KR101171983B1 - 유무기 복합 조성물, 그 제조 방법, 상기를 포함하는 수처리 분리막 및 수처리 모듈 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 베이스 수지; 및 상기 베이스 수지 내에 분산된, 설페이트화 금속 산화물 함유 실리카 매트릭스를 포함하는 유무기 복합 조성물, 그 제조 방법, 상기를 포함하는 수처리 분리막 및 수처리 모듈에 관한 것이다. 본 발명에 따른 조성물을 사용하여 제조된 수처리 분리막은 낮은 운전 압력에서도 투과 특성 및 염배제율과 같은 분리 성능이 우수하게 유지될 수 있다.
베이스 수지, 설페이트화 금속 산화물, 실리카 매트릭스, 수처리 분리막, 수처리 모듈

Description

유무기 복합 조성물, 그 제조 방법, 상기를 포함하는 수처리 분리막 및 수처리 모듈{Organic-inorganic composite compositions, preparation methods thereof, water treatment membranes and water treatment modules comprising the same}
본 발명은, 베이스 수지; 및 상기 베이스 수지 내에 분산된, 설페이트화 금속 산화물 함유 실리카 매트릭스를 포함하는 유무기 복합 조성물, 그 제조 방법, 상기를 포함하는 수처리 분리막 및 수처리 모듈에 관한 것이다.
최근 심각한 수질 오염과 물부족으로 인하여 새로운 수자원 공급원의 개발은 시급한 당면 과제로 부각되고 있다. 이에 따라 양질의 생활 용수와 공업 용수의 공급, 각종 생활 하수 및 산업 폐수의 효율적인 처리를 위한 연구가 이루어지고 있으며, 이 중 에너지 절감 등이 가능한 분리막(membrane)을 이용한 수처리 공정이 주목받고 있다.
분리막은 특정 성분을 선택적으로 통과시킴으로써, 혼합물을 분리할 수 있는 소재로서, 해수의 담수화 공정; 초순수 제조; 약품이나 화학 물질 제조; 음용수 제조; 및 오폐수 처리 등의 다양한 분야에 적용되고 있다.
수처리 분리막에 요구되는 특성은 우수한 투과 유량(flux), 염 배제율(salt rejection), 강도 및 화학적 안정성 등이 있으며, 이와 같은 물성의 효율적인 구현을 위해서는 막 소재의 선택이 중요하다. 또한 분리막의 물성을 개선하기 위한 주요 방법으로는 표면층의 거칠기(roughness)를 향상시켜 유동성을 부여하는 물리적 방법; 또는 친수성 유기물 및 고흡습성 무기물을 포함하는 복합 소재를 사용하는 화학적 방법 등이 연구되어 왔으나, 현재까지 진행된 연구만으로는 분리막에 우수한 물성을 구현하기에는 한계가 있다.
분리막은 재질에 따라 유기계 및 무기계 분리막으로 분류할 수 있는데, 최근 내열성 및 내구성 등의 물성이 우수하다는 측면에서, 무기계 분리막의 사용이 확대되고 있으나, 현재까지 제품화된 분리막은 대부분 유기계 분리막에 해당하는 고분자 분리막이다.
분리막 소재로 사용될 수 있는 친수성 고분자의 예로는 비대칭형 초산 셀룰로오스(cellulose acetate) 또는 그의 유도체를 들 수 있다. 셀룰로오스계 고분자는 선형 주쇄 구조를 가져, 결정성이 매우 높고, 물에 잘 녹지 않는 동시에 친수성이 뛰어나기 때문에, 정밀 여과막 또는 한외 여과막의 소재로 사용되고 있다. 그러나, 셀룰로오스계 고분자는 내약품성, 내열성 및 내오염성 등의 물성이 취약하고, 이에 따라 역삼투막 소재로는 사용되기 어렵다. 또한, 셀룰로오스 계열의 고분자는 분리할 수 있는 대상이 제한되어 있고, 미생물 등에 매우 취약하며, 염기성 에서 가수 분해가 빠르게 진행된다는 문제점도 가지고 있다.
상기와 같은 셀룰로오스 계열의 고분자의 단점을 해소하기 위해 등장한 것이 폴리아미드 계열의 고분자막이다. 즉, 폴리아미드계 박막을 활성층으로 포함하는 복합 분리막(TFC membrane; Thin Film Composite membrane)은 셀룰로오스계 소재에 비해, 기계적 강도, 열적 안정성, 화학적 안정성, 수력학적 안정성 및 분리 선택성이 우수하다. 이러한 장점으로 인해, 예를 들면, 폴리술폰을 다공성 지지막으로 하고 폴리아미드를 활성층으로 하는 형태의 복합 분리막이 자주 사용되고 있다. 그러나, 폴리아미드 계열의 복합막은 염소 및 염소산염 등에 취약한 아미노기를 함유하여, 극미량의 염소 등에 노출 되었을 때도 분리막 성능이 크게 감소하게 되는 단점을 가지고 있다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 낮은 구동 압력에서도 우수한 분리 성능(ex. 투과 유량, 염배제율 등)을 나타내는 수처리 분리막 및 상기를 포함하는 수처리 모듈을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 베이스 수지; 및 상기 베이스 수지 내에 분산된, 설페이트화 금속 산화물 함유 실리카 매트릭스를 포함하는 유무기 복합 조성물을 제공한다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위한 다른 수단으로서, 설페이트화 금속 산화물을 함유하는 실리카 매트릭스를 제조하는 제 1 단계; 및 제 1 단계에서 제조된 실리카 매트릭스를 베이스 수지와 혼합하는 제 2 단계를 포함하는 유무기 복합 조성물의 제조 방법을 제공한다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위한 또 다른 수단으로서, 지지체; 및 상기 지지체의 일면 또는 양면에 형성된 유무기 복합막을 포함하는 수처리 분리막에 있어서, 상기 유무기 복합막이 본 발명에 따른 조성물로부터 형성된 것을 특징으로 하는 수처리 분리막을 제공한다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위한 또 다른 수단으로서, 본 발명에 따른 수처리 분리막을 포함하는 수처리 모듈을 제공한다.
본 발명에 따른 유무기 복합 조성물을 사용하여 제조된 수처리 분리막은 낮은 운전 압력에서도 높은 투과 특성 및 염배제율을 나타내는 등, 탁월한 분리 성능을 발휘할 수 있다.
본 발명은, 베이스 수지; 및 상기 베이스 수지 내에 분산된, 설페이트화 금속 산화물 함유 실리카 매트릭스를 포함하는 유무기 복합 조성물에 관한 것이다.
이하, 본 발명의 유무기 복합 조성물을 보다 구체적으로 설명한다.
본 발명에서 사용될 수 있는 베이스 수지의 종류는 특별히 한정되지 않고, 이 분야의 일반적인 모든 고분자가 사용될 수 있다. 이와 같은 고분자 수지의 예로는 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 폴리프로필렌(poly(propylene)), 폴리술폰(PS, polysulfone), 폴리(테트라플루오로에틸렌)(PTFE, poly(tetrafluoroethylene)), 폴리(비닐리덴플루오라이드)(PVDF, poly(vinylidene fluoride)), 나피온(nafion)계 고분자, 폴리아미드(PA, polyamide), 폴리이미드(PI, polyimide), 폴리비닐알코올(PVA, poly(vinyl alcohol)), 폴리아크릴산(PAA, poly(acrylic acid), 폴리아졸(polyazole), 폴리벤즈이미다졸(PBI, poly(benzimidazole)), 폴리아릴렌에테르(PAE, poly(arylene ether)), 폴리페닐술폰(PPS, poly(phenylsulfone)) 및 폴리에테르에테르케톤(poly(etheretherketone)) 등을 들 수 있으며, 본 발명에서는 상기 중 일종 또는 이종 이상의 혼합을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명에서 사용되는 베이스 수지는, 수처리 분리막으로 사용 시 투과 특성 향상의 관점에서, 골격 내에 하나 이상의 친수성 관능기를 포함할 수 있다. 포함될 수 있는 친수성 관능기의 예로는, 카복실기, 히드록시기, 술폰(sulfone)기 또는 포스폰산(phosphonic acid)기 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 본 발명에서 상기 친수성 관능기의 도입 방법 및 함량은 특별히 한정되지 않고, 통상의 방법에 따라 목적하는 용도에 따른 적절한 양의 관능기를 도입하면 된다.
본 발명의 조성물은 전술한 베이스 수지와 함께, 『설페이트화 금속 산화물(sulfated metal oxide)을 함유하는 실리카 매트릭스(이하 「설페이트화 금속 산화물 함유 실리카 매트릭스」 또는 「실리카 매트릭스」로 칭하는 경우가 있다.)』를 포함한다. 상기 설페이트화 금속 산화물은 루이스산으로 작용할 수 있고, 상기 금속 산화물을 포함하는 실리카 매트릭스는 고흡습성을 나타낼 수 있다. 이에 따라, 상기 실리카 매트릭스는 베이스 수지 내에 균일하게 분산되어, 수처리 분리막이 높은 수분 함유력을 발휘하게 하는 역할을 수행한다. 상기 설페이트화 금속 산화물에 포함되는 금속의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 4가 전이금속인 것이 바람직하다. 보다 구체적으로 상기 금속은 IVA족 원소 또는 IVB족 원소일 수 있으며, 이 중 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 주석(Sn) 및 납(Pb)으로 이루어진 군으로부터 선택된 일종 또는 이종 이상일 수 있다.
설페이트화 4가 전이금속 산화물은, 예를 들면, 하기 화학식 1과 같은 구조를 가질 수 있으며, 이는 물과 접촉할 경우 하기 반응식 1과 같은 형태로 루이스산으로 작용할 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112008090607442-pat00001
상기 화학식 1에서 M은 4가 전이금속을 나타낸다.
[반응식 1]
Figure 112008090607442-pat00002
상기 반응식 1에서 M은 4가 전이금속을 나타낸다.
상기와 같은 설페이트화 금속 산화물은 실리카 매트릭스 함량을 기준으로 0.1 중량% 내지 1000 중량%의 양으로 포함될 수 있고, 바람직하게는 1 중량% 내지 100 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 본 발명에서 설페이트화 금속 산화물의 함량을 위와 같이 제어함으로써, 제조된 수처리 분리막이 탁월한 투과유량 및 염배제율을 나타낼 수 있다.
또한, 본 발명의 유무기 복합 조성물에서 설페이트화 금속 산화물을 함유하는 실리카 매트릭스는 상기 베이스 수지 100 중량부에 대하여, 0.1 중량부 내지 1,000 중량부의 양으로 포함될 수 있고, 바람직하게는 1 중량부 내지 100 중량부의 양으로 포함될 수 있다. 본 발명에서 설페이트화 금속 산화물 함유 실리카 매트릭스의 함량을 위와 같이 제어함으로써, 제조된 수처리 분리막이 탁월한 투과유량 및 염배제율을 나타낼 수 있다.
본 발명은 또한, 설페이트화 금속 산화물을 함유하는 실리카 매트릭스를 제조하는 제 1 단계; 및 제 1 단계에서 제조된 실리카 매트릭스를 베이스 수지와 혼합하는 제 2 단계를 포함하는 유무기 복합 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명의 제 1 단계에서 설페이트화 금속 산화물을 함유하는 실리카 매트릭스를 제조하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 설페이트화 금속 산화물 및 실리카 전구체를 사용한 솔겔법(sol-gel method)과 같은 일반적인 방법을 사용할 수 있다.
즉, 본 발명의 제 1 단계는, (1) 용매 내에서 설페이트화 금속 산화물 및 실 리카 전구체를 혼합하여, 상기 금속 산화물 상에 실리카 매트릭스를 형성시키는 단계; 및
(2) 단계 (1)을 거쳐 제조된 실리카 매트릭스를 소성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 단계 (1)은 적절한 용매 내에서 설페이트화 금속 산화물 및 실리카 전구체를 혼합하여, 상기 전구체의 상기 산화물로의 결합 및 가수 분해 반응을 진행시키는 단계이다.
본 발명에 단계 (1)에서 사용될 수 있는 용매의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 즉, 상기 단계 (1)에서는 이 분야에서 공지된 각종의 수성 및/또는 유기 용매를 사용할 수 있으나, 바람직하게는 물과 알코올의 혼합 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 혼합 용매에 포함되는 물은 첨가된 실리카 전구체의 가수 분해 반응을 진행시킬 수 있는데, 통상적으로 실리카 전구체는 물에 잘 용해되지 않는 성질을 가지므로, 알코올 등의 적절한 유기 용매를 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다. 상기 알코올은 물과 실리카 전구체 양자를 균질하게 혼합시켜 가수 분해 반응을 촉진시킬 수 있다. 본 발명의 단계 (1)에서 상기 혼합 용매의 사용 시에 물과 알코올의 혼합 비율은 특별히 제한되는 것은 아니며, 이 분야의 평균적 기술자는 적절한 혼합 비율을 용이하게 선택할 수 있다.
상기 단계 (1)에서 설페이트화 금속 산화물과 함께 혼합되는 실리카 전구체의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 테트라메톡시 실란(tetramethoxy silane) 또는 테트라에톡시 실란(tetraethoxy silane) 등의 알콕시 실란을 사용할 수 있으며, 상기 중 일종 또는 이종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.
상기 단계 (1)에서 실리카 전구체를 가수 분해시키는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 환류(reflux) 조건 하에서 교반시키는 일반적인 방법으로 진행할 수 있다. 또한 상기 단계 (1)의 용매 내에는 전구체의 가수 분해 반응을 촉진할 수 있는 산성 촉매(ex. HCl, CH3COOH 등) 또는 염기 촉매(ex. KOH, NH4OH 등) 등의 적절한 촉매가 추가로 포함될 수 있다.
상기 단계 (1)에서 가수 분해된 실리카 전구체는 축합을 통한 겔화 반응을 통해, 설페이트화 금속 산화물 상에 실리카 매트릭스를 형성한다. 즉, 가수 분해된 전구체는 금속 산화물 상에서 실록산 결합(-Si-O-Si-)을 형성하며 축합 및 겔화된다. 이와 같은 축합 및 겔화 반응을 진행시키는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 혼합물을 적절한 조건 하에서 교반하거나 또는 초음파 처리함으로써 수행될 수 있다.
본 발명의 단계 (2)는 위와 같은 단계 (1)을 거쳐 제조된 설페이트화 금속 산화물-함유 실리카 매트릭스를 소성하여 무기물 입자를 제조하는 단계이다. 이 때 무기물 입자의 제조를 위한 소성 조건은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 500℃ 내지 600℃의 온도에서 24시간 내지 72시간 동안 수행할 수 있다.
본 발명의 제 2 단계는 위와 같은 과정을 거쳐 제조된 설페이트화 금속 산화물을 함유하는 실리카 매트릭스를 베이스 수지와 혼합하여, 상기 실리카 매트릭스 를 베이스 수지 내에 분산시키는 단계이다.
이 때, 실리카 매트릭스 및 베이스 수지를 혼합하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 상기 매트릭스가 베이스 수지 내에 균일하게 혼합될 수 있다면, 어떠한 방법도 사용될 수 있다. 예를 들면, 본 발명에서는 제조된 실리카 매트릭스를 베이스 수지와 혼합한 후, 초음파 처리 등을 통해 분산시키는 방법; 또는 베이스 수지를 구성할 단량체 용액에 실리카 매트릭스를 혼합한 다음, 초음파 처리 등을 통해 균일하게 분산시킨 후, 상기 단량체 용액을 중합하여 베이스 수지를 제조(ex. 다공성 지지체 상에서의 계면 중합)하는 방법 등을 사용할 수 있다.
본 발명은 또한, 지지체; 및 상기 지지체의 일면 또는 양면에 형성된 유무기 복합막을 포함하는 수처리 분리막에 있어서,
상기 유무기 복합막이 전술한 본 발명에 따른 조성물로부터 형성된 것을 특징으로 하는 수처리 분리막에 관한 것이다.
본 발명의 수처리 분리막의 복합막은 포함되는 무기 입자에 의해 탁월한 수분 함유력을 가지며, 이에 따라 낮은 운전 압력에서도 높은 투과 특성을 나타낼 뿐만 아니라, 염배제율 등의 분리 성능도 기존에 비해 월등히 우수하게 유지될 수 있다.
상기 수처리 분리막에 포함되는 지지체로는 이 분야에서 일반적으로 사용되는 다공성 지지체를 제한 없이 사용할 수 있으며, 그 예로는 정밀 여과막, 한외 여 과막, 나노 여과막 또는 역삼투막 등을 들 수 있다. 이와 같은 다공성 지지체는 유리판; 폴리에스테르 필름 등의 합성 수지 필름; 부직포 및 폴리술폰 또는 부직포-폴리비닐리덴플루오라이드 등으로 제조될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
위와 같은 구성을 포함하는 본 발명의 수처리 분리막은 다양한 형태로 제작될 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 수처리 분리막은 평막, 관상막 또는 중공사막 등을 포함한 다양한 형태로 제조될 수 있다.
위와 같은 본 발명의 수처리 분리막을 제조하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 전술한 본 발명에 따른 조성물을 사용하여, 이 분야의 일반적인 방법을 사용하여 제조할 수 있다.
예를 들면, 상기 수처리 분리막은 본 발명의 조성물을 포함하는 코팅액을 지지체 상에 직접 도포법으로 도포하여 제조하거나, 또는 다공성 지지체 상에 본 발명의 복합 조성물을 도포한 후, 물에 넣고, 응고법(coagulation method) 등을 통하여 기공을 형성함으로써, 본 발명에 따른 수처리 분리막을 제조할 수 있다. 본 발명에서는 또한 설페이트와 금속 산화물 함유 실리카 매트릭스를 베이스 수지를 구성할 단량체 혼합물과 혼합한 후, 이를 다공성 지지체 상에서 계면 중합시키는 방법 등을 통하여 수처리 분리막을 제조할 수도 있다.
한편, 본 발명의 수처리 분리막에서 상기 지지체 또는 유무기 복합막의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 목적하는 용도에 따라서 적절히 선택할 수 있다.
본 발명은 또한, 전술한 본 발명에 따른 수처리 분리막을 포함하는 수처리 모듈에 관한 것이다.
본 발명의 수처리 분리막을 사용하여 구성할 수 있는 상기 모듈의 구체적인 종류는 특별히 한정되지 않으며, 그 예에는 판형(plate & frame) 모듈, 관형(tubular) 모듈, 중공사형(Hollow fiber) 모듈 또는 나권형(spiral wound) 모듈 등이 포함된다. 본 발명의 수처리 모듈은 전술한 본 발명의 수처리 분리막을 포함하는 한, 그 외의 기타 구성의 종류 및 그 제조 방법도 특별히 한정되지 않으며, 이 분야의 일반적인 구성 및 수단을 제한 없이 채용할 수 있다.
이하, 본 발명에 따르는 실시예 및 본 발명에 따르지 않는 비교예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하지만, 본 발명의 범위가 하기 제시된 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
실시예 1.
설페이트화 지르코니아(sulfated zirconia)를 포함하는 실리카 매트릭스의 제조
증류수 및 테트라히드로퓨란(THF)의 혼합 용액 내에 TEOS(Si(OC2H5)4) 및 염산(농도: 2M)을 특정 비율(TEOS:THF:증류수:염산 = 6:4:1.3:1(중량비))로 혼합한 후, 환류 교반하여 실리카 전구체 용액을 제조하였다. 한편, 설페이트화 금속 산화물 전구체 용액은 에탄올 및 증류수의 혼합 용액에 이소부톡시 지르코 늄(Zr(OC3H9)4)을 넣고, 황산(농도: 18M)을 특정 비율(이소부톡시 지르코늄:에탄올:증류수:황산 = 7:4.3:1:4(중량비))로 혼합한 후, 상온에서 하루 동안 교반하여 제조하였다. 그 후, 상기 실리카 전구체 용액 및 설페이트화 지르코니아 전구체 용액을 혼합하여 교반한 뒤, 초음파(ultrasonication) 처리를 수행하고, 48 시간 이상 상온에서 방치하여, 겔(gel)화시켰다. 이어서, 수득된 우유빛의 겔을 잘게 갈아 오븐에 넣고, 용매를 완전히 건조시킨 후에, 가열로(furnace)에 넣어 에어 가스(air gas) 하 600℃까지 소성함으로써 설페이트화 지르코니아 함유 실리카 매트릭스를 제조하였다. 제조된 설페이트화 지르코니아 함유 실리카 매트릭스의 투과전자현미경(TEM) 사진을 도 1에 나타내었다.
유무기 복합 조성물의 제조
상기에서 제조된 설페이트화 지르코니아 함유 실리카 매트릭스를 에탄올 용액에서 볼 밀링(ball-milling)하여 서브마이크로(submicro) 수준까지 분쇄한 후, 용매를 충분히 건조시켰다. 이어서, 상기 설페이트화 지르코니아 함유 실리카 매트릭스 2 g을 술폰화 폴리에테르에테르케톤 8 g에 첨가하였다. 그 후, 상기 혼합물을 환류 교반하고, 초음파 처리를 수행함으로써, 베이스 수지 내에 무기물 입자(설페이트화 지르코니아)의 분산도를 높여, 유무기 복합 조성물을 제조하였다.
수처리 분리막의 제조
상기에서 제조된 유무기 복합 조성물을 사용하여 용액 붓기법으로 필름을 제조하였다. 즉, 지지체로서 사용된 유리판에 상기 유무기 복합 조성물을 부은 후, 닥터 블레이드를 이용하여 일정 두께로 코팅 도포하였다. 이어서, 상기 유리판을 수평으로 맞추고, 60℃의 항온 항습기에서 30분 정도 보관하여 코팅액이 넓게 펴지게 한 다음, 형성된 복합 수처리 분리막을 분리하였다. 분리된 수처리 분리막은 0.2%(w/v) 농도의 탄산나트륨 수용액으로 세척하였다(샘플 1).
실시예 2
폴리술폰계 한외여과막을 2%(w/v) 농도의 m-페닐렌디아민(m-phenylenediamine, MPD) 수용액에 2분 동안 담지시킨 후, 고무 재질의 압착 롤러를 사용하여 과량의 용액을 제거하였다. 그 후, 트리메조일 클로라이드(TMC: trimesoyl chloride)를 헥산에 녹여 제조한 0.1%(w/v) 농도의 TMC-헥산 용액에 실시예 1에서 제조된 설페이트화 지르코니아 함유 실리카 매트릭스 2 g을 분산시켰다. 상기 용액에 전술한 MPD로 포화된 한외여과막을 침지한 후, 계면 중합을 수행하여 폴리아미드 계열의 베이스 수지에 무기물 입자(설페이트화 지르코니아)가 분산된 복합막이 형성된 수처리 분리막을 제조하였다. 제조된 분리막은 0.2%(w/v) 농도의 탄산나트륨 수용액으로 헹구어 샘플을 제조하였으며, 상기 계면 중합 직전에 상온에서 1 시간 동안 초음파 처리를 수행하여, 첨가된 실리카 매트릭스를 균일하게 분산시켰다. 이어서, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 수처리 분리막(샘플 2)을 제조하였다.
비교예 1
설페이트화 지르코니아 함유 실리카 매트릭스를 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 순수 고분자막(술폰화 폴리에테르에테르케톤)이 형성된 수처리 분리막(샘플 3)을 제조하였다.
비교예 2
TMC-헥산 용액 내에 설페이트화 지르코니아 함유 실리카 매트릭스를 분산시키지 않은 것을 제외하고는, 상기 실시예 2와 동일한 방법으로 폴리아미드 계열의 고분자막이 형성된 수처리 분리막(한외여과막)을 제조하였다.
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 각 샘플에 대하여, 하기 제시된 방법으로 물성을 측정하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
1. 유량(flux) 및 염배제율(salt rejection)의 측정
평판형 투과셀, 고압펌프, 저장조 및 냉각장치 등으로 구성된 역삼투막 셀 평가 장치(평판형 투과셀의 구조: cross-flow 방식, 유효 투과 면적: 145 cm2)를 사용하여 시험을 수행하였다. 구체적으로, 수처리 분리막을 세척하여, 투과셀에 설치한 뒤, 실험 수행 전에 우선 운전 압력을 일정하게 유지하여, 분리막의 압밀 효 과가 충분히 이루어지는 안정화 공정을 수행하였다. 이어서, 투과 유량이 일정하게 될 때까지 약 4 시간 정도 증류수로 안정화시킨 후, NaCl 수용액을 공급수로 하여 1시간 동안 투과 유량을 측정하였다. 이 때 35,000ppm의 NaCl 수용액을 공급수로 하였을 때, 운전압력은 600 psi이고, 온도는 25℃였으며, 2,000 ppm의 NaCl 수용액을 공급수로 사용하였을 때, 운전 압력은 225 psi이고, 온도는 25℃였다.
염배제율은 전도도 측정기(conductivity meter)로 측정된 전기 전도도를 사용하여 하기 식(1)로 측정하였으며, 분리막의 투과 플럭스는 하기 식(2)로 측정하였다.
식(1):
Figure 112008090607442-pat00003
식(2):
Figure 112008090607442-pat00004
2. 설페이트화 금속 산화물 함유 실리카 매트릭스의 형상 분석
실시예 1에서 제조된 설페이트화 지르코니아 함유 실리카 매트릭스의 형상을 에너지 여과 투과 전자현미경(EFTEM: Energy Filtered Transmission Electron Microscope(제품명: Philips TECHNAI 20-S))을 이용하여 측정하였다. 구체적으로는 제조된 실리카 매트릭스를 증류수에 현탁한 후, 시료를 탄소로 코팅된 그리드 위에 올려 건조한 다음, 200 keV에서 분석을 수행하였으며, 그 결과를 도 1에 나타내었다.
상기 방법으로 측정된 결과를 하기 표 1에 정리하여 기재하였다.
[표 1]
유량(gallon/ft2day) 염배제율(%)
샘플 1 34.7 98.1
샘플 2 39.8 97.9
샘플 3 22.5 97.6
샘플 4 26.4 98.2
상기 표 1로부터, 본 발명에 따른 실시예 1(샘플 1) 및 실시예 2(샘플 2)에 따라 제조된 수처리 분리막의 경우, 순수 고분자 수처리 분리막에 비해 투과 유량(Flux)이 크게 향상되었음을 확인할 수 있었다. 구체적으로 동일한 고분자인 술폰화 폴리에테르에테르케톤을 사용한 실시예 1(샘플 1) 및 비교예 1(샘플 3)의 결과, 그리고 폴리아미드를 사용한 실시예 2(샘플 2), 및 비교예 2(샘플 4)의 결과를 비교하여 보면, 본 발명의 특징적인 무기물 입자(설페이트화 금속 산화물)이 포함됨으로 해서, 수처리 분리막의 성능이 월등히 향상됨을 확인할 수 있었다.
도 1은 실시예에서 제조된 설페이트화 지르코니아 함유 실리카 매트릭스의 투과전자현미경 사진을 나타내는 도면이다.

Claims (15)

  1. 베이스 수지; 및 상기 베이스 수지 내에 분산된, 설페이트화 금속 산화물 함유 실리카 매트릭스를 포함하는 유무기 복합 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 베이스 수지는 폴리카보네이트, 폴리프로필렌, 폴리술폰, 폴리(테트라플루오로에틸렌), 폴리(비닐리덴플루오라이드), 나피온계 고분자, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리아졸, 폴리벤즈이미다졸, 폴리아릴렌에테르, 폴리페닐술폰 및 폴리에테르에테르케톤으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 유무기 복합 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서, 베이스 수지는 카복실기, 히드록시기, 술폰기 및 포스폰산기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 친수성 관능기를 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서, 금속이 4가 전이금속인 것을 특징으로 하는 유무기 복합 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서, 금속이 지르코늄, 티타늄, 주석 및 납으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상 것을 특징으로 하는 유무기 복합 조성물.
  6. 제 1 항에 있어서, 설페이트화 금속 산화물은 실리카 매트릭스 함량을 기준으로 0.1 중량% 내지 1,000 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 조성물.
  7. 제 1 항에 있어서, 설페이트화 금속 산화물 함유 실리카 매트릭스는 베이스 수지 100 중량부에 대하여, 0.1 중량부 내지 1,000 중량부의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 조성물.
  8. 설페이트화 금속 산화물을 함유하는 실리카 매트릭스를 제조하는 제 1 단계; 및 제 1 단계에서 제조된 실리카 매트릭스를 베이스 수지와 혼합하는 제 2 단계를 포함하는 유무기 복합 조성물의 제조 방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 제 1 단계는, (1) 용매 내에서 설페이트화 금속 산화물 및 실리카 전구체를 혼합하여, 상기 금속 산화물 상에 실리카 매트릭스를 형성시키는 단계; 및
    (2) 단계 (1)을 거쳐 제조된 실리카 매트릭스를 소성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  10. 제 9 항에 있어서, 실리카 전구체는 알콕시 실란인 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  11. 제 9 항에 있어서, 단계 (2)의 소성은 500℃ 내지 600℃의 온도에서 24 시간 내지 72 시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
  12. 지지체; 및 상기 지지체의 일면 또는 양면에 형성된 유무기 복합막을 포함하는 수처리 분리막에 있어서,
    상기 유무기 복합막이 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 조성물로부터 형성되는 것을 특징으로 하는 수처리 분리막.
  13. 제 12 항에 있어서, 지지체가 정밀 여과막, 한외 여과막, 나노 여과막 또는 역삼투막인 것을 특징으로 하는 수처리 분리막.
  14. 제 12 항에 있어서, 지지체가 유리판, 폴리에스테르 필름, 부직포-폴리술폰 다공성 지지체 또는 부직포-폴리비닐리덴플루오라이드 다공성 지지체인 것을 특징으로 하는 수처리 분리막.
  15. 제 12 항에 따른 수처리 분리막을 포함하는 수처리 모듈.
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