KR101196324B1 - Light irradiation apparatus - Google Patents

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Abstract

광 조사 장치는, 직선 형상의 광 경화성 수지(S)를 형성한 기판을 탑재 배치하는 스테이지(ST)와, 일 방향을 따라 배열된 복수의 광학 소자(LED)를 포함하는 광 조사 유닛(3)을 구비한다. 광 조사 유닛(3)은, 복수의 광학 소자(LED)로부터 출사되는 광 빔을 중첩시킴으로써 상기 일 방향으로 연장되는 직선 형상 빔 광(LB)을 생성하고, 기판에 형성된 직선 형상의 광 경화성 수지(S)에 상기 일 방향을 따라 직선 형상 빔 광(LB)을 대치시키면서 조사를 행한다. 광 조사 장치는 스테이지(ST)의 표면에 형성된 광 흡수 부재(18)를 더 구비한다.The light irradiation apparatus includes a stage ST for mounting and placing a substrate on which a linear photocurable resin S is formed, and a light irradiation unit 3 including a plurality of optical elements LED arranged along one direction. It is provided. The light irradiation unit 3 generates the linear beam light LB extending in the one direction by overlapping the light beams emitted from the plurality of optical elements LEDs, and the linear photocurable resin formed on the substrate ( Irradiation is performed while replacing the linear beam light LB along S) in the one direction. The light irradiation apparatus further includes a light absorbing member 18 formed on the surface of the stage ST.

Figure R1020107029579
Figure R1020107029579

Description

광 조사 장치{LIGHT IRRADIATION APPARATUS}Light irradiation apparatus {LIGHT IRRADIATION APPARATUS}

본 발명은 광 조사 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a light irradiation apparatus.

액정 디스플레이 패널은, 박막 트랜지스터가 매트릭스 형상으로 배치 형성된 소자 기판과, 차광막 및 컬러 필터 등이 형성된 대향 기판이 매우 좁은 간격으로 대향 배치된다. 그리고, 양 기판이 중첩될 때에, 이들 양 기판 사이에 있어서 광 경화성 수지를 포함하는 시일(seal)재에 둘러싸인 영역에 액정이 봉입(封入)된다. 계속해서, 자외선을 시일재에 조사하여, 동(同) 시일재가 경화되어 양 기판이 접합됨으로써 액정 디스플레이 패널이 제조된다.In a liquid crystal display panel, an element substrate on which thin film transistors are arranged in a matrix form and an opposing substrate on which light shielding films, color filters, and the like are formed are arranged at very narrow intervals. And when both board | substrates overlap, a liquid crystal is enclosed in the area | region enclosed by the seal material containing photocurable resin between these board | substrates. Subsequently, an ultraviolet-ray is irradiated to a sealing material, the same sealing material is hardened | cured, and both board | substrates are bonded together, and a liquid crystal display panel is manufactured.

이 때, 시일재를 자외선 경화시켜 양 기판 상호간을 접착하는 장치로서 광 조사 장치가 있다. 이 종류의 광 조사 장치로서는, 예를 들면 광원으로서 아크 방전식 메탈 하이랜드 램프 등을 이용해서, 접합시키는 기판의 전체 면에 자외선을 조사하는 것이었다(예를 들면, 특허문헌 1).At this time, there exists a light irradiation apparatus as an apparatus which adhere | attaches both board | substrates by ultraviolet-hardening a sealing material. As this kind of light irradiation apparatus, ultraviolet-ray was irradiated to the whole surface of the board | substrate to bond together, for example using an arc discharge type metal highland lamp etc. as a light source (for example, patent document 1).

또한, 최근, 직선 형상의 시일재에만 직선 형상의 자외선 빔 광을 조사해서, 소비 전력의 저감을 도모하는 동시에, 접합시키는 기판의 규격의 변경 등에도 용이하게, 또한 신속하게 대응할 수 있는 자외선 발광 다이오드를 이용한 광 조사 장치가 주목받고 있다. 이 자외선 발광 다이오드를 이용한 광 조사 장치에서는, 복수의 자외선 발광 다이오드가 일 방향으로 미리 정한 피치로 배열되어 있다. 그리고, 각 자외선 발광 다이오드의 광 출사(出射)측에는, 반구(半球) 렌즈, 실린더리컬 렌즈(Cylindrical Lens) 등의 광학계가 배치되어 있다. 이에 의해, 각 자외선 발광 다이오드로부터 출사된 광은, 이들 반구 렌즈, 실린더리컬 렌즈 등의 광학계를 통해 횡단면이 직선 형상으로 되는 빔 광(직선 형상 빔 광)으로 되어 직선 형상의 시일재에 조사시키는 것이다.Moreover, in recent years, the ultraviolet light-emitting diode which can irradiate linear ultraviolet-beam light only to a linear sealing material to reduce power consumption, and can also respond easily and quickly to changes in the specification of a substrate to be bonded, etc. A light irradiation apparatus using the laser is attracting attention. In the light irradiation apparatus using this ultraviolet light emitting diode, a plurality of ultraviolet light emitting diodes are arranged at a predetermined pitch in one direction. On the light exit side of each ultraviolet light emitting diode, optical systems such as a hemispherical lens and a cylindrical lens are arranged. As a result, the light emitted from each ultraviolet light-emitting diode becomes beam light (linear beam light) whose cross section is linear through optical systems such as hemispherical lens and cylindrical lens, and is irradiated to the linear sealing material. .

일본국 특개2006-66585호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-66585

그런데, 자외선 조사 에너지를 최대로 하면서도 양호한 효율로 공급하기 위해서, 직선 형상 빔 광은, 그 선(線) 폭이 직선 형상의 시일재의 가로 폭과 동일한 것이 바람직하다. 그 경우, 시일재의 가로 폭과 동일한 선 폭의 직선 형상 빔 광은, 직선 형상의 시일재에 위치 어긋나지 않고 위치 맞춤된다. 이에 의해, 빠짐없이 직선 형상 빔 광의 조사 에너지가 시일재의 전체 표면에 균일하게 공급되기 때문에, 시일재를 경화시키는데에 필요한 적산(積算) 조도가, 시일재의 각 위치에 있어서 동일하게 된다. 따라서, 시일재의 각 위치를 동일한 시간으로 조사할 수 있으므로, 조사 시간을 단축할 수 있고 생산 효율의 향상을 도모할 수 있다.By the way, in order to maximize the ultraviolet irradiation energy and to supply with good efficiency, it is preferable that the linear beam light has the same line width as the horizontal width of the linear sealing material. In that case, the linear beam light of the same line width as the horizontal width of the sealing material is aligned without being misaligned with the linear sealing material. Thereby, since the irradiation energy of linear beam light is uniformly supplied to the whole surface of a sealing material, the integrated roughness required for hardening a sealing material becomes the same in each position of a sealing material. Therefore, since each position of a sealing material can be irradiated at the same time, irradiation time can be shortened and production efficiency can be improved.

그러나, 시일재의 가로 폭에 맞춰, 직선 형상 빔 광의 선 폭을 반구 렌즈, 실린더리컬 렌즈 등의 광학계에 의해 조정하는 것은 어려웠다. 그 결과, 직선 형상 빔 광의 선 폭이 시일재의 가로 폭보다 짧을 경우나, 반대로, 시일재의 가로 폭이 직선 형상 빔 광의 가로 폭보다 짧을 경우가 생긴다.However, it was difficult to adjust the line width of the linear beam light with an optical system such as a hemisphere lens or a cylindrical lens in accordance with the width of the sealing material. As a result, the line width of the linear beam light may be shorter than the horizontal width of the sealing material, or conversely, the horizontal width of the sealing material may be shorter than the horizontal width of the linear beam light.

특히, 직선 형상 빔 광의 선 폭이 시일재의 가로 폭보다 길 경우는, 시일재에 조사되지 않는 자외선 빔 광이 생긴다. 이 시일재로부터 벗어난 자외선 빔 광은, 액정 디스플레이 패널을 관통해서 스테이지에 도달한다. 스테이지에 도달한 자외선 빔 광은, 스테이지에서 반사되어, 다시 액정 디스플레이 패널에 입사된다. 이 때, 반사돼서 액정 디스플레이 패널에 입사되는 자외선 빔 광은, 시일재에 둘러싸인 영역에 입사된다. 시일재에 둘러싸인 영역에는, 액정이 봉입되어 있으므로, 그 액정은, 입사된 자외선 빔 광에 의해 변질될 우려가 있었다. 또한, 시일재에 둘러싸인 영역의 기판 상에 형성된 박막 트랜지스터(TFT)에 악영향을 줄 우려가 있다.In particular, when the line width of the linear beam light is longer than the transverse width of the sealing material, ultraviolet beam light not irradiated to the sealing material is generated. Ultraviolet beam light deviating from this sealing material passes through a liquid crystal display panel, and reaches | attains a stage. The ultraviolet beam light that has reached the stage is reflected by the stage and is incident on the liquid crystal display panel again. At this time, the ultraviolet beam light reflected and incident on the liquid crystal display panel is incident on an area surrounded by the sealing material. Since liquid crystal was enclosed in the area | region enclosed by the sealing material, the liquid crystal might be deteriorated by the incident ultraviolet beam light. In addition, there is a fear that the thin film transistor TFT formed on the substrate in the region surrounded by the sealing material is adversely affected.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로서, 그 목적은, 직선 형상의 광 경화성 수지에 조사되지 않고 스테이지까지 도달한 직선 형상 빔 광의 반사를 방지해서, 기판 상에 배치된 광 경화성 수지 이외의 요소를 변질시키지 않는 광 조사 장치를 제공하는 것에 있다.This invention is made | formed in order to solve the said subject, The objective is to prevent reflection of the linear beam light which reached | attained to the stage, without irradiating to linear photocurable resin, and other than photocurable resin arrange | positioned on a board | substrate. It is providing the light irradiation apparatus which does not deteriorate an element.

본 발명의 일 태양은 광 조사 장치이다. 광 조사 장치는, 직선 형상의 광 경화성 수지를 형성한 기판을 탑재 배치하는 스테이지와, 일 방향을 따라 배열된 복수의 광학 소자를 포함하고, 상기 복수의 광학 소자로부터 출사되는 광 빔을 중첩시킴으로써 상기 일 방향으로 연장되는 직선 형상 빔 광을 생성하고, 상기 기판에 형성된 상기 직선 형상의 광 경화성 수지에 상기 일 방향을 따라 상기 직선 형상 빔 광을 대치(對峙)시키면서 조사를 행하는 광 조사 유닛과, 상기 스테이지의 표면에 형성된 광 흡수 부재를 구비한다.One aspect of the present invention is a light irradiation apparatus. The light irradiation apparatus includes a stage for mounting and arranging a substrate on which a linear photocurable resin is formed, and a plurality of optical elements arranged along one direction, and by overlapping the light beams emitted from the plurality of optical elements, A light irradiation unit for generating linear beam light extending in one direction and irradiating the linear light curable resin formed on the substrate while replacing the linear beam light along the one direction; A light absorbing member formed on the surface of the stage is provided.

도 1은 본 실시형태의 자외선 조사 장치의 사시도.
도 2는 동일한 자외선 조사 장치의 정면도.
도 3은 자외선 조사 장치의 스테이지를 설명하기 위한 전체 사시도.
도 4는 자외선 조사 장치의 자외선 조사 유닛을 설명하기 위한 요부 단면도.
도 5는 조사 모듈의 배치 상태를 나타낸 도면.
도 6의 (a), (b)는 자외선 조사 장치로부터 출사되는 직선 형상 빔 광을 설명하기 위한 모식도.
도 7은 자외선 흡수막에 의한 직선 형상 빔 광의 흡수를 설명하기 위한 설명도.
도 8은 다른 예를 나타낸 설명도.1 is a perspective view of an ultraviolet irradiation device of the present embodiment.
2 is a front view of the same ultraviolet irradiation device.
3 is an overall perspective view for explaining a stage of the ultraviolet irradiation device;
4 is a sectional view of principal parts for explaining an ultraviolet irradiation unit of the ultraviolet irradiation device;
5 is a view showing an arrangement state of the irradiation module;
6 (a) and 6 (b) are schematic diagrams for explaining linear beam light emitted from the ultraviolet irradiation device.
7 is an explanatory diagram for explaining absorption of linear beam light by an ultraviolet absorbing film.
8 is an explanatory diagram showing another example.

이하, 본 발명의 광 조사 장치를 기판 접합시키기 위한 자외선 조사 장치로 구체화한 일 실시형태를 도면에 따라 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one Embodiment which actualized with the ultraviolet irradiation device for bonding the light irradiation apparatus of this invention to a board | substrate is demonstrated according to drawing.

도 1에 있어서, 자외선 조사 장치(1)는, 2 종류의 기판(W1, W2) 사이에 액정을 봉입한 액티브 매트릭스형의 액정 디스플레이 패널(P)을 제조하는 제조 라인(도시 생략)에 구비되어 있다. 자외선 조사 장치(1)는, 액정 디스플레이 패널(P)의 제조 공정 중, 액정 디스플레이 패널(P)의 하(下) 기판(W1)과 상(上) 기판(W2) 사이에 개재(介在)된 자외선 경화 수지로 이루어지는 시일재(S)에 갠트리(gantry)(2)에 설치된 자외선 조사 유닛(3)으로부터 직선 형상의 자외선을 조사하여, 해당 시일재(S)를 경화시키는 공정에 이용된다. In FIG. 1, the ultraviolet irradiation device 1 is provided in the manufacturing line (not shown) which manufactures the active-matrix type liquid crystal display panel P which enclosed the liquid crystal between two types of board | substrates W1 and W2. have. The ultraviolet irradiation device 1 is interposed between the lower substrate W1 and the upper substrate W2 of the liquid crystal display panel P during the manufacturing process of the liquid crystal display panel P. It is used for the process of irradiating linear ultraviolet-ray from the ultraviolet irradiation unit 3 provided in the gantry 2 to the sealing material S which consists of ultraviolet curing resins, and hardening the said sealing material S.

도 1에 나타낸 바와 같이, 자외선 조사 장치(1)는, 바닥면에 설치된 기계 프레임(5)을 갖고 있다. 기계 프레임(5)은, 사방에 배치된 4개의 지주(支柱)(5a)를 갖고, 그 4개의 지주(5a)는 바닥면에 대해 세워 설치되어 있다. 예를 들면, 기계 프레임(5)은, 인접하는 2개의 지주(5a)의 하측 위치를 각각 연결하는 4개의 하부 프레임(5b)을 갖고 있다. 또한, 기계 프레임(5)은, 전측(前側)(Y 방향 반대측)의 좌우 한 쌍의 지주(5a)의 중간 위치, 및 후측(後側)(Y 방향측)의 좌우 한 쌍의 지주(5a)의 중간 위치를 각각 연결하는 2개의 중간 프레임(5c)을 갖고 있다. 또한, 기계 프레임(5)은, 좌측(X 방향 반대측)의 전후 한 쌍의 지주(5a)의 상단 위치를 연결하는 좌측 상부 프레임(5d)을 갖는 동시에, 우측(X 방향측)의 전후 한 쌍의 지주(5a)의 상단 위치를 연결하는 우측 상부 프레임(5e)을 갖고 있다. 여기에서는, 자외선 조사 장치(1)의 좌우 방향을 「X 방향」이라고 하며, 전후 방향을 「Y 방향」이라고 하고, 상하 방향을 「Z 방향」이라고 한다. 즉, 도 1에 있어서, 전후 방향이란, 상부 프레임(5d, 5e)의 길이 방향을 말하고, 좌우 방향이란, 상부 프레임(5d, 5e) 사이에 걸쳐지는 갠트리(2)의 길이 방향을 말한다.As shown in FIG. 1, the ultraviolet irradiation device 1 has the machine frame 5 provided in the bottom surface. The machine frame 5 has four support posts 5a arrange | positioned in all directions, and the four support posts 5a are installed with respect to the floor surface. For example, the machine frame 5 has four lower frames 5b which respectively connect lower positions of two adjacent struts 5a. In addition, the machine frame 5 is an intermediate position of a pair of left and right pillars 5a on the front side (the opposite side in the Y direction), and a pair of left and right pillars 5a on the rear side (Y direction side). It has two intermediate frames 5c which respectively connect the intermediate position of (). Moreover, the machine frame 5 has the left upper frame 5d which connects the upper-end position of the pair of back and front posts 5a of the left side (opposite side in X direction), and the front and back pair of the right side (X direction side). It has a right upper frame 5e which connects the upper end position of the post 5a. Here, the left-right direction of the ultraviolet irradiation device 1 is called "X direction", the front-back direction is called "Y direction", and an up-down direction is called "Z direction". That is, in FIG. 1, the front-back direction refers to the longitudinal direction of the upper frames 5d and 5e, and the left-right direction refers to the longitudinal direction of the gantry 2 spanned between the upper frames 5d and 5e.

기계 프레임(5) 내에는, 액정 디스플레이 패널(P)을 탑재 배치하는 8각형의 스테이지(ST)가 설치되어 있다. 스테이지(ST)의 하면(STa)은, 도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같이, 스테이지(ST)의 하측에 배치되고 하부 프레임(5b)에 설치된 4개의 볼(ball) 나사에 의해 상하(上下)하는 사각 프레임체(6)에 설치된 지지 아암(7)에 의해 지지 고정되어 있다.In the machine frame 5, the octagonal stage ST which mounts and arranges liquid crystal display panel P is provided. As shown in FIGS. 2 and 3, the lower surface ST of the stage ST is disposed up and down by four ball screws disposed below the stage ST and provided to the lower frame 5b. It is supported and fixed by the support arm 7 provided in the rectangular frame body 6 to be described.

스테이지(ST)의 중앙 위치에는, 도 3에 나타낸 바와 같이 관통 구멍(8)이 형성되어 있다. 그리고, 그 관통 구멍(8)에는, 사각 프레임체(6)에 고정 설치된 기판 이동 장치(9)(도 2 참조)에 설치된 얼라인먼트 테이블(TB)이 배치된다. 얼라인먼트 테이블(TB)은, 기판 이동 장치(9)에 의해, 스테이지(ST)에 대하여, 좌우 방향(X 방향), 및, X 방향과 직교하는 전후 방향(Y 방향)으로 이동 가능하게 되어 있다. 또한, 얼라인먼트 테이블(TB)은, 기판 이동 장치(9)에 의해, 상기 테이블(TB)의 중심 축선(L)을 중심으로 해서 회전하게 되어 있다. 또한, 상기 테이블(TB)의 상면은, 스테이지(ST)의 상면과 동일 면에 위치하게 되어 있다.At the center position of the stage ST, the through hole 8 is formed as shown in FIG. And the through hole 8 arranges the alignment table TB provided in the board | substrate movement apparatus 9 (refer FIG. 2) fixed to the square frame 6. As shown in FIG. The alignment table TB is movable by the substrate movement apparatus 9 in the left-right direction (X direction) and the front-back direction (Y direction) orthogonal to the X direction with respect to the stage ST. In addition, the alignment table TB is rotated about the center axis L of the said table TB by the substrate movement apparatus 9. Moreover, the upper surface of the said table TB is located in the same surface as the upper surface of the stage ST.

기판 이동 장치(9)의 얼라인먼트 테이블(TB)은, 반송 장치(도시 생략)로부터 반송된 액정 디스플레이 패널(P)을 얼라인먼트한 후에 패널(P)을 스테이지(ST)에 탑재 배치한다. 또한, 기판 이동 장치(9)는, 스테이지(ST)에 탑재 배치된 액정 디스플레이 패널(P)을 90도 회전시켜서, 다시 스테이지(ST)에 탑재 배치한다.The alignment table TB of the substrate movement apparatus 9 mounts and arranges the panel P on the stage ST after aligning the liquid crystal display panel P conveyed from the conveying apparatus (not shown). Moreover, the board | substrate movement apparatus 9 rotates 90 degree of liquid crystal display panel P mounted in stage ST, and mounts in stage ST again.

또한, 스테이지(ST)에는, 복수의 가이드 구멍(10)이 소정의 간격을 두고 형성되어 있다. 각 가이드 구멍(10)을 통해, 사각 프레임체(6)의 하측에 설치된 기판 주고받음 장치(도시 생략)의 리프트 핀(도시 생략)이 출몰(出沒)하게 되어 있다. 즉, 각 리프트 핀을 각 가이드 구멍(10)으로부터 돌출시킨 상태에서, 리프트 핀의 선단부에, 반송 장치(도시 생략)로부터 반송된 액정 디스플레이 패널(P)이 주고받아진다. 이 상태에서 각 리프트 핀을 각 가이드 구멍(10)에 들어가게 함으로써, 액정 디스플레이 패널(P)이 얼라인먼트 테이블(TB)에 주고받아지고, 얼라인먼트 테이블(TB)에서 얼라인먼트된다. 그리고, 얼라인먼트가 종료되면, 얼라인먼트 테이블(TB)을 관통 구멍(8)에 들어가게 함으로써, 액정 디스플레이 패널(P)은 얼라인먼트된 상태 그대로 스테이지(ST)에 탑재 배치된다.In the stage ST, a plurality of guide holes 10 are formed at predetermined intervals. Through each guide hole 10, the lift pin (not shown) of the board | substrate sending / receiving apparatus (not shown) provided in the lower side of the rectangular frame body 6 is made to go in and out. That is, in the state which protruded each lift pin from each guide hole 10, liquid crystal display panel P conveyed from the conveying apparatus (not shown) is exchanged with the front-end | tip part of a lift pin. By allowing each lift pin to enter each guide hole 10 in this state, the liquid crystal display panel P is sent to and received from the alignment table TB, and is aligned at the alignment table TB. And when alignment is complete | finished, liquid crystal display panel P is mounted on stage ST as it is in alignment, by making alignment table TB into through-hole 8.

또한, 스테이지(ST)에 있어서 관통 구멍(8)의 전후 양측에는, 좌우 방향(X 방향)을 따라 연장되는 한 쌍의 검출 창(11)이 각각 관통 형성되어 있다. 스테이지(ST)의 하측에 있어서 상기 검출 창(11)과 대향하는 위치에는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 조도 검출 장치(12)가 각각 설치되어 있다.Moreover, the pair of detection windows 11 which extend along the left-right direction (X direction) are penetrated by the front and rear sides of the through hole 8 in stage ST, respectively. The illuminance detection apparatus 12 is provided in the position which opposes the said detection window 11 in the lower side of the stage ST, as shown in FIG.

각 조도 검출 장치(12)는, 사각 프레임체(6)에 지지 고정된 가이드 레일(13)을 갖고 있다. 가이드 레일(13)은, 검출 창(11)을 따라 좌우 방향(X 방향)으로 배치되어 있다. 검출 창(11)에 대면하는 가이드 레일(13)의 상면에는, 캐리지(14)가 좌우 방향(X 방향)으로 왕복 운동 가능하게 배설(配設)되어 있다.Each illuminance detection device 12 has a guide rail 13 supported and fixed to the rectangular frame body 6. The guide rail 13 is arrange | positioned along the detection window 11 in the left-right direction (X direction). The carriage 14 is disposed on the upper surface of the guide rail 13 facing the detection window 11 so as to reciprocate in the left-right direction (X direction).

캐리지(14)는, 타이밍 벨트(도시 생략)를 통해 캐리지 모터(도시 생략)에 접속되어 있다. 캐리지(14)는, 캐리지 모터가 구동됨으로써, 타이밍 벨트를 통해 구동되어, 가이드 레일(13)을 따라, 즉 X 방향으로 왕복 이동된다.The carriage 14 is connected to a carriage motor (not shown) via a timing belt (not shown). The carriage 14 is driven through the timing belt by the carriage motor being driven to reciprocate along the guide rail 13, that is, in the X direction.

캐리지(14)의 상면에는, 조도 센서(15)가 고정 설치되고, 그 조도 센서(15)는 검출 창(11)을 통해, 출사되어 오는 자외선을 수광해서 그 자외선의 조도를 검출하게 되어 있다. 상술하면, 캐리지(14)를 X 방향으로 왕복 이동시킴으로써, X 방향을 따라 형성된 검출 창(11)을 통해 입사되는 직선 형상 빔 광(LB)(도 6 참조)의 X 방향의 각 위치에 있어서의 조도를 검출할 수 있게 되어 있다.The illuminance sensor 15 is fixedly installed on the upper surface of the carriage 14, and the illuminance sensor 15 receives the ultraviolet-ray radiated | emitted through the detection window 11, and detects the illuminance of the ultraviolet-ray. Specifically, the carriage 14 is reciprocated in the X direction, whereby the linear beam light LB (see FIG. 6) at each position in the X direction is incident through the detection window 11 formed along the X direction. Illuminance can be detected.

스테이지(ST)는, 본 실시형태에서는 알루미늄판으로 성형되어 있다. 그리고, 스테이지(ST)의 상면 전체에는, 광 흡수 부재로서의 자외선 흡수막(18)이 형성되어 있다. 자외선 흡수막(18)은, 흑색 알루마이트(Alumite)이며, 알루미늄제의 스테이지(ST)의 상면을 흑색 알루마이트 처리함으로써 형성된다. 따라서, 스테이지(ST)의 상면 전체는, 흑색 알루마이트로 이루어지는 자외선 흡수막(18)에 의해 흑색이 되어 있다. 그 결과, 스테이지(ST)에 자외선이 조사되었을 때, 상기 자외선은, 반사되지 않고, 흑색 알루마이트로 이루어지는 자외선 흡수막(18)에 흡수되게 되어 있다.The stage ST is molded from an aluminum plate in this embodiment. And the ultraviolet absorbing film 18 as a light absorption member is formed in the whole upper surface of the stage ST. The ultraviolet absorbing film 18 is black alumite, and is formed by black anodizing the upper surface of the stage ST made of aluminum. Therefore, the whole upper surface of the stage ST is black by the ultraviolet absorption film 18 which consists of black alumite. As a result, when ultraviolet rays are irradiated onto the stage ST, the ultraviolet rays are not reflected but are absorbed by the ultraviolet absorbing film 18 made of black alumite.

마찬가지로, 얼라인먼트 테이블(TB)도, 본 실시형태에서는 알루미늄판으로 성형되어 있다. 그리고, 얼라인먼트 테이블(TB)의 상면도, 마찬가지로, 흑색 알루마이트 처리되어서 흑색 알루마이트로 이루어지는 자외선 흡수막(19)이 형성되어 있다. 그리고, 얼라인먼트 테이블(TB)에 자외선이 조사되었을 때, 자외선 흡수막(19)은 상기 자외선을 반사시키지 않고 흡수하게 되어 있다.Similarly, alignment table TB is also shape | molded by the aluminum plate in this embodiment. Similarly, the upper surface of the alignment table TB is similarly treated with black anodized to form an ultraviolet absorbing film 19 made of black anodized. When the ultraviolet rays are irradiated to the alignment table TB, the ultraviolet absorbing film 19 is absorbed without reflecting the ultraviolet rays.

도 1에 나타낸 바와 같이, 갠트리(2)는, 좌측 상부 프레임(5d)과 우측 상부 프레임(5e) 사이에 걸쳐진 전후 한 쌍의 갠트리 본체(2a)를 포함한다. 2 개의 갠트리 본체(2a)의 좌우 양 단부 하면은, 좌측 상부 프레임(5d)의 상면과 우측 상부 프레임(5e)의 상면에 설치된 한 쌍의 가이드 레일(21)에 배치되어 있다. 2개의 가이드 레일(21)은, 서로 평행하며 Y 방향을 따라 연장되어 있다. 따라서, X 방향으로 연장되는 한 쌍의 갠트리 본체(2a)는, Y 방향을 따라 각각 이동 가능하게 되어 있다.As shown in FIG. 1, the gantry 2 includes a front and rear pair of gantry bodies 2a spanned between the left upper frame 5d and the right upper frame 5e. The lower left and right ends of the two gantry bodies 2a are disposed on a pair of guide rails 21 provided on the upper surface of the left upper frame 5d and the upper surface of the right upper frame 5e. The two guide rails 21 are parallel to each other and extend along the Y direction. Therefore, the pair of gantry bodies 2a extending in the X direction are movable along the Y direction, respectively.

한 쌍의 갠트리 본체(2a)의 좌우 양 단부는, 각각 프레임(5d, 5e)에 회전 가능하게 지지된 볼 나사(도시 생략)와 나사 결합되어 있다. 그리고, 볼 나사를 모터(도시 생략)에 의해 회전 제어함으로써, 한 쌍의 갠트리 본체(2a)는, 한 쌍의 가이드 레일(21)을 따라, 즉, Y 방향(전후 방향)을 따라 왕복 이동하게 되어 있다.Both left and right ends of the pair of gantry bodies 2a are screwed with ball screws (not shown) rotatably supported by the frames 5d and 5e, respectively. Then, by rotationally controlling the ball screw by a motor (not shown), the pair of gantry bodies 2a are reciprocated along the pair of guide rails 21, that is, in the Y direction (front and rear directions). It is.

도 2에 나타낸 바와 같이, 갠트리 본체(2a)의 하면은, 스테이지(ST)의 면에 대향하도록, X 방향을 따라 평행하게 배치되어 있다. 각 갠트리 본체(2a)의 하면에는, 부착 부재(23)를 통해, 자외선 조사 유닛(3)이 갠트리 본체(2a)를 따라, 즉 X 방향을 따라 설치되어 있다. 각 부착 부재(23)에 설치된 자외선 조사 유닛(3)은, 갠트리 본체(2a)와 함께 Y 방향을 따라 왕복 이동 가능하다. 각 자외선 조사 유닛(3)은, 스테이지(ST)에 탑재 배치된 고정된 액정 디스플레이 패널(P)에 대하여, X축 방향으로 일직선으로 연장되는 자외선으로 이루어지는 직선 형상 빔 광(LB)을 조사하게 되어 있다.As shown in FIG. 2, the lower surface of the gantry main body 2a is arrange | positioned in parallel along the X direction so that the surface of the stage ST may be opposed. On the lower surface of each gantry body 2a, the ultraviolet irradiation unit 3 is provided along the gantry body 2a, that is, along the X direction via the attachment member 23. The ultraviolet irradiation unit 3 provided in each attachment member 23 can reciprocate along the Y direction with the gantry main body 2a. Each ultraviolet irradiation unit 3 irradiates the linear beam light LB which consists of the ultraviolet-ray extended in a straight line to the X-axis direction with respect to the fixed liquid crystal display panel P mounted mounted on the stage ST, have.

각 부착 부재(23)는, 갠트리 본체(2a)에 대하여, 볼 나사(도시 생략)에 의해 X 방향(좌우 방향)을 따라 왕복 운동 가능하게 부착되어 있다. 그리고, 볼 나사를 모터(도시 생략)에 의해 회전 제어함으로써, 각 부착 부재(23)에 취사설치된 자외선 조사 유닛(3)은, 갠트리 본체(2a)에 대하여, X 방향(좌우 방향)을 따라 왕복 이동하게 되어 있다.Each attachment member 23 is attached to the gantry body 2a so as to reciprocate along the X direction (left and right directions) by a ball screw (not shown). And by rotating-controlling a ball screw by a motor (not shown), the ultraviolet irradiation unit 3 which was attached to each attachment member 23 reciprocates along the X direction (left-right direction) with respect to the gantry main body 2a. It is to move.

따라서, 각 자외선 조사 유닛(3)을 Y 방향을 따라 왕복 이동시킴으로써, 자외선 조사 유닛(3)의 폭 방향의 중심 위치(Puo)(도 4 참조)를, 스테이지(ST)에 탑재 배치 고정된 액정 디스플레이 패널(P)의 상방에 있어서의 소정의 위치(기판(W1, W2) 사이에 형성된 X 방향으로 연장되는 직선 형상의 시일재(S)와 대치(對峙)하는 위치)에 정지시킬 수 있게 되어 있다.Therefore, by reciprocating each ultraviolet irradiation unit 3 along the Y direction, the liquid crystal in which the center position Poo (refer FIG. 4) of the width direction of the ultraviolet irradiation unit 3 is mounted and fixed to the stage ST is mounted. It becomes possible to stop at the predetermined position above the display panel P (position which opposes the linear sealing material S extended in the X direction formed between the board | substrates W1 and W2). have.

다음으로, 자외선 조사 유닛(3)에 관해서 도 4 ~ 도 7에 따라 설명한다. 한편, 각 자외선 조사 유닛(3)은 동일한 구성이기 때문에, 1 개의 자외선 조사 유닛에 관하여 설명한다.Next, the ultraviolet irradiation unit 3 is demonstrated according to FIGS. 4-7. In addition, since each ultraviolet irradiation unit 3 is the same structure, one ultraviolet irradiation unit is demonstrated.

도 4 및 도 5에 나타낸 바와 같이, 자외선 조사 유닛(3)은 연결 판(31)을 갖고, 그 연결 판(31)은, 부착 부재(23)의 X 방향으로 연장된 하우징(30)의 하면에 연결 고정되어 있다. 연결 판(31)의 하면에는, 복수 개(본 실시형태에서는 8 개)의 자외선 발광 다이오드(LED)가 각각 줄이어 설치되어 이루어지는 복수 개(본 실시형태에서는 40 개)의 조사 모듈(32)이, X 방향을 따라 일렬로 배열 고정되어 있다.As shown in FIG. 4 and FIG. 5, the ultraviolet irradiation unit 3 has a connecting plate 31, and the connecting plate 31 has a lower surface of the housing 30 extending in the X direction of the attachment member 23. The connection is fixed. On the lower surface of the connecting plate 31, a plurality of irradiation modules 32 (40 in the present embodiment) in which a plurality of ultraviolet light emitting diodes (LEDs) are arranged in a row are provided. , Are arranged in a row along the X direction.

각 조사 모듈(32)은, 회로 기판(33)을 갖고, 도 5에 나타낸 바와 같이 그 회로 기판(33) 상에 광학 소자로서의 8 개의 자외선 발광 다이오드(LED)가 X 방향을 따라 일렬로 실장되어 있다. 그리고, 각 회로 기판(33)이 연결 판(31)의 하면에 볼트(34)에 의해 고착되면, 회로 기판(33) 상에 실장된 자외선 발광 다이오드(LED)가 동일한 기판(33)의 하측에 위치하는 동시에, 8 개의 자외선 발광 다이오드(LED)가 X 방향을 따라 배열된다. 더군다나, 인접하는 모든 조사 모듈(32)의 회로 기판(33)에 실장된 자외선 발광 다이오드(LED)가, 등(等)간격으로 X 방향을 따라 일직선 형상으로 배열되도록 위치 결정된다.Each irradiation module 32 has a circuit board 33, and as shown in FIG. 5, eight ultraviolet light emitting diodes (LEDs) as optical elements are mounted in a line along the X direction on the circuit board 33. have. When the circuit boards 33 are fixed to the lower surface of the connecting plate 31 by bolts 34, the ultraviolet light emitting diodes (LEDs) mounted on the circuit boards 33 are disposed below the same board 33. At the same time, eight ultraviolet light emitting diodes (LEDs) are arranged along the X direction. Furthermore, ultraviolet light emitting diodes (LEDs) mounted on the circuit boards 33 of all adjacent irradiation modules 32 are positioned so as to be arranged in a straight line shape along the X direction at equal intervals.

따라서, 본 실시형태에서는, 320 개의 자외선 발광 다이오드(LED)가, 등간격으로 X 방향을 따라 일직선 형상으로 배치되게 된다.Therefore, in the present embodiment, 320 ultraviolet light emitting diodes (LEDs) are arranged in a straight line along the X direction at equal intervals.

회로 기판(33)에 일직선 상에 실장된 각 자외선 발광 다이오드(LED)의 하측에는, 반구 렌즈(35)가 각각 배치되고, 각 반구 렌즈(35)는 각각 대응하는 자외선 발광 다이오드(LED)가 출사하는 자외선(UV)을 입사한다. 그리고, 각 반구 렌즈(35)는, 그 입사된 자외선(UV)의 확산을 억제하고 하방으로 각각 출사한다.Below the ultraviolet light emitting diodes (LEDs) mounted in a straight line on the circuit board 33, hemispherical lenses 35 are disposed respectively, and each of the hemisphere lenses 35 corresponds to the corresponding ultraviolet light emitting diodes (LEDs). Ultraviolet rays (UV) are incident. Each hemisphere lens 35 suppresses the diffusion of the incident ultraviolet rays UV and emits the light downward.

자외선 발광 다이오드(LED)에 각각 대응해서 배치된 8 개의 반구 렌즈(35)의 하측에는, 각 반구 렌즈(35) 전체를 덮는 로드(rod) 형상의 실린더리컬 렌즈(36)가 X 방향을 따라 배치되어 있다. 실린더리컬 렌즈(36)는, 각 반구 렌즈(35)로부터 출사된 자외선(UV)을 입사한다. 실린더리컬 렌즈(36)는, 각 반구 렌즈(35)로부터 입사된 자외선(UV)을 Y 방향에 대하여 수속(收束)시켜서 타원 형상으로 집광(集光)한다.Under the eight hemisphere lenses 35 respectively disposed corresponding to the ultraviolet light emitting diodes (LEDs), a rod-shaped cylindrical lens 36 covering the entire hemisphere lens 35 is disposed along the X direction. It is. The cylindrical lens 36 enters the ultraviolet (UV) emitted from each hemisphere lens 35. The cylindrical lens 36 converges the ultraviolet (UV) incident from each hemisphere lens 35 in the Y direction and condenses it in an elliptic shape.

상술하면, 도 6의 (a), (b)에 나타낸 바와 같이, 각 자외선 발광 다이오드(LED)로부터 출사된 자외선(UV)은, 바로 아래에 배치된 반구 렌즈(35)에 의해 확산이 억제된다. 그리고, 각 반구 렌즈(35)로부터 출사된 자외선(UV)이, 실린더리컬 렌즈(36)에 의해 Y 방향으로만 수속되어서 타원형 형상으로 집광된다. 이에 의해, 각 자외선 발광 다이오드(LED)로부터 출사된 자외선(UV)의 상 기판(W2) 상에서의 조사 영역(T)은, X 방향으로 장축을 갖는 긴 타원형 형상으로 된다. 그리고, 각 조사 영역(T)의 장축 방향 단부(端部)(중첩 영역) 상호간이 중첩됨으로써, X 방향을 따라 직선 형상으로 연장되는 광 조사면(SF)이 형성된다. 즉, 각 자외선 발광 다이오드(LED)로부터 출사된 자외선(UV)은, X 방향(좌우 방향)으로 직선 형상으로 연장되는 선 폭(D)의 자외선(즉, 직선 형상 빔 광(LB))으로 되어, 상 기판(W2) 상에 조사되게 된다.In detail, as shown in FIGS. 6A and 6B, the ultraviolet light emitted from each ultraviolet light emitting diode LED is suppressed from being diffused by the hemisphere lens 35 disposed immediately below. . Ultraviolet rays UV emitted from the hemispherical lenses 35 are condensed only in the Y direction by the cylindrical lens 36 and condensed in an elliptical shape. As a result, the irradiation area T on the image substrate W2 of the ultraviolet light UV emitted from each ultraviolet light emitting diode LED becomes a long elliptical shape having a long axis in the X direction. And the light irradiation surface SF extended linearly along the X direction is formed by mutual superimposition of the longitudinal direction edge part (overlapping area | region) of each irradiation area | region T. As shown in FIG. That is, the ultraviolet rays UV emitted from the respective ultraviolet light emitting diodes LEDs become ultraviolet rays (that is, linear beam light LB) having a line width D extending in a straight line in the X direction (left and right directions). , The upper substrate W2 is irradiated.

선 폭(D)으로 상 기판(W2)에 조사되는 직선 형상 빔 광(LB)은, 도 7에 나타낸 바와 같이, 상 기판(W2)을 투과해서 시일재(S)에 조사될 때, 상 기판(W2) 내에서 굴절되기 때문에, 모두가 시일재(S)에 조사되지 않고, 일부가 시일재(S)로부터 벗어난다. 시일재(S)로부터 벗어난 직선 형상 빔 광(LB)은, 하 기판(W1)을 투과해서 스테이지(ST)에 조사된다. 스테이지(ST)에 조사되는 시일재(S)로부터 벗어난 직선 형상 빔 광(LB)은, 스테이지(ST)의 상면에 형성한 자외선 흡수막(18)에 의해 흡수된다.As shown in FIG. 7, when the linear beam light LB irradiated onto the upper substrate W2 at the line width D is transmitted through the upper substrate W2 and irradiated to the sealing material S, the upper substrate Since it is refracted in (W2), all are not irradiated to the sealing material S, and one part deviates from the sealing material S. FIG. The linear beam light LB deviated from the sealing material S passes through the lower substrate W1 and is irradiated to the stage ST. The linear beam light LB deviating from the sealing material S irradiated to the stage ST is absorbed by the ultraviolet absorbing film 18 formed on the upper surface of the stage ST.

즉, 스테이지(ST)에 조사된 시일재(S)로부터 벗어난 직선 형상 빔 광(LB)은, 액정 디스플레이 패널(P)을 향해 반사되지 않는다. 그 결과, 시일재(S) 이외의 영역에 있어서 기판 상에 배치되어 있는 요소, 예를 들면, 시일재(S)에 둘러싸인 영역에 봉입된 액정이나, 시일재에 둘러싸인 영역의 하 기판(W1)(또는 상 기판(W2))에 형성된 박막 트랜지스터(TFT)에, 직선 형상 빔 광(LB)이 조사될 우려가 없다.That is, the linear beam light LB deviating from the sealing material S irradiated to the stage ST is not reflected toward liquid crystal display panel P. FIG. As a result, the liquid crystal enclosed in the element arrange | positioned on the board | substrate in the area | regions other than the sealing material S, for example, the liquid crystal enclosed in the area | region enclosed by the sealing material S, or the lower substrate W1 of the area | region enclosed by the sealing material There is no possibility that the linear beam light LB is irradiated to the thin film transistor TFT formed on the upper substrate W2.

한편, 테이블(TB) 상에도 마찬가지로 자외선 흡수막(19)을 형성하고 있기 때문에, 시일재(S)로부터 벗어나서 테이블(TB)에 입사되는 직선 형상 빔 광(LB)도 마찬가지로 반사되지 않고 자외선 흡수막(19)에 흡수된다.On the other hand, since the ultraviolet absorbing film 19 is similarly formed on the table TB, the linear beam light LB incident from the sealing material S and incident on the table TB is not similarly reflected but the ultraviolet absorbing film. Absorbed by (19).

도 4에 나타낸 바와 같이, 각 반구 렌즈(35) 및 실린더리컬 렌즈(36)는, 회로 기판(33)의 하면에 X 방향을 따라 취사설치된 유지 부재(40)에 의해 유지되어 있다. 유지 부재(40)는, 회로 기판(33)이 연결 판(31)의 하면에 볼트(34)에 의해 고정될 때에, 아울러 동일한 볼트(34)에 의해 회로 기판(33)에 대하여 고착되게 되어 있다.As shown in FIG. 4, each hemispherical lens 35 and the cylindrical lens 36 are hold | maintained by the holding member 40 provided along the X direction on the lower surface of the circuit board 33. As shown in FIG. The holding member 40 is fixed to the circuit board 33 by the same bolt 34 when the circuit board 33 is fixed to the lower surface of the connecting plate 31 by the bolt 34. .

유지 부재(40)의 하면 중앙 위치에는, X 방향을 따라 수용 홈(41)이 오목하게 설치되고, 상기 수용 홈(41)에 실린더리컬 렌즈(36)가 수용되게 되어 있다.In the center surface of the lower surface of the holding member 40, the accommodating groove 41 is recessed along the X direction, and the cylindrical lens 36 is accommodated in the accommodating groove 41.

또한, 유지 부재(40)에 오목하게 설치된 수용 홈(41)의 내측 저면이며, 각 반구 렌즈(35)와 대응하는 위치에는, 관통 구멍(42)이 등간격으로 관통 형성되어 있다. 관통 구멍(42)의 직경은, 반구 렌즈(35)의 직경보다 약간 짧게 되어 있고, 각 자외선 발광 다이오드(LED)의 하측에 배치된 반구 렌즈(35)의 일부가 관통 구멍(42)에 끼워넣어진다. 그리고, 유지 부재(40)가 회로 기판(33)에 고착되었을 때, 반구 렌즈(35)는, 유지 부재(40)와 회로 기판(33)에 실장된 자외선 발광 다이오드(LED) 사이에서 끼워두고 고정되게 되어 있다.Moreover, the through hole 42 penetrates at equal intervals in the position which is the inner bottom face of the accommodating groove 41 recessed in the holding member 40, and corresponds to each hemisphere lens 35. As shown in FIG. The diameter of the through hole 42 is slightly shorter than the diameter of the hemisphere lens 35, and a part of the hemisphere lens 35 disposed below each ultraviolet light emitting diode (LED) is inserted into the through hole 42. Lose. When the holding member 40 is fixed to the circuit board 33, the hemisphere lens 35 is sandwiched and fixed between the holding member 40 and the ultraviolet light emitting diode (LED) mounted on the circuit board 33. It is supposed to be.

유지 부재(40)의 하면에는, Y 방향 양측에 한 쌍의 탈락 방지판(43)이 배치되어 있다. 한 쌍의 탈락 방지판(43)은, 유지 부재(40)가 회로 기판(33)의 하면에 볼트(34)에 의해 고착될 때에, 아울러 동일한 볼트(34)에 의해 유지 부재(40)에 대하여 고착되게 되어 있다.On the lower surface of the holding member 40, a pair of fall prevention plate 43 is arrange | positioned at the both sides of a Y direction. When the holding member 40 is fixed to the lower surface of the circuit board 33 by the bolts 34, the pair of anti-dropout plates 43 are held against the holding member 40 by the same bolts 34. It is to be fixed.

한 쌍의 탈락 방지판(43)은, 소정의 간격을 두고 서로 대향하는 위치에 배치되어 있다. 탈락 방지판(43)의 선단에는 탄성 걸림 클로(爪)(43a)가 연장 돌출되고, 상기 탄성 걸림 클로(43a)에 의해, 수용 홈(41)에 수용된 실린더리컬 렌즈(36)를 하측으로부터 탄성압으로 걸어서, 실린더리컬 렌즈(36)가 수용 홈(41)으로부터 탈락되지 않게 하고 있다.The pair of anti-fallout plates 43 are disposed at positions facing each other at predetermined intervals. An elastic locking claw 43a extends and protrudes at the distal end of the fall prevention plate 43, and the elastic locking claw 43a elasticizes the cylindrical lens 36 accommodated in the accommodation groove 41 from below. By applying pressure, the cylindrical lens 36 is prevented from falling out of the accommodation groove 41.

다음으로, 상기 실시형태의 자외선 조사 장치(1)의 이점을 이하에 기재한다.Next, the advantage of the ultraviolet irradiation device 1 of the said embodiment is described below.

(1) 스테이지(ST)의 상면에 자외선 흡수막(18)을 형성했다. 그래서, 시일재(S)로부터 벗어난 직선 형상 빔 광(LB)이 스테이지(ST)에 조사되어도, 직선 형상 빔 광(LB)은 자외선 흡수막(18)에 의해 흡수되어서, 액정 디스플레이 패널(P)을 향해 반사되지 않게 했다. 따라서, 시일재(S)에 둘러싸인 영역에 봉입된 액정이나, 시일재에 둘러싸인 영역의 하 기판(W1)(또는 상 기판(W2))에 형성된 박막 트랜지스터(TFT)에, 직선 형상 빔 광(LB)이 조사될 우려가 없다. 그 결과, 액정이 변질되거나, 박막 트랜지스터(TFT)의 트랜지스터 특성이 변동되거나 할 일은 없다. (1) The ultraviolet absorbing film 18 was formed in the upper surface of the stage ST. Therefore, even if the linear beam light LB deviating from the sealing material S is irradiated to the stage ST, the linear beam light LB is absorbed by the ultraviolet absorption film 18, and thus the liquid crystal display panel P So that it doesn't reflect toward you. Therefore, the linear beam light LB is applied to the liquid crystal encapsulated in the region surrounded by the sealing material S or the thin film transistor TFT formed in the lower substrate W1 (or the upper substrate W2) in the region surrounded by the sealing material. ) Does not have to be investigated. As a result, the liquid crystal is not deteriorated or the transistor characteristics of the thin film transistor TFT are not changed.

(2) 알루미늄제의 스테이지(ST)에 흑색 알루마이트 처리함으로써, 자외선 흡수막(18)을 형성했다. 따라서, 매우 간단히, 스테이지(ST) 전체 면에, 자외선을 흡수하는 자외선 흡수막(18)을 만들 수 있다.(2) The ultraviolet absorbing film 18 was formed by black anodizing on the stage ST made from aluminum. Therefore, very simply, the ultraviolet absorbing film 18 which absorbs an ultraviolet-ray can be made in the whole surface of stage ST.

한편, 상기 실시형태는 이하와 같이 변경해도 된다.In addition, you may change the said embodiment as follows.

·상기 실시형태에서는, 흑색 알루마이트로 자외선 흡수막(18)을 형성했지만, 이것에 한정되는 것이 아니라, 자외선을 흡수하는, 예를 들면 흑색의 도료 등을 도포하고 형성해서 실시해도 된다.In the above embodiment, the ultraviolet absorbing film 18 is formed of black alumite, but the present invention is not limited thereto. For example, a black paint or the like that absorbs ultraviolet light may be applied and formed.

·상기 실시형태에서는, 각 자외선 발광 다이오드(LED)에 대응해서 반구 렌즈(35)를 배치하고, 그 반구 렌즈(35)의 하측에 로드 형상의 실린더리컬 렌즈(36)를 배치해서, 반구 렌즈(35)로부터 출사된 자외선(UV)을, 실린더리컬 렌즈(36)에 의해, Y 방향으로만 수속시켜서 직선 형상으로 연장되는 선 폭(D)의 직선 형상 빔 광(LB)을 생성했다.In the above embodiment, the hemispherical lens 35 is disposed corresponding to each ultraviolet light emitting diode (LED), and a rod-shaped cylindrical lens 36 is disposed below the hemisphere lens 35, and the hemisphere lens ( Ultraviolet UV emitted from 35 was converged in the Y-direction by the cylindrical lens 36 to generate linear beam light LB having a line width D extending in a linear shape.

이것을, 도 8에 나타낸 바와 같은 구조를 이용하여 직선 형상 빔 광(LB)을 생성해도 된다. 도 8에서는, 각 자외선 발광 다이오드(LED)와 각 반구 렌즈(35) 사이에(즉, 각 자외선 발광 다이오드(LED)의 하면에) 제 1 마스크(MS1)가 배치되어 있다. 제 1 마스크(MS1)는, 자외선 발광 다이오드(LED)로부터 반구 렌즈(35)에 출사되어 Y 방향으로 확산되는 자외선(UV)을 차폐하고, 직선 형상 빔 광(LB)의 선 폭(D)을 시일재(S)의 선 폭과 일치시킨다. 이 구조에서는, 직선 형상 빔 광(LB)이 시일재(S)로부터 벗어나서 조사되는 것을 더 효과적으로 방지할 수 있는 자외선 조사 유닛(3)을 실현할 수 있다.You may generate this linear beam light LB using the structure as shown in FIG. In FIG. 8, the first mask MS1 is disposed between each ultraviolet light emitting diode LED and each hemisphere lens 35 (that is, on the bottom surface of each ultraviolet light emitting diode LED). The first mask MS1 shields the ultraviolet light UV emitted from the ultraviolet light emitting diode LED to the hemispherical lens 35 and diffused in the Y direction, thereby reducing the line width D of the linear beam light LB. Match the line width of the sealing material (S). In this structure, the ultraviolet irradiation unit 3 which can more effectively prevent the linear beam light LB from being irradiated away from the sealing material S can be realized.

또한, 도 8에 나타낸 바와 같이, 각 반구 렌즈(35)와 실린더리컬 렌즈(36) 사이에(즉, 실린더리컬 렌즈(36)의 상면에) 제 2 마스크(MS2)를 배치해도 된다. 제 2 마스크(MS2)는, 반구 렌즈(35)로부터 실린더리컬 렌즈(36)에 출사되어 Y 방향으로 확산되는 자외선(UV)을 차폐하고, 직선 형상 빔 광(LB)의 선 폭(D)을 시일재(S)의 선 폭과 일치시킨다. 이 구조에서는, 직선 형상 빔 광(LB)이 시일재(S)로부터 벗어나서 조사되는 것을 가일층 효과적으로 방지할 수 있는 자외선 조사 유닛(3)을 실현할 수 있다.As shown in FIG. 8, the second mask MS2 may be disposed between each hemisphere lens 35 and the cylindrical lens 36 (that is, on the upper surface of the cylindrical lens 36). The second mask MS2 shields ultraviolet rays UV emitted from the hemispherical lens 35 to the cylindrical lens 36 and diffused in the Y direction, thereby reducing the line width D of the linear beam light LB. Match the line width of the sealing material (S). In this structure, the ultraviolet irradiation unit 3 which can further effectively prevent the linear beam light LB from being irradiated away from the sealing material S can be realized.

또한, 도 8에 나타낸 자외선 조사 유닛(3)은, 제 1 마스크(MS1) 및 제 2 마스크(MS2)를 병렬 설치한 것이지만, 어느 한쪽만을 설치한 자외선 조사 유닛(3)에 응용해도 되는 것은 물론이다. In addition, although the ultraviolet irradiation unit 3 shown in FIG. 8 installed the 1st mask MS1 and the 2nd mask MS2 in parallel, you may apply to the ultraviolet irradiation unit 3 in which only one was provided. to be.

·상기 실시형태에서는, 광 조사 장치로서 자외선 조사 장치(1)로 구체화했지만, 본 발명은, 자외선을 조사하는 자외선 발광 다이오드(LED)를 대신하여, 가시광을 출사하는 발광 다이오드를 이용한 광 조사 장치에 응용해도 된다.In the above embodiment, the light irradiation device is embodied as an ultraviolet irradiation device 1, but the present invention is applied to a light irradiation device using a light emitting diode that emits visible light in place of an ultraviolet light emitting diode (LED) for irradiating ultraviolet light. You may apply.

·상기 실시형태에서는 하 기판(W1)과 상 기판(W2)을 서로 접합시키기 위해 자외선 경화 수지로 이루어지는 시일재(S)를 경화하는 자외선 조사 장치(1)로 구체화했지만, 본 발명은, 그 이외의 기판을 처리하기 위한 광 조사 장치에 응용해도 된다. 즉, 본 발명은, 액정 디스플레이 패널의 제조 장치에 이용되는 광 조사 장치로의 적용에 한정되지 않는다.In the said embodiment, although the lower board | substrate W1 and the upper board | substrate W2 were bonded together, the ultraviolet irradiation apparatus 1 which hardens the sealing material S which consists of ultraviolet curable resins was implemented, but this invention is other than that You may apply to the light irradiation apparatus for processing the board | substrate of this. That is, this invention is not limited to application to the light irradiation apparatus used for the manufacturing apparatus of a liquid crystal display panel.

1 : 자외선 조사 장치 2 : 갠트리
3 : 자외선 조사 유닛 5 : 기계 프레임
6 : 사각 프레임체 11 : 검출 창
12 : 조도 검출 장치 13 : 가이드 레일
14 : 캐리지 15 : 조도 센서
18, 19 : 자외선 흡수막 19 : 자외선 흡수막
21 : 가이드 레일 30 : 하우징
31 : 연결 판 32 : 조사 모듈
33 : 회로 기판 34 : 볼트
35 : 반구 렌즈 36 : 실린더리컬 렌즈
40 : 유지 부재 41 : 수용 홈
42 : 관통 구멍 43 : 탈락 방지판
ST : 스테이지 TB : 얼라인먼트 테이블1: ultraviolet irradiation device 2: gantry
3: ultraviolet irradiation unit 5: machine frame
6: square frame 11: detection window
12: illuminance detection device 13: guide rail
14 carriage 15 illuminance sensor
18, 19: ultraviolet absorber 19: ultraviolet absorber
21: guide rail 30: housing
31: connection plate 32: irradiation module
33: circuit board 34: bolt
35 hemisphere lens 36 cylindrical lens
40: holding member 41: receiving groove
42 through hole 43 dropout prevention plate
ST: Stage TB: Alignment Table

Claims (6)

광 조사 장치로서,
직선 형상의 자외선 경화성 수지를 형성한 기판을 탑재 배치하는 스테이지와,
일 방향을 따라 배열된 복수의 자외선 발광 다이오드를 포함하고, 상기 복수의 자외선 발광 다이오드로부터 출사되는 자외선 빔을 중첩시킴으로써 상기 일 방향으로 연장되는 직선 형상 빔 광을 생성하고, 상기 기판에 형성된 상기 직선 형상의 자외선 경화성 수지에 상기 일 방향을 따라 상기 직선 형상 빔 광을 대치(對峙)시키면서 조사를 행하는 광 조사 유닛과,
상기 스테이지의 표면에 형성되어, 자외선을 흡수하는 자외선 흡수막을 구비하고,
상기 광 조사 유닛은,
상기 복수의 자외선 발광 다이오드의 하나로부터 출사된 자외선 빔을 각각 수용하는 복수의 반구 렌즈와,
상기 복수의 반구 렌즈로부터 출사된 자외선 빔을 수용하는 로드(rod) 형상의 실린더리컬 렌즈를 포함하고,
상기 광 조사 장치가,
상기 복수의 자외선 발광 다이오드의 하나와 상기 복수의 반구 렌즈의 하나 사이, 또는 상기 복수의 반구 렌즈와 상기 실린더리컬 렌즈 사이에 배치되고, 상기 직선 형상 빔 광이 그 선(線) 폭 방향으로 확산되는 것을 억제하는 마스크를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 광 조사 장치.As a light irradiation device,
A stage for mounting and placing a substrate on which a linear ultraviolet curable resin is formed;
A plurality of ultraviolet light emitting diodes arranged along one direction, and generating a linear beam light extending in the one direction by superimposing ultraviolet beams emitted from the plurality of ultraviolet light emitting diodes, the linear shape formed on the substrate A light irradiation unit which irradiates the ultraviolet curable resin of said linear beam light with the said linear beam light along said one direction, and
It is formed on the surface of the stage, and provided with an ultraviolet absorbing film for absorbing ultraviolet rays,
The light irradiation unit,
A plurality of hemisphere lenses each receiving an ultraviolet beam emitted from one of said plurality of ultraviolet light emitting diodes;
A rod-shaped cylindrical lens for receiving the ultraviolet beam emitted from the plurality of hemisphere lens,
The light irradiation device,
Disposed between one of the plurality of ultraviolet light emitting diodes and one of the plurality of hemisphere lenses, or between the plurality of hemisphere lenses and the cylindrical lens, wherein the linear beam light is diffused in the line width direction. It further comprises a mask for suppressing the light irradiation apparatus. 제 1 항에 있어서,
상기 자외선 흡수막은 흑색의 자외선 흡수막인 것을 특징으로 하는 광 조사 장치.The method of claim 1,
The ultraviolet absorbing film is a light irradiation device, characterized in that the black ultraviolet absorbing film. 제 2 항에 있어서,
상기 스테이지는 알루미늄제이고,
상기 흑색의 자외선 흡수막은, 상기 알루미늄제의 스테이지의 표면을 흑색 알루마이트(Alumite) 처리함으로써 형성된 흑색 알루마이트인 것을 특징으로 하는 광 조사 장치.The method of claim 2,
The stage is made of aluminum,
The black ultraviolet absorbing film is black alumite formed by subjecting the surface of the aluminum stage to black alumite. 광 조사 장치로서,
직선 형상의 자외선 경화성 수지를 형성한 기판을 탑재 배치하는 스테이지와,
일 방향을 따라 배열된 복수의 자외선 발광 다이오드를 포함하고, 상기 복수의 자외선 발광 다이오드로부터 출사되는 자외선 빔을 중첩시킴으로써 상기 일 방향으로 연장되는 직선 형상 빔 광을 생성하고, 상기 기판에 형성된 상기 직선 형상의 자외선 경화성 수지에 상기 일 방향을 따라 상기 직선 형상 빔 광을 대치(對峙)시키면서 조사를 행하는 광 조사 유닛과,
상기 스테이지의 표면에 형성되어, 자외선을 흡수하는 자외선 흡수막과,
상기 스테이지에 탑재 배치되는 상기 기판의 위치 맞춤을 행하는 얼라인먼트 테이블과,
상기 얼라인먼트 테이블의 표면에 형성된 자외선 흡수막을 구비하고,
상기 광 조사 유닛은,
상기 복수의 자외선 발광 다이오드의 하나로부터 출사된 자외선 빔을 각각 수용하는 복수의 반구 렌즈와,
상기 복수의 반구 렌즈로부터 출사된 자외선 빔을 수용하는 로드(rod) 형상의 실린더리컬 렌즈를 포함하고,
상기 광 조사 장치가,
상기 복수의 자외선 발광 다이오드의 하나와 상기 복수의 반구 렌즈의 하나 사이, 또는 상기 복수의 반구 렌즈와 상기 실린더리컬 렌즈 사이에 배치되고, 상기 직선 형상 빔 광이 그 선(線) 폭 방향으로 확산되는 것을 억제하는 마스크를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 광 조사 장치.As a light irradiation device,
A stage for mounting and placing a substrate on which a linear ultraviolet curable resin is formed;
A plurality of ultraviolet light emitting diodes arranged along one direction, and generating a linear beam light extending in the one direction by superimposing ultraviolet beams emitted from the plurality of ultraviolet light emitting diodes, the linear shape formed on the substrate A light irradiation unit which irradiates the ultraviolet curable resin of said linear beam light with the said linear beam light along said one direction, and
An ultraviolet absorption film formed on the surface of the stage and absorbing ultraviolet rays;
An alignment table for positioning the substrate mounted on the stage;
An ultraviolet absorbing film formed on the surface of the alignment table,
The light irradiation unit,
A plurality of hemisphere lenses each receiving an ultraviolet beam emitted from one of said plurality of ultraviolet light emitting diodes;
A rod-shaped cylindrical lens for receiving the ultraviolet beam emitted from the plurality of hemisphere lens,
The light irradiation device,
Disposed between one of the plurality of ultraviolet light emitting diodes and one of the plurality of hemisphere lenses, or between the plurality of hemisphere lenses and the cylindrical lens, wherein the linear beam light is diffused in the line width direction. It further comprises a mask for suppressing the light irradiation apparatus. 삭제delete 삭제delete
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5538467B2 (en) * 2012-03-30 2014-07-02 Ｈｏｙａ Ｃａｎｄｅｏ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ株式会社 Lens unit, light irradiation unit and light irradiation device
US20160144570A1 (en) * 2013-06-17 2016-05-26 Biomedical 3D Printing Co., Ltd. Curing Apparatus for 3D Printer, Using Ultraviolet Light Emitting Diode
JP6139450B2 (en) * 2014-03-27 2017-05-31 Ｈｏｙａ Ｃａｎｄｅｏ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ株式会社 Light irradiation unit and light irradiation device
JP6125456B2 (en) 2014-03-31 2017-05-10 Ｈｏｙａ Ｃａｎｄｅｏ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ株式会社 Light irradiation unit
CN106125512B (en) * 2016-06-23 2018-01-19 京东方科技集团股份有限公司 One kind exposure base station and preparation method thereof, exposure machine
KR102090933B1 (en) * 2019-08-13 2020-03-19 엘지디스플레이 주식회사 Ultra Violet Irradiation Apparatus Including Light Emitting Diode Light Source
WO2024011199A1 (en) * 2022-07-08 2024-01-11 Samtec, Inc. Method and appartus for additively fabricating electrical components

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005017341A (en) * 2003-06-23 2005-01-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Light irradiation device
JP2005109091A (en) * 2003-09-30 2005-04-21 Toshiba Ceramics Co Ltd Vacuum zipper for holding substrate

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3161296B2 (en) * 1995-09-05 2001-04-25 松下電器産業株式会社 Manufacturing method of liquid crystal display element
JP4694803B2 (en) * 2003-08-28 2011-06-08 芝浦メカトロニクス株式会社 Ultraviolet light irradiation apparatus and irradiation method, substrate manufacturing apparatus and substrate manufacturing method
JP4852907B2 (en) * 2005-06-29 2012-01-11 ウシオ電機株式会社 Display panel bonding equipment
JP2008107702A (en) * 2006-10-27 2008-05-08 Nakan Corp Apparatus for forming photo-alignment layer
JP2009169386A (en) * 2007-12-18 2009-07-30 Ulvac Japan Ltd Optical irradiation device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005017341A (en) * 2003-06-23 2005-01-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Light irradiation device
JP2005109091A (en) * 2003-09-30 2005-04-21 Toshiba Ceramics Co Ltd Vacuum zipper for holding substrate

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