inventor
贾成建
时文
邱明正
廖嘉禾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Changzhou Chengxin Semiconductor Co Ltd
Original Assignee
Changzhou Chengxin Semiconductor Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Changzhou Chengxin Semiconductor Co Ltd filed Critical Changzhou Chengxin Semiconductor Co Ltd
Priority to CN202223417170.9U priority Critical patent/CN219225300U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN219225300U publication Critical patent/CN219225300U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

本实用新型公开了一种曝光机及其吸盘,所述吸盘包括:吸盘主体,用于承载晶圆,所述吸盘主体具有多个贯穿的主体孔洞;吸盘配件,所述吸盘配件的形状与所述主体孔洞的形状匹配,所述吸盘配件可拆卸地装入所述主体孔洞。使用上述技术方案能够降低吸盘的维护成本。

Description

曝光机及其吸盘
技术领域
本实用新型涉及半导体设备领域,更具体地,其涉及一种曝光机及其吸盘。
背景技术
曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线,将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备。曝光机需要利用吸盘对晶圆进行吸附,以对晶圆进行一系列的处理。
现有技术中在对晶圆制作正面制程与制作背面制程时需要用到不同类型的吸盘,以满足不同的制作需求。但多种类型的吸盘所需的维护成本较高。
实用新型内容
本实用新型解决的技术问题是如何降低吸盘的维护成本。
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种曝光机的吸盘,所述吸盘包括:吸盘主体,用于承载晶圆,所述吸盘主体具有多个贯穿的主体孔洞;吸盘配件,所述吸盘配件的形状与所述主体孔洞的形状匹配,所述吸盘配件可拆卸地装入所述主体孔洞。
可选地,所述吸盘配件在装入所述主体孔洞的状态下,所述吸盘配件的顶部表面与所述吸盘主体的顶部表面齐平。
可选地,所述主体孔洞位于所述吸盘主体的顶部表面的开口大于位于所述吸盘主体的底部表面的开口。
可选地,所述主体孔洞的侧壁呈斜坡状或台阶状。
可选地,所述吸盘配件的顶部表面具有第一凹槽以及与所述第一凹槽连通的第一孔洞,所述吸盘配件的底部表面具有第二孔洞,所述吸盘配件的内部具有第一真空通道,所述第一真空通道与所述第一孔洞和所述第二孔洞连通。
可选地,所述吸盘主体的顶部表面具有第二凹槽以及与所述第二凹槽连通的第三孔洞,所述吸盘主体的底部表面具有第四孔洞,所述吸盘主体的内部具有第二真空通道,所述第二真空通道与所述第三孔洞与所述第四孔洞连通。
可选地,所述第一凹槽与所述第二凹槽不连通。
可选地,所述吸盘配件的底部表面具有凸起,所述第二孔洞位于所述凸起上,所述凸起用于连接真空管。
可选地,所述主体孔洞的数量为两个,且所述主体孔洞相对于所述吸盘主体的中心对称。
本实用新型还公开了一种曝光机,所述曝光机包括所述吸盘。
与现有技术相比,本实用新型的技术方案具有以下有益效果:
本实用新型实施例提出一种曝光机的吸盘,吸盘包括吸盘主体和吸盘配件,吸盘主体用于承载晶圆,具有多个贯穿的主体孔洞;吸盘配件的形状与主体孔洞的形状匹配,可以拆卸地装入所述主体孔洞。本实用新型技术方案可以根据不同的使用场景对吸盘主体上的吸盘配件进行安装或拆卸。在对晶圆制作正面制程时,可以使用装有吸盘配件的吸盘主体对晶圆进行吸附。安装有吸盘配件的吸盘主体能够更好地对晶圆进行吸附,提升吸盘与晶圆之间的吸附紧密度,保证晶圆上曝光得到的图形的解析度。在对晶圆制作背面制程时,可以使用未安装吸盘配件的吸盘主体对晶圆进行吸附,使曝光机能够通过主体孔洞对晶圆上的靶标进行定位。通过对吸盘配件进行安装或拆卸,能够使吸盘可以同时适用于不同的使用场景,无需针对每一使用场景配置不同类型的吸盘,有利于降低吸盘的维护成本;并且吸盘配件的安装与拆卸较于更换吸盘所花费的时间更少,进而有利于提升曝光机的工作效率。
进一步地,将主体孔洞位于吸盘主体的顶部表面的开口的大小设置为大于位于吸盘主体的底部表面的开口,使吸盘配件在放入主体孔洞时无需其他配件即可利用自身的重量固定于主体孔洞之中,进一步提升对吸盘配件进行安装与拆卸的便捷性。
附图说明
图1是本实用新型实施例提供的一种曝光机的吸盘的俯视结构示意图;
图2是本实用新型实施例提供的一种吸盘配件的三视图;
图3是本实用新型实施例提供的另一种吸盘配件的三视图;
图4是本实用新型实施例提供的一种曝光机的立体结构示意图;
图5是本实用新型实施例提供的一种曝光机的具体结构示意图。
具体实施方式
如背景技术中所述,曝光机需要利用吸盘对晶圆进行吸附,以对晶圆进行一系列的处理。现有技术中在对晶圆制作正面制程与制作背面制程时需要用到不同类型的吸盘,以满足不同的制作需求。但多种类型的吸盘所需的维护成本较高。
本实用新型实施例中提出一种曝光机的吸盘,吸盘包括吸盘主体和吸盘配件,吸盘主体用于承载晶圆,具有多个贯穿的主体孔洞;吸盘配件的形状与主体孔洞的形状匹配,可以拆卸地装入所述主体孔洞。本实用新型技术方案可以根据不同的使用场景对吸盘主体上的吸盘配件进行安装或拆卸。在对晶圆制作正面制程时,可以使用装有吸盘配件的吸盘主体对晶圆进行吸附。安装有吸盘配件的吸盘主体能够更好地对晶圆进行吸附,提升吸盘与晶圆之间的吸附紧密度,保证晶圆上曝光得到的图形的解析度。在对晶圆制作背面制程时,可以使用未安装吸盘配件的吸盘主体对晶圆进行吸附,使曝光机能够通过主体孔洞对晶圆上的靶标进行定位。通过对吸盘配件进行安装或拆卸,能够使吸盘可以同时适用于不同的使用场景,无需针对每一使用场景配置不同类型的吸盘,有利于降低吸盘的维护成本;并且吸盘配件的安装与拆卸较于更换吸盘所花费的时间更少,进而有利于提升曝光机的工作效率。
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施例做详细的说明。显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
图1是本实用新型实施例提供的一种曝光机的吸盘的俯视结构示意图。
如图1所示,吸盘包括吸盘主体10与吸盘配件20。吸盘主体10用于承载晶圆。
在具体实施方式中,吸盘主体10具有贯穿的主体孔洞101。
在一个非限制性的实施例中,主体孔洞101位于吸盘主体10的顶部表面的开口大于位于吸盘主体10的底部表面的开口,也即主体孔洞101上开口的面积大于主体孔洞101下开口的面积。通过对主体孔洞101的上开口和下开口的面积进行设置,可以使吸盘配件20在装入主体孔洞101后可以利用自身重量固定于主体孔洞101中,并且便于吸盘配件20的安装与拆卸。
在本实施例中,主体孔洞101的上开口形状为正方形,主体孔洞101的下开口形状为正方形。
在其他实施例中,主体孔洞101的上开口形状和下开口形状还可以是圆形或三角形等形状。
需要说明的是,主体孔洞101的上开口形状和下开口形状可以根据实际情况进行选择,上开口和下开口的形状可以相同,也可以不同,本申请对此不作限制。
在具体实施方式中,主体孔洞101的侧壁可以呈斜坡状或台阶状。
需要说明的是,主体孔洞101的侧壁形状可以根据实际情况进行选择,本申请对此不作限制。
在一个非限制性的实施例中,吸盘配件20的形状与主题孔洞101的形状匹配,也即吸盘配件20在装入主体孔洞101时可以完整地填充主体孔洞101,使吸盘配件20与主体孔洞101之间不具有缝隙,或者缝隙的宽度小于允许的误差范围。吸盘配件20能够可拆卸地装入主体孔洞101中,使吸盘能够更方便地在不同的形态之间切换,大大提升了对吸盘配件20进行安装与拆卸的效率。
需要说明的是,还可以在吸盘主体10和吸盘配件20之间设置锁扣,该锁扣用于将吸盘配件20固定在吸盘主体10上,以确保吸盘配件20装入吸盘主体10后能够更加牢固地固定于主体孔洞101中,防止吸盘配件20脱落。关于锁扣的结构以及位置可以根据实际情况进行选择,本申请对此不作限制。
在具体实施方式中,吸盘配件20在装入主体孔洞101的状态下,吸盘配件20的顶部表面与吸盘主体10的顶部表面齐平,使吸盘在对晶圆制作正面制程时能够均匀地对晶圆进行吸附,避免出现吸盘的部分位置因吸附力度不足而导致该位置的晶圆上图形解析度低的情况。
在一个非限制性的实施例中,吸盘配件20的顶部表面具有第一凹槽201以及与第一凹槽201连通的第一孔洞202。吸盘主体10的顶部表面具有第二凹槽102以及与第二凹槽102连通的第三孔洞103。第一凹槽201与第二凹槽102连通。
在具体实施方式中,吸盘配件20的底部表面具有第二孔洞,吸盘配件20的内部具有第一真空通道,第一真空通道与第一孔洞202和第二孔洞连通。在将吸盘配件20装入吸盘主体10后,可以将真空管与第二孔洞连接,利用真空管对第一凹槽201中的空气进行抽取,以在吸盘配件20的顶部表面形成真空区域,辅助吸盘主体10完成对晶圆的吸附。
在一个具体的实施例中,在对晶圆制作正面制程时,可以在吸盘主体10上装入吸盘配件20。在装入吸盘配件20后,可以使位于第一孔洞101上的晶圆能够被吸盘配件20吸附,提升吸盘对于晶圆的吸附能力,确保曝光机对晶圆进行图形化时晶圆能够牢固地吸附于吸盘上,从而保证图形解析度符合需求。
在具体实施方式中,吸盘主体10的底部表面具有第四孔洞,吸盘主体10的内部具有第二真空通道,第二真空通道与第三孔洞103和第四孔洞连通。当需要利用吸盘主体10对晶圆进行吸附时,可以将真空管与第四孔洞连接,利用真空管对第二凹槽102中的空气进行抽取,以在吸盘主体10的顶部表面形成真空区域,实现对晶圆的吸附。第一凹槽201与第二凹槽102不存在连接关系,即第一凹槽201与第二凹槽102不连通。避免使用吸盘主体10对晶圆进行吸附时出现漏气而无法形成真空区域的情况。
需要说明的是,第一凹槽201和第二凹槽102的形状可以根据实际情况选择,本申请对此不作限制。
在一个非限制性的实施例中,可以在吸盘配件20的底部设置凸起,以便于真空管与吸盘配件20进行连接。此时,第二孔洞位于该凸起上。相应地,也可以在吸盘主体10的底部设置凸起,以便于真空管与吸盘主体10进行连接。
在本实用新型实施例中,吸盘包括吸盘主体10和吸盘配件20,用户可以在对晶圆制作正面制程时在吸盘主体10上装入吸盘配件20,使吸盘主体10和吸盘配件20共同对晶圆进行吸附,提升正面制程时吸盘的吸附能力,确保图形的解析度。用户还可以在对晶圆制作背面制程时卸下吸盘配件,曝光机可以通过主体孔洞101完成对晶圆的定位。通过吸盘配件20的装入与拆卸即可使吸盘能够适用于不同的使用场景,节省了多个吸盘的维护费用。且吸盘配件20的装入与拆卸十分简便,在使用场景变化时只需要对吸盘配件20进行移动,大大提升了曝光机的工作效率。
图2是本实用新型实施例提供的一种吸盘配件的三视图。
如图2所示,在吸盘配件的顶部表面具有第一孔洞201以及第一凹槽202,第一孔洞201与第一凹槽202连通。吸盘配件的底部表面具有第二孔洞203,第一孔洞201和第二孔洞203通过第一真空通道204连通。
其中,吸盘配件的底部表面可以具有凸起205,凸起205可以用于连接真空管,以便于真空管的安装。在设置有凸起205时,第二孔洞203位于凸起205上。
在本实施例中,吸盘配件的形状为棱台形状,吸盘主体中主体孔洞的侧壁呈斜坡状,以在吸盘配件装入主体孔洞时固定吸盘配件。
图3是本实用新型实施例提供的另一种吸盘配件的三视图。
如图3所示,在吸盘配件的顶部表面具有第一孔洞201以及第一凹槽202,第一孔洞201与第一凹槽202连通。吸盘配件的底部表面具有第二孔洞203,第一孔洞201和第二孔洞203通过第一真空通道204连通。
与图2不同的是,吸盘配件的侧面呈台阶状。相应地,吸盘主体中主体孔洞的侧壁呈台阶状,以在吸盘配件装入主体孔洞时利用台阶结构固定吸盘配件。
图4是本实用新型实施例提供的一种曝光机的立体结构示意图。现结合图5对图4提供的曝光机的各个部件进行说明。
如图5所示,曝光机包括照明装置301、上对准镜头302、光罩平台303、吸盘主体10、吸盘配件20、下对准镜头304、Z轴运动组件305、X轴运动组件306、Y轴运动组件307和θ轴运动组件308,θ轴运动组件308环绕Z轴运动组件305。
在具体实施方式中,照明装置301产生紫外光,紫外光利用光罩平台303在晶圆上形成电路图形。Z轴运动组件305、X轴运动组件306、Y轴运动组件307和θ轴运动组件308能够对吸盘的位置进行调整,使曝光焦面对准。Z轴运动组件305能够调整吸盘的高度,X轴运动组件306和Y轴运动组件307能够调整吸盘的水平位置,θ轴运动组件308能够调整吸盘的旋转角度。上对准镜头302和下对准镜头304用于对晶圆进行对位。下对准镜头304位于吸盘下方,需要透过吸盘主体上的主体孔洞对晶圆进行对位。
在具体实施方式中,利用两个下对准镜头304即可对晶圆的位置进行确定,因此可以在吸盘主体10上设置两个主体孔洞,主体孔洞相对于吸盘主体10的中心对称。相应地,吸盘配件20的数量与主体孔洞的数量一致,吸盘配件20的数量为两个。
在本实用新型实施例中,吸盘配件20的装入与拆卸方法简单,通过对吸盘配件20进行装入与拆卸即可使曝光机适用于不同的使用场景,同时不需要对吸盘主体10进行拆卸和更换。相较于使用多个吸盘适用于不同的使用场景,本实用新型实施例无需频繁更换吸盘,避免频繁更换吸盘导致吸盘与Z轴运动组件305连接处的磨损。同时吸盘配件20的装入与拆卸更为便捷,可以缩短曝光过程所需时间,降低生产成本。
虽然本实用新型披露如上,但本实用新型并非限定于此。任何本领域技术人员,在不脱离本实用新型的精神和范围内,均可作各种更动与修改,因此本实用新型的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (10)

1.一种曝光机的吸盘,其特征在于,包括:
吸盘主体,用于承载晶圆,所述吸盘主体具有多个贯穿的主体孔洞;
吸盘配件,所述吸盘配件的形状与所述主体孔洞的形状匹配,所述吸盘配件可拆卸地装入所述主体孔洞。
2.根据权利要求1所述的吸盘,其特征在于,所述吸盘配件在装入所述主体孔洞的状态下,所述吸盘配件的顶部表面与所述吸盘主体的顶部表面齐平。
3.根据权利要求1所述的吸盘,其特征在于,所述主体孔洞位于所述吸盘主体的顶部表面的开口大于位于所述吸盘主体的底部表面的开口。
4.根据权利要求3所述的吸盘,其特征在于,所述主体孔洞的侧壁呈斜坡状或台阶状。
5.根据权利要求1所述的吸盘,其特征在于,所述吸盘配件的顶部表面具有第一凹槽以及与所述第一凹槽连通的第一孔洞,所述吸盘配件的底部表面具有第二孔洞,所述吸盘配件的内部具有第一真空通道,所述第一真空通道与所述第一孔洞和所述第二孔洞连通。
6.根据权利要求5所述的吸盘,其特征在于,所述吸盘主体的顶部表面具有第二凹槽以及与所述第二凹槽连通的第三孔洞,所述吸盘主体的底部表面具有第四孔洞,所述吸盘主体的内部具有第二真空通道,所述第二真空通道与所述第三孔洞与所述第四孔洞连通。
7.根据权利要求6所述的吸盘,其特征在于,所述第一凹槽与所述第二凹槽不连通。
8.根据权利要求6所述的吸盘,其特征在于,所述吸盘配件的底部表面具有凸起,所述第二孔洞位于所述凸起上,所述凸起用于连接真空管。
9.根据权利要求1所述的吸盘,其特征在于,所述主体孔洞的数量为两个,且所述主体孔洞相对于所述吸盘主体的中心对称。
10.一种曝光机,其特征在于,包括权利要求1至9任一项所述的吸盘。
CN202223417170.9U 2022-12-20 2022-12-20 曝光机及其吸盘 Active CN219225300U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202223417170.9U CN219225300U (zh) 2022-12-20 2022-12-20 曝光机及其吸盘

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202223417170.9U CN219225300U (zh) 2022-12-20 2022-12-20 曝光机及其吸盘

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN219225300U true CN219225300U (zh) 2023-06-20

Family

ID=86754888

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202223417170.9U Active CN219225300U (zh) 2022-12-20 2022-12-20 曝光机及其吸盘

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN219225300U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2638398C (en) A method for installing a secondary optical lens on a led street lamp
EP0696762B1 (en) Exposing apparatus with mask alignment system and method of aligning, exposing, and transferring work
CN1898606A (zh) 光刻装置和器件制造方法
KR20110106836A (ko) 노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치, 노광 방법 및 기판
CN100578363C (zh) 基板曝光装置及基板曝光方法
CN104635427A (zh) 用于光刻设备的掩模整形装置及掩模整形方法
CN219225300U (zh) 曝光机及其吸盘
US20110232075A1 (en) Wafer holding apparatus and method
KR101347397B1 (ko) 마스크 얼라이너용 에어부양식 진공척 레벨링장치
CN215219413U (zh) 光刻机
KR101350924B1 (ko) 실런트 경화장치
KR101169240B1 (ko) 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법
CN104020643B (zh) 一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置
KR20160105472A (ko) 십자선 보정장치 및 이를 이용한 포토리소그래픽 도구
CN114578655B (zh) 一种边缘曝光装置、方法及光刻设备
KR102447925B1 (ko) 광원 장치, 방전 램프 및 그 제조 방법, 및 노광 장치
US8130365B2 (en) Immersion flow field maintenance system for an immersion lithography machine
KR20100112521A (ko) 노광 장치용 광 조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치 및 기판
CN102648518B (zh) 基板支承、搬送、曝光装置、支承构件及元件制造方法
CN109634061A (zh) 基底的传输装置、传输方法以及光刻设备
CN100456141C (zh) 批量硅片曝光的方法
KR20120068804A (ko) 실런트 경화장치
CN108303853B (zh) 一种dmd结构xy多轴可移动光路直写曝光机
KR101138681B1 (ko) 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법
KR101783731B1 (ko) 마스크 성형 장치 방법 및 이를 이용한 노광 장치

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant