KR20200119198A - 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치 - Google Patents

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Abstract

마스크 얼라이너의 마스크 레벨링을 초정밀하게 수행하면서 마스크와 피처리 기판이 평행도를 유지하도록 보정하는 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치가 개시된다. 이는 LM 가이드에 장착된 제1 고정부와 마스크 핀에 장착된 상부 고정판 및 하부 고정판으로 이루어진 제2 고정부를 이용하여 마스크 핀을 정밀하게 고정시킬 수 있기 때문에 장비의 대형화에 따라 마스크 핀이 길어지더라도 마스크 핀의 상승 또는 하강 동작시 발생되는 흔들림, 떨림 및 휨 현상을 방지할 수 있다. 또한, UVW 스테이지에 의해 4개의 마스크 핀 모두를 동시에 x,y,θ 방향으로 이동함으로써 레벨링을 수행할 수 있기 때문에 간단하면서도 빠른 시간에 마스크와 피처리 기판을 초정밀하게 레벨링할 수 있다.

Description

장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치{Leveling Device for Long Axis Mask Aligner}
본 발명은 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 얼라이너(Aligner)의 레벨링을 초정밀하게 수행하면서 마스크와 피처리 기판이 평행도를 유지하도록 보정하는 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치에 관한 것이다.
최근 반도체 소자들의 경우, 경쟁력 확보에 필요한 저비용 고품질의 달성을 위해 고집적화가 필수적이다. 고집적화를 위해서는 트랜지스터 소자의 게이트 산화막 두께 및 채널 길이들을 얇고 짧게 하는 작업 등을 포함하는 스케일다운이 수반되며, 그에 따라 반도체 제조공정의 기술 및 제조 시스템도 다양한 형태로 발전되고 있는 추세이다.
특히, 반도체 제조공정 중 정렬 및 노광공정을 수행하는 반도체 장치를 마스크 얼라이너(Mask Aligner)라고 한다.
도 1은 종래의 얼라이너 레벨링장치를 나타낸 도면이다.
도 1를 참조하면, 종래의 얼라이너 레벨링장치는 마스크(10)가 안착되는 4개의 마스크 핀(20) 중 마스크(10)를 지지하는 두 개의 지지축(21,22)과 마스크(10)를 지지하고 마스크(10)에 대해 레벨링을 실시하는 두 개의 x,y 스테이지(23,24)를 포함한다.
이중 x,y 스테이지(23,24)는 두 축이 설정한 값에 반응하여 레벨링을 실시하되, 레벨링을 실시함에 있어서 마스크(10)에 형성된 홈에 삽입되어 마스크(10)를 끌면서 레벨링을 실시한다.
허나, 장비가 대형화됨에 따라 마스크 핀(20)의 길이도 길어져야 하기 때문에 길어진 마스크 핀(20)에 의해 레벨링이 실시되는 동안 마스크 핀(20)에 휨과 떨림이 발생된다. 즉, 마스크 핀(20)이 길어짐에 따라 마스크 핀(20)의 강도가 약해지고, 휨 발생 및 진동이나 떨림에 취약한 문제점을 갖는다.
또한, 얼라이너의 제조과정에서 발생되는 미세한 가공 오차 및 레벨링시 끌림에 대한 오차 범위가 존재하므로, 3~4회 정도 반복하여 레벨링을 실시해야 하기 때문에 이에 따른 시간소요가 발생되는 단점이 있다.
한국등록특허 10-1228622
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 4개의 마스크 핀을 이용하여 마스크를 지지하면서 마스크 핀의 길이에 따른 흔들림, 떨림, 휨을 방지함으로써 초정밀의 레벨링을 수행하도록 하는 장축이 필요한 얼라이너 서포트 레벨링장치를 제공하는데 있다.
상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치는 마스크를 지지하고, 연결된 LM 가이드를 통해 상기 마스크를 상승 또는 하강시키는 마스크 핀, 상기 마스크 핀과 상기 LM 가이드의 일단에 연결되고, 상기 마스크 핀을 상승 또는 하강하도록 하는 얼라이너, 상기 마스크를 x,y,θ 방향으로 이동시키는 UVW 스테이지, 상기 LM 가이드 상단에 연결된 제1 고정부 및 상기 UVW 스테이지와 상기 제1 고정부에 연결된 제2 고정부를 포함하고, 상기 LM 가이드는 상기 제2 고정부에 고정된 제1 고정부를 따라 상승 또는 하강된다.
상기 제1 고정부는, 상기 LM 가이드에 장착된 LM 블록 및 상기 LM 블록과 상기 제2 고정부에 장착된 고정 블록을 포함할 수 있다.
상기 LM 블록은, 상기 LM 가이드 상단에 장착된 제1 블록 및 상기 제1 블록과 소정거리 이격되어 상기 LM 가이드에 장착된 제2 블록을 포함할 수 있다.
상기 제1 블록과 상기 제2 블록은 상기 고정 블록에 의해 상기 제2 고정부에 고정될 수 있다.
상기 제2 고정부는, 상기 제1 고정부와 연결된 상부 고정판, 상기 UVW 스테이지와 연결된 하부 고정판 및 상기 상부 고정판과 상기 하부 고정판을 연결하는 연결부를 포함할 수 있다.
상기 UVW 스테이지는 상기 상부 고정판과 상기 하부 고정부 사이에 배치될 수 있다.
상기 마스크 핀은 상기 마스크의 모서리 영역을 각각 지지하도록 다수 배치되되, 상기 얼라이너 및 상기 UVW 스테이지의 레벨링 동작에 의해 동시에 동작될 수 있다.
상기 마스크는 상기 얼라이너에 의해 상승 또는 하강하고, 상기 UVW 스테이지에 의해 x,y,θ 방향으로 이동될 수 있다.
상기 UVW 스테이지의 동작에 의해 상기 마스크 핀, 상기 LM 가이드, 상기 얼라이너, 상기 제1 고정부 및 상기 제2 고정부가 동시에 이동될 수 있다.
상기 마스크 핀의 상승 또는 하강 동작시, 상기 마스크 핀의 상단은 상기 제2 고정부에 고정된 상기 제1 고정부에 의해 지지될 수 있다.
상술한 본 발명에 따르면, LM 가이드에 장착된 제1 고정부와 마스크 핀에 장착된 상부 고정판 및 하부 고정판으로 이루어진 제2 고정부를 이용하여 마스크 핀을 정밀하게 고정시킬 수 있기 때문에 장비의 대형화에 따라 마스크 핀이 길어지더라도 마스크 핀의 상승 또는 하강 동작시 발생되는 흔들림, 떨림 및 휨 현상을 방지할 수 있다. 따라서, 빠른 시간에 초정밀 레벨링이 가능하기 때문에 레벨링에 소요되는 시간을 단축할 수 있는 효과가 있다.
또한, UVW 스테이지에 의해 4개의 마스크 핀 모두를 동시에 x,y,θ 방향으로 이동함으로써 레벨링을 수행할 수 있기 때문에 간단하면서도 빠른 시간에 마스크와 피처리 기판을 초정밀하게 레벨링할 수 있다.
본 발명의 기술적 효과들은 이상에서 언급한 것들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 종래의 얼라이너 레벨링장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 얼라이너 서포트 레벨링장치를 나타낸 도면이다.
도 3 내지 도 8은 본 발명의 제1 실시예에 따른 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치의 동작을 나타낸 도면이다.
도 9 내지 도 16은 본 발명의 제2 실시예에 따른 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치의 동작을 나타낸 도면이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
이하, 본 발명에 따른 실시 예들을 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 2는 본 발명의 얼라이너 서포트 레벨링장치를 나타낸 도면이다.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 얼라이너용 레벨링장치는 마스크(101)를 지지하고, 연결된 LM 가이드(110)를 통해 마스크(101)를 상승 또는 하강시키는 마스크 핀(120), 마스크 핀(120)과 LM 가이드(110)의 일단에 연결되고, 마스크 핀(120)을 상승 또는 하강하도록 하는 얼라이너(130), 마스크(101)를 x,y,θ 방향으로 이동시키는 UVW 스테이지(140), LM 가이드(110) 상단에 연결된 제1 고정부(150) 및 UVW 스테이지(140)와 제1 고정부(150)에 연결된 제2 고정부(160)를 포함한다.
마스크 핀(120)은 마스크(101)를 지지하기 하기 위해 다수의 핀을 가질 수 있다. 바람직하게는 마스크(101)의 네 모서리를 각각 지지하도록 4개의 마스크 핀(120)을 가질 수 있으며, 4개의 핀을 이용하여 마스크(101)가 기울어지지 않도록 지지할 수 있다.
얼라이너(130)는 마스크 핀(120) 하단에 배치되어, 마스크 핀(120)을 상승 또는 하강 하도록 할 수 있다. 즉, 얼라이너(130)의 동작에 의해 마스크 핀(120)은 마스크 핀(120)의 길이 방향을 따라 연장되어 연결된 LM 가이드(110)와 함께 상승 또는 하강 동작을 수행할 수 있다.
여기서, LM 가이드(110)는 마스크(101)의 네 모서리를 지지하는 마스크 핀(120)에 각각 연결될 수 있다. 따라서, 얼라이너(130)의 동작에 의해 각각의 마스크 핀(120)은 동시에 상승 또는 하강 동작을 수행할 수 있다.
일예로, 마스크 핀(120)이 마스크(101)를 지지하도록 상승된 상태에서 하부 빈 공간으로 피처리 기판(102)을 챔버(100) 내부로 유입시킨 후, 얼라이너(130)의 동작에 의해 마스크 핀(120)을 하강시켜 마스크(101)를 피처리 기판(102) 상에 안착시킬 수 있다. 이때, 마스크(101)를 피처리 기판(102) 상에 안착시키기 전에 마스크(101)와 피처리 기판(102)의 얼라인을 위해 얼라이너(130) 및 UVW 스테이지(140)에 의해 레벨링 동작이 수행될 수 있다.
다른 실시예로서, 마스크(101)를 클램프(103)를 이용하여 챔버(100) 상부에 고정시킬 경우, 마스크 핀(120)은 얼라이너(130)를 이용하여 하강시킨 상태에서 피처리 기판(102)이 챔버(100) 내부로 유입될 수 있다. 피처리 기판(102)이 챔버(100) 내부로 유입되면 마스크 핀(120)을 상승시켜 마스크(101)를 마스크 핀(120)에 안착시키고, 안착된 마스크(101)를 얼라이너(130)의 하강 동작에 의해 피처리 기판(102) 상에 안착시킬 수 있다.
제1 고정부(150)는 LM 가이드(110) 상단에 장착되고, 제1 고정부(150)은 마스크 핀(120)이 LM 가이드(110)와 함께 상승 또는 하강 동작시 마스크 핀(120)이 흔들이거나 떨리는 현상을 방지하는 수단으로써 기능한다. 즉, LM 가이드(110)가 제1 고정부(150)를 따라 상승 또는 하강되기 때문에 LM 가이드(110)와 연결된 마스크 핀(120)의 흔들림 또는 떨림을 방지할 수 있다. 또한, 제1 고정부(150)는 LM 블록(151) 및 고정 블록(152)을 포함할 수 있다.
LM 블록(151)은 LM 가이드(110)에 장착되되, LM 가이드(110) 상단에 장착된 제1 블록(153) 및 제1 블록(153)과 소정거리 이격되어 LM 가이드(110)에 장착된 제2 블록(154)을 포함할 수 있다. LM 가이드(110) 상단에 장착된 제1 블록(153) 및 제2 블록(154)은 고정 블록(152)에 의해 제2 고정부(160)와 연결될 수 있다. 따라서, LM 가이드(110)는 제2 고정부(160)에 고정된 제1 고정부(150)에 연결될 수 있다. 즉, LM 가이드(110) 상단에서 제1 블록(153) 및 제2 블록(154)을 이용하여 LM 가이드(110)를 이중으로 고정시켜 줄 수 있다.
제1 고정부(150)에 의해 LM 가이드(110)를 이중으로 잡아주고, 제1 고정부(150)가 제2 고정부(160)에 고정되도록 함으로써 장비의 대형화에 따라 마스크 핀(120)이 길이 방향으로 길어지더라도 마스크 핀(120)이 이동시 흔들리거나 떨림을 안정적으로 잡아줄 수 있다. 따라서, 마스크 핀(120)이 이동하더라도 마스크(101)와 피처리 기판(102) 간의 평행도를 일정하게 유지할 수 있다.
제2 고정부(160)는 제1 고정부(150)와 UVW 스테이지(140)에 연결될 수 있다. 제2 고정부(160)는 제1 고정부(150)와 UVW 스테이지(140)를 연결하기 위해 상부 고정판(161), 하부 고정판(162) 및 연결부(163)를 포함할 수 있다.
상부 고정판(161)은 제1 고정부(150)와 연결되고, 하부 고정판(162)은 UVW 스테이지(140)와 연결될 수 있다. 또한, 상부 고정판(161) 및 하부 고정판(162)은 상부 고정판(161) 및 하부 고정판(162) 사이에 배치된 연결부(163)에 의해 서로 연결될 수 있다. 여기서, 상부 고정판(161)과 하부 고정판(162)은 연결부(163)에 의해 소정거리 이격되도록 배치된다.
따라서, UVW 스테이지(140)가 동작하면, UVW 스테이지(140)와 연결된 상부 고정판(161), 하부 고정판(162) 및 연결부(163)는 동시에 동작될 수 있다. 또한, 제1 고정부(150)가 제2 고정부(160)와 서로 고정되어 연결되기 때문에 UVW 스테이지(140)의 동작에 의해 마스크 핀(120), 얼라이너(130), LM 가이드(110), 제1 고정부(150) 및 제2 고정부(160)는 동시에 동작될 수 있다.
UVW 스테이지(140)는 하부 고정판(162)에 장착되되, 상부 고정판(161) 및 하부 고정판(162) 사이에 배치될 수 있다. 또한, UVW 스테이지(140)는 마스크 핀(120)을 x,y,θ 방향으로 이동시킴으로써 마스크(101)와 피처리 기판(102)을 레벨링하는 기능을 수행할 수 있다. 즉, UVW 스테이지(140)는 4개의 마스크 핀(120)과 모두 연결되어, 4개의 마스크 핀(120)을 동시에 x,y,θ 방향으로 이동시킬 수 있다.
일예로, 마스크 핀(120)에 안착된 마스크(101)는 LM 가이드(110) 및 얼라이너(130)의 동작에 의해 상승 또는 하강 될 수 있으며, UVW 스테이지(140)의 레벨링 동작에 의해 x,y 또는 θ 방향으로 이동될 수 있다. 이때, UVW 스테이지(140)는 제2 고정부(160)에 고정되고, 마스크 핀(120)에 연결된 LM 가이드(110)는 제2 고정부(160)에 고정된 제1 고정부(150)를 따라 이동하기 때문에 마스크 핀(120)이 길어지더라도 마스크 핀(120)의 상승, 하강 또는 레벨링 조절시 마스크(101)가 흔들리거나 떨리는 현상을 방지할 수 있다.
또한, 종래의 마스크 얼라이너(130) 레벨링장치는 4개의 마스크 핀(20) 중 2개의 마스크 핀(23,24)을 이용하여 마스크 핀(23,24)을 x,y 방향으로 이동시킴으로써 마스크(10)와 피처리 기판(102)을 레벨링 하는 방식을 이용하나, 본 발명에 따른 마스크 얼라이너(130) 레벨링장치는 4개의 마스크 핀(120)이 UVW 스테이지(140)에 모두 연결되어 있고, 4개의 마스크 핀(120)을 동시에 x,y,θ 방향으로 이동시킴으로써 마스크(101)와 피처리 기판(102)을 레벨링시킬 수 있기 때문에 종래의 레벨링장치 보다 간단하면서 빠르고, 정밀하게 레벨링을 수행할 수 있다.
도 3 내지 도 8은 본 발명의 제1 실시예에 따른 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치의 동작을 나타낸 도면이다.
우선, 도 3 내지 도 6을 참조하면, 챔버(100) 내부로 피처리 기판(102)이 유입되기 전에 마스크 핀(120)은 얼라이너(130)의 동작에 의해 상승하여 마스크(101)를 지지한 상태를 유지한다.
피처리 기판(102)이 도 3에서와 같이 피처리 기판(102)을 이송하는 로봇 암(Arm)(104)에 의해 챔버(100) 내부로 유입된다. 피처리 기판(102)이 챔버(100) 내부로 유입되면, 피처리 기판(102)은 도 4에서와 같이 로봇 암(104)에 의해 피처리 기판(102)을 상승 또는 하강 시키는 리프트 핀(105) 상에 안착된다. 피처리 기판(102)이 리프트 핀(105) 상에 안착되면, 로봇 암(104)은 도 5에서와 같이 피처리 기판(102)에서 이탈되어 챔버(100) 외부로 반출되고, 리프트 핀(105)에 안착된 피처리 기판(102)은 도 6에서와 같이 리프트 핀(105)의 하강에 의해 서셉터(susceptor)(106) 상에 안착된다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 얼라이너(130)와 LM 가이드(110)동작에 의해 마스크 핀(120)과 마스크 핀(120)에 안착된 마스크(101)는 하강된다. 이때, 마스크 핀(120)은 LM 가이드(110)를 이중으로 잡아주는 제1 고정부(150) 및 제1 고정부(150) 연결된 제2 고정부(160)에 의해 마스크 핀(120)이 흔들리거나 떨리는 현상을 방지할 수 있다. 여기서, 마스크 핀(120)은 마스크(101)와 피처리 기판(102) 간의 얼라인을 위한 레벨링 동작을 수행하기 위해 도 7에서와 같이 마스크(101)와 피처리 기판(102)과의 간격이 1mm가 될 때까지 하강될 수 있다.
마스크 핀(120)이 하강하면, 제2 고정부(160)에 연결된 UVW 스테이지(140)가 마스크(101)를 x,y 또는 θ 방향으로 이동시키면서 마스크(101)와 피처리 기판(102) 간의 얼라인을 위한 레벨링 동작을 수행한다. 이때, UVW 스테이지(140)의 레벨링 동작에 의해 마스크 핀(120), 얼라이너(130), LM 가이드(110), 제1 고정부(150) 및 제2 고정부(160)가 동시에 동작될 수 있다. 즉, UVW 스테이지(140)의 동작에 의해 4개의 마스크 핀(120)을 동시에 x,y 또는 θ 방향으로 이동시킴으로써 마스크(101)와 피처리 기판(102)을 레벨링시킬 수 있기 때문에 종래의 레벨링장치 보다 간단하면서 빠르고, 정밀하게 레벨링을 수행할 수 있다. 또한, 장비의 대형화에 의해 마스크 핀(120)이 길어지더라도 제1 고정부(150) 및 제2 고정부(160)에 의해 UVW 스테이지(140)의 레벨링 동작시 마스크 핀(120)이 흔들리거나 떨리는 현상을 방지할 수 있다.
여기서, 마스크(101)의 얼라인을 위한 UVW 스테이지(140)의 레벨링 동작은 마스크 핀(120)이 얼라이너(130)에 의해 하강될 때, 하강과 동시에 이루어질 수도 있다.
피처리 기판(102)과 마스크(101)의 얼라인을 위한 레벨링 동작이 완료되면, 도 8에서와 같이 마스크 핀(120)은 얼라이너(130)에 의해 더욱 하강하여 마스크(101)와 피처리 기판(102)이 합착되도록 한다.
도 9 내지 도 16은 본 발명의 제2 실시예에 따른 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치의 동작을 나타낸 도면이다.
우선, 도 9 내지 도 12를 참조하면, 마스크 핀(120)은 얼라이너(130)의 동작에 의해 하강된 상태를 유지하고, 마스크(101)는 챔버(100) 상부에서 크램프를 이용하여 고정된다.
피처리 기판(102)이 도 9에서와 같이 로봇 암(104)에 의해 챔버(100) 내부로 유입되면, 도 10에서와 같이 로봇 암(104)에 의해 피처리 기판(102)은 리프트 핀(105)에 안착된다. 피처리 기판(102)이 리프트 핀(105) 상에 안착되면, 로봇 암(104)은 도 11에서와 같이 피처리 기판(102)에서 이탈되어 챔버(100) 외부로 반출되고, 도 12에서와 같이 리프트 핀(105)의 하강에 의해 피처리 기판(102)은 서셉터(106) 상에 안착된다.
도 13 내지 도 16을 참조하면, 피처리 기판(102)이 서셉터(106)에 안착되면, 도 13에서와 같이 얼라이너(130)의 동작에 의해 마스크 핀(120)이 상승하여 마스크(101)를 지지함으로써 마스크(101)는 클램프(103)에서 분리된다. 마스크(101)에서 분리된 클램프(103)는 도 14에서와 같이 마스크(101)가 하강될 수 있도록 챔버(100) 측면으로 이동되고, 마스크 핀(120)은 얼라이너(130)의 동작에 의해 마스크(101)를 지지한 상태로 하강한다. 상술한 바와 같이, 마스크 핀(120)이 마스크(101)를 지지한 상태로 상승하거나, 마스크(101)를 지지한 상태에서 하강시 마스크 핀(120)은 LM 가이드(110)에 이중으로 연결된 제1 고정부(150) 및 제2 고정부(160)에 의해 마스크 핀(120)이 흔들리거나 떨리는 현상을 방지할 수 있다.
마스크 핀(120)은 마스크(101)와 피처리 기판(102) 간의 얼라인을 위한 레벨링 동작을 수행하기 위해 도 15에서와 같이 마스크(101)와 피처리 기판(102)과의 간격이 1mm가 될 때까지 하강될 수 있다.
마스크 핀(120)이 하강하면, 제2 고정부(160)에 연결된 UVW 스테이지(140)가 마스크(101)를 x,y 또는 θ 방향으로 이동시키면서 마스크(101)와 피처리 기판(102) 간의 얼라인을 위한 레벨링 동작이 수행된다. 이때, UVW 스테이지(140)의 레벨링 동작에 의해 마스크 핀(120), 얼라이너(130), LM 가이드(110), 제1 고정부(150) 및 제2 고정부(160)가 동시에 동작될 수 있다.
여기서, 마스크(101)의 얼라인을 위한 UVW 스테이지(140)의 레벨링 동작은 마스크 핀(120)이 얼라이너(130)에 의해 하강될 때, 하강과 동시에 이루어질 수도 있다.
피처리 기판(102)과 마스크(101)의 얼라인을 위한 레벨링 동작이 완료되면, 도 16에서와 같이 마스크 핀(120)은 얼라이너(130)에 의해 더욱 하강하여 마스크(101)와 피처리 기판(102)이 합착되도록 한다.
상술한 바와 같이, LM 가이드(110)에 장착된 제1 고정부(150)와 마스크 핀(120)에 장착된 상부 고정판(161) 및 하부 고정판(162)으로 이루어진 제2 고정부(160)를 이용하여 마스크 핀(120)을 정밀하게 고정시킬 수 있기 때문에 장비의 대형화에 따라 마스크 핀(120)이 길어지더라도 마스크 핀(120)의 상승 또는 하강 동작시 발생되는 흔들림, 떨림 및 휨 현상을 방지할 수 있다. 따라서, 빠른 시간에 초정밀 레벨링이 가능하기 때문에 레벨링에 소요되는 시간을 단축할 수 있는 효과가 있다.
또한, UVW 스테이지(140)에 의해 4개의 마스크 핀(120) 모두를 동시에 x,y,θ 방향으로 이동함으로써 레벨링을 수행할 수 있기 때문에 간단하면서도 빠른 시간에 마스크(101)와 피처리 기판(102)을 초정밀하게 레벨링할 수 있다.
한편, 본 명세서와 도면에 개시된 본 발명의 실시 예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시 예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형 예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.
100 : 챔버 101 : 마스크
110 : LM 가이드 120 : 마스크 핀
130 : 얼라이너 140 : UVW 스테이지
150 : 제1 고정부 151 : LM 블록
152 : 고정 블록 153 : 제1 블록
154 : 제2 블록 160 : 제2 고정부
161 : 상부 고정판 162 : 하부 고정판
163 : 연결부

Claims (10)

  1. 마스크를 지지하고, 연결된 LM 가이드를 통해 상기 마스크를 상승 또는 하강시키는 마스크 핀;
    상기 마스크 핀과 상기 LM 가이드의 일단에 연결되고, 상기 마스크 핀을 상승 또는 하강하도록 하는 얼라이너;
    상기 마스크를 x,y,θ 방향으로 이동시키는 UVW 스테이지;
    상기 LM 가이드 상단에 연결된 제1 고정부; 및
    상기 UVW 스테이지와 상기 제1 고정부에 연결된 제2 고정부를 포함하고,
    상기 LM 가이드는 상기 제2 고정부에 고정된 제1 고정부를 따라 상승 또는 하강하는 것인 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 고정부는,
    상기 LM 가이드에 장착된 LM 블록; 및
    상기 LM 블록과 상기 제2 고정부에 장착된 고정 블록을 포함하는 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 LM 블록은,
    상기 LM 가이드 상단에 장착된 제1 블록; 및
    상기 제1 블록과 소정거리 이격되어 상기 LM 가이드에 장착된 제2 블록을 포함하는 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 블록과 상기 제2 블록은 상기 고정 블록에 의해 상기 제2 고정부에 고정되는 것인 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제2 고정부는,
    상기 제1 고정부와 연결된 상부 고정판;
    상기 UVW 스테이지와 연결된 하부 고정판; 및
    상기 상부 고정판과 상기 하부 고정판을 연결하는 연결부를 포함하는 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 UVW 스테이지는 상기 상부 고정판과 상기 하부 고정부 사이에 배치되는 것인 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 마스크 핀은 상기 마스크의 모서리 영역을 각각 지지하도록 다수 배치되되, 상기 얼라이너 및 상기 UVW 스테이지의 레벨링 동작에 의해 동시에 동작되는 것인 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 마스크는 상기 얼라이너에 의해 상승 또는 하강하고, 상기 UVW 스테이지에 의해 x,y,θ 방향으로 이동되는 것인 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 UVW 스테이지의 동작에 의해 상기 마스크 핀, 상기 LM 가이드, 상기 얼라이너, 상기 제1 고정부 및 상기 제2 고정부가 동시에 이동되는 것인 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 마스크 핀의 상승 또는 하강 동작시, 상기 마스크 핀의 상단은 상기 제2 고정부에 고정된 상기 제1 고정부에 의해 지지되는 것인 장축 마스크 얼라이너용 레벨링장치.
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