KR101203171B1 - 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치 - Google Patents

글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101203171B1
KR101203171B1 KR1020120054405A KR20120054405A KR101203171B1 KR 101203171 B1 KR101203171 B1 KR 101203171B1 KR 1020120054405 A KR1020120054405 A KR 1020120054405A KR 20120054405 A KR20120054405 A KR 20120054405A KR 101203171 B1 KR101203171 B1 KR 101203171B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
glass
magnetic
alignment
main body
Prior art date
Application number
KR1020120054405A
Other languages
English (en)
Inventor
원재희
박명철
Original Assignee
주식회사 아이.엠.텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 아이.엠.텍 filed Critical 주식회사 아이.엠.텍
Priority to KR1020120054405A priority Critical patent/KR101203171B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101203171B1 publication Critical patent/KR101203171B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/681Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/6875Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a plurality of individual support members, e.g. support posts or protrusions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치에 관한 것으로, 마그네틱, 글래스, 마스크를 합착함에 있어 증착장비 별도로 글래스를 안착 이송함과 장비본체 내부에서 글래스를 기준으로 마스크를 얼라인 정렬 후 자력에 의한 마그네틱, 글래스, 마스크를 3중 합착하는 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치에 관한 것이다.
이를 위한 본 발명의 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치는, 얼라인 동작을 수행하기 위한 스테이지를 구비하는 장치본체; 상기 장치본체의 상부에 마스크 및 마그네틱을 동시에 투입되는 제1투입구; 상기 제1투입구로 진입한 마스크 및 마그네틱을 일측 방향으로 이송하며, 상하로 승하강시키는 이송 방향 전환 수단으로 구성된 이송장치부; 상기 장치본체에 투입된 마스크를 마그네틱과 소정 간격으로 이격되도록 하며, 하부측에 위치하여 마스크를 지지하는 마스크 지지 플레이트; 상기 마스크 지지 플레이트를 상하 구동시키는 마스크 포지션 구동부; 상기 장치본체의 제1투입구 타측에 글래스를 마스크와 마그네틱이 이격된 사이에 투입하기 위한 제2투입구; 상기 마스크 지지 플레이트의 개구부 사이를 관통 이동하면서 상기 글래스의 각 사면 모서리 저면 사이드와 중앙 측을 지지하며, 글래스를 상하이동시키는 리프트 핀; 상기 장치본체의 상부에 고정되어 상하 이동력을 갖고, 글래스를 기준으로 마스크의 얼라인 상태를 촬영하여 위치를 인식하는 CCD카메라; 상기 마스크 지지 플레이트의 하면과 연결되어 마스크를 얼라인하기 위해 위치를 변화시키는 얼라인 구동부로 이루어진다.

Description

글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치{Align the device for glass substrate bonding}
본 발명은 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 마그네틱, 글래스, 마스크를 합착함에 있어 글래스를 안착 이송과 장비본체 내부에서 글래스를 기준으로 마스크를 얼라인 정렬 후 자력에 의한 마그네틱, 글래스, 마스크를 3중 합착하는 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 기판을 얼라인 한 다음에, 합착하는 공정을 수행하며, 합착된 기판은 패널 단위로 절단한 후, 액정을 주입한다.
한편, 종래 기술로서, 대한민국 특허출원번호 제10-2009-0027763(출원일: 2009년 03월 31일)에는 "기판 증착 장치 및 방법"이 개시되어 있는데, 도 1을 참조하여 설명한다.
종래 특허에 따른 기판 증착 장치 및 방법은 기판상에 금속 또는 비금속막을 증착시키기 위한 증착 장치에 있어서, 기판상에 금속 또는 비금속막 증착 공정이 이루어지는 반응 공간인 반응기; 파우더를 상기 반응기 내부로 공급하기 위한 파우더공급장치; 증착 공정시 막질의 접착력이나 기공율 향상 및 기판 손상 최소화를 위해 기판 온도를 조절 가능토록 하기 위하여 기판 및 서셉터 하면에 형성되는 온도 조절 장치; 상기 파우더와 함께 반응기 내부로 반응가스를 공급하기 위한 반응가스공급장치; 상기 공급되는 반응가스 주입시 가열기를 통한 주입 반응가스 온도 조절을 위한 반응가스 온도조절장치; 상기 기판 및 서셉터 하면에 형성되어 균일한 막 증착을 위해 구성되는 정밀스테이지; 상기 증착 공정시 발생할 수 있는 산화나 기타 오염을 막기 위하여 진공 라인 및 진공펌프; 상기 반응기 내부 오염 방지를 위하여 반응기 내부를 진공 상태로 유지시키고 증착 막질의 산화나 오염을 막기위하여 진공에서 상압까지 진공도를 조절하기 위한 것으로, 반응기 외부에 설치되어 있는 불활성가스 공급장치; 및 상기 파우더 공급장치를 통해 공급되는 파우더 및 상기 반응가스 공급장치로부터 공급되는 반응가스를 반응기내부로 용이하게 주입시키기 위하여 상기 반응기 내측 상벽에 구성하는 코팅노즐;로 구성된 것을 특징으로 하는기판 증착 장치이다.
이상과 같은 구조는 증착 공정이 진행되는 바, 증착 공정 장치 구조가 복잡하게 될 수 있는 문제가 있다.
또한, 기판은 얼라인되지 않게 되는 문제점이 발생하게 된다. 따라서, 기판을 얼라인 상태를 확인할 필요가 있다.
또한, 얼라인 과정이 없어 정밀도가 크게 저하되는 문제점이 발생하였다. 이는 증착 공정의 수율 저하문제로 이어졌다
상기 종래 기술에 따른 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 마그네틱, 글래스, 마스크를 합착함에 있어 증착장비 별도로 글래스를 안착 이송함과 장비본체 내부에서 글래스를 기준으로 마스크를 얼라인 정렬 후 자력에 의한 마그네틱, 글래스, 마스크를 3중 합착하는 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치를 제공하는데 있다.
상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치는, 얼라인 동작을 수행하기 위한 스테이지를 구비하는 장치본체; 상기 장치본체의 상부에 마스크 및 마그네틱을 동시에 투입되는 제1투입구; 상기 제1투입구로 진입한 마스크 및 마그네틱을 일측 방향으로 이송하며, 상하로 승하강시키는 이송 방향 전환 수단으로 구성된 이송장치부; 상기 장치본체에 투입된 마스크를 마그네틱과 소정 간격으로 이격되도록 하며, 하부측에 위치하여 마스크를 지지하는 마스크 지지 플레이트; 상기 마스크 지지 플레이트를 상하 구동시키는 포지션 구동부; 상기 장치본체의 제1투입구 타측에 글래스를 마스크와 마그네틱이 이격된 사이에 투입하기 위한 제2투입구; 상기 마스크 지지 플레이트의 개구부 사이를 관통 이동하면서 상기 글래스의 각 사면 모서리 저면 사이드와 중앙 측을 지지하며, 글래스를 상하이동시키는 리프트 핀; 상기 장치본체의 상부에 고정되어 상하 이동력을 갖고, 글래스를 기준으로 마스크의 얼라인 상태를 촬영하여 위치를 인식하는 CCD카메라; 상기 마스크 지지 플레이트의 하면과 연결되어 마스크를 얼라인하기 위해 위치를 변화시키는 얼라인 구동부로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
바람직하게, 상기 마그네틱은, 다수의 돌출편을 각각 안착지지하면서 탄성적으로 회동 가능하여 상기 돌출편에 접촉 또는 분리되도록하는 랜딩유닛을 더 포함한다.
바람직하게, 상기 글래스는, 장비본체의 일측에 글래스를 수송하는 글라스 로더에 파지되어 제2투입구를 통해 장비본체로 투입되는 것을 더 포함한다.
바람직하게, 상기 리프트핀은, 글래스의 각 사면 모서리 저면 사이드가 L자형으로 형성되는 지지편에 앉혀지는 형태로 안착지지하는 사이드 리프트핀; 몸체 및 상기 몸체의 상부에 배치되어 글래스의 중심부 하부와 접촉하는 지지부로 이루어진 센터 리프트핀;을 포함한다.
바람직하게, 상기 얼라인 구동부는, CCD카메라에 의해 획득한 정보에 따라 얼라인 키를 갖는 글래스를 기준으로 마스크를 X, Y, θ 축으로 이동해 얼라인을 실시하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게, 상기 마스크, 글래스, 마그네틱이 정렬되면 포지션 구동부에 의해 마스크가 상승하여 글래스와 합착하고, 상기 글래스와 마스크를 상승시켜 마그네틱의 자력으로 3중 합착되는 것을 특징으로 한다.
바람직하게, 상기 마스크 지지 플레이트, 글래스, 마그네틱을 3중 합착 후 CCD카메라에 의해 검사하여 최종 불량 여부를 판정하는 것을 더 포함한다.
상술한 바와 같은 본 발명은, 마그네틱, 글래스, 마스크를 합착함에 있어 글래스를 클램핑 유닛 장비와 복잡한 증착장비와 별도로 구성되어 글래스를 안착 이송함과 장비본체 내부에서 글래스를 기준으로 마스크의 정확한 미세정렬을 가능케 하고 얼라인 시간을 단축하는 얼라인 정렬 후 자력에 의한 마그네틱, 글래스, 마스크를 3중 합착하는 효과가 있다.
아울러, 글래스와 마그네틱, 마스크를 정확하고 신속하게 정렬하여 부착할 수 있어 생산성을 향상시킴과 동시에 글래스의 미스 얼라인을 최소화할 수 있는 이점이 있다.
도 1은 종래의 기판 증착 장치를 도시한 도면.
도 2는 본 발명에 따른 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치를 도시한 도면.
도 3은 본 발명에 따른 얼라인 장치에 마그네틱, 마스크, 글래스의 투입된 상태를 도시한 도면.
도 4는 본 발명에 따른 마그네틱과 랜딩유닛을 도시한 도면.
도 5는 본 발명에 따른 리프트 핀을 도시한 도면.
도 6은 본 발명에 따라 합착된 마그네틱, 마스크, 글래스의 배출을 도시한 도면.
도 7은 본 발명에 따른 마그네틱, 마스크, 글래스의 3중 합착을 도시한 도면.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은,
얼라인 동작을 수행하기 위한 스테이지를 구비하는 장치본체;
상기 장치본체의 상부에 마스크 및 마그네틱을 동시에 투입되는 제1투입구;
상기 제1투입구로 진입한 마스크 및 마그네틱을 일측 방향으로 이송하며, 상하로 승하강시키는 이송 방향 전환 수단으로 구성된 이송장치부;
상기 장치본체에 투입된 마스크를 마그네틱과 소정 간격으로 이격되도록 하며, 하부측에 위치하여 마스크를 지지하는 마스크 지지 플레이트;
상기 마스크 지지 플레이트를 상하 구동시키는 포지션 구동부;
상기 장치본체의 제1투입구 타측에 글래스를 마스크와 마그네틱이 이격된 사이에 투입하기 위한 제2투입구;
상기 마스크 지지 플레이트의 개구부 사이를 관통 이동하면서 상기 글래스의 각 사면 모서리 저면 사이드와 중앙 측을 지지하며, 글래스를 상하이동시키는 리프트 핀;
상기 장치본체의 상부에 고정되어 상하 이동력을 갖고, 글래스를 기준으로 마스크의 얼라인 상태를 촬영하여 위치를 인식하는 CCD카메라;
상기 마스크 지지 플레이트의 하면과 연결되어 마스크를 얼라인하기 위해 위치를 변화시키는 얼라인 구동부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치를 제공함으로써 달성하였다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면에 의하여 상세하게 설명한다.
이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시 예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 하나의 실시 예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
본 발명의 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치는 마그네틱, 글래스, 마스크를 합착함에 있어 글래스를 클램핑 유닛 장비와 증착장비와 별도로 구성되어 글래스를 안착 이송함과 장비본체 내부에서 글래스를 기준으로 마스크를 얼라인 정렬 후 자력에 의한 마그네틱, 글래스, 마스크를 3중 합착하는 것이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치는 장치본체(110), 제1투입구(120), 이송장치부(130), 마스크 지지 플레이트(140), 포지션 구동부(150), 제2투입구(160), 리프트핀(170), CCD카메라(180), 얼라인 구동부(190)를 포함하여 이루어진다.
먼저, 상기 장치본체(110)는 도 2에 도시한 바와 같이 내부에 글래스(30), 마스크(20), 마그네틱(10)을 지지 및 얼라인 동작을 수행하기 위한 스테이지(112)를 구비하여 합착할 수 있다.
상기 장치본체(110) 일측에는 개구된 제1투입구(120)가 형성된다.
상기 제1투입구(120)로 마스크(20)와 마그네틱(10)이 투입된다.
상기 제1투입구(120)로 투입된 마스크(20)와 마그네틱(10)은 이송 방향 전환 수단으로 구성된 이송장치부(130)에 의해 이송된다.
상기 이송장치부(130)는 컨베이어 형태로 마스크(20)와 마그네틱(10)을 일측 방향으로의 이송과 상하로 승하강시킨다.
상기 이송장치부(130)는 구비된 업다운 구동부에 의해 상하 이동을 한다.
여기서, 상기 이송장치부(130)가 마스크(20)와 함께 하강하기 전에 마그네틱(10)은 랜딩유닛(102)에 안착된다.
상기 마그네틱(10)은 도4에 도시한 바와 같이 사각형태이면서 양측면에 각각 외부로 돌출형성된 돌출편(12)을 다수 구성한다.
상기 랜딩유닛(102)은 마그네틱(10)에 형성된 다수의 돌출편(12)을 각각 안착지지하면서 탄성적으로 회동 가능하여 상기 돌출편(12)에 접촉 또는 분리되도록 한다.
상기 마그네틱(10)은 랜딩유닛(102)에 안착된 상태로 장치본체(110)의 상부에 위치하고, 마스크(20)는 이송장치부(130)와 함께 하강한다.
상기 마스크(20)는 마그네틱(10)과 이격되고, 마스크 지지 플레이트(140)에 안착된다.
상기 마스크 지지 플레이트(140)는 장치본체(110)에 투입된 마스크(20)를 마그네틱(10)과 소정 간격으로 이격되도록 하며, 하부측에 위치하여 상하이동과 함께 마스크(20)를 지지한다.
상기 마스크 지지 플레이트(140)는 다수의 개구부를 구비하는 사각틀 형상의 금속재질로 마스크(20)를 지지하는 것이다.
이때, 상기 마스크 지지 플레이트(140)는 마스크(20)를 안착하며, 상기 마스크 지지 플레이트(140)를 상하 구동시키는 포지션 구동부(150)에 의해 마스크(20)가 상하 이동하게 된다.
정리하면, 상기 이송장치부(130)가 하강하면 마스크(20)와 마그네틱(10)은 일정간격으로 이격되어 상기 마그네틱(10)은 랜딩유닛(102)에 안착되고, 마스크(20)는 마스크 지지 플레이트(140)에 위치 고정 및 안착된다.
상기 랜딩유닛(102)은 장치본체(110)의 상부 마그네틱(10)에 근접된 위치에 구성되며 마그네틱(10)과 접촉 또는 분리되도록하는 것이다.
한편, 상기 장치본체(110)의 제1투입구(120) 타측에는 제2투입구(160)가 구성되며, 상기 제2투입구(160)를 통해 글래스(30)가 투입된다.
상기 글래스(30)는 장치본체(110)의 내부 스테이지(112)로 투입되며, 마스크(20)와 마그네틱(10)이 이격된 사이에 투입된다.
여기서, 상기 글래스(30)는 장비본체(110)의 일측에 글래스(30)를 수송하는 글라스 로더(104)에 파지되어 제2투입구(160)를 통해 장비본체(110)로 투입된다.
상기 글라스 로더(104)는 글래스(30)를 투입하는 글라스 로더(104)이며, 직선왕복운동 및 상하 이동이 가능하다.
상기 글라스 로더(104)는 글래스(30) 이송을 수행하고 이후에 장치본체(110) 외부로 인출된다.
아울러, 상기 글래스(30)는 제2투입구(160)로 투입되어 리프트핀(170)에 안착 지지된다.
상기 글래스(30)는 장치본체(110) 내부 스테이지(112)로 투입되고 내부에서 리프트핀(170)에 지지된 상태로 위치한다.
상기 리프트핀(170)은 복수개로 구성되며, 글래스(30)의 하중을 균등하게 지지함으로써, 글래스(30)의 손상을 방지할 수 있다.
이때, 상기 리프트핀(170)은 도 5에 도시한 바와 같이 사이드 리프트핀(170-2)과 센터 리프트핀(170-4)으로 나누어진다.
상기 사이드 리프트핀(170-2)은 글래스(30)의 각 사면 모서리 저면 사이드에 L자형으로 형성되는 지지편(172)에 앉혀지는 형태로 안착지지한다.
그리고, 센터 리프트핀(170-4)은 몸체(174) 및 상기 몸체(174)의 상부에 배치되어 글래스(30)의 중심부 하부와 접촉하는 지지부(176)로 이루어진다.
상기 센터 리프트핀(170-4)은 마스크 지지 플레이트(140)의 개구부 사이로 상하 이동하면서 글래스(30)의 하면을 지지한다.
이러한, 상기 리프트핀(170)은 마스크 지지 플레이트(140)의 개구부 사이를 관통 이동이 가능하여 상기 글래스(30)의 각 사면 모서리 저면 사이드와 중앙 측을 지지하며, 상기 리프트 핀(170)은 소정의 높이로 상하 왕복이동이 가능하여 글래스(30)를 상하이동시킨다.
상기 글래스(30)가 리프트핀(170)에 안착되면, 글라스 로더(104)는 글래스(30) 이송을 수행하고 이후에 장치본체(110) 외부로 인출된다.
상기 글래스(30)는 사이드 리프트핀(170-2)과 센터 리프트핀(170-4)에 지지되어 위치고정되고, 하부의 마스크(20)는 포지션 구동부(150)에 의해 상승하여 글래스(30)와 접촉되지 않은 근접한 거리로 이송된다.
그리고, 장치본체(110)의 상부에 구성된 CCD카메라(180)에 의해 글래스(30) 기준으로 마스크(20)를 얼라인 한다.
상기 CCD카메라(180)는 상기 장치본체(110)의 상부에 고정되어 상하 이동력을 갖고, 글래스(30)를 기준으로 마스크 지지 플레이트(140)의 얼라인 상태를 촬영하여 위치를 인식한다.
이때, 상기 마스크(20)는 마스크 지지 플레이트(140)에 지지되어 하면과 접촉하여 마스크 지지 플레이트(140)를 얼라인하기 위해 위치를 변화시키는 얼라인 구동부(190)로 얼라인 조정된다.
상기 얼라인 구동부(190)는 CCD카메라(180)에 의해 획득한 정보에 따라 얼라인 키를 갖는 글래스(30)를 기준으로 마스크(20)를 X, Y, θ 축 이동에 의해 얼라인을 실시하는 것이다.
이같이, 상기 CCD카메라(180)에 얻어진 글래스(30)와 마스크(20)의 키 정보 값을 계산하여 X, Y, θ 축 구동하여 글래스(30) 기준으로 마스크(20)를 얼라인한다.
상기 글래스(30)와 마스크(20)의 얼라인 작업이 끝나면 포지션 구동부(150)가 상기 마스크 지지 플레이트(140)를 상승하여 마스크(20)와 글래스(30)가 합착하게 된다.
이때, 상기 글래스(30)를 지지하고 있던 사이드 리프트핀(170-2)과 센터 리트프핀(170-4)은 글래스(30)에서 이격된다.
상기 글래스(30)와 마스크(20)가 합착된 상태로 안착된 마스크 지지 플레이트(140)가 상부 방향으로 상승하여 랜딩유닛(102)에 안착되어 있는 마그네틱(10)과 합착된다.
이같이, 도 6 및 도 7에 도시한 바와 같이 상기 마스크(20), 글래스(30), 마그네틱(10)이 정렬되면 포지션 구동부(150)에 의해 마스크(20)가 상승하여 글래스(30)와 합착하고, 상기 글래스(30)와 마스크(20)를 상승시켜 마그네틱(10)의 자력으로 3중 합착되는 것이다.
이렇게, 상기 마그네틱(10)과 글래스(30), 마스크(20)가 합착된다.
여기서, 상기 글래스(30)와 마스크(20)가 마그네틱(10)과 합착 시 발생될 수 있는 슬립 양을 CCD카메라(180)에 의해 정해진 범위 내로 들어오는지 재 검사한다.
아울러, 검사 결과에 따라 불합격일 경우 장치본체(110)에서는 얼라인 작업을 재 수행하게 되고, 합격일 경우 포지션 구동부(150)가 하강하여 하부에 위치하는 이송장치부(130)에 3중 합착된 마스크(20), 글래스(30), 마그네틱(10)을 안착한다.
이때, 상기 마스크(20), 글래스(30), 마그네틱(10)이 3중 합착되고, 포지션 구동구(150)에 의해 마스크 지지 플레이트(140)가 하강하기 전에 랜딩유닛(102)이 턴하여 마그네틱(10)에서 도피한 후 3중 합착된 마스크(20), 글래스(30), 마그네틱(10)이 다운할 수 있는 조건을 만들어 준다.
즉, 상기 랜딩유닛(102)은 장치본체(110)의 상부에서 마그네틱(10)을 지지하고, 3중 합착 후 장치본체(110) 외부로 이송시 랜딩유닛(102)이 일방향으로 탄성적으로 회동하여 분리한다.
한편, 상기 3중 합착 후 양품으로 판정되면 배출구(106)를 통해 외부로 이송하고 다음 작업이 순차적으로 이루어진다.
이상으로 본 발명의 기술적 사상을 예시하기 위한 몇 가지 실시예들과 관련하여 설명하고 도시하였지만, 본 발명은 이와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용에만 국한되는 것이 아니며, 기술적 사상의 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대해 다수의 변경 및 수정이 가능함을 당업자들은 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 그러한 모든 적절한 변경 및 수정과 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.
10:마그네틱 12:돌출편
20:마스크 30:마그네틱
102:랜딩유닛 104:글라스 로더
106:배출구 110:장치본체
112:스테이지 120:제1투입구
130:이송장치부 140:마스크 지지 플레이트
150:포지션 구동부 160:제2투입구
170:리프트 핀 170-2:사이드 리프트핀
170-4:센터 리프트핀 172:지지편
174:몸체 176:지지부
180:CCD카메라 190:얼라인 구동부

Claims (7)

  1. 얼라인 동작을 수행하기 위한 스테이지를 구비하는 장치본체;
    상기 장치본체의 상부에 마스크 및 마그네틱을 동시에 투입되는 제1투입구;
    상기 제1투입구로 진입한 마스크 및 마그네틱을 일측 방향으로 이송하며, 상하로 승하강시키는 이송 방향 전환 수단으로 구성된 이송장치부;
    상기 장치본체에 투입된 마스크를 마그네틱과 소정 간격으로 이격되도록 하며, 하부측에 위치하여 마스크를 지지하는 마스크 지지 플레이트;
    상기 마스크 지지 플레이트를 상하 구동시키는 마스크 포지션 구동부;
    상기 장치본체의 제1투입구 타측에 글래스를 마스크와 마그네틱이 이격된 사이에 투입하기 위한 제2투입구;
    상기 마스크 지지 플레이트의 개구부 사이를 관통 이동하면서 상기 글래스의 각 사면 모서리 저면 사이드와 중앙 측을 지지하며, 글래스를 상하이동시키는 리프트 핀;
    상기 장치본체의 상부에 고정되어 상하 이동력을 갖고, 글래스를 기준으로 마스크의 얼라인 상태를 촬영하여 위치를 인식하는 CCD카메라;
    상기 마스크 지지 플레이트의 하면과 연결되어 마스크를 얼라인하기 위해 위치를 변화시키는 얼라인 구동부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 장치본체에는 마그네틱에 형성된 다수의 돌출편을 각각 안착지지하면서 상기 돌출편과 접촉 또는 분리되는 랜딩유닛을 더 포함하는 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 글래스는,
    장비본체의 일측에 글래스를 수송하는 글라스 로더에 파지되어 제2투입구를 통해 장비본체로 투입되는 것을 더 포함하는 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 리프트핀은,
    글래스의 각 사면 모서리 저면 사이드가 L자형으로 형성되는 지지편에 앉혀지는 형태로 안착지지하는 사이드 리프트핀;
    몸체 및 상기 몸체의 상부에 배치되어 글래스의 중심부 하부와 접촉하는 지지부로 이루어진 센터 리프트핀;을 포함하는 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 얼라인 구동부는,
    CCD카메라에 의해 획득한 정보에 따라 얼라인 키를 갖는 글래스를 기준으로 마스크를 X, Y, θ 축으로 이동해 얼라인을 실시하는 것을 특징으로 하는 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 마스크, 글래스, 마그네틱이 정렬되면 포지션 구동부에 의해 마스크가 상승하여 글래스와 합착하고, 상기 글래스와 마스크를 상승시켜 마그네틱의 자력으로 3중 합착되는 것을 특징으로 하는 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치.
  7. 삭제
KR1020120054405A 2012-05-22 2012-05-22 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치 KR101203171B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120054405A KR101203171B1 (ko) 2012-05-22 2012-05-22 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120054405A KR101203171B1 (ko) 2012-05-22 2012-05-22 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101203171B1 true KR101203171B1 (ko) 2012-11-21

Family

ID=47565050

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120054405A KR101203171B1 (ko) 2012-05-22 2012-05-22 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101203171B1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101310336B1 (ko) 2013-03-28 2013-09-23 주식회사 아이.엠.텍 대면적 글라스의 얼라인 구동장치
KR101418874B1 (ko) * 2013-02-26 2014-07-21 주식회사 좋은기술 진공창 제조 설비의 유리판 정렬 장치
KR20140123845A (ko) * 2013-04-15 2014-10-23 주식회사 원익아이피에스 얼라인장치
KR20160068377A (ko) 2014-12-05 2016-06-15 주식회사 선익시스템 마스크 합착 장치 및 이를 포함하는 증착 장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100422487B1 (ko) 2001-12-10 2004-03-11 에이엔 에스 주식회사 전자석을 이용한 유기전계발광소자 제작용 증착장치 및그를 이용한 증착방법
KR100712953B1 (ko) 2006-06-16 2007-05-02 두산디앤디 주식회사 기판 얼라인장치 및 이를 이용한 기판얼라인방법
KR100925362B1 (ko) 2005-03-24 2009-11-09 미쯔이 죠센 가부시키가이샤 성막 장치, 성막 방법 및 유기 el 소자의 제조 방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100422487B1 (ko) 2001-12-10 2004-03-11 에이엔 에스 주식회사 전자석을 이용한 유기전계발광소자 제작용 증착장치 및그를 이용한 증착방법
KR100925362B1 (ko) 2005-03-24 2009-11-09 미쯔이 죠센 가부시키가이샤 성막 장치, 성막 방법 및 유기 el 소자의 제조 방법
KR100712953B1 (ko) 2006-06-16 2007-05-02 두산디앤디 주식회사 기판 얼라인장치 및 이를 이용한 기판얼라인방법

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101418874B1 (ko) * 2013-02-26 2014-07-21 주식회사 좋은기술 진공창 제조 설비의 유리판 정렬 장치
WO2014133306A1 (ko) * 2013-02-26 2014-09-04 주식회사 좋은기술 진공창 제조 설비의 유리판 정렬 장치
KR101310336B1 (ko) 2013-03-28 2013-09-23 주식회사 아이.엠.텍 대면적 글라스의 얼라인 구동장치
KR20140123845A (ko) * 2013-04-15 2014-10-23 주식회사 원익아이피에스 얼라인장치
KR102133776B1 (ko) * 2013-04-15 2020-07-15 주식회사 원익아이피에스 얼라인장치
KR20160068377A (ko) 2014-12-05 2016-06-15 주식회사 선익시스템 마스크 합착 장치 및 이를 포함하는 증착 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101203171B1 (ko) 글래스 기판 합착을 위한 얼라인 장치
KR101088289B1 (ko) 탑재대, 처리 장치 및 처리 시스템
US20060032583A1 (en) Apparatus and method for fabricating bonded substrate
CN108677158B (zh) 基板搬送机构、基板载置机构、成膜装置及其方法
JP5506921B2 (ja) 真空処理装置並びに基板とアラインメントマスクの移動方法及び位置合わせ方法並びに成膜方法
KR20090042726A (ko) 기판 접합 장치 및 방법
KR20130018540A (ko) 기판 수수 방법
KR101765234B1 (ko) 트레이교환모듈, 기판처리장치 및 기판처리방법
CN108122809B (zh) 基板处理系统
KR102139934B1 (ko) 기판 처리 장치, 및 이를 이용하는 기판 처리 방법
CN111218660A (zh) 成膜装置、成膜方法及电子器件制造方法
KR20220107970A (ko) 성막 장치
WO2008068845A1 (ja) パレット搬送装置、および基板検査装置
KR101859279B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102371101B1 (ko) 증착 장치
KR101107575B1 (ko) 진공 챔버 내에서 진공을 깨뜨리지 않고 도가니를 교체할 수 있는 진공 증착 장치
CN100385612C (zh) 不用中心提升针来提升玻璃衬底的方法
US20210002781A1 (en) Plating device and plating method
US20210010148A1 (en) Substrate processing system and substrate processing method
KR101528137B1 (ko) 기판처리장치의 기판교환모듈 및 그를 가지는 기판처리장치
KR20140140462A (ko) 원자층 증착 장치
KR101039533B1 (ko) 적층구조의 공정챔버를 포함하는 기판 제조장비
CN111041424A (zh) 成膜装置及方法、有机el面板的制造系统以及制造方法
KR20100067722A (ko) 기판 리프트장치
CN107089053B (zh) 安装基板制造系统及其下支撑构件的设置方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151105

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161110

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191112

Year of fee payment: 8