KR101192525B1 - A Linear Deposition Source With Direct Heating - Google Patents

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Abstract

본 발명은 증착원의 구성에 관한 것으로, 도가니 및 물질을 가열하는 히터의 구조를 물질을 중심으로 상하 이중으로 덮을 수 있는 히터와 커버 히터로 구성하고, 직접 가열식으로 가열하며 대면적 박막의 균일도 확보를 위하여 커버 히터에 분사 노즐의 개구부 형상을 조절하였으며, 금속성 물질의 가열시 저항의 균일도를 위해 히터 내부를 절연물로 구성하였고, 길이가 긴 하나의 선형 도가니 구조 외에 길이가 짧은 다수의 도가니를 장착할 수 있도록 구성하여 증착원의 수평 유지가 어긋나도 물질의 기울어짐 현상을 최소화하도록 하였다. The present invention relates to a configuration of a deposition source, comprising a heater and a cover heater that can cover the top and bottom of the crucible and the heater for heating the material, and the direct heating type to ensure the uniformity of the large-area thin film The shape of the opening of the injection nozzle was adjusted to the cover heater for the purpose, and the inside of the heater was composed of an insulator for the uniformity of resistance when heating the metallic material. It was designed to minimize the tilting of the material even if the level of the deposition source is shifted.

또한, 물질을 분사하는 노즐의 위치를 가변하여 상향, 하향 및 측향 증착이 가능케 하였고, 노즐 둘레에 울타리 구조의 플럭스 가이드를 설치하여 원하는 곳으로만 물질이 증착되도록 하였다. In addition, by changing the position of the nozzle for injecting the material to enable the upward, downward and lateral deposition, the flux guide of the fence structure is installed around the nozzle so that the material is deposited only where desired.

또한, 단부 효과를 보상하기 위해, 슬롯의 폭 또는 홀 슬롯의 직경을 변화시켰고, 나아가 도가니 외곽부의 히터에 홈을 형성하여 증착원 단부의 냉각기의 영향을 히터 쪽에서 급격히 감소하게 하였다. In addition, in order to compensate for the end effect, the width of the slot or the diameter of the hole slot was changed, and further, a groove was formed in the heater at the outer edge of the crucible to drastically reduce the influence of the cooler at the end of the evaporation source on the heater side.

증착원, 절연체 도가니, 커버 히터, 단부 효과(end effect), 플럭스 가이드, 저항 Deposition source, insulator crucible, cover heater, end effect, flux guide, resistance

Description

직접 가열 방식을 적용한 선형 증착원{A Linear Deposition Source With Direct Heating}Linear Deposition Source With Direct Heating

본 발명은 금속 또는 유기물 등의 여러 가지 박막을 증착하는 데 사용되는 증착원에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 증착원을 가열하는 히터가 직접적으로 증착원의 도가니(또는 보트라고도 함)를 가열하도록 구성하여 가열 온도를 고온으로 하면서 대면적 박막의 균일도를 얻기 위해 물질 분사구의 형상을 조절한 선형 증착원에 관한 것이다. FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to deposition sources used to deposit various thin films, such as metals or organic materials, and more particularly, a heater that heats the deposition source to directly heat the crucible (or boat) of the deposition source. The present invention relates to a linear deposition source in which the shape of a material injection hole is adjusted to obtain a uniformity of a large-area thin film while maintaining the heating temperature at a high temperature.

반도체, 디스플레이 소자, 솔라셀 등을 제작하는 공정에는 대부분 박막 증착 공정이 포함되며, 특히 금속 박막 제작 시, 물질을 증발시키기 위해 도가니에 히터를 설치하여 히터 양단에 전원을 연결하고 전압을 인가하여 도가니를 가열하여 물질을 증발시키는 직접 가열 방식이 많이 채택되고 있다. 이러한 직접 가열 방식은 물질의 온도를 고온으로 하는 데 있어서 유리한 방식이나 오픈 타입의 보트를 사용하므로 대면적 박막 증착에서는 박막의 균일도를 얻을 수 없다는 단점이 있다. 즉, 도 1을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. In the process of manufacturing semiconductors, display devices, and solar cells, most of the processes include thin film deposition.In particular, in the manufacture of metal thin films, heaters are installed in crucibles to evaporate materials. Many direct heating methods have been adopted to evaporate the material by heating. Such a direct heating method is advantageous in that the temperature of the material is high, but since the open type boat is used, the uniformity of the thin film cannot be obtained in the large-area thin film deposition. That is, with reference to Figure 1 will be described in detail as follows.

도 1은 물질을 충진하는 충진부(10)와 상기 충진부(10)를 포함하는 증착원을 도시하며, 증착원은 충진부(10)를 가열할 수 있는 히터(11) 안에 물질을 충진할 수 있는 도가니 구조를 형성하여 히터(11)에 전원을 연결하여 물질을 가열하는 직접 가열 방식 구조를 나타낸다. 1 illustrates a deposition source including a filling part 10 and a filling part 10 filling a material, and the deposition source fills a material in a heater 11 capable of heating the filling part 10. By forming a crucible structure that can be connected to the heater 11 is shown a direct heating method structure for heating the material.

이러한 직접 가열 방식의 증착원으로 박막 증착을 하는 경우, 분사되는 물질의 분포는 중앙부의 밀도가 높고 외곽으로 갈수록 밀도가 낮아지는 가우스(Gauss) 분포로 그에 따라 형성되는 박막의 두께 분포도 중앙이 두껍고 외곽은 얇아 박막의 두께 균일을 얻지 못한다. 그에 따라 균일한 박막 두께를 얻기 위해, 증착하는 기판을 회전시키는 것이 일반적이나, 이러한 방법을 대면적 기판에 적용하기에는 무리가 있다. In the case of thin film deposition by the direct heating method, the distribution of material to be sprayed is a Gaussian distribution having a high density at the center portion and a lower density toward the outer portion. Is thin so that the thickness uniformity of the thin film is not obtained. As a result, in order to obtain a uniform thin film thickness, it is common to rotate a substrate to be deposited, but it is difficult to apply such a method to a large area substrate.

또한, 증착 물질의 분사는 단지 위쪽으로만 향하게 할 수 있을 뿐, 기판을 지면에 대해 수직 방향으로 설치하고 물질의 분사를 수평 하게 구현할 수 없으며, 기판을 증착원의 아래에 두고 증착하는 하향 증착원으로도 사용될 수 없다는 한계가 있다. Also, the deposition of the deposition material can only be directed upward, and the downward deposition source for depositing the substrate under the deposition source cannot be installed in a direction perpendicular to the ground and spraying the material horizontally. There is a limit that can not be used.

또한, 도 1의 증착원은 금속 등의 전기 전도성이 있고 전기 저항을 나타내는 물질로 만들어 전압 인가 시 주울 열을 발생시킬 수 있어 충진부 안에 충진 된 물질을 직접 가열할 수 있는 구성을 취하므로, 충진부에 충진하여 가열하는 물질이 금속성을 나타내거나 이온 결합 물질인 경우, 용융에 따라 충진부 안에서 퍼지기 때문에 히터를 포함한 증착원 몸체와 더불어 용융물이 전체적인 전기 저항을 낮추어 가열 효율이 점차 떨어지는 문제가 생긴다. In addition, since the deposition source of FIG. 1 is made of a material having electrical conductivity such as metal and exhibits electrical resistance, it can generate Joule heat when voltage is applied, and thus takes the configuration to directly heat the material filled in the filling part. When the material to be filled and heated to the part is metallic or ion-coupled material, since the material spreads in the filling part according to melting, the melt together with the deposition source body including the heater lowers the overall electrical resistance, thereby causing a problem in that the heating efficiency gradually decreases.

또한, 도 1에 나타난 종래 기술은 모두, 증착원을 직접 가열함에 따라 열에 의한 스트레스로 증착원이 뒤틀리거나 어떤 다른 이유로 증착원의 수평이 유지되지 않고 기울어질 경우, 보트 내의 물질이 한쪽으로 쏠려 그에 따라 분사되는 물질 밀도의 분포가 달라지고 박막의 두께 분포가 불균일해 진다는 문제를 지닌다. In addition, all of the prior art shown in FIG. 1, when the deposition source is distorted due to heat stress as the heating source is directly heated, or if the deposition source is tilted without being leveled for any other reason, the material in the boat is directed to one side. As a result, the distribution of material density to be injected is changed and the thickness distribution of the thin film becomes uneven.

또한, 종래 기술은 모두, 증착원의 양쪽 단부에 전원을 연결하여 충진부를 가열하기 때문에 전원이 접속되는 증착원의 단부는 직접 물질에 접하지 아니하며 물질로부터 상당 거리를 두고 있는 부위이므로 주울열의 발생보다는 전기 전도(전류의 원활한 흐름)이 중요하다 할 수 있다. In addition, in the prior art, since both ends of the deposition source are connected to a power source to heat the filling part, the end of the deposition source to which the power source is connected is not directly in contact with the material, and is a portion separated from the material. Electrical conduction (smooth flow of current) may be important.

한편, 대면적 박막의 두께 균일도를 얻기 위해 다양한 방식의 증착원이 시도되고 있으며, 그 중에는 분사구의 분포를 조절한 커버 히터를 구성하고 증착원의 둘레를 필라멘트 등으로 감아 가열하는 간접 가열 방식이 있는데, 이러한 경우 가열 온도가 직접 가열 방식만큼 높이 오르지 못하는 문제가 있다.  On the other hand, various types of deposition sources have been tried to obtain the uniformity of the thickness of the large-area thin film, and among them, there are indirect heating methods for constructing a cover heater in which the distribution of the injection hole is controlled and heating the circumference of the deposition source with filament or the like. In this case, there is a problem that the heating temperature does not rise as high as the direct heating method.

따라서, 본 발명의 목적은 대면적 기판에 적용할 수 있는 고효율의 직접 가열 방식의 새로운 선형 증착원을 제공하고자 하는 것으로, 대면적 기판의 회전 없이도 균일한 두께 분포를 갖는 박막의 증착을 실현하고자 한다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a new linear deposition source of a high efficiency direct heating method that can be applied to a large area substrate, and to achieve the deposition of a thin film having a uniform thickness distribution without rotation of a large area substrate. .

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 박막 증착을 위해 증착원의 물질 분사 방향을 상측뿐 아니라 하측, 좌 또는 우측으로 구현할 수 있는 증착원의 구조를 제공하 는 것이다. In addition, another object of the present invention is to provide a structure of a deposition source that can implement the material injection direction of the deposition source to the bottom, left or right as well as the upper side for thin film deposition.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 증착원 자체가 열로 인한 열팽창으로 스트레스를 받거나 어떤 다른 이유로 수평이 기울어질 경우에도 보트 내의 물질이 한쪽으로 쏠려 박막의 두께가 그에 따라 매우 불균일해 지는 현상을 방지할 수 있는 증착원 내 보트 구조를 새롭게 제공하는 것이다. In addition, another object of the present invention is to prevent the phenomenon that the thickness of the thin film is very uneven according to the material in the boat is pulled to one side even if the deposition source itself is stressed due to thermal expansion due to heat or tilted horizontally for some other reason. It is to provide a new boat structure in the deposition source that can be.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 전원 접속부의 전기 저항을 낮추어 보트를 가열하는 데 필요한 주울열의 발생이 보트에서 좀 더 많이 생기도록 전원 접속부의 구조를 새롭게 한 증착원을 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a deposition source with a renewed structure of the power supply connection so that the generation of Joule heat required to heat the boat by lowering the electrical resistance of the power supply connection is more generated in the boat.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은 보트 중앙에 비해 보트 양단부의 온도가 낮아지지 않도록 그 구조를 새롭게 한 증착원을 제공하는 것이다. Further, another object of the present invention is to provide a vapor deposition source having a new structure so that the temperature of both ends of the boat is not lowered compared to the center of the boat.

본 발명은, 증착 물질을 담는 도가니;
상기 도가니를 안착시키는 히터; 및
상기 히터를 덮는 커버 히터;를 포함하고,
상기 히터와 커버 히터는 전원을 접속하여 모두 직접 가열하고, 상기 커버 히터에는 분출구가 형성되어, 분출구가 전원에 의해 직접가열되고,
상기 히터의 최단부에 연결되는 냉각기로부터의 냉기가 히터 쪽으로 전이되지 않도록, 전원 접속부 보다 중심 쪽으로 위치한 단부에 상기 단부 일부를 파낸 다수의 병렬 홈을 형성한 것을 특징으로 하는 증착원을 제공할 수 있다.
The present invention provides a crucible containing a deposition material;
A heater for seating the crucible; And
A cover heater covering the heater;
The heater and the cover heater are all directly heated by connecting a power source, the blower is formed in the cover heater, the blower is directly heated by the power source,
In order to prevent cold air from the cooler connected to the shortest end of the heater to be transferred to the heater, a plurality of parallel grooves formed by digging the end portion may be provided at an end portion located toward the center of the power supply connection portion. .

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또한, 본 발명은, 상기 분출구는 상기 분출구는 단부 효과(end effect)를 소거할 수 있도록 분출구 면적이 중앙부로 갈수록 줄어드는 형상으로 되고, 상향식, 하향식 또는 측향식 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 증착원을 제공할 수 있다.In addition, the present invention, the ejection outlet is a vapor deposition source, characterized in that the ejection opening is reduced in shape toward the center portion so as to eliminate the end effect (end effect), any one of the bottom-up, top-down or side-down Can be provided.

또한, 본 발명은, 상기 도가니는 내부에 절연물을 코팅하거나, 별도의 절연 물 도가니를 내부에 안착시켜 구성되는 것을 특징으로 하는 증착원을 제공할 수 있다.In addition, the present invention may provide a deposition source, characterized in that the crucible is coated with an insulator therein, or by mounting a separate insulator crucible therein.

또한, 본 발명은, 상기 히터에 안착 되는 도가니는 하나의 도가니 또는 여러 개의 작은 도가니들로 구성되는 것을 특징으로 하는 증착원을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a deposition source, characterized in that the crucible seated on the heater is composed of one crucible or several small crucibles.

또한, 본 발명은, 상기 증착원은 히터와 커버 히터의 단부인 전원 접속부는 그 단면적을 키우기 위해 날개부로 형성하는 것을 특징으로 하는 증착원을 제공할 수 있다.In addition, the present invention, the deposition source may provide a deposition source, characterized in that the power connection portion which is the end of the heater and the cover heater is formed by the wing portion to increase the cross-sectional area.


또한, 본 발명은, 상기 커버 히터의 분출구는 분사 슬롯 또는 홀 형상으로 형성되고, 상기 분사 슬롯 또는 홀 위에 울타리 형상의 플럭스 가이드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착원을 제공할 수 있다.

The present invention may provide a deposition source, wherein the outlet of the cover heater is formed in an injection slot or a hole shape, and further includes a fence-shaped flux guide on the injection slot or hole.

본 발명에 따르면, 금속성을 지니는 물질의 가열 도중에도 전체적인 전기 저항이 물질 용융에 따라 변화하지 않으면서도 코팅 공정 없이 제작이 간편한, 절연체로 된 도가니를 포함하는 증착원을 구성할 수 있다. According to the present invention, it is possible to construct a deposition source including a crucible made of an insulator, which is easy to manufacture without a coating process while the overall electrical resistance does not change with melting of the material even during the heating of the metallic material.

또한, 본 발명에 따르면, 커버 히터를 구비하여 가열 효율을 높일 수 있고, 상기 커버 히터 상에 증착물의 분사 노즐 또는 홀을 제공함으로써 대면적 증착시에도 기판을 회전시키지 않고서도 균일한 박막을 얻을 수 있다. In addition, according to the present invention, the heating efficiency can be improved by providing a cover heater, and by providing a spray nozzle or a hole of the deposit on the cover heater, a uniform thin film can be obtained without rotating the substrate even in a large area deposition. have.

또한, 본 발명에 따르면, 길이가 긴 선형 증착원 내에 길이가 짧은 소형의 도가니를 다수 안착시킬 수 있으므로 선형 증착원의 수평이 어긋나 기울어짐이 있어도 도가니 내부의 물질이 어느 한쪽으로 쏠리는 현상을 완화시킬 수 있어 박막의 균일도를 해하지 않을 수 있다. In addition, according to the present invention, since a large number of small crucibles can be placed in a long linear deposition source, even if the horizontal deposition of the linear deposition source is inclined or tilted, the material inside the crucible can be reduced to either side. It may not damage the uniformity of the thin film.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 커버 히터의 분사 슬롯 또는 홀 위에 울타리 형상의 플럭스 가이드로 인해 박막 두께 분포의 균일도를 높이고 증착원 가까이에 있는 열 반사판에 물질이 증착되어 오염되는 문제를 해소할 수 있다. In addition, according to the present invention, due to the fence-shaped flux guide on the injection slot or hole of the cover heater to increase the uniformity of the thin film thickness distribution and solve the problem that the material is deposited on the heat reflector near the deposition source to be contaminated. .

또한, 본 발명에 따르면, 상기 커버 히터 상에 형성되는 분사 슬롯 내지는 홀을 커버 히터의 윗면 또는 옆면에 형성하여 하향 증착, 상향 증착 및 수직 구조의 증착 등에 모두 활용될 수 있는 응용성을 제공할 수 있다.In addition, according to the present invention, by forming an injection slot or a hole formed on the cover heater on the upper surface or the side surface of the cover heater it can provide an applicability that can be utilized for both down deposition, up deposition and vertical structure deposition, etc. have.

또한, 본 발명에 따르면, 히터 및/또는 커버 히터의 단부에 날개부를 형성하여 전극 접속부에서의 전기 저항을 줄여 보다 효율적으로 물질 가열부분을 가열할 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to form a wing at the end of the heater and / or cover heater to reduce the electrical resistance at the electrode connection portion to heat the material heating portion more efficiently.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 날개부로부터 도가니 중심부 쪽을 향해 위치한 히터 부분에 단일 홈 또는 이중 홈을 형성하여 단부의 저항은 증가시켜 단부의 가열 효율이 도가니 중심부에 비해 떨어지지 않도록 하여 길이가 긴 선형 증착원에서 일어날 수 있는 단부 가열 저조 현상을 해소할 수 있다. In addition, according to the present invention, by forming a single groove or a double groove in the heater portion located toward the center of the crucible from the wing portion, the resistance of the end is increased so that the heating efficiency of the end does not fall compared to the crucible center, the long linear The end heating low phenomenon which may occur in a vapor deposition source can be eliminated.

따라서, 본 발명에 따르면 직접 가열로 인해 가열 효율을 향상시키고 박막 두께 분포를 균일하게 하여 전체적으로 고 품질의 박막을 얻을 수 있다. Therefore, according to the present invention, a high quality thin film can be obtained as a whole by improving the heating efficiency and uniformizing the thin film thickness distribution due to the direct heating.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2에 나타낸 증착원은 히터(11) 안에 형성 된 충진부(10) 내부에 절연물 코팅(20)을 실행하여 물질과 히터(11) 사이를 절연시킨다. The deposition source illustrated in FIG. 2 insulates the material from the heater 11 by performing an insulator coating 20 inside the filling part 10 formed in the heater 11.

도 3은 본 발명에 따른 증착원의 구성을 보여주며, 도 3(a)는 증착원의 평면도, (b)는 정면도, (c)는 상기 히터(11)의 충진부(10)에 들어가는 절연체 도가니(30)의 정면도이다. 도 4는 상기 절연체 도가니(30)가 상기 충진부(10)에 조립된 상태를 보여주는 단면도이다. Figure 3 shows the configuration of the deposition source according to the present invention, Figure 3 (a) is a plan view of the deposition source, (b) is a front view, (c) enters the filling portion 10 of the heater 11 It is a front view of the insulator crucible 30. 4 is a cross-sectional view illustrating a state in which the insulator crucible 30 is assembled to the filling part 10.

즉, 본 실시예에서는, 히터의 안쪽에 물질을 넣을 수 있도록 도가니 형태의 오목하게 패여 형성된 충진부(10)의 내면을 절연물로 코팅하는 대신, 절연체로 만든 별도의 절연체 도가니(30)를 히터(11)의 충진부(10)에 끼워 넣는 구성을 취하였다. 이는 고가이자 많은 노력을 요하는 히터 충진부에 대한 절연물 코팅 공정을 생략할 수 있으면서도 물질 증착 도중 전기전도성을 갖는 물질의 용융으로 인한 퍼짐 현상으로 히터 전체의 전기 저항이 변하는 현상을 저가의 비용과 적은 노력으로 예방할 수 있다는 장점을 더한다. That is, in the present embodiment, instead of coating the inner surface of the concavely-filled filling part 10 in the form of a crucible so as to put the material inside the heater, the separate insulator crucible 30 made of an insulator is replaced with a heater ( The structure which fits into the filling part 10 of 11) was taken. It is possible to omit the insulation coating process for the heater filling part which is expensive and requires a lot of effort, but it is possible to reduce the electric resistance of the entire heater due to the spreading due to the melting of the electrically conductive material during material deposition. It adds the advantage of being prevented by effort.

그러나, 금속성 물질을 증착하는 경우가 아니면, 이러한 절연물 코팅이나 별개의 절연 도가니는 필요하지 않으므로, 본 발명의 증착원은 도가니를 포함한 히터(11)만으로 구성할 수 있다.
또한, 상기와 같은 별도의 절연체 도가니(30)를 구성하지 않고 히터 충진부(10)에 절연물 코팅을 하여 구성할 수도 있다.
However, unless the metallic material is deposited, such an insulator coating or a separate insulated crucible is not necessary, and thus, the deposition source of the present invention can be constituted only by the heater 11 including the crucible.
In addition, instead of configuring a separate insulator crucible 30 as described above, the heater filling unit 10 may be formed by applying an insulator coating.

도 5는 본 발명에 따른 커버 히터(50)를 보여주는 도면으로 도 5(a)는 커버 히터(50)의 평면도이고 (b)는 상기 커버 히터(50)가 히터(11)에 덮여진 상태에서 물질의 증발 및 분사를 나타내는 단면도이다. 5 is a view showing the cover heater 50 according to the present invention, Figure 5 (a) is a plan view of the cover heater 50 and (b) is a state in which the cover heater 50 is covered with the heater 11 Sectional drawing showing evaporation and spraying of materials.

상기와 같이 히터(11)에 안착 된 도가니 안에 물질을 넣어 히터(11) 양단에 전원을 걸어 물질을 증발 및 분사할 때, 도 5와 같이 히터를 덮는 커버 히터(50)를 장착하여 히터(11)와 커버 히터(50)를 함께 가열하면, 훨씬 더 가열 효율이 높다. 즉, 직접 가열 방식에 의해 필라멘트 등의 간접 가열 방식에 따른 복잡한 구성과 낮은 가열 효율을 간단한 구성과 높은 가열 효율로 이끌어 낼 수 있다. When the material is put into the crucible seated on the heater 11 as described above, the power is supplied to both ends of the heater 11 to evaporate and spray the material, and as shown in FIG. 5, the cover heater 50 is mounted to cover the heater 11. ) And the cover heater 50 together, the heating efficiency is much higher. That is, by the direct heating method, a complicated configuration and low heating efficiency according to an indirect heating method such as filament can be brought to a simple configuration and high heating efficiency.

또한, 상기 커버 히터(50)에는 물질의 분사를 위한 노즐을 형성하며, 도 6(a) 내지 (c)에서와 같이 슬롯 노즐(51), 홀 노즐(60) 또는 폭 조절 슬롯 노즐(61)을 형성할 수 있다. 특히, 도 6(b)와 (c)의 홀 노즐(60)과 폭 조절 슬롯 노즐(61)은 도 6(a)의 일정폭을 갖는 슬롯 노즐(51)과 달리 중심부에서는 물질의 분사량이 적고 외곽부에서는 물질의 분사량 더 많도록 홀 크기와 슬롯 폭을 중심부보다 외곽부에서 더 크게 하였다. 이는 폭이 일정한 슬롯 노즐(51)의 경우, 물질의 분사는 중심부에서 두텁고 외곽부로 갈수록 얇아지는 가우스(Gauss) 분포를 이루기 때문에 물질의 분포를 위치에 관계없이 일정하게 하여 박막의 두께를 일정하게 하기 위함이다. 따라서, 본 발명은 가열 효율 증대와 더불어 단부 효과 제거를 모두 이룰 수 있다. In addition, the cover heater 50 forms a nozzle for injecting the material, and as shown in Figs. 6 (a) to 6 (c), the slot nozzle 51, the hole nozzle 60 or the width adjusting slot nozzle 61 Can be formed. In particular, the hole nozzle 60 and the width adjusting slot nozzle 61 of FIGS. 6 (b) and (c) have a small injection amount of material at the center, unlike the slot nozzle 51 having a predetermined width of FIG. 6 (a). In the outer part, the hole size and slot width were made larger in the outer part than in the center so that the amount of injection of the material was higher. In the case of the slot nozzle 51 having a constant width, since the injection of the material has a Gaussian distribution that becomes thicker at the center and becomes thinner toward the outer portion, the material distribution is made constant regardless of the position, thereby making the thickness of the thin film constant. For sake. Therefore, the present invention can achieve both the heating efficiency and the end effect removal.

또한, 본 발명자는 일반적인 증착원의 경우, 물질의 분사가 반드시 기판에만 이루어지지 않고 주변의 다른 곳에도 있게 되어 특히 열의 집중을 위해 설치하는 열 반사판에 물질이 코팅되어 오염시키게 된다는 사실을 해결하기 위해, 상기 분사 노즐의 입구주변을 울타리 형태의 플럭스 가이드(70)를 설치하여 물질의 분사가 기판 쪽으로 집속 될 수 있도록 하였다(도 7 참조). In addition, the inventors of the present invention, in order to solve the fact that in the case of a general deposition source, the injection of the material is not necessarily made only on the substrate, but also in other places around it, in particular, the material is coated and contaminated on the heat reflector installed for concentration of heat. In addition, by installing a flux guide 70 in the form of a fence around the inlet of the spray nozzle, the injection of the material can be focused toward the substrate (see FIG. 7).

또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 가열로 인한 증착원의 내부 선형 도가니가 스트레스를 받아 수평이 틀어질 경우, 물질이 균일한 높이로 분포하지 않고 어 느 한 쪽으로 쏠리는 현상을 나타낼 수 있고 이는 곧 박막 두께 불균일로 이어지므로, 본 실시예에서는 도가니를 길이가 짧은 것으로 여러 개 안착할 수 있도록 하였다. 길이가 짧은 여러 개의 도가니 구성은 물질의 쏠림 현상을 상당히 완화시켜 박막 두께가 불균일해지는 현상을 예방할 수 있다. In addition, although not shown in the drawing, when the internal linear crucible of the deposition source due to heating is displaced due to stress, the material may not be distributed at a uniform height but may be oriented to one side, which is a thin film thickness. Since it leads to nonuniformity, in the present embodiment, it was possible to mount several crucibles with short lengths. Multiple short crucible configurations significantly mitigate the material's deflection and prevent non-uniform film thicknesses.

도 8은 본 발명에 따른 분사 노즐의 다양한 위치를 보여주는 단면도이다. 8 is a cross-sectional view showing various positions of the spray nozzle according to the present invention.

도 8(a)는 분사 노즐이 커버 히터(50)의 위쪽에 형성된 상향 증착원을 보여주며, 도 8(b)는 분사 노즐을 커버 히터(50)가 아닌 히터(11)에 형성된 하향 증착원을 보여준다. 하향 증착원의 경우, 분사 노즐은 물질을 충진하는 절연체 도가니(30) 바깥쪽의 히터(11) 몸체를 관통하도록 형성하여 증발된 물질이 커버 히터(50)의 상면에서 반사되어 아래로 분사되도록 한다. 도 8에 도시된 물질 플럭스(53)를 보면 분사 메커니즘을 쉽게 알 수 있다. FIG. 8 (a) shows an upward deposition source in which the spray nozzle is formed above the cover heater 50, and FIG. 8 (b) shows a downward deposition source in which the spray nozzle is formed in the heater 11 instead of the cover heater 50. FIG. Shows. In the case of the downward deposition source, the spray nozzle is formed to penetrate the body of the heater 11 outside the insulator crucible 30 filling the material so that the vaporized material is reflected from the upper surface of the cover heater 50 and sprayed downward. . Looking at the material flux 53 shown in FIG. 8 it is easy to see the injection mechanism.

도 8(c)의 경우는 분사 노즐을 커버 히터(50)의 측면에 형성하여 물질의 분사를 수평 방향으로 할 수 있게 하였다. 이와 같은 구성은 기판의 설치를 수평이 아닌 수직 방향으로 하여 증착을 진행하는 시스템에 적용할 수 있다.In the case of FIG. 8C, an injection nozzle is formed on the side surface of the cover heater 50 to enable the injection of the material in the horizontal direction. Such a configuration can be applied to a system in which deposition is performed with the installation of the substrate in a vertical direction rather than a horizontal direction.

다음, 도 9 및 도 10은 히터의 단부 구조에 관한 것으로 전기 저항을 조절하기 위한 구성이다.Next, FIGS. 9 and 10 relate to an end structure of the heater, and are configured to adjust the electrical resistance.

도 9(a)는 히터(11)의 단부 구조를 보여주기 위한 평면도이고, 도 9(b)는 히터(11)와 커버 히터(50)가 결합한 상태의 단면도이다.FIG. 9A is a plan view illustrating an end structure of the heater 11, and FIG. 9B is a cross-sectional view of the heater 11 and the cover heater 50 coupled to each other.

히터(11)와 커버 히터(50)의 단부에는 전원을 접속하여 가열하며 히터가 갖는 전기 저항 성분이 주울 열을 발생시켜 도가니와 그 안에 있는 물질을 가열하게 되는 것이다. 따라서 전원 접속부는 고온으로 발열 될 필요가 없고 전류의 흐름이 원활할수록 좋고 물질이 있는 부분의 경우는 전기 저항이 커서 고온으로 발열 되는 것이 좋다. 그에 따라 본 발명자는 히터(11)와 커버 히터(50)의 단부인 전원 접속부의 단면적을 키워 전기 저항을 줄이도록 구성하였다. 즉, 도 9(a)에 도시된 날개부(90)를 구성하여 히터의 전체 폭에 비해 더 넓은 폭으로 전원 접속부를 구성하였다. The ends of the heater 11 and the cover heater 50 are connected to a power source for heating, and the electric resistance component of the heater generates Joule heat to heat the crucible and the material therein. Therefore, the power supply connection does not need to be heated to a high temperature, and the smoother the flow of current is, the better the electrical resistance is in the case of a part having a material, so it is better to be heated to a high temperature. Accordingly, the inventors of the present invention increase the cross-sectional area of the power supply connecting portion, which is the end of the heater 11 and the cover heater 50, to reduce the electrical resistance. That is, the wing unit 90 illustrated in FIG. 9 (a) is configured to configure the power connection unit in a wider width than the overall width of the heater.

또한, 도 10은 열 손실이 있을 수 있는 히터의 단부(전원 접속부 보다는 안쪽 단부를 말한다) 저항을 키워주기 위한 구성을 나타낸다. In addition, FIG. 10 shows a configuration for increasing resistance of an end (that is, an inner end rather than a power supply connection) of a heater which may have a heat loss.

히터의 최단부는 일반적으로 냉각기가 연결되어 히터 단부쪽은 가열 효과가 상쇄되어 온도가 떨어지는 경향을 보인다. 그에 따라 히터 단부에 병렬로 홈(110)을 형성하여 냉기를 차단함으로써 히터 안쪽을 향해 가열 효과가 급속히 전달될 수 있게 한다. The shortest part of the heater is generally connected to a cooler, and the heater end tends to cancel the heating effect, resulting in a drop in temperature. Accordingly, the groove 110 is formed in parallel to the heater end to block the cold air so that the heating effect can be rapidly transmitted toward the inside of the heater.

따라서 본 발명자는 도가니가 안착 된 히터의 외곽부, 즉, 상기 날개부(90)로부터 도가니 중심부 쪽의 히터 부분에 홈(110)을 형성하여 가열부와 냉각부 사이의 경로를 길게 하여, 결과적으로 가열부에서 급격히 온도가 상승할 수 있게 하였다. Therefore, the present inventors form a groove 110 in the outer portion of the heater in which the crucible is seated, that is, the heater portion toward the crucible center side from the wing portion 90 to lengthen the path between the heating portion and the cooling portion. The temperature was allowed to rise rapidly in the heating section.

상기의 홈(110)은 도 10(b)에서와 같이 커버 히터(50)와 히터(11) 양쪽 단부에 모두 형성할 수 있고, 히터(11) 쪽 홈(110)의 폭을 더 크게 할 수도 있다. The groove 110 may be formed at both ends of the cover heater 50 and the heater 11 as shown in FIG. 10 (b), and the width of the groove 110 on the heater 11 side may be increased. have.

또한, 상기 홈(110)을 도 10(c)에서와 같이 각 히터의 단부에 하나가 아닌 두 개 이상을 나란히 형성할 수도 있고 그외 형상의 변형을 가한 홈을 형성할 수도 있다. In addition, as shown in FIG. 10 (c), two or more grooves 110 may be formed side by side instead of one at each end of each heater, or a groove may be formed with other deformations.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 본 실시예의 증착원에는 물질을 충진할 수 있는 와이어형 물질 공급기 또는 펠렛형 물질 공급기를 설치하여 장기간 연속 공정을 수행할 수 있도록 하였다. 이러한 연속 공정은 생산성을 높이므로 궁극적으로 가격 경쟁력을 갖출 수 있게 한다. In addition, although not shown in the drawings, a wire-type material feeder or a pellet-type material feeder capable of filling a material may be installed in the deposition source of the present embodiment to perform a continuous process for a long time. This continuous process increases productivity and ultimately results in price competitiveness.

본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.The rights of the present invention are not limited to the embodiments described above, but are defined by the claims, and those skilled in the art can make various modifications and adaptations within the scope of the claims. It is self-evident.

도 1은 물질을 충진하는 충진부(10)와 상기 충진부(10)를 포함하는 종래의 증착원을 도시하는 평면도와 단면도.1 is a plan view and a sectional view of a conventional deposition source including a filler 10 and a filler 10 for filling a material;

도 2는 히터(11) 안에 형성 된 충진부(10) 내부에 절연물 코팅(20)을 한 종래의 증착원의 평면도와 단면도. 2 is a plan view and a cross-sectional view of a conventional deposition source having an insulator coating 20 inside a filling part 10 formed in a heater 11.

도 3(a)는 본 발명에 따른 증착원의 평면도, (b)는 정면도, (c)는 상기 히터(11)의 충진부(10)에 들어가는 절연체 도가니(30)의 정면도.Figure 3 (a) is a plan view of a deposition source according to the present invention, (b) is a front view, (c) is a front view of the insulator crucible 30 to enter the filling portion 10 of the heater (11).

도 4는 상기 절연체 도가니(30)가 상기 충진부(10)에 조립된 상태를 보여주는 단면도.4 is a cross-sectional view illustrating a state in which the insulator crucible 30 is assembled to the filling part 10.

도 5(a)는 커버 히터(50)의 평면도이고 도 5(b)는 상기 커버 히터(50)가 히터(11)에 덮여진 상태에서 물질의 증발 및 분사를 나타내는 단면도.5 (a) is a plan view of the cover heater 50 and FIG. 5 (b) is a cross-sectional view showing the evaporation and spraying of the material in the state in which the cover heater 50 is covered with the heater (11).

도 6(a) 내지 (c)는 슬롯 노즐(51), 홀 노즐(60) 또는 폭 조절 슬롯 노즐(61)을 나타내는 평면도.6 (a) to 6 (c) are plan views showing the slot nozzle 51, the hole nozzle 60, or the width adjusting slot nozzle 61. FIG.

도 7(a) 내지 (d)는 본 발명에 따른 플럭스 가이드의 구성을 나타내는 평면도 및 단면도.7 (a) to 7 (d) are a plan view and a cross-sectional view showing the configuration of the flux guide according to the present invention.

도 8(a) 내지 (c)는 본 발명에 따른 분사 노즐의 다양한 위치를 보여주는 단면도.8 (a) to (c) are cross-sectional views showing various positions of the spray nozzle according to the present invention.

도 9(a)는 히터(11)의 단부 구조를 보여주기 위한 평면도이고, 도 9(b)는 히터(11)와 커버 히터(50)가 결합한 상태의 단면도.9 (a) is a plan view for showing the end structure of the heater 11, Figure 9 (b) is a cross-sectional view of a state in which the heater 11 and the cover heater 50 is coupled.

도 10(a) 내지 (c)는 열 손실이 있을 수 있는 히터의 단부 저항을 키워주기 위한 홈(110) 구성을 나타낸 평면도 및 단면도들. 10 (a) to 10 (c) are plan and cross-sectional views showing the configuration of the groove 110 for increasing the end resistance of the heater which may have heat loss.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*Description of the Related Art [0002]

10: 충진부 11: 히터10: filling unit 11: heater

30: 절연체 도가니 50: 커버 히터30: insulator crucible 50: cover heater

51: 슬롯 노즐 60: 홀 노즐51: slot nozzle 60: hole nozzle

61: 폭 조절 슬롯 노즐 90: 날개부61: width adjustment slot nozzle 90: wing

110: 홈110: home

Claims (7)

증착 물질을 담는 도가니; A crucible containing a deposition material; 상기 도가니를 안착시키는 히터; 및A heater for seating the crucible; And 상기 히터를 덮는 커버 히터;를 포함하고, A cover heater covering the heater; 상기 히터와 커버 히터는 전원을 접속하여 모두 직접 가열하고, 상기 커버 히터에는 분출구가 형성되어, 분출구가 전원에 의해 직접가열되고, The heater and the cover heater are all directly heated by connecting a power source, the blower is formed in the cover heater, the blower is directly heated by the power source, 상기 히터의 최단부에 연결되는 냉각기로부터의 냉기가 히터 쪽으로 전이되지 않도록, 전원 접속부 보다 중심 쪽으로 위치한 단부에 상기 단부 일부를 파낸 다수의 병렬 홈을 형성한 것을 특징으로 하는 증착원.And a plurality of parallel grooves formed by digging a part of the end portion at an end portion located toward the center of the power supply connection portion so that cold air from the cooler connected to the shortest end of the heater does not transfer to the heater portion. 제1항에 있어서, 상기 분출구는 단부 효과(end effect)를 소거할 수 있도록 분출구 면적이 중앙부로 갈수록 줄어드는 형상으로 되고, 상향식, 하향식 또는 측향식 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 증착원.The vapor deposition source according to claim 1, wherein the jet port has a shape in which the jet port area decreases toward the center portion so as to cancel end effects, and is any one of a bottom-up, a top-down, and a lateral type. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 도가니는 내부에 절연물을 코팅하거나, 별도의 절연물 도가니를 내부에 안착시켜 구성되는 것을 특징으로 하는 증착원.The deposition source according to claim 1 or 2, wherein the crucible is formed by coating an insulator therein or by mounting a separate insulator crucible therein. 제3항에 있어서, 상기 히터에 안착 되는 도가니는 하나의 도가니 또는 여러 개의 작은 도가니들로 구성되는 것을 특징으로 하는 증착원.4. The deposition source of claim 3, wherein the crucible seated on the heater is composed of one crucible or several small crucibles. 제1항에 있어서, 상기 증착원은 히터와 커버 히터의 단부인 전원 접속부는 그 단면적을 키우기 위해 날개부로 형성하는 것을 특징으로 하는 증착원.The deposition source according to claim 1, wherein the deposition source is an end portion of the heater and the cover heater formed of a wing to increase its cross-sectional area. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 커버 히터의 분출구는 분사 슬롯 또는 홀 형상으로 형성되고, 상기 분사 슬롯 또는 홀 위에 울타리 형상의 플럭스 가이드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착원. The deposition source of claim 1, wherein the outlet of the cover heater is formed in an injection slot or hole shape, and further includes a fence-shaped flux guide on the injection slot or hole.
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