KR101223887B1 - Sputter coated with boron compounds, thermal shutdown films manufacturing process that combines a transparent way - Google Patents

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KR101223887B1 KR1020110122834A KR20110122834A KR101223887B1 KR 101223887 B1 KR101223887 B1 KR 101223887B1 KR 1020110122834 A KR1020110122834 A KR 1020110122834A KR 20110122834 A KR20110122834 A KR 20110122834A KR 101223887 B1 KR101223887 B1 KR 101223887B1
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Abstract

PURPOSE: A heat-shielding film manufacturing method is provided to enhance productivity by reducing the thickness of total film. CONSTITUTION: A heat-shielding film manufacturing method comprises the following steps: forming an infrared blocking layer on one surface of a first PET film layer by inorganic metal oxide coating and IR blocking agent coating(s100); drying the infrared blocking layer(s110); forming a sputtering layer for infrared ray reflection on the surface in which the infrared blocking layer is formed(s120); coating a second PET film with sputtering layer surface(s130); welding a release film on the surface of the second PET film(s140); coating the first PET film with a hard coating layer(s150); and UV curing(s160). [Reference numerals] (AA,DD) Supplying a first PET film; (BB) Supplying a second PET film; (CC) Supplying a release film; (S100) Organic IR blocking layer coating step; (S110) Organic IR blocking layer drying step; (S120) Sputtering layer forming step; (S130) Adhesion layer coating step; (S140) Release film adhesion step; (S150) Hard coating layer coating step; (S160) UV curing step

Description

붕소 화합물 코팅과 스퍼터링 공정을 접목한 투명 열차단 필름 제조방법{Sputter coated with boron compounds, thermal shutdown films manufacturing process that combines a transparent way}Sputter coated with boron compounds, thermal shutdown films manufacturing process that combines a transparent way}

본 발명은 붕소 화합물이 첨가된 투명 열차단 코팅과 스퍼터링 공법을 이용한 제조방법에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 효과적인 차단성과 투과성을 겸비한 투명 열차단 필름 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a transparent thermal barrier coating to which the boron compound is added and a manufacturing method using a sputtering method, and more particularly, to a transparent thermal barrier film manufacturing method having an effective barrier property and permeability.

태양광선은 크게 자외선(100 ~ 380 nm), 가시광선(380 ~ 780 nm), 적외선(780 ~ 60000 nm)으로 나누어지며, 적외선은 다시 근적외선 및 원적외선으로 구분된다. 이 중 자외선이 약 6%, 가시광선이 약 46%, 적외선이 약 48%로 구성되며, 자외선은 피부가 오랜 시간 노출될 경우 피부노화, 암 발생 등의 원인이 되고, 적외선은 실내 온도를 상승시켜 여름철 냉방 비용 증가의 원인이 된다.Sunlight is largely divided into ultraviolet (100 ~ 380 nm), visible light (380 ~ 780 nm), infrared (780 ~ 60000 nm), infrared is again divided into near infrared and far infrared. Among them, UV light consists of about 6%, visible light about 46%, and infrared light about 48%. UV light causes skin aging and cancer when the skin is exposed for a long time. This will cause an increase in summer cooling costs.

최근에는 이러한 자외선 및 적외선을 포함하는 태양광선이 직접 실내로 조사되는 것을 차단하기 위하여 각종 차단필름을 자동차, 건축물 등의 창유리에 부착하여 자외선 및 적외선에의 노출을 방지하기 위한 제품들이 개발되어 실용화되고 있다. 이러한 차단 필름은 그 자체로 자외선, 적외선을 차단하는 기능뿐만 아니라, 창유리의 기계적 강도를 보완하는 역할, 창유리가 파손될 경우 유리 파편이 비산하는 것을 방지하는 기능, 착색필름을 도포할 경우에는 프라이버시를 보호하는 역할 등 다양한 기능을 수행한다.Recently, in order to block the direct irradiation of sunlight including ultraviolet rays and infrared rays, products have been developed and put into practical use by attaching various barrier films to window glass of automobiles and buildings to prevent exposure to ultraviolet rays and infrared rays. have. Such a barrier film itself not only blocks ultraviolet rays and infrared rays, but also complements the mechanical strength of the window glass, prevents glass fragments from scattering when the window glass breaks, and protects privacy when the colored film is applied. It performs a variety of functions, including roles.

KR 10-068300호KR 10-068300 KR 10-018538호KR 10-018538 KR 2004-0072862호KR 2004-0072862 폴리에스테르 필름의 단면에 도포 수지와 용제로 희석된 염료 및 자외선 흡수제를 도포하여 제조하는 방법이 '대한민국 등록특허 제 068300호', 점착용 수지에 유기계 화합물인 열선흡수제를 배합하고 하드 코팅층에는 자외선 경화용 수지에 염료를 배합하여 사용하는 방법이 대한민국 등록특허 '제018538호', 폴리에스테르 지지층과 염료를 함유하는 폴리에스테르 컬러층 및 접착성 코팅층으로 이루어지며, 이러한 다층 구조의 적어도 하나의 층에 염료를 함유시키는 방법이 대한민국 공개특허 '제2004-0072862호'등이 제안되고 있다.The method of manufacturing by coating a dye and a UV absorber diluted with a coating resin and a solvent on the cross-section of the polyester film is 'Korean Patent No. 068300', a heat-sensitive absorber which is an organic compound to the adhesive resin, and the UV cured hard coating layer The method of blending and using a dye in a resin for a resin consists of the Republic of Korea Patent No. '018538', a polyester support layer and a polyester color layer containing a dye and an adhesive coating layer, the dye in at least one layer of such a multilayer structure Korean Patent Publication No. 2004-0072862 has been proposed as a method for containing. 일반적으로 열차폐 물질로 사용되는 무기산화물은 뛰어난 내구성과 높은 열차단 특성을 가지고 있지만, 낮은 가시광선 투과율 때문에 그 활용 범위가 한정 되어 있다. 무기산화물에는 안티몬틴옥사이드(ATO), 인듐틴옥사이드(ITO), 2산화실리카(SiO2), 3산화알루미나(Al2O3), 3산화몰리브덴(MoO3), 5산화니오브(Nb2O5), 5산화 바나듐(V2O5), 텅스텐 브론즈(Tungsten Bronze) 등이 사용되고 있는데, 이중 특히 가장 많이 사용되며, 실제로 적외선차단 특성이 양호한 무기산화물로는 안티몬틴옥사이드(ATO), 인듐틴옥사이드(ITO)와 텅스텐 브론즈(TungstenBronze) 등이 있다.In general, inorganic oxides used as thermal barrier materials have excellent durability and high thermal barrier properties, but their application range is limited due to their low visible light transmittance. Inorganic oxides include antimony tin oxide (ATO), indium tin oxide (ITO), silica dioxide (SiO2), alumina trioxide (Al2O3), molybdenum trioxide (MoO3), niobium pentoxide (Nb2O5), vanadium pentoxide (V2O5) ), Tungsten bronze (Tungsten Bronze), etc. are used most of them, and the inorganic oxides having good infrared blocking properties are actually antimony tin oxide (ATO), indium tin oxide (ITO) and tungsten bronze (Tungsten Bronze). There is this. 도 1은 종래기술에 일예로 열차단 필름의 단면 구성도이다. 실내외로 유입, 유출되는 복사열을 차단하는 열차단층이 형성된 기재층과, 상기 열차단층과 접착할 수 있는 접착층이 형성된 보호층을 포함하며, 상기 열차단층과 상기 접착층이 마이크로웨이브파로 건조되는 것을 특징으로 한다.1 is a cross-sectional view of a thermal barrier film as an example in the prior art. And a base layer on which a heat shielding layer is formed to block radiant heat flowing in and out of the room and out, and a protective layer on which an adhesive layer is adhered to the heat shielding layer, wherein the heat shielding layer and the adhesive layer are dried by microwave waves. do. 하지만, 종래기술에 따른 열차단 필름의 경우 습식코팅 또는 스퍼터링 코팅 중 하나만을 사용하고 열차단 필름을 제조하는 게 일반적인데, 습식 코팅의 경우는 높은 열흡수율로 인해 유리표면온도가 올라가 유리의 열파현상이 발생하는 문제점이 있고, 스퍼터링 공정만으로 제조될 경우 높은 열차단율을 유지하기 위해 반사율이 올라갈 경우 실내 전파차단현상이 발생되는 문제점이 있다.However, in the case of the thermal barrier film according to the prior art, it is common to use only one of a wet coating or a sputtering coating and to manufacture the thermal barrier film. In the case of a wet coating, the glass surface temperature rises due to the high heat absorption rate. There is a problem that occurs, and if only the sputtering process is manufactured, there is a problem that the indoor jamming phenomenon occurs when the reflectance is increased to maintain a high heat shielding rate.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 특정파장의 투과도 조절이 가능한 붕소 화합물을 통해 열차단 필름으로 적외선 차단층을 형성함으로써 필름 전체의 두께를 줄일 수 있어 높은 생산성을 확보할 수 있고, 내구성을 향상시킬 수 있는 투명 열차단 필름을 제공하고자 하는데 그 목적이 있다.The present invention for solving the above problems by reducing the thickness of the entire film by forming an infrared blocking layer with a thermal barrier film through the boron compound that can control the transmittance of a specific wavelength can ensure high productivity, durability The purpose is to provide a transparent thermal barrier film that can be improved.

또한, 본 발명은 습식 코팅과 스퍼터링 코팅 방식 두가지를 모두 접목하여 각 방식에 따른 장점을 가질 수 있는 투명 열차단 필름을 제공하고자 하는데 그 목적이 있다.
In addition, the present invention is to provide a transparent thermal barrier film that can have advantages according to each method by combining both wet coating and sputtering coating method.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 투명 열차단 필름 제조방법에 있어서, 베이스 필름에 해당하는 제 1PET 필름층 일측 표면으로 무기금속산화물과, 붕소 화합물, 희석용제, 첨가제, 촉매를 포함하여 구성되는 적외선 차단제를 이용하여 적외선 차단층을 코팅하는 단계, 상기 적외선 차단층을 건조하는 단계, 상기 적외선 차단층이 형성된 표면으로 적외선(IR) 반사를 위한 스퍼터링층을 형성하는 단계, 상기 스퍼터링층 표면으로 제 2PET 필름을 접착시키는 단계, 상기 제 2PET 필름 이형 필름을 접착시키는 단계 및 상기 제 1 PET 필름 타측 표면으로 하드 코팅층을 코팅하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object, in the method for manufacturing a transparent thermal barrier film, including an inorganic metal oxide, a boron compound, a diluent, an additive, a catalyst on one surface of the first PET film layer corresponding to the base film Coating an infrared ray blocking layer using an infrared ray blocking agent, drying the infrared ray blocking layer, forming a sputtering layer for infrared (IR) reflection on the surface on which the infrared ray blocking layer is formed, and the surface of the sputtering layer Adhering a second PET film to the second PET film; and adhering the second PET film release film; and coating the hard coating layer on the other surface of the first PET film.

또한, 상기 스퍼터링층 형성단계는, 무기금속산화물을 스퍼터링 공정을 통해 형성하며, 상기 무기금속산화물은 ITO, AZO, Ag, AZO, ITO로 각각 구성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the step of forming the sputtering layer, the inorganic metal oxide is formed through a sputtering process, the inorganic metal oxide is characterized in that each consisting of ITO, AZO, Ag, AZO, ITO.

또한, 상기 적외선 차단층 건조단계는, 열풍 건조와 자외선 건조를 통해 건조하는 것을 특징으로 한다.In addition, the infrared blocking layer drying step, characterized in that the drying through hot air drying and ultraviolet drying.

또한, 상기 하드 코팅층 형성단계는, 20nm 내지 30nm 크기의 세라믹 나노입자를 분산하여 형성시키는 것을 특징으로 한다.In addition, the hard coating layer forming step, characterized in that to form by dispersing the ceramic nanoparticles of 20nm to 30nm size.

또한, 상기 하드 코팅층 형성단계 후에는, UV를 이용한 경화단계를 더 포함한다.In addition, after the hard coating layer forming step, further comprises a curing step using UV.

또한, 상기 스퍼터링층은, 상기 적외선 차단층과 동시에 코팅되는 것을 특징으로 한다.In addition, the sputtering layer is characterized in that the coating at the same time with the infrared blocking layer.

또한, 상기 붕소 화합물 첨가량 제어를 통해 파장별 투과도를 제어하는 것을 특징으로 한다.
In addition, the transmittance for each wavelength is controlled by controlling the amount of the boron compound added.

상기와 같이 구성되고 작용되는 화학적으로 안정한 금속산화물을 사용하므로 산, 알칼리는 물론 열이나 빛에 대하여 안정성을 유지하며, 공기에 의한 산화나 황화현상 등의 결함이 없고, 금속계 증착 Coating 방식 및 Plasma Sputter 방식에서 나타나는 반사와 거울효과가 없으며, 난반사를 없애주므로 표지판의 인식 등이 우수하고, 우천 시 도로의 중앙선 등이 더 잘보이는 효과가 있고, 맑고 밝은 시야를 확보할 수 있는 장점이 있습니다.As it uses chemically stable metal oxides constructed and operated as described above, it maintains stability against heat and light as well as acids and alkalis, and is free from defects such as oxidation and sulfidation by air, and is based on metal deposition coating method and plasma sputter. There is no reflection and mirror effect that appears in the method, and it eliminates the diffuse reflection, so the sign recognition is excellent, and the center line of the road is more visible in rainy weather, and it has the advantage of securing a clear and bright view.

또한, 금속 코팅한 썬팅 필름에 비해 전자파 차단 효과가 없어 무선장비에 전혀 장애를 주지 않으며, 뜨거운 열과 눈부심 차단으로 운전중의 편안함 제공합니다.In addition, compared to metal-coated tinted film, it does not interfere with wireless equipment at all, and provides comfort while driving with heat and glare protection.

또한, 본 발명에 따른 열차단 필름의 활용도로 에어컨과 히터의 성능 및 냉난방 효율 증대, 뛰어난 투시도에 의한 탁월한 전면 투시성, 야간 운전시 반사/역반사가 거의 없고, 마주 오는 차량의 불빛을 최적으로 필터링하므로 눈의 피로가 감소하여 야간 운전시의 위험성 감소시킬 수 있는 효과가 있습니다.In addition, the use of the thermal barrier film according to the present invention increases the performance and air-conditioning efficiency of the air conditioner and heater, excellent front visibility by excellent perspective, almost no reflection / retroreflection at night driving, and optimally filter the light of the oncoming vehicle This reduces the risk of eye fatigue and reduces the risk of driving at night.

또한, 본 발명은 습식코팅과 스퍼터링 코팅을 접목할 수 있도록 Roll to Roll Sputter 시스템을 통해 적외선 차단층 형성을 위한 금속박막을 코팅함으로써 컬러, 가시광선 투과율, 적외선 반사율 등을 자유롭게 조절할 수 있는 장점이 있다.
In addition, the present invention has the advantage of freely adjusting the color, visible light transmittance, infrared reflectance by coating a metal thin film for forming an infrared blocking layer through the Roll to Roll Sputter system to be able to combine wet coating and sputtering coating .

도 1은 종래기술에 따른 열차단 필름의 단면 구성도,
도 2는 본 발명에 따른 붕소 화합물 코팅과 스퍼터링 공정을 접목한 투명 열차단 필름 제조방법의 순서도,
도 3은 본 발명에 따른 붕소 화합물이 첨가된 투명 열차단 필름의 구조를 나타낸 단면도,
도 4는 본 발명에 따른 투명 열차단 필름의 적외선 차단층 형성을 위한 스퍼터링 시스템을 도시한 도면,
도 5는 ATO를 단독으로 사용한 열차단 필름의 Spectrophotometer 측정 그래프,
도 6은 본 발명에 따른 붕소 화합물이 첨가된 열차단 필름의 Spectrophotometer 측정 그래프.1 is a cross-sectional configuration of the thermal barrier film according to the prior art,
2 is a flow chart of a method for manufacturing a transparent thermal barrier film incorporating a boron compound coating and a sputtering process according to the present invention;
3 is a cross-sectional view showing the structure of a transparent thermal barrier film to which a boron compound is added according to the present invention;
4 is a view showing a sputtering system for forming an infrared blocking layer of a transparent thermal barrier film according to the present invention,
5 is a Spectrophotometer measurement graph of the thermal barrier film using ATO alone,
6 is a spectrophotometer measurement graph of the thermal barrier film to which the boron compound is added according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 붕소 화합물 코팅과 스퍼터링 공정을 접목한 투명 열차단 필름 제조방법의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the method for manufacturing a transparent thermal barrier film incorporating the boron compound coating and sputtering process according to the present invention.

본 발명에 따른 붕소 화합물 코팅과 스퍼터링 공정을 접목한 투명 열차단 필름 제조방법은, 투명 열차단 필름 제조방법에 있어서, 베이스 필름에 해당하는 제 1PET 필름층 일측 표면으로 무기금속산화물과, 붕소 화합물, 희석용제, 첨가제, 촉매를 포함하여 구성되는 적외선 차단제를 이용하여 적외선 차단층을 코팅하는 단계, 상기 적외선 차단층을 건조하는 단계, 상기 적외선 차단층이 형성된 표면으로 적외선 반사를 위한 스퍼터링층을 형성하는 단계, 상기 스퍼터링층 표면으로 제 2PET 필름을 접착시키는 단계, 상기 제 2PET 필름 이형 필름을 접착시키는 단계 및 상기 제 1 PETT 필름 타측 표면으로 하드 코팅층을 코팅하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The transparent heat shielding film manufacturing method which combines the boron compound coating and sputtering process which concerns on this invention is a transparent heat shielding film manufacturing method WHEREIN: The inorganic metal oxide, a boron compound, Coating an infrared ray blocking layer using an infrared ray blocking agent comprising a diluent solvent, an additive, and a catalyst, drying the infrared ray blocking layer, and forming a sputtering layer for infrared reflection on the surface on which the infrared ray blocking layer is formed. Step, adhering the second PET film to the surface of the sputtering layer, adhering the second PET film release film and characterized in that it comprises a step of coating a hard coating layer on the other surface of the first PETT film.

본 발명에 따른 붕소 화합물이 첨가된 투명 열차단 필름은 붕소 화합물을 이용하여 특정파장의 투과도 조절이 가능하고, 두께를 얇게 제작할 수 있으며, 내구성, 시안성, 차폐성이 높은 열차단 필름 제조방법을 제공하고자 하는데 그 목적이 있다.The transparent heat-transfer film to which the boron compound is added according to the present invention can control the transmittance of a specific wavelength using the boron compound, can be made thin in thickness, and provide a heat shielding film manufacturing method having high durability, cyanity, and shielding property. There is a purpose.

본 발명에 따른 열차단 필름 제조방법은 베이스 필름에 해당하는 제 1PET(Polyethylele Terephthalate) 필름(100) 표면으로 적외선 차단층(110)을 코팅하는 단계(S100), 적외선 차단층(110)을 건조하는 단계(S110), 상기 적외선 차단층으로 스퍼터링 공정을 통해 스퍼터링층(120)을 형성하는 단계(S120), 제 2PET 필름(130)을 접착시키는 단계, 및 상기 제 1PET 필름으로 하드 코팅층(160)을 형성하는 단계(S150)로 크게 구성된다.In the method of manufacturing a thermal barrier film according to the present invention, the step of coating the infrared blocking layer 110 on the surface of the first PET (Polyethylele Terephthalate) film 100 corresponding to the base film (S100), drying the infrared blocking layer 110 Step S110, forming the sputtering layer 120 through the sputtering process with the infrared blocking layer (S120), adhering the second PET film 130, and hard coating layer 160 with the first PET film. Forming step (S150) is large.

도 2는 본 발명에 따른 붕소 화합물이 첨가된 투명 열차단 필름 제조방법의 순서도이다.2 is a flow chart of a method for manufacturing a transparent thermal barrier film to which a boron compound according to the present invention is added.

우선, 베이스 필름에 해당하는 제 1PET 필름(100)을 준비한 후 필름 표면으로 적외선(IR) 차단을 위한 적외선 차단층(110)을 형성한다(S100). 상기 적외선 차단층은 본 발명의 주요 기술적 요지로 붕소 화합물을 첨가하여 파장별 투과도를 조절할 수 있다. 적외선 차단층(110)은 붕소, 희석용제, 첨가제, 촉매를 혼합한 붕소 화합물을 습윤분사하고, 무기금속산화물을 스퍼터링 공정으로 코팅하여 적외선 차단층을 형성한다.First, after preparing the first PET film 100 corresponding to the base film to form an infrared blocking layer 110 for blocking the infrared (IR) to the film surface (S100). The infrared blocking layer may adjust the transmittance for each wavelength by adding a boron compound as a main technical gist of the present invention. The infrared blocking layer 110 wet-sprays a boron compound mixed with boron, a diluting solvent, an additive, and a catalyst, and forms an infrared blocking layer by coating an inorganic metal oxide by a sputtering process.

무기금속산화물의 경우 ATO 또는 ITO 나노입자를 코팅함으로써 IR 반사체 역할을 한다. 금속 산화물의 사이즈는 바람직하게는 1/1,000,000,000m의 초미립자 분말을 사용한다. 이러한 금속산화물은 아크릴산, 광촉매, 기타 고분자 화합물과 혼합되어 있다.Inorganic metal oxides act as IR reflectors by coating ATO or ITO nanoparticles. The size of the metal oxide is preferably 1 / 1,000,000,000 m of ultra fine powder. These metal oxides are mixed with acrylic acid, photocatalysts and other high molecular compounds.

붕소 화합물은 본 발명에 따른 주요 첨가제로써, 유기용제와 붕소 화합물을 혼합하여 습윤 분사하여 적용한다. 상기 붕소 화합물은 800 ~ 1000nm의 파장 투과도를 조절하기 위한 것으로써, 이를 적용하여 두께를 3um 이하로 제조가 가능하다.The boron compound is a main additive according to the present invention, and is applied by mixing the organic solvent and the boron compound by wet spraying. The boron compound is for controlling the wavelength transmittance of 800 ~ 1000nm, it is possible to manufacture a thickness of 3um or less by applying this.

희석용제는 극성구조를 갖는 유기용제이며, Coating 점도 및 Coating Leveling 성을 조절하기 위하여 첨가하며, 첨가제는 습윤분산제의 일종으로 주성분은 메톡시프로아세이트계이며 역할은 코팅액의 극성을 조절하여 무기 나노 세라믹 입자의 응집 방지를 하여 Coating Leveling성을 향상시킨다. 촉매는 주제에 함유된 광촉매 역할을 보조하며, Curing영역을 UV Lamp발광 파장 중 가장 많은 부분인350 ~ 400nm영역에서 활성화 Curing하도록 하여 경화속도를 현격히 향상하여 제품 생산수율을 극대화시킴과 동시에 기존제품의 품질 수준(외관적인 특성)을 높인다. 촉매의 주성분으로 Bis(2,4,6-Trimethylbenzoyl)-phenylphosphineoxide가 사용될 수 있다.Diluent solvent is an organic solvent having a polar structure, and is added to adjust the coating viscosity and coating leveling property, the additive is a kind of wet dispersion agent, the main component is methoxy proacetate-based, the role is to control the polarity of the coating liquid inorganic nano Prevents agglomeration of ceramic particles to improve coating leveling. The catalyst aids the role of photocatalyst contained in the main material, and activates Curing area at 350 ~ 400nm area, which is the largest part of the UV Lamp emission wavelength, greatly improving the curing speed and maximizing product yield and at the same time Increase the quality level (appearance). Bis (2,4,6-Trimethylbenzoyl) -phenylphosphineoxide may be used as the main component of the catalyst.

한편, 본 발명에 따른 바람직한 실시예로 적외선 차단층 구성을 위한 금속 산화물층(스퍼터링층)으로 다층 구조의 차단층을 형성할 수 있는데, Roll to Roll Sputter를 통해 구성한다. 상기 롤-투-롤(Roll-to-Roll) 스퍼터링 시스템은 롤러를 통해 베이스 필름이 공급되는 진공챔버 내부에서 증착하고자 하는 물질인 타겟이 순차 배열되고 필름이 통과할 때 타겟에서 순차적으로 스퍼터링하여 필름 표면에 금속박막을 증착하는 것이다.On the other hand, in a preferred embodiment according to the present invention can be formed of a metal oxide layer (sputtering layer) for the infrared blocking layer configuration to form a multi-layer blocking layer, it is configured through a Roll to Roll Sputter. In the roll-to-roll sputtering system, targets, which are materials to be deposited, are sequentially arranged in a vacuum chamber through which a base film is supplied through a roller, and the film is sequentially sputtered from the target when the film passes. It is to deposit a thin metal film on the surface.

이와 같이 형성되는 상기 적외선 차단층(110)은 반사율을 높여 유기, 무기 Coating에서 문제점으로 지적되는 높은 열흡수율을 상쇄시킴으로써, 전도에 의해 열이 내부로 전달되는 것을 차단하여 전체적인 에너지 관리측면에서 효율을 극대화시킬 수 있는 것이다. 적외선 차단층 코팅 후에는 열풍 및 자외선을 통해 건조시키는 것이 바람직하다.The infrared blocking layer 110 formed as described above increases the reflectance to offset the high heat absorption pointed out as a problem in organic and inorganic coatings, thereby preventing heat from being transferred to the inside by conduction, thereby improving efficiency in terms of overall energy management. It can be maximized. After coating the infrared barrier layer, it is preferable to dry it by hot air and ultraviolet rays.

여기서 상기 적외선 차단층을 형성하기 전에는 접착층을 도포하는데, 에너지가 높은 800 내지 1000nm 영역을 선택적으로 흡수/차단할 수 있는 적외선 코팅액을 투명 접착층에 혼합하여 유기 코팅층을 코팅함으로써 적외선의 직접적인 실내 유입을 차단할 수 있다.In this case, before forming the infrared blocking layer, an adhesive layer is coated, and an infrared coating liquid capable of selectively absorbing / blocking high 800 to 1000 nm regions is mixed with a transparent adhesive layer to coat the organic coating layer, thereby preventing direct inflow of infrared rays. have.

상기 적외선 차단층을 형성한 후에는 다시 제 2PET 필름(130)을 접착한다. 즉, 제 1PET 필름과 제 2PET 필름 사이로 적외선 차단층이 형성되는 것이다.After the infrared blocking layer is formed, the second PET film 130 is again bonded. That is, the infrared blocking layer is formed between the first PET film and the second PET film.

그리고 유리나 창문과 같은 제품에 부착하기 위하여 접착기능을 부가하기 위하여 상기 제 2PET 필름 표면으로 점착층(140)을 도포하고(S130), 점착층으로 이형필름(150)을 부착한다(S140).Then, in order to attach to a product such as glass or window, the adhesive layer 140 is applied to the surface of the second PET film to add an adhesive function (S130), and the release film 150 is attached to the adhesive layer (S140).

마지막으로 베이스 필름 타측면으로 하드 코팅층(160)을 형성한다(S150). 상기 하드 코팅층은 내구성을 향상시키기 위한 것으로, 표면 Scratch 방지 코팅 도료에 세라믹을 나노입자(20 ~ 30nm)로 분산하여 혼합한 것으로, 800 ~ 2500nm 영역의 파장이 직접적으로 실내로 유입되는 것을 차단한다.Finally, the hard coating layer 160 is formed on the other side of the base film (S150). The hard coating layer is for improving durability, and is a mixture of ceramic particles dispersed in the nanoparticles (20 ~ 30nm) to the surface scratch-resistant coating paint, and prevents the wavelength of 800 ~ 2500nm region directly enters the room.

도 3은 본 발명에 따른 붕소 화합물이 첨가된 투명 열차단 필름의 구조를 나타낸 단면도이다. 베이스 필름에 해당하는 PET 필름 타측면으로는 하드 코팅층(150)이 코팅되어 있으며, 일측면으로는 유기 코팅층, 적외선 차단층(110), 점착층(160) 및 이형 필름이 형성된다(S150). 단품으로 제작되는 열차단 필름의 경우 베이스 필름 타측면으로 이형필름(170)이 더 구성될 수 있다. 이형 필름은 유리창이나 차량 유리에 열차단 필름을 접착시킬 때 제거되는 필름이다. 상기 이형필름이 제거되면 점착층이 노출됨으로써 점착을 통해 열차단 필름을 부탁한다. 상기 이형 필름을 접착한 후에는 마지막으로 UV 경화 단계(S160)를 통해 필름 전체를 경화시켜 내구성을 마무리한다.3 is a cross-sectional view showing the structure of a transparent thermal barrier film to which a boron compound according to the present invention is added. The hard film layer 150 is coated on the other side of the PET film corresponding to the base film, and on one side, an organic coating layer, an infrared ray blocking layer 110, an adhesive layer 160, and a release film are formed (S150). In the case of the thermal barrier film produced in a single piece, the release film 170 may be further configured as the other side of the base film. A release film is a film which is removed when adhering a thermal barrier film to a glass window or a vehicle glass. When the release film is removed, the adhesive layer is exposed so that the thermal barrier film is asked through the adhesive. After adhering the release film, finally, the entire film is cured through the UV curing step (S160) to finish durability.

도 4는 본 발명에 따른 투명 열차단 필름의 적외선 차단층 형성을 위한 스퍼터링 시스템을 도시한 도면이다. 앞서 언급된 바와 같이 본 발명에서는 롤-투-롤 스퍼터링 시스템을 통해 적외선 차단층을 순차적으로 스퍼터링 할 수 있다. 좀 더 상세하게 본 발명에 따른 적외선 차단층의 금속 산화물은 ITO, AZO, Ag, AZO, ITO으로 각각 순차적인 구조를 갖는데, 롤-투-롤 스퍼터링 시스템을 통해 공급되는 PET 필름에 연속적으로 스퍼터링을 구현할 수 있다.4 is a view showing a sputtering system for forming an infrared blocking layer of the transparent thermal barrier film according to the present invention. As mentioned above, in the present invention, the infrared blocking layer may be sequentially sputtered through a roll-to-roll sputtering system. In more detail, the metal oxide of the infrared blocking layer according to the present invention has a sequential structure, respectively, as ITO, AZO, Ag, AZO, or ITO, and continuously sputtering the PET film supplied through a roll-to-roll sputtering system. Can be implemented.

도 5는 ATO를 단독으로 사용한 열차단 필름의 Spectrophotometer 측정 그래프, 도 6은 본 발명에 따른 붕소 화합물이 첨가된 열차단 필름의 Spectrophotometer 측정 그래프이다. 두 그래프에서 비교할 수 있듯이 적외선 영역 중 에너지를 가장 많이 포함하는 800 내지 1000nm 영역을 붕소 화합물을 첨가한 제품이 최대로 차단시켜줌으로써 기존 ATO를 사용한 일반 Type 보다 열차단 효과를 극대화시킬 수 있다.
5 is a spectrophotometer measurement graph of the thermal barrier film using ATO alone, and FIG. 6 is a spectrophotometer measurement graph of the thermal barrier film to which the boron compound according to the present invention is added. As can be compared in the two graphs, the product containing the boron compound blocks the 800-1000nm region, which contains the most energy among the infrared regions, to maximize the thermal barrier effect than the general type using the conventional ATO.

이와 같이 구성되고 작용되는 본 발명은 유기, 무기 코팅을 함으로써 NIR(근적외선)영역대의 파장이 직접 실내로 유입되는 것을 모두 차단하고 Sputtering 공정을 통해 NIR 영역에서 반사율을 높임으로써 열차단 필름의 장점을 극대화시킬 수 있는 우수한 효과가 있다. 이상, 본 발명의 원리를 예시하기 위한 바람직한 실시예와 관련하여 설명하고 도시하였지만, 본 발명은 그와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되는 것이 아니다. 오히려, 첨부된 청구범위의 사상 및 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능함을 당업자들은 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 그러한 모든 적절한 변경 및 수정과 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.
The present invention constructed and functioned as described above maximizes the advantages of the thermal barrier film by blocking all wavelengths of the NIR (Near Infrared) region directly into the room by applying organic and inorganic coatings and increasing reflectance in the NIR region through a sputtering process. It has an excellent effect. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. On the contrary, those skilled in the art will appreciate that many modifications and variations of the present invention are possible without departing from the spirit and scope of the appended claims. And all such modifications and changes as fall within the scope of the present invention are therefore to be regarded as being within the scope of the present invention.

100 : PET 필름층
110 : 적외선 차단층
120 : 스퍼터링층
130 : 제 2PET
140 : 점착층
150 : 이형필름100: PET film layer
110: infrared blocking layer
120: sputtering layer
130: second PET
140: adhesive layer
150: release film

Claims (7)

투명 열차단 필름 제조방법에 있어서,
베이스 필름에 해당하는 제 1PET 필름층 일측 표면으로 무기금속산화물 코팅과, 붕소, 희석용제, 첨가제, 촉매를 포함하는 붕소 화합물로 구성되는 적외선(IR) 차단제를 코팅하여 적외선 차단층을 코팅하는 단계;
상기 적외선 차단층을 건조하는 단계;
상기 적외선 차단층이 형성된 표면으로 적외선(IR) 반사를 위한 스퍼터링층을 형성하는 단계;
상기 스퍼터링층 표면으로 제 2PET 필름을 접착시키는 단계;
상기 제 2PET 필름의 표면에 이형 필름을 접착시키는 단계; 및
상기 제 1PET 필름 타측 표면으로 하드 코팅층을 코팅하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 붕소 화합물 코팅과 스퍼터링 공정을 접목한 투명 열차단 필름 제조방법.In the transparent thermal barrier film manufacturing method,
Coating an infrared ray blocking layer by coating an inorganic metal oxide coating on one surface of the first PET film layer corresponding to the base film and an infrared ray (IR) blocker composed of a boron compound including boron, a diluent solvent, an additive, and a catalyst;
Drying the infrared blocking layer;
Forming a sputtering layer for infrared (IR) reflection on a surface on which the infrared blocking layer is formed;
Adhering a second PET film to the surface of the sputtering layer;
Adhering a release film to a surface of the second PET film; And
Coating the hard coating layer on the other surface of the first PET film; a method of manufacturing a transparent thermal barrier film incorporating a boron compound coating and a sputtering process comprising a. 제 1항에 있어서, 상기 스퍼터링층 형성단계는,
무기금속산화물을 스퍼터링 공정을 통해 형성하며, 상기 무기금속산화물은 ITO, AZO, Ag, AZO, ITO가 각각 순차적으로 구성되는 것을 특징으로 하는 붕소 화합물 코팅과 스퍼터링 공정을 접목한 투명 열차단 필름 제조방법.The method of claim 1, wherein the sputtering layer forming step,
An inorganic metal oxide is formed through a sputtering process, and the inorganic metal oxide is a transparent thermal barrier film manufacturing method incorporating a boron compound coating and a sputtering process, each of which is sequentially composed of ITO, AZO, Ag, AZO, and ITO. . 제 1항에 있어서, 상기 적외선 차단층 건조단계는,
열풍 건조와 자외선 건조를 통해 건조하는 것을 특징으로 하는 붕소 화합물 코팅과 스퍼터링 공정을 접목한 투명 열차단 필름 제조방법.The method of claim 1, wherein the infrared blocking layer drying step,
A method of manufacturing a transparent thermal barrier film incorporating a boron compound coating and a sputtering process, characterized by drying through hot air drying and ultraviolet drying. 제 1항에 있어서, 상기 하드 코팅층 형성단계는,
20 내지 30nm 크기의 세라믹 나노입자를 분산하여 형성시키는 것을 특징으로 하는 붕소 화합물 코팅과 스퍼터링 공정을 접목한 투명 열차단 필름 제조방법.The method of claim 1, wherein the hard coating layer forming step,
A method of manufacturing a transparent thermal barrier film incorporating a boron compound coating and a sputtering process, characterized in that the ceramic nanoparticles having a size of 20 to 30 nm are dispersed and formed. 제 1항 또는 제 4항에 있어서, 상기 하드 코팅층 형성단계 후에는,
UV를 이용한 경화단계를 더 포함하는 붕소 화합물 코팅과 스퍼터링 공정을 접목한 투명 열차단 필름 제조방법.According to claim 1 or 4, After the hard coating layer forming step,
Transparent heat shielding film manufacturing method using a sputtering process and a boron compound coating further comprising a curing step using UV. 삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 붕소 화합물 첨가량 제어를 통해 파장별 투과도를 제어하는 것을 특징으로 하는 붕소 화합물 코팅과 스퍼터링 공정을 접목한 투명 열차단 필름 제조방법.
The method of claim 1,
A method of manufacturing a transparent heat shield film incorporating a boron compound coating and a sputtering process, the transmittance of each wavelength is controlled by controlling the amount of the boron compound added.
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