JP4480660B2 - Substrate bonding equipment - Google Patents

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Description

本発明は、基板貼り合わせ装置に関し、特に、一対の液晶表示パネルの電極基板を、貼り合わせ位置精度、セルギャップ精度ともに良好に貼り合わせることのできる基板貼り合わせ装置に関する。   The present invention relates to a substrate bonding apparatus, and more particularly to a substrate bonding apparatus that can bond electrode substrates of a pair of liquid crystal display panels with good bonding position accuracy and cell gap accuracy.

液晶表示パネルは、ガラス基板に電極を形成した一対の電極基板を、2〜5μmの間隔(セルギャップ)で貼り合わせ、その間隙に液晶材料を封入して製造される。両電極基板の画素電極に電圧を印加すると、該電極間の液晶分子の配向が変化し、それに応じて透過光量が変化する。画素毎に印加する電圧を制御することで、濃淡のある映像を表示することができる。この際、両電極基板間のセルギャップが不均一であったり、貼り合わせ位置がずれていると、表示むら(色むら、濃淡むら)やコントラストの低下等を生じる。   A liquid crystal display panel is manufactured by bonding a pair of electrode substrates each having an electrode formed on a glass substrate at an interval (cell gap) of 2 to 5 μm and enclosing a liquid crystal material in the gap. When a voltage is applied to the pixel electrodes on both electrode substrates, the orientation of liquid crystal molecules between the electrodes changes, and the amount of transmitted light changes accordingly. By controlling the voltage applied to each pixel, a gray image can be displayed. At this time, if the cell gap between the two electrode substrates is not uniform or the bonding position is shifted, display unevenness (color unevenness, unevenness of light and shade), a decrease in contrast, and the like occur.

電極基板の貼り合わせは、一方の電極基板にシール剤(熱硬化性接着剤又は紫外線硬化性接着剤)を塗布し、もう一方の電極基板を位置合わせして貼り合わせ、シール剤を硬化させる。シール剤として、従来、熱硬化性接着剤が多く用いられていたが、熱処理を行うための大がかりな設備が必要であったり、プロセス時間が長くなり、熱処理によって電極基板が変形するなどの問題があった。   The electrode substrate is bonded by applying a sealing agent (thermosetting adhesive or ultraviolet curable adhesive) to one electrode substrate, aligning and bonding the other electrode substrate, and curing the sealing agent. Conventionally, many thermosetting adhesives have been used as sealing agents, but there are problems such as requiring large equipment for heat treatment, increasing the process time, and deforming the electrode substrate by heat treatment. there were.

これらの問題に鑑み、シール剤として紫外線硬化性接着剤が用いられるようになった。この紫外線硬化性接着剤は、所定量の紫外線を照射することで硬化させることができ、高温のプロセスが不要であるため、装置構成を簡素化でき、製品を熱で変形させることがないなどの利点を有する。   In view of these problems, an ultraviolet curable adhesive has come to be used as a sealant. This ultraviolet curable adhesive can be cured by irradiating a predetermined amount of ultraviolet rays, and since a high temperature process is not required, the apparatus configuration can be simplified and the product is not deformed by heat. Have advantages.

この紫外線硬化性接着剤を用いた基板貼り合わせ装置として、例えば、特許文献1に記載の装置は、図7に示すように、ベース131の上に、ガラス製の基盤132と、石英ガラス製の下定盤133とが載置され、下定盤133には貫通孔133aが、基盤132には溝132aが設けられる。そして、溝132aを図示しない真空ポンプに接続すると、下定盤133に載置した基板110が吸着される。   As an apparatus for laminating a substrate using this ultraviolet curable adhesive, for example, an apparatus described in Patent Document 1 includes a glass substrate 132 and a quartz glass substrate on a base 131 as shown in FIG. The lower surface plate 133 is placed, the lower surface plate 133 is provided with a through hole 133a, and the base plate 132 is provided with a groove 132a. And if the groove | channel 132a is connected to the vacuum pump which is not shown in figure, the board | substrate 110 mounted in the lower surface plate 133 will be adsorb | sucked.

ベース131上には、支柱135と、支持プレート136とが設置されており、支持プレート136には、テーブル137が設けられ、テーブル137の下面には、シリンダ138が、シリンダ138の下端には、真空吸着アーム139A、139Bが各々取り付けられている。また、支持プレート136には、ガイド部材141を介して垂直ロッド140が、垂直ロッド140の下端には、上定盤142と枠体142aとが取り付けられている。上定盤142は、エアーシリンダ143によって上昇下降する。   A support column 136 and a support plate 136 are installed on the base 131. A table 137 is provided on the support plate 136. A cylinder 138 is provided on the lower surface of the table 137, and a lower end of the cylinder 138 is provided on the lower surface. Vacuum suction arms 139A and 139B are respectively attached. A vertical rod 140 is attached to the support plate 136 via a guide member 141, and an upper surface plate 142 and a frame body 142 a are attached to the lower end of the vertical rod 140. The upper surface plate 142 is raised and lowered by the air cylinder 143.

次に、上記構成を有する基板貼り合わせ装置の動作について説明する。   Next, the operation of the substrate bonding apparatus having the above configuration will be described.

まず、シール剤を塗布した基板110を下定盤133に載置し、吸着させる。次に、対向基板120を真空吸着アーム139A、139Bに吸着させる。次に、カメラ147の映像に基づいてテーブル137を移動させ、シール剤が塗布された基板110と対向基板120について、数μmの精度で位置合わせを行う。   First, the substrate 110 coated with a sealing agent is placed on the lower surface plate 133 and adsorbed. Next, the counter substrate 120 is attracted to the vacuum suction arms 139A and 139B. Next, the table 137 is moved based on the image of the camera 147, and the substrate 110 on which the sealant is applied and the counter substrate 120 are aligned with an accuracy of several μm.

次に、シリンダ138を下降させ、シール剤を塗布した基板110と対向基板120とが接触した状態で、1μm程度の精度で位置合わせを行う。そして、真空吸着アーム139A、139Bの吸着を解除し、シリンダ138を上昇させる。   Next, the cylinder 138 is lowered, and alignment is performed with an accuracy of about 1 μm in a state where the substrate 110 coated with the sealant and the counter substrate 120 are in contact with each other. Then, the suction of the vacuum suction arms 139A and 139B is released, and the cylinder 138 is raised.

次に、エアーシリンダ143を下降させ、枠体142aのゲル状ゴム144を対向基板120に接触させると、上定盤142と、枠体142aと、ゲル状ゴム144と、対向基板120とで囲まれた密閉空間が形成される。そこで、この密閉空間内の気圧を上昇させ、対向基板120をシール剤が塗布された基板110に気圧で押圧しつつ、光源134を点灯し、紫外線を照射してシール剤を硬化させる。   Next, when the air cylinder 143 is lowered and the gel rubber 144 of the frame 142a is brought into contact with the counter substrate 120, the upper surface plate 142, the frame 142a, the gel rubber 144, and the counter substrate 120 are surrounded. A sealed space is formed. Therefore, the air pressure in the sealed space is increased and the light source 134 is turned on while the counter substrate 120 is pressed against the substrate 110 coated with the sealant with the atmospheric pressure, and the sealant is cured by irradiating ultraviolet rays.

特許第3536651号公報Japanese Patent No. 3536651

しかし、上記従来の基板貼り合わせ装置等おいては、下定盤133は石英ガラス製であり、盤面全体が紫外線を透過するため、基板110のシール剤以外の部分にも紫外線が照射され、基板110、120に形成されたTFT(薄膜トランジスタ)素子等を損傷するおそれがあった。   However, in the conventional substrate laminating apparatus or the like, the lower surface plate 133 is made of quartz glass, and the entire surface of the plate transmits ultraviolet rays. Therefore, the portions other than the sealant of the substrate 110 are irradiated with ultraviolet rays, and the substrate 110 , 120 may damage the TFT (thin film transistor) element formed in 120.

また、紫外線が基板110、120の全体にわたって照射される分、シール剤に照射される紫外線の照度が低くなり、シール剤の硬化に必要な積算光量に到達するまでの露光時間が長くなり、電力消費も大きくなるという問題があった。また、照度を上げて露光時間を短くすると、より大きな出力の紫外線光源が必要になるという問題があった。   In addition, since the ultraviolet rays are irradiated over the entire substrates 110 and 120, the illuminance of the ultraviolet rays applied to the sealing agent is lowered, and the exposure time until reaching the integrated light amount necessary for curing of the sealing agent is increased. There was a problem of increased consumption. Further, when the illuminance is increased and the exposure time is shortened, there is a problem that an ultraviolet light source having a larger output is required.

さらに、対向基板120を位置決めした後、真空吸着アーム139A、139Bを対向基板120から離隔し、その後、枠体142aのゲル状ゴム144で対向基板120を押圧し、加圧を行っているため、真空吸着アーム139A、139Bを離隔した際に、対向基板120が移動可能な状態となり、シール剤の粘性等で位置がずれるという問題があった。   Furthermore, after positioning the counter substrate 120, the vacuum suction arms 139A, 139B are separated from the counter substrate 120, and then the counter substrate 120 is pressed by the gel rubber 144 of the frame 142a, so that pressure is applied. When the vacuum suction arms 139A and 139B are separated from each other, there is a problem that the counter substrate 120 becomes movable and the position is shifted due to the viscosity of the sealing agent.

そこで、本発明は、上記従来の基板貼り合わせ装置における問題点に鑑みてなされたものであって、一対の基板、特に、液晶表示パネルの電極基板を貼り合わせるにあたって、貼り合わせ位置精度、セルギャップ精度ともに良好に貼り合わせることなどが可能な基板貼り合わせ装置を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the problems in the above conventional substrate bonding apparatus, and in bonding a pair of substrates, in particular, an electrode substrate of a liquid crystal display panel, the bonding position accuracy, the cell gap, and the like. It is an object of the present invention to provide a substrate bonding apparatus capable of bonding with good accuracy.

上記目的を達成するため、本発明は、上基板と下基板とで構成される一対の基板を重ね合わせ、両基板間に塗布されたシール剤を硬化させて固着させる基板貼り合わせ装置であって、前記上基板を保持する上基板保持手段と、前記下基板を保持する下基板保持手段と、前記上基板保持手段によって保持された上基板と、前記下基板保持手段によって保持された下基板とを所定の位置に位置決めする位置決め手段と、該位置決め手段によって所定の位置に位置決めされた前記上基板と下基板とを、所定の加圧力で互いに押し付けて加圧する加圧手段と、該加圧手段によって加圧された状態で、前記シール剤に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射手段と、該紫外線照射手段によって照射される紫外線の照射領域を制御する照射領域制御手段とを備え、前記紫外線照射手段は、矩形枠状の照射孔を有し、該照射孔に紫外線を照射することを特徴とする。 In order to achieve the above object, the present invention is a substrate laminating apparatus that superposes a pair of substrates composed of an upper substrate and a lower substrate, and cures and fixes a sealant applied between both substrates. An upper substrate holding means for holding the upper substrate, a lower substrate holding means for holding the lower substrate, an upper substrate held by the upper substrate holding means, and a lower substrate held by the lower substrate holding means Positioning means for positioning the substrate at a predetermined position, pressurizing means for pressing the upper substrate and the lower substrate positioned at a predetermined position by the positioning means against each other with a predetermined pressure, and the pressurizing means An ultraviolet irradiation means for irradiating and curing the sealing agent with ultraviolet rays in a state of being pressurized by, and an irradiation area control means for controlling an ultraviolet irradiation area irradiated by the ultraviolet irradiation means; Wherein said ultraviolet light irradiation means includes a rectangular frame-shaped radiation holes, and irradiating ultraviolet rays to the radiation hole.

そして、本発明によれば、照射領域制御手段によって、紫外線照射手段で照射される紫外線の照射領域を制御することができるため、シール剤に照射される紫外線の照度が高く、より短い露光時間で所定の積算光量に到達することができる。これにより、無駄な紫外線照射がないため、紫外線光源を点灯するための電力消費を抑えることができ、基板の生産性が向上し、製造コストを低減することができる。また、基板を下基板保持手段と上基板保持手段とで狭持したまま、紫外線を照射してシール剤を硬化させることができるため、基板の貼り合わせ位置精度がよく、基板の製造歩留まりが向上して製造コストを低減することができる。さらに、紫外線照射手段が、矩形枠状の照射孔を有し、照射孔に紫外線を照射するため、無駄な紫外線照射をさらに低減し、電力消費を抑えることができ、基板の生産性向上、製造コストの低減を図ることができる。 According to the present invention, the irradiation region control unit can control the irradiation region of the ultraviolet ray irradiated by the ultraviolet irradiation unit, so that the illuminance of the ultraviolet ray irradiated to the sealing agent is high and the exposure time is shorter. A predetermined integrated light quantity can be reached. Thereby, since there is no useless ultraviolet irradiation, power consumption for turning on the ultraviolet light source can be suppressed, the productivity of the substrate can be improved, and the manufacturing cost can be reduced. In addition, since the sealing agent can be cured by irradiating ultraviolet rays while holding the substrate between the lower substrate holding means and the upper substrate holding means, the bonding position accuracy of the substrates is good and the manufacturing yield of the substrates is improved. Thus, the manufacturing cost can be reduced. Furthermore, since the ultraviolet irradiation means has a rectangular frame-shaped irradiation hole and irradiates the irradiation hole with ultraviolet light, wasteful ultraviolet irradiation can be further reduced, power consumption can be suppressed, and the productivity of the substrate can be improved. Cost can be reduced.

前記基板貼り合わせ装置において、前記上基板保持手段又は/及び下基板保持手段は、真空源を介して前記上基板又は/及び下基板を吸着保持することができる。これによって、基板を強固に固定保持することができ、基板の貼り合わせ位置精度を高く維持することができる。   In the substrate bonding apparatus, the upper substrate holding means and / or the lower substrate holding means can suck and hold the upper substrate and / or the lower substrate via a vacuum source. Accordingly, the substrate can be firmly fixed and held, and the bonding position accuracy of the substrates can be maintained high.

また、前記照射領域制御手段を、前記下基板保持手段に形成され、前記下基板に塗布されたシール剤の塗布パターンと同一形状の開口部とすることができる。これによって、シール剤部分にのみ紫外線が照射され、紫外線によってTFT素子等が損傷することを防ぎ、基板の製造歩留まりが向上して製造コストを低減することができる。   Further, the irradiation area control means may be an opening having the same shape as the application pattern of the sealant formed on the lower substrate holding means and applied to the lower substrate. Thereby, ultraviolet rays are irradiated only to the sealant portion, and it is possible to prevent the TFT elements and the like from being damaged by the ultraviolet rays, thereby improving the production yield of the substrate and reducing the production cost.

前記基板貼り合わせ装置において、前記開口部の鉛直面に平行な断面を、上方から下方に徐々に拡開する台形状とすることができる。これによって、紫外線が照射された際に、開口部に影の部分ができにくく、シール剤の塗布パターンに確実に紫外線を照射することができる。   In the substrate bonding apparatus, a cross section parallel to the vertical surface of the opening can be formed into a trapezoidal shape that gradually expands downward from above. Accordingly, when the ultraviolet ray is irradiated, a shadow portion is hardly formed in the opening, and the ultraviolet ray can be surely irradiated to the coating pattern of the sealing agent.

また、前記開口部の鉛直面に平行な断面は、上方より下方が拡開する凸形状とすることができる。これによって、上記と同様に、紫外線が照射された際に、開口部に影の部分ができにくくなり、シール剤の塗布パターンに確実に紫外線を照射することができる。   The cross section of the opening parallel to the vertical plane may have a convex shape that expands downward from above. Thus, similarly to the above, when the ultraviolet ray is irradiated, it becomes difficult to form a shadow portion in the opening, and the application pattern of the sealing agent can be reliably irradiated with the ultraviolet ray.

前記基板貼り合わせ装置において、前記下基板保持手段を、該下基板保持手段の下方に位置する石英プレートの上に載置し、該石英プレートを介して前記紫外線を照射することができる。   In the substrate bonding apparatus, the lower substrate holding means can be placed on a quartz plate located below the lower substrate holding means, and the ultraviolet rays can be irradiated through the quartz plate.

また、前記下基板保持手段を、該下基板保持手段の下方に位置し、表面が鏡面仕上げされたハニカムプレートの上に載置し、該ハニカムプレートを介して前記紫外線を照射することができる。これにより、紫外線は、ハニカムプレートの内面を反射しながら通過し、シール剤に照射される。この際、紫外線が拡散し、紫外線の照度分布にむらが生じないため、石英プレートより低価格かつ軽量の装置を製造することができる。   Further, the lower substrate holding means can be placed on a honeycomb plate positioned below the lower substrate holding means and having a mirror-finished surface, and the ultraviolet rays can be irradiated through the honeycomb plate. Thereby, the ultraviolet rays pass through the inner surface of the honeycomb plate while being reflected, and are irradiated to the sealing agent. At this time, since the ultraviolet rays diffuse and the illuminance distribution of the ultraviolet rays does not occur, it is possible to manufacture a device that is cheaper and lighter than the quartz plate.

また、本発明は、上基板と下基板とで構成される一対の基板を重ね合わせ、両基板間に塗布されたシール剤を硬化させて固着させる基板貼り合わせ装置であって、前記上基板を保持する上基板保持手段と、前記下基板を保持する下基板保持手段と、前記上基板保持手段によって保持された上基板と、前記下基板保持手段によって保持された下基板とを所定の位置に位置決めする位置決め手段と、該位置決め手段によって所定の位置に位置決めされた前記上基板と下基板とを、所定の加圧力で互いに押し付けて加圧する加圧手段と、該加圧手段によって加圧された状態で、前記シール剤に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射手段と、該紫外線照射手段によって照射される紫外線の照射領域を制御する照射領域制御手段とを備え、前記紫外線照射手段は、直線状の照射孔を備えた紫外線照射部を4基備え、該4基の紫外線照射部を矩形枠状に配置して構成されることを特徴とする。これによって、照射孔の形状をシール剤の塗布パターンに合わせて配置し直すことができ、多品種生産に容易に対応することができる。 The present invention is also a substrate laminating apparatus that superposes a pair of substrates composed of an upper substrate and a lower substrate, and cures and fixes a sealant applied between the two substrates. An upper substrate holding means for holding, a lower substrate holding means for holding the lower substrate, an upper substrate held by the upper substrate holding means, and a lower substrate held by the lower substrate holding means in a predetermined position Positioning means for positioning, pressurizing means for pressing the upper substrate and the lower substrate positioned at predetermined positions by the positioning means against each other with a predetermined pressing force, and pressure applied by the pressing means state, comprising an ultraviolet irradiation means for curing by irradiating ultraviolet rays to the sealing agent, an irradiation area control means for controlling the irradiation area of the ultraviolet rays irradiated by the ultraviolet light irradiation means, the ultraviolet Morphism means, you characterized in that it is constituted by arranging the ultraviolet irradiation unit having a linear irradiating hole 4 Motosonae, the ultraviolet irradiation unit of the four in a rectangular frame shape. Thereby, the shape of the irradiation hole can be rearranged in accordance with the coating pattern of the sealing agent, and it is possible to easily cope with multi-product production.

以上のように、本発明によれば、一対の基板、特に、液晶表示パネルの電極基板を貼り合わせるにあたり、貼り合わせ位置精度、及びセルギャップ精度を向上させることなどが可能となる。   As described above, according to the present invention, it is possible to improve the bonding position accuracy and the cell gap accuracy when bonding a pair of substrates, particularly an electrode substrate of a liquid crystal display panel.

次に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。   Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

本発明にかかる基板貼り合わせ装置は、図1に示すように、基台1と、XYθ軸ステージ2と、吸着テーブル3と、架台4と、ガイドポスト5と、ベアリング6と、加圧プレート7と、加圧手段8と、ロッド9と、マニホールドプレート10と、弾性体11と、上吸着プレート12と、ビデオカメラ13等で構成される。また、吸着テーブル3は、図3に示すように、下吸着プレート20と、石英プレート22と、天板23と、側壁24と、支柱26と、紫外線照射部27等で構成される。   As shown in FIG. 1, the substrate bonding apparatus according to the present invention includes a base 1, an XYθ axis stage 2, a suction table 3, a mount 4, a guide post 5, a bearing 6, and a pressure plate 7. And a pressurizing means 8, a rod 9, a manifold plate 10, an elastic body 11, an upper suction plate 12, a video camera 13, and the like. Further, as shown in FIG. 3, the suction table 3 includes a lower suction plate 20, a quartz plate 22, a top plate 23, a side wall 24, a column 26, an ultraviolet irradiation unit 27, and the like.

図1に示すように、基台1には、XYθ軸ステージ2が搭載され、XYθ軸ステージ2上には、吸着テーブル3が搭載される。XYθ軸ステージ2は、少なくとも3組の、パルスモーターやボールねじ等から構成される駆動軸により駆動され、図示しないコントローラーの指令で、XYθ軸ステージ2の上面を、左右(X軸)、前後(Y軸)、旋回(θ軸)方向に、例えば0.1μm単位で可動範囲内の任意の位置に移動することができる。   As shown in FIG. 1, an XYθ-axis stage 2 is mounted on the base 1, and a suction table 3 is mounted on the XYθ-axis stage 2. The XYθ-axis stage 2 is driven by at least three sets of drive shafts configured by a pulse motor, a ball screw, and the like. It can be moved to any position within the movable range, for example, in units of 0.1 μm in the Y-axis) and turning (θ-axis) directions.

図2及び図3に示すように、吸着テーブル3は、側壁24と、天板23とを箱状に形成し、石英プレート22と下吸着プレート20とを組み合わせたものを、前記天板23に搭載する。   As shown in FIGS. 2 and 3, the suction table 3 is formed by forming a side wall 24 and a top plate 23 in a box shape, and combining the quartz plate 22 and the lower suction plate 20 with the top plate 23. Mount.

下吸着プレート20は、表面の平面度を例えば、1μm以下とすることが望ましい。下吸着プレート20は、外周部20aと内周部20bとに分離され、各々石英プレート22に固定される。下吸着プレート20の外周部20aと内周部20bとの間に形成される開口部20eは、下基板18に塗布されている紫外線硬化性のシール剤19の塗布パターンと同一形状とする。外周部20aには、直径4mmのガイドピン21が埋め込まれ、下基板18を下吸着プレート20に搭載する際、搭載位置を案内する。   The lower suction plate 20 desirably has a surface flatness of, for example, 1 μm or less. The lower suction plate 20 is separated into an outer peripheral portion 20a and an inner peripheral portion 20b, and is fixed to the quartz plate 22 respectively. The opening 20e formed between the outer peripheral portion 20a and the inner peripheral portion 20b of the lower suction plate 20 has the same shape as the application pattern of the ultraviolet curable sealant 19 applied to the lower substrate 18. A guide pin 21 having a diameter of 4 mm is embedded in the outer peripheral portion 20a, and guides the mounting position when the lower substrate 18 is mounted on the lower suction plate 20.

ガイドピン21には、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。尚、ガイドピン21は、下基板18を手作業で搭載する場合を考慮して設けたものであり、下基板18を基板搬送装置等で搭載する場合には省略することができる。   For the guide pin 21, polyether ether ketone resin, polyacetal resin, polyimide resin, polyamide resin, or the like can be used. The guide pins 21 are provided in consideration of the case where the lower substrate 18 is manually mounted, and can be omitted when the lower substrate 18 is mounted by a substrate transfer device or the like.

ガイドピン21に倣わせて、下吸着プレート20に下基板18を、シール剤19の塗布面を上にして搭載すると、下基板18に塗布されたシール剤19の直下に開口部20eが位置する。下吸着プレート20の内周部20bには、下基板18を吸着保持するための直径1.5mmの吸着孔20cが複数穿設されている。また、内周部20bの裏面には、複数の吸着孔20c同士を繋ぐように、図4に示すように、幅1.5mm、深さ1mmの溝20dが設けられている。   When the lower substrate 18 is mounted on the lower suction plate 20 along the guide pins 21 with the application surface of the sealing agent 19 facing up, the opening 20e is positioned immediately below the sealing agent 19 applied to the lower substrate 18. . A plurality of suction holes 20 c having a diameter of 1.5 mm for sucking and holding the lower substrate 18 are formed in the inner peripheral portion 20 b of the lower suction plate 20. Further, as shown in FIG. 4, a groove 20d having a width of 1.5 mm and a depth of 1 mm is provided on the back surface of the inner peripheral portion 20b so as to connect the plurality of suction holes 20c.

図2及び図3に示すように、吸着テーブル3の内部には、支柱26が立設される。支柱26には、吸気経路26aが設けられ、Oリング25を介して石英プレート22の貫通孔22aと導通している。石英プレート22の貫通孔22aは、下吸着プレート20の内周部20bの溝20d(図4参照)と導通する。真空源30と、支柱26の内部の吸気経路26aとを、切り替え弁31を介して吸気管29で接続し、切り替え弁31を稼働させて真空源30と導通すると、下吸着プレート20の内周部20bに設けられた吸気孔20cから空気が吸引され、下基板18を下吸着プレート20に吸着保持することができる。   As shown in FIGS. 2 and 3, a support column 26 is erected inside the suction table 3. The support column 26 is provided with an intake passage 26 a and is electrically connected to the through hole 22 a of the quartz plate 22 through the O-ring 25. The through hole 22 a of the quartz plate 22 is electrically connected to the groove 20 d (see FIG. 4) of the inner peripheral portion 20 b of the lower suction plate 20. When the vacuum source 30 and the intake path 26a inside the support column 26 are connected by the intake pipe 29 via the switching valve 31, and the switching valve 31 is operated to conduct with the vacuum source 30, the inner circumference of the lower suction plate 20 Air is sucked from the suction hole 20 c provided in the portion 20 b, and the lower substrate 18 can be sucked and held on the lower suction plate 20.

支柱26の外側には、支柱26を取り囲むように紫外線照射部27が設置されている。紫外線照射部27は、矩形枠状の紫外線照射孔27aを備え、直径0.2mmの多数の石英ファイバー28の片端が紫外線照射孔27aに配列されている。石英ファイバー28の残りの端部は、束ねられて外側へ延設され、紫外線光源32へ接続されている。   An ultraviolet irradiation unit 27 is installed outside the support column 26 so as to surround the support column 26. The ultraviolet irradiation unit 27 includes a rectangular frame-shaped ultraviolet irradiation hole 27a, and one end of a large number of quartz fibers 28 having a diameter of 0.2 mm is arranged in the ultraviolet irradiation hole 27a. The remaining end of the quartz fiber 28 is bundled and extended outward, and is connected to the ultraviolet light source 32.

紫外線光源32を点灯すると、紫外線が石英ファイバー28を経て紫外線照射孔27aから矩形枠状の照射エリアに照射される。紫外線照射孔27aは、下吸着プレート20の開口部20eと同一形状とすることが好ましいが、紫外線は拡散して出射するため、多少寸法や形状が異なっていてもよい。紫外線は、石英プレート22を透過し、下吸着プレートの開口部20eを通り、下基板18に塗布されたシール剤19に照射される。開口部20eは、シール剤19の塗布パターンと同じ形状であり、シール剤19の塗布箇所に紫外線が集中して照射されるため、より短い照射時間でシール剤19を硬化させることができるとともに、シール剤19以外の箇所に紫外線が照射されることを防止し、上基板17又は下基板18に形成されているTFT素子等を損傷することがない。   When the ultraviolet light source 32 is turned on, the ultraviolet light is irradiated from the ultraviolet irradiation hole 27a to the rectangular frame-shaped irradiation area through the quartz fiber 28. Although it is preferable that the ultraviolet irradiation hole 27a has the same shape as the opening 20e of the lower suction plate 20, since the ultraviolet light is diffused and emitted, the size and shape may be slightly different. The ultraviolet light passes through the quartz plate 22, passes through the opening 20 e of the lower suction plate, and is irradiated to the sealing agent 19 applied to the lower substrate 18. The opening 20e has the same shape as the application pattern of the sealant 19, and ultraviolet rays are concentrated and irradiated on the application site of the sealant 19, so that the sealant 19 can be cured in a shorter irradiation time, The portion other than the sealing agent 19 is prevented from being irradiated with ultraviolet rays, and the TFT elements and the like formed on the upper substrate 17 or the lower substrate 18 are not damaged.

下吸着プレート20の開口部20eと紫外線照射部27の紫外線照射孔27aの寸法が異なるときには、紫外線は、斜めに開口部20eを通過するが、図4に示すように、開口部20eの鉛直面に平行な断面形状を上方から下方に徐々に拡開した台形状、又は上方より下方が拡開する凸形状にすると、開口部20eに影が生じず、紫外線が通り易い。   When the size of the opening 20e of the lower suction plate 20 and the ultraviolet irradiation hole 27a of the ultraviolet irradiation unit 27 are different, ultraviolet rays pass through the opening 20e obliquely, but as shown in FIG. 4, the vertical plane of the opening 20e If the cross-sectional shape parallel to is a trapezoidal shape that gradually expands downward from above or a convex shape that expands downward from above, no shadow is generated in the opening 20e, and ultraviolet rays easily pass.

図1の基台1には、ステンレス製のガイドポスト5が立設され、ベアリング6を介して加圧プレート7が取り付けられている。ベアリング6の作用で、加圧プレート7は、昇降自在に滑動する。加圧プレート7には、マニホールドプレート10と、弾性体11と、上吸着プレート12とが取り付けられている。   A stainless steel guide post 5 is erected on the base 1 of FIG. 1 and a pressure plate 7 is attached via a bearing 6. The pressure plate 7 slides up and down by the action of the bearing 6. A manifold plate 10, an elastic body 11, and an upper suction plate 12 are attached to the pressure plate 7.

ステンレス製の上吸着プレート12には、図2に示すように、下吸着プレート20と同様に、直径1.5mmの吸着孔12aが複数設けられている。ショア硬度50〜70のポリウレタンゴム製の弾性体11と、マニホールドプレート10にも、上吸着プレート12の吸着孔12aと合致するように、複数の貫通孔10a、11aが設けられている。マニホールドプレート10の上面側は、前記複数の貫通孔10aを繋ぐように溝10bが設けられている。加圧プレート7には、吸気経路7aが設けられ、真空源30と吸気経路7aを、切り替え弁31を介して吸気管29で接続し、切り替え弁31を稼働させて真空源30と導通すると、上吸着プレート12の吸着孔12aから空気が吸引され、上基板17を上吸着プレート12に吸着保持することができる。   As shown in FIG. 2, the upper suction plate 12 made of stainless steel is provided with a plurality of suction holes 12 a having a diameter of 1.5 mm, like the lower suction plate 20. The elastic body 11 made of polyurethane rubber having a shore hardness of 50 to 70 and the manifold plate 10 are also provided with a plurality of through holes 10 a and 11 a so as to match the suction holes 12 a of the upper suction plate 12. On the upper surface side of the manifold plate 10, a groove 10b is provided so as to connect the plurality of through holes 10a. The pressurizing plate 7 is provided with an intake passage 7a. When the vacuum source 30 and the intake passage 7a are connected to each other through an intake pipe 29 via a switching valve 31, and the switching valve 31 is operated to conduct with the vacuum source 30, Air is sucked from the suction holes 12 a of the upper suction plate 12, and the upper substrate 17 can be sucked and held on the upper suction plate 12.

図1の基台1上の架台4には、加圧手段8が搭載されている。加圧手段8は、パルスモーターやボールねじ等から構成される。ボールねじの先端は、ロッド9と連結され、図示しないコントローラーからの指令でパルスモーターを駆動し、ロッド9を昇降自在に、可動範囲内の任意の位置に、任意のトルクで移動することができる。ロッド9の先端は、加圧プレート7に連結され、加圧手段8を駆動することにより、加圧プレート7を昇降移動させることができる。   A pressing means 8 is mounted on the gantry 4 on the base 1 in FIG. The pressurizing means 8 is constituted by a pulse motor, a ball screw or the like. The tip of the ball screw is connected to the rod 9 and drives the pulse motor in response to a command from a controller (not shown) so that the rod 9 can be moved up and down to any position within the movable range with any torque. . The tip of the rod 9 is connected to the pressure plate 7, and the pressure plate 7 can be moved up and down by driving the pressure means 8.

ガイドポスト5には、圧縮型のばね33が組み込まれ、ベアリング6や、加圧プレート7を持ち上げる方向に力を作用させている。ばね33の荷重は、ベアリング6や加圧プレート7の重量と釣り合うように選定されており、ベアリング6や加圧プレート7の自重が相殺されるため、微弱な加圧力で加圧動作を行うこともできる。   A compression spring 33 is incorporated in the guide post 5 to apply a force in the direction of lifting the bearing 6 and the pressure plate 7. The load of the spring 33 is selected so as to balance the weight of the bearing 6 and the pressure plate 7, and the weight of the bearing 6 and the pressure plate 7 is offset, so that the pressure operation is performed with a weak pressure. You can also.

架台4には、2台のビデオカメラ13が装備されている。ビデオカメラ13には、拡大レンズ14と、90°プリズム16と、照明装置15等が装着され、上基板17及び下基板18に予め形成されている位置合わせ用マークを撮影することができる。また、加圧プレート7と、マニホールドプレート10と、弾性体11と、上吸着プレート12には、前記位置合わせ用マークが撮影できるように穴を穿設する。拡大レンズ14は、光学倍率8倍、物体側テレセントリック光学系の同軸落斜照明付きのものなどを使用することができる。照明の光源として、発光ダイオード又はハロゲンランプ等を使用することができる。撮影した位置合わせマークに関するデータは、図示しない画像処理装置に送られ、上基板17と下基板18の相対的なずれ量を算出する。   The gantry 4 is equipped with two video cameras 13. The video camera 13 is equipped with a magnifying lens 14, a 90 ° prism 16, an illumination device 15, and the like, and can photograph alignment marks formed in advance on the upper substrate 17 and the lower substrate 18. Further, holes are formed in the pressure plate 7, the manifold plate 10, the elastic body 11, and the upper suction plate 12 so that the alignment mark can be photographed. As the magnifying lens 14, an optical magnification of 8 ×, an object side telecentric optical system with coaxial falling illumination, or the like can be used. A light emitting diode, a halogen lamp, or the like can be used as a light source for illumination. Data relating to the photographed alignment mark is sent to an image processing apparatus (not shown), and a relative shift amount between the upper substrate 17 and the lower substrate 18 is calculated.

ビデオカメラ13は、撮像素子としてCCD(電荷結合素子)又はCMOS(相補型金属酸化物半導体)を用いたものを使用することができる。撮像素子のサイズが横6.4mm×縦4.8mm、有効画素数が横1600画素×縦1200画素、レンズの倍率を8倍とすると、撮影視野は横0.8mm×縦0.6mm、1画素当たりの分解能は0.5μmとなり、微細な位置合わせに好都合である。   The video camera 13 can use a CCD (charge coupled device) or a CMOS (complementary metal oxide semiconductor) as an imaging device. If the size of the image sensor is 6.4 mm wide x 4.8 mm long, the number of effective pixels is 1600 pixels wide x 1200 pixels wide, and the lens magnification is 8 times, the field of view is 0.8 mm wide x 0.6 mm long, 1 The resolution per pixel is 0.5 μm, which is convenient for fine alignment.

尚、ここに記載した各構成要素の材質、寸法、所用数、加工方法、組み立て方法等は、一例であって、他の材質、寸法、所用数、加工方法、組み立て方法を用いてもよいことは無論である。   In addition, the material, dimension, required number, processing method, assembly method, etc. of each component described here are examples, and other materials, dimensions, required number, processing method, assembly method may be used. Of course.

次に、上記構成を有する基板貼り合わせ装置の動作について、図1乃至図3を中心に参照しながら詳細に説明する。   Next, the operation of the substrate bonding apparatus having the above configuration will be described in detail with reference to FIGS.

まず、図1に示すように、上吸着プレート12の所定の位置に、手作業、又は図示しない上基板搬送手段等で上基板17を搬送して密着させる。次に、図2の切り替え弁31を稼働し、吸気経路7aを真空源30に導通すると、上基板17が上吸着プレート12に吸着保持される。   First, as shown in FIG. 1, the upper substrate 17 is transported and brought into close contact with a predetermined position of the upper suction plate 12 manually or by an upper substrate transport means (not shown). Next, when the switching valve 31 of FIG. 2 is operated and the intake path 7 a is conducted to the vacuum source 30, the upper substrate 17 is sucked and held by the upper suction plate 12.

次に、下吸着プレート20の所定の位置に、手作業、又は図示しない下基板搬送手段等で下基板18を搬送し、シール剤19(図3参照)の塗布面を上にして搭載する。切り替え弁31を稼働し、吸気経路26aを真空源30に導通すると、下基板18が下吸着プレート20に吸着保持される。   Next, the lower substrate 18 is transported to a predetermined position of the lower suction plate 20 manually or by a lower substrate transport means (not shown), and mounted with the application surface of the sealant 19 (see FIG. 3) facing upward. When the switching valve 31 is operated and the intake path 26 a is conducted to the vacuum source 30, the lower substrate 18 is sucked and held by the lower suction plate 20.

次に、図1の加圧手段8を駆動し、加圧プレート7を予め設定した所定の高さまで下降させる。この高さは、上基板17と、下基板18に塗布したシール剤19が接触せず、かつ拡大レンズ14の被写界深度以内で、上基板17と、下基板18の両方の位置合わせマークが良好に撮影可能な高さとする。例えば、上基板17と下基板18との間隔が50μmとなる高さとする。尚、本実施の形態では、加圧プレート7を下降させて停止する高さを、事前に設定値で決定したが、上基板17と下基板18との間隔を測定する手段を別途設け、その測定値から、加圧プレート7を下降させて停止する高さを動的に決定してもよい。   Next, the pressing means 8 of FIG. 1 is driven, and the pressing plate 7 is lowered to a predetermined height set in advance. This height is such that the sealant 19 applied to the upper substrate 17 and the lower substrate 18 is not in contact, and is within the depth of field of the magnifying lens 14, and the alignment marks of both the upper substrate 17 and the lower substrate 18 are aligned. Is a height that can be photographed well. For example, the height between the upper substrate 17 and the lower substrate 18 is 50 μm. In the present embodiment, the height at which the pressure plate 7 is lowered and stopped is determined in advance by a set value. However, a means for measuring the distance between the upper substrate 17 and the lower substrate 18 is separately provided. From the measured value, the height at which the pressure plate 7 is lowered and stopped may be dynamically determined.

次に、ビデオカメラ13によって、上基板17と下基板18の各々に設けられている位置合わせマーク(図示せず)を撮影する。撮影した映像は、図示しない画像処理装置に送られ、上基板17と下基板18との相対的なずれ量が算出される。   Next, an alignment mark (not shown) provided on each of the upper substrate 17 and the lower substrate 18 is photographed by the video camera 13. The captured video is sent to an image processing device (not shown), and the relative shift amount between the upper substrate 17 and the lower substrate 18 is calculated.

次に、算出された上基板17と下基板18との相対的なずれ量に関するデータを、図示しないコントローラーに送り、規定値と比較する。規定値とは、上基板17と下基板18との相対的なずれ量の限界値であり、前記コントローラーに予め記憶させておく。算出したずれ量が規定値より大きい場合には、XYθ軸ステージ2を駆動し、上基板17に対して下基板18のずれ量が最小になるように、下基板18の位置を補正する。補正動作を行った後、再度位置合わせマークを撮影し、ずれ量を算出する。ずれ量が規定値以下に収束するまで同様の手順で下基板18の位置補正を繰り返す。   Next, the calculated data regarding the relative displacement between the upper substrate 17 and the lower substrate 18 is sent to a controller (not shown) and compared with a specified value. The specified value is a limit value of the relative shift amount between the upper substrate 17 and the lower substrate 18 and is stored in advance in the controller. If the calculated displacement amount is larger than the specified value, the XYθ axis stage 2 is driven to correct the position of the lower substrate 18 so that the displacement amount of the lower substrate 18 with respect to the upper substrate 17 is minimized. After performing the correction operation, the alignment mark is photographed again, and the amount of deviation is calculated. The position correction of the lower substrate 18 is repeated in the same procedure until the deviation amount converges below the specified value.

次に、加圧手段8を駆動し、下基板18に上基板17を重ね合わせ、所定の加圧力で、所定の時間押し付け、加圧する。上基板17、下基板18の少なくとも一方には、ギャップ制御材が設けられ、所定の加圧力、時間で上基板17と下基板18とを加圧することで適正なギャップが形成される。また、マニホールドプレート10と、上吸着プレート12との間に弾性体11が介在しているため、上基板17と下基板18との平行度が正確でなくても片当たりせず、上基板17と下基板18の全面を均一な加圧力で加圧することができ、正確なギャップを形成することができる。また、このとき、下基板18に塗布されているシール剤19が上基板17に接触する。   Next, the pressurizing means 8 is driven, the upper substrate 17 is overlaid on the lower substrate 18, pressed with a predetermined pressure for a predetermined time, and pressurized. At least one of the upper substrate 17 and the lower substrate 18 is provided with a gap control material, and an appropriate gap is formed by pressurizing the upper substrate 17 and the lower substrate 18 with a predetermined pressure and time. Further, since the elastic body 11 is interposed between the manifold plate 10 and the upper suction plate 12, even if the parallelism between the upper substrate 17 and the lower substrate 18 is not accurate, the upper substrate 17 does not come into contact with each other. And the entire surface of the lower substrate 18 can be pressurized with a uniform applied pressure, and an accurate gap can be formed. At this time, the sealing agent 19 applied to the lower substrate 18 contacts the upper substrate 17.

次に、上基板17と下基板18とを加圧したままの状態で紫外線光源32を点灯すると、紫外線が石英ファイバー28を通り、紫外線照射部27の紫外線照射孔27aから出射する。出射した紫外線は、石英プレート22を透過し、下吸着プレート20の開口部20eを経て、シール剤19に照射される。開口部20eは、シール剤19の塗布パターンと同一形状となっており、シール剤19の塗布箇所に紫外線が集中して照射されるため、より短い照射時間でシール剤19を硬化させることができるとともに、シール剤19以外の箇所に紫外線が照射されることを防ぎ、上基板17又は下基板18に形成されているTFT素子等を損傷することがない。また、上基板17と下基板18とを加圧した状態でシール剤19を硬化させるため、上基板17と下基板18とが位置ずれを起こしたり、ギャップが変化することがない。紫外線を所定時間シール剤19に照射し、シール剤19を硬化させる。所定時間の照射完了後、紫外線光源32を消灯する。   Next, when the ultraviolet light source 32 is turned on with the upper substrate 17 and the lower substrate 18 being pressurized, the ultraviolet light passes through the quartz fiber 28 and is emitted from the ultraviolet irradiation hole 27 a of the ultraviolet irradiation unit 27. The emitted ultraviolet light passes through the quartz plate 22 and is irradiated to the sealing agent 19 through the opening 20 e of the lower suction plate 20. The opening 20e has the same shape as the application pattern of the sealing agent 19, and ultraviolet rays are concentrated and irradiated on the application site of the sealing agent 19, so that the sealing agent 19 can be cured in a shorter irradiation time. At the same time, it is possible to prevent the portions other than the sealing agent 19 from being irradiated with ultraviolet rays, and the TFT elements and the like formed on the upper substrate 17 or the lower substrate 18 are not damaged. Further, since the sealing agent 19 is cured in a state where the upper substrate 17 and the lower substrate 18 are pressurized, the upper substrate 17 and the lower substrate 18 are not displaced and the gap is not changed. The sealing agent 19 is cured by irradiating the sealing agent 19 with ultraviolet rays for a predetermined time. After completion of irradiation for a predetermined time, the ultraviolet light source 32 is turned off.

次に、切り替え弁31を稼働し、吸気経路7a、26aを大気に開放して上吸着プレート12と下吸着プレート20の吸着を解除する。次に、加圧手段8を駆動し、加圧プレート7を引き上げる。最後に、手作業、又は図示しない前記下基板搬送手段で貼り合わせの終わった基板を取り出し、一連の動作が終了する。   Next, the switching valve 31 is operated, and the intake paths 7a and 26a are opened to the atmosphere to release the suction of the upper suction plate 12 and the lower suction plate 20. Next, the pressurizing means 8 is driven and the pressurizing plate 7 is pulled up. Finally, the substrate that has been bonded is taken out manually or by the lower substrate transfer means (not shown), and the series of operations is completed.

本発明にかかる基板貼り合わせ装置の他の実施の形態として、図5に示すように、直線状の照射孔35aを備える4つの紫外線照射部35を、矩形枠状に配置する。これにより、照射孔の形状をシール剤19の塗布パターンに合わせて配置し直すことができ、多品種生産への対応が容易になる。図5(A)は狭い照射エリア、図5(B)は広い照射エリアに対応する紫外線照射部35の配置例である。   As another embodiment of the substrate bonding apparatus according to the present invention, as shown in FIG. 5, four ultraviolet irradiation sections 35 each having a linear irradiation hole 35a are arranged in a rectangular frame shape. Thereby, the shape of an irradiation hole can be rearranged according to the application pattern of the sealing agent 19, and it becomes easy to cope with multi-product production. FIG. 5A shows an arrangement example of the ultraviolet irradiation units 35 corresponding to a narrow irradiation area, and FIG. 5B shows a wide irradiation area.

また、本発明にかかる基板貼り合わせ装置の他の実施の形態として、図6に示すように、石英プレート22(図3参照)の代わりに、蜂の巣状のハニカム構造を有するハニカムプレート34を用いることもできる。ハニカムプレート34は、例として、表面を鏡面仕上げした厚さ0.1mmのアルミニウム板を波状に折り曲げたものと、厚さ1mmのステンレス板を上下面に接着して構成する。   Further, as another embodiment of the substrate bonding apparatus according to the present invention, as shown in FIG. 6, a honeycomb plate 34 having a honeycomb-like honeycomb structure is used instead of the quartz plate 22 (see FIG. 3). You can also. As an example, the honeycomb plate 34 is formed by corrugating a 0.1 mm thick aluminum plate having a mirror-finished surface and a 1 mm thick stainless steel plate bonded to the upper and lower surfaces.

これにより、図3の紫外線照射部27の紫外線照射孔27aから出た紫外線は、ハニカムプレート34の内面を反射しながら通過し、下吸着プレート20の開口部20eから下基板18のシール剤19に照射される。また、紫外線は拡散するため、ハニカムプレート34を構成するアルミニウム板の板厚による影は打ち消され、紫外線の照度分布にむらは生じない。ハニカムプレート34を用いることで、石英プレート22より低価格かつ軽量の装置を製造することができる。   Thereby, the ultraviolet rays emitted from the ultraviolet irradiation holes 27a of the ultraviolet irradiation portion 27 of FIG. 3 pass through the inner surface of the honeycomb plate 34 while reflecting, and pass through the openings 20e of the lower adsorption plate 20 to the sealing agent 19 of the lower substrate 18. Irradiated. Further, since the ultraviolet rays diffuse, the shadow due to the thickness of the aluminum plate constituting the honeycomb plate 34 is canceled out, and the illuminance distribution of the ultraviolet rays is not uneven. By using the honeycomb plate 34, it is possible to manufacture a device that is cheaper and lighter than the quartz plate 22.

本発明は、液晶表示パネル等、一対の電極基板等を、位置精度、ギャップ精度ともに良好に貼り合わせることのできる基板貼り合わせ装置として利用することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used as a substrate bonding apparatus that can bond a pair of electrode substrates, such as a liquid crystal display panel, with good positional accuracy and gap accuracy.

本発明にかかる基板貼り合わせ装置の一実施の形態を示す正面図である。It is a front view which shows one Embodiment of the board | substrate bonding apparatus concerning this invention. 本発明にかかる基板貼り合わせ装置の一実施の形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the board | substrate bonding apparatus concerning this invention. 図1の基板貼り合わせ装置の吸着テーブルを示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the adsorption | suction table of the board | substrate bonding apparatus of FIG. 図1の基板貼り合わせ装置の下吸着プレートを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the lower adsorption | suction plate of the board | substrate bonding apparatus of FIG. 本発明にかかる基板貼り合わせ装置の他の実施の形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows other embodiment of the board | substrate bonding apparatus concerning this invention. 本発明にかかる基板貼り合わせ装置の他の実施の形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows other embodiment of the board | substrate bonding apparatus concerning this invention. 従来例を示す断面図Sectional view showing a conventional example

符号の説明Explanation of symbols

1 基台
2 XYθ軸ステージ
3 吸着テーブル
4 架台
5 ガイドポスト
6 ベアリング
7 加圧プレート
7a 吸気経路
8 加圧手段
9 ロッド
10 マニホールドプレート
10a 貫通孔
10b 溝
11 弾性体
11a 貫通孔
12 上吸着プレート
12a 吸着孔
13 ビデオカメラ
14 拡大レンズ
15 照明装置
16 90°プリズム
17 上基板
18 下基板
19 シール剤
20 下吸着プレート
20a 外周部
20b 内周部
20c 吸着孔
20d 溝
20e 開口部
21 ガイドピン
22 石英プレート
22a 貫通孔
23 天板
24 側壁
25 Oリング
26 支柱
26a 吸気経路
27 紫外線照射部
27a 紫外線照射孔
28 石英ファイバー
29 吸気管
30 真空源
31 切り替え弁
32 紫外線光源
33 ばね
34 ハニカムプレート
35 紫外線照射部
35a 照射孔
110 基板
120 対向基板
131 ベース
132 基盤
132a 真空チャック
133 下定盤
133a 真空チャック
134 光源
135 支柱
136 支持プレート
137 テーブル
138 シリンダ
139A 真空吸着アーム
139B 真空吸着アーム
140 垂直ロッド
141 ガイド部材
142 上定盤
142a 枠体
143 エアーシリンダ
144 ゲル状ゴム
147 位置合わせ用カメラ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base 2 XYtheta axis stage 3 Suction table 4 Base 5 Guide post 6 Bearing 7 Pressure plate 7a Intake path 8 Pressure means 9 Rod 10 Manifold plate 10a Through hole 10b Groove 11 Elastic body 11a Through hole 12 Upper adsorption plate 12a Adsorption Hole 13 Video camera 14 Magnifying lens 15 Illumination device 16 90 ° prism 17 Upper substrate 18 Lower substrate 19 Sealing agent 20 Lower adsorption plate 20a Outer peripheral portion 20b Inner peripheral portion 20c Adsorption hole 20d Groove 20e Opening portion 21 Guide pin 22 Quartz plate 22a Through Hole 23 Top plate 24 Side wall 25 O-ring 26 Strut 26a Intake path 27 Ultraviolet irradiation section 27a Ultraviolet irradiation hole 28 Quartz fiber 29 Intake pipe 30 Vacuum source 31 Switching valve 32 Ultraviolet light source 33 Spring 34 Honeycomb plate 35 Ultraviolet irradiation section 35a Irradiation hole 110 substrate 20 counter substrate 131 base 132 base 132a vacuum chuck 133 lower surface plate 133a vacuum chuck 134 light source 135 column 136 support plate 137 table 138 cylinder 139A vacuum suction arm 139B vacuum suction arm 140 vertical rod 141 guide member 142 upper surface plate 142a frame 143 air Cylinder 144 Gel rubber 147 Positioning camera

Claims (8)

上基板と下基板とで構成される一対の基板を重ね合わせ、両基板間に塗布されたシール剤を硬化させて固着させる基板貼り合わせ装置であって、
前記上基板を保持する上基板保持手段と、
前記下基板を保持する下基板保持手段と、
前記上基板保持手段によって保持された上基板と、前記下基板保持手段によって保持された下基板とを所定の位置に位置決めする位置決め手段と、
該位置決め手段によって所定の位置に位置決めされた前記上基板と下基板とを、所定の加圧力で互いに押し付けて加圧する加圧手段と、
該加圧手段によって加圧された状態で、前記シール剤に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射手段と、
該紫外線照射手段によって照射される紫外線の照射領域を制御する照射領域制御手段とを備え
前記紫外線照射手段は、矩形枠状の照射孔を有し、該照射孔に紫外線を照射することを特徴とする基板貼り合わせ装置。
A substrate laminating apparatus that superimposes a pair of substrates composed of an upper substrate and a lower substrate, and cures and fixes a sealing agent applied between both substrates,
An upper substrate holding means for holding the upper substrate;
Lower substrate holding means for holding the lower substrate;
Positioning means for positioning the upper substrate held by the upper substrate holding means and the lower substrate held by the lower substrate holding means at a predetermined position;
A pressurizing unit that pressurizes the upper substrate and the lower substrate, which are positioned at a predetermined position by the positioning unit, by pressing each other with a predetermined pressing force;
Ultraviolet irradiation means for irradiating the sealing agent with ultraviolet rays to be cured in a state of being pressurized by the pressure means;
An irradiation area control means for controlling the irradiation area of the ultraviolet rays irradiated by the ultraviolet irradiation means ,
The said ultraviolet irradiation means has a rectangular frame-shaped irradiation hole, and irradiates this irradiation hole with an ultraviolet-ray, The board | substrate bonding apparatus characterized by the above-mentioned.
前記上基板保持手段又は/及び下基板保持手段は、真空源を介して前記上基板又は/及び下基板を吸着保持することを特徴とする請求項1に記載の基板貼り合わせ装置。   The substrate bonding apparatus according to claim 1, wherein the upper substrate holding unit and / or the lower substrate holding unit sucks and holds the upper substrate and / or the lower substrate through a vacuum source. 前記照射領域制御手段は、前記下基板保持手段に形成され、前記下基板に塗布されたシール剤の塗布パターンと同一形状の開口部であることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板貼り合わせ装置。   3. The substrate according to claim 1, wherein the irradiation region control means is an opening having the same shape as a coating pattern of a sealing agent formed on the lower substrate holding means and applied to the lower substrate. Bonding device. 前記開口部の鉛直面に平行な断面は、上方から下方に徐々に拡開する台形状であることを特徴とする請求項3に記載の基板貼り合わせ装置。   The substrate bonding apparatus according to claim 3, wherein a cross section of the opening parallel to the vertical surface has a trapezoidal shape that gradually expands downward from above. 前記開口部の鉛直面に平行な断面は、上方より下方が拡開する凸形状であることを特徴とする請求項3に記載の基板貼り合わせ装置。   The substrate bonding apparatus according to claim 3, wherein a cross section of the opening parallel to the vertical plane has a convex shape that expands downward from above. 前記下基板保持手段は、該下基板保持手段の下方に位置する石英プレートの上に載置され、該石英プレートを介して前記紫外線が照射されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の基板貼り合わせ装置。   6. The lower substrate holding means is placed on a quartz plate positioned below the lower substrate holding means, and the ultraviolet rays are irradiated through the quartz plate. The board | substrate bonding apparatus of crab. 前記下基板保持手段は、該下基板保持手段の下方に位置し、表面が鏡面仕上げされたハニカムプレートの上に載置され、該ハニカムプレートを介して前記紫外線が照射されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の基板貼り合わせ装置。   The lower substrate holding means is located below the lower substrate holding means, is placed on a honeycomb plate having a mirror-finished surface, and is irradiated with the ultraviolet rays through the honeycomb plate. The board | substrate bonding apparatus in any one of Claims 1 thru | or 5. 上基板と下基板とで構成される一対の基板を重ね合わせ、両基板間に塗布されたシール剤を硬化させて固着させる基板貼り合わせ装置であって、
前記上基板を保持する上基板保持手段と、
前記下基板を保持する下基板保持手段と、
前記上基板保持手段によって保持された上基板と、前記下基板保持手段によって保持された下基板とを所定の位置に位置決めする位置決め手段と、
該位置決め手段によって所定の位置に位置決めされた前記上基板と下基板とを、所定の加圧力で互いに押し付けて加圧する加圧手段と、
該加圧手段によって加圧された状態で、前記シール剤に紫外線を照射して硬化させる紫外線照射手段と、
該紫外線照射手段によって照射される紫外線の照射領域を制御する照射領域制御手段とを備え、
前記紫外線照射手段は、直線状の照射孔を備えた紫外線照射部を4基備え、該4基の紫外線照射部を矩形枠状に配置して構成されることを特徴とする基板貼り合わせ装置。
A substrate laminating apparatus that superimposes a pair of substrates composed of an upper substrate and a lower substrate, and cures and fixes a sealing agent applied between both substrates,
An upper substrate holding means for holding the upper substrate;
Lower substrate holding means for holding the lower substrate;
Positioning means for positioning the upper substrate held by the upper substrate holding means and the lower substrate held by the lower substrate holding means at a predetermined position;
A pressurizing unit that pressurizes the upper substrate and the lower substrate, which are positioned at a predetermined position by the positioning unit, by pressing each other with a predetermined pressing force;
Ultraviolet irradiation means for irradiating the sealing agent with ultraviolet rays to be cured in a state of being pressurized by the pressure means;
An irradiation area control means for controlling the irradiation area of the ultraviolet rays irradiated by the ultraviolet irradiation means,
The ultraviolet irradiation means, the ultraviolet irradiation unit having a linear irradiating hole 4 Motosonae, the four ultraviolet irradiator rectangular frame being configured by arranging the bonding board you characterized in apparatus.
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