KR101141743B1 - 실온에서 제조가 가능한 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법 - Google Patents

실온에서 제조가 가능한 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법 Download PDF

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Abstract

간단한 합성법으로 고결정성을 갖는 나노기공 이산화티탄을 실온에서 대량으로 제조할 수 있으며, 인체에 무해하고 유기물 분해기능에 의한 자체 정화가 가능한 실온에서 제조가 가능한 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법은 (a) 티타늄 전구체 및 계면활성제를 용매에 혼합하는 단계; (b) 상기 혼합된 용액을 실온에서 졸-겔(sol-gel) 반응시켜 필터링하는 단계; (c) 상기 필터링된 반응물을 실온에서 숙성하는 단계; 및 (d) 상기 숙성된 반응물을 건조하여 나노기공을 갖는 이산화티탄을 수득하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

실온에서 제조가 가능한 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법{MANUFACTURING METHOD OF HIGH CRYSTALLINE TITANIUM DIOXIDE NANOPORUS WHICH CAN BE MANUFACTURED AT ROOM TEMPERATURE}
본 발명은 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 기술에 관한 것으로, 보다 상세하게는 간단한 합성법으로 고결정성을 갖는 나노기공 이산화티탄(TiO2)을 실온에서 대량으로 제조할 수 있으며, 인체에 무해하고 유기물 분해기능에 의한 자체 정화가 가능한 실온에서 제조가 가능한 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법에 관한 것이다.
광촉매란 빛 에너지에 의해 활성화되는 촉매를 말하며, 상온에서도 반응 활성을 지니고 있는 점에서 일반적인 촉매와 구분되어 간단하고 소규모 반응장치에서도 사용이 가능한 특징을 갖고 있다. 이산화티탄(TiO2)과 같은 반도체 산화물에 적당한 파장의 빛을 조사하면, 전자(e-)가 여기되어 전도대로 이동하고 정공(h+)이 생성되어 이산화티탄(TiO2)의 표면으로 이동하게 된다. 이 정공이 이산화티탄(TiO2)의 표면에 있는 물(H2O)이나 OH- 등과 반응하여 OH 라디칼을 생성하게 되고, 이 라디칼이 표면에 흡착되어 있는 유기물을 산화하여 분해시키게 된다. 이산화티탄(TiO2)의 경우 밴드갭 에너지는 약 3.2eV이며 태양광 중에서 이보다 더 큰 에너지를 갖는 빛의 파장은 380nm이하인 것으로 알려져 있다.
이러한 광촉매는 미량 유기물의 제거, 악취 제거, 발암성 물질의 생성 억제, 폐수 처리, SOx, NOx 제거 등의 환경 재료와 물을 분해하여 수소 연료를 제조하는 등의 에너지 분야에 활용되고 있다. 또한, 이러한 광촉매의 응용은 유해한 물질들의 분해뿐만 아니라 유해한 성분의 유용 성분으로의 전환에도 이용할 수 있는 잠재력을 지니고 있다.
광촉매로 사용되는 대표적인 것은 산화티탄(TiO2), 산화주석(SnO2), 산화철 (Fe2O3), 산화텅스텐(WO3), 산화아연(ZnO), 황화카드뮴(CdS) 등이 있다. 이와 같은 많은 산화물이 광촉매로서 이용 가능하지만 산화아연과 황화카드뮴은 촉매 자체가 빛에 의해 분해되어 유해한 아연(Zn), 카드뮴(Cd) 이온을 발생하는 단점을 갖고 있고, 산화텅스텐은 특정 물질에 대해서만 광촉매로서의 효율이 우수하며, 산화주석과 산화철은 광촉매로서의 효율면에서 문제점을 가지고 있다.
상술한 물질 중에서 이산화티탄(TiO2)은 빛을 받아도 변하지 않아 반영구적으로 사용이 가능하며, 모든 유기물을 산화시켜 이산화탄소와 물로 분해시킴으로서 광촉매로 가장 각광받고 있다.
이산화티탄(TiO2)은 상압하에서 루타일(rutile), 아나타제(anatase) 그리고 브루카이트(brookite)의 3가지 결정상을 가지며 온도 상승에 따라 준 안정적인 브루카이트(brookite), 아나타제(anatase) 상으로부터 루타일(rutile) 상으로 전이된다. 정방정계(tetragonal) 구조를 갖는 루타일(rutile)과 아나타제(anatase), 사방정계(orthorhombic) 구조를 가지는 부루카이트(brookite) 구조 모두 티타늄(Ti)을 중심으로 하는 TiO6 팔면체를 기본 구조로 하고 있으며, 루타일(rutile)은 2모서리, 아나타제(anatase)는 4모서리, 브루카이트(brookite)는 3모서리를 공유하고 있다.
결정의 단위격자를 보면 루타일(rutile)의 경우 2개의 유닛 셀(unit cell)을 포함하고, 아나타제(anatase)가 4 개, 브루카이트(brookite)가 8개를 포함하는 구조로 되어 있다.
이때, 기본구조를 이루는 TiO6 팔면체는 정팔면체로부터 비틀어져 있으며, 그 비틀림의 정도는 루타일(rutile) < 아나타제(anatase) < 브루카이트(brookite) 순으로 증가한다. 따라서, 폴링(Pauling)의 법칙으로 판단하면 에너지 적으로 가장 안정한 것은 루타일(rutile)이며, 다른 두 종류는 준 안정상으로서 고온 열처리에 의하여 안정상으로 전이될 수 있다. 에너지 밴드 개념으로 해석을 하면, 아나타제(anatase)와 루타일(rutile)은 각각 3.2eV와 3.0eV의 밴드 갭(band gap)을 가지고 있다. 이점 만을 고려하면, 루타일(rutile)은 아나타제(anatase)에 비하여 좀 더 광범위한 자외선 영역의 빛을 흡수할 수 있어서 동일한 광원의 사용 시, 아나타제(anatase)보다 우수한 광효율을 보여줄 것으로 기대되나, 결과로는 아나타제(anatase)가 훨씬 우수한 성능을 보이고 있다.
관련 선행문헌으로는 대한민국 공개특허 제10-2011-0011973호가 있다. 상기 문헌에는 이산화티탄 제조 방법과 이 방법을 이용한 염료 감응 태양 전지 제조 방법이 개시되어 있다.
본 발명의 목적은 실온에서 제조가 가능하며, 광촉매 현상에 의한 물 정화능력이 우수한 고결정성 나노기공 이산화티탄을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 실온에서 제조가 가능한 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법은 (a) 티타늄 전구체 및 계면활성제를 용매에 혼합하는 단계; (b) 상기 혼합된 용액을 실온에서 졸-겔(sol-gel) 반응시켜 필터링하는 단계; (c) 상기 필터링된 반응물을 실온에서 숙성하는 단계; 및 (d) 상기 숙성된 반응물을 건조하여 나노기공을 갖는 이산화티탄을 수득하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법은 고결정성을 갖는 나노기공 이산화티탄을 실온에서 계면활성제를 이용한 간단한 합성법으로 대량 생산함으로써, 생산 수율을 획기적으로 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 방법으로 제조되는 고결정성 나노기공 이산화티탄은 유기물 자체 정화 기능면에서 기존에 상용화되어 사용되고 있는 P25에 비하여 우수한 광촉매 특성을 갖는다.
따라서, 본 발명에 따른 방법으로 제조되는 고결정성 나노기공 이산화티탄 입자는 우수한 광촉매 효과를 가지므로, 공기정화제품, 항균-바이러스필터 등 일상생활에서 사용하는 제품들뿐만 아니라, 메모리소자, 논리 소자, 염료감응형 광전지(dye-sensitized solar cell), 가스센서(gas sensor), 바이오센서(bio sensor), 유연소자 등에 활용될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 방법으로 제조되는 고결정성 나노기공 이산화티탄은 유기물 자체 정화 능력이 우수하므로, 태양전지, 수소에너지, 물정화 등 그린 에너지 분야에도 응용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법을 나타낸 순서도이다.
도 2는 본 발명의 실시예 1에 따라 제조된 시료를 저배율 전자투과현미경으로 촬영한 사진이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1에 따라 제조된 시료를 고배율 전자투과현미경으로 촬영한 사진이다.
도 4는 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료를 주사전자현미경으로 촬영한 사진이다.
도 5는 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들에 대한 소각 엑스선 회절 패턴(small-angle X-ray diffraction pattern)을 나타낸 도면이다.
도 6은 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들에 대한 엑스선 회절 패턴을 나타낸 도면이다.
도 7은 실시예 1 ~ 3에 따라 제조된 시료들에 대한 질소 흡탈착 실험 결과를 나타낸 도면이다.
도 8은 실시예 1 ~ 4 및 비교예 1에 따라 제조된 시료들에 대한 유기물 광분해 실험 결과를 나타낸 도면이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 실온에서 제조가 가능한 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법을 나타낸 순서도이다.
도 1을 참조하면, 도시된 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법은 원료 혼합 및 졸-겔 반응 단계(S110), 숙성 단계(S120), 필터/세척 단계(S130) 및 건조 단계(S140)를 포함한다. 또한, 본 발명의 실시예에 따른 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법은 초음파 인가 단계(S150)를 더 포함할 수 있다.
원료 혼합 및 졸-겔 반응
원료 혼합 및 졸-겔 반응 단계(S110)에서는 티타늄 전구체 및 계면활성제를 용매에 혼합하여 실온에서 졸-겔 반응시킨다. 이때, 용매로는 물, 알코올 등이 이용될 수 있다. 상기 실온은 사용 환경에 따라 차이를 보일 수는 있으나, 일 예로 1 ~ 40℃를 제시할 수 있다.
이때, 졸-겔 반응이란 금속알콕사이드가 가수분해(hydrolysis)되고 축합 반응(condensation) 되면서 졸(sol) 상태가 된 후, 일정 시간이 경과하게 되면 완전한 축합 반응이 진행되어 더 이상 네트워킹(networking)될 수 없는 겔(gel) 상태가 되는 반응을 말한다.
여기서, 티타늄 전구체는 티타늄 엔-부톡사이드(titanium n-butoxide), 티타늄 아이소프로폭사이드(titanium isopropoxide) 등에서 선택될 수 있다.
계면활성제는 양이온 계면활성제가 이용될 수 있다.
이때, 양이온 계면활성제는 하기 화학식 1을 만족하는 세틸트리메틸암모늄브로마이드(cetyltrimethyl ammonium bromide) 또는 하기 화학식 2을 만족하는 세틸트리메틸암모늄 클로라이드(cetyltrimethyl ammonium chloride)가 이용될 수 있다.
화학식 1 : CH3(CH2)nN+(CH3)3Br-
화학식 2 : CH3(CH2)nN+(CH3)3Cl-
여기서, 상기 계면활성제는 화학식 1 또는 화학식 2에서 n = 1 ~ 20개인 것을 이용하는 것이 바람직하다. 상기 n의 수가 20개를 초과할 경우에는 소수성 테일(hydrophobic tail)의 길이가 너무 길어져서 용매에 잘 녹지 않을 우려가 있다.
이때, 원료 혼합 및 졸-겔 반응 단계(S110)는 용매가 채워진 반응조 내에 티타늄 전구체 및 계면활성제를 3 : 0.05 ~ 3 : 1의 몰비로 투입한 후, 기계식 강력 교반기를 이용하여 균일하게 분산되도록 혼합하는 것이 바람직하다. 상기 티타늄 전구체 및 계면활성제의 몰비가 3 : 0.05 미만일 경우에는 계면활성제의 첨가량이 미미한 관계로 미세 기공이 형성되지 않을 우려가 있다. 반대로, 티타늄 전구체 및 계면활성제의 몰비가 3 : 1을 초과할 경우에는 더 이상 계면활성제의 첨가 효과 없이 제조 비용만을 상승시키는 문제가 있다.
한편, 계면활성제의 몰농도는 0.05 ~ 2M인 것을 이용하는 것을 바람직하다. 상기 계면활성제의 몰농도가 0.05M 미만일 경우에는 그 농도가 낮은 관계로 미세 기공이 형성되지 않을 우려가 있다. 반대로, 계면활성제의 몰농도가 2M을 초과할 경우에는 더 이상의 효과 없이 제조 비용만을 상승시키는 문제가 있다.
숙성
숙성 단계(S120)에서는 졸-겔(sol-gel) 반응시킨 반응물을 실온에서 12 ~ 30시간 동안 숙성한다. 이때, 실온은 사용 환경에 따라 차이를 보일 수는 있으나, 일 예로 1 ~ 40℃를 제시할 수 있다.
이때, 숙성 시간이 12시간 미만으로 실시될 경우에는 숙성 효과를 제대로 발휘할 수 없다. 반대로, 숙성 시간이 30시간을 초과할 경우에는 결정성이 좋아지는 이점이 있기는 하나, 과도한 숙성 시간으로 인해 생산성이 악화되는 문제가 있다.
필터/세척
필터/세척 단계(S130)에서는 숙성된 반응물을 필터링한 후, 세척한다.
이때, 필터/세척 단계(S130)는 졸-겔 반응 및 숙성에 의하여 생성된 이산화티탄 침전물을 감압 필터링하면서 증류수를 이용하여 세척하게 된다. 이 경우, 세척 과정은 3회 이상 반복하여 실시하는 것이 바람직하다.
건조
건조 단계(S140)에서는 세척된 반응물을 건조하여 나노기공을 갖는 이산화티탄을 수득한다. 이때, 건조는 10 ~ 40℃에서 2 ~ 12시간 동안 진공 건조하는 것이 바람직하다. 상기 건조 온도가 10℃ 미만이거나, 건조 시간이 2시간 미만으로 실시될 경우에는 반응물의 결정성이 나빠지는 문제가 있다. 반대로, 건조 온도가 40℃를 초과하거나, 건조 시간이 12시간을 초과하여 실시될 경우에는 반응물의 결정성은 좋아질 수는 있으나, 비표면적이 감소할 우려가 있다.
초음파 인가
초음파 인가 단계(S150)에서는 건조 단계(S140)를 통하여 수득한 이산화티탄을 증류수에 혼합한 후, 상기 혼합된 용액에 초음파를 인가한다. 이때, 초음파 인가는 혼합된 용액이 채워진 반응조 내에 초음파 혼을 딥핑한 상태에서 스캔 방식으로 진행될 수 있다.
이러한 초음파 처리를 실시하는 이유는 졸-겔 반응에 의하여 형성된 웜홀 형상의 기공(wormhole-like pore)을 갖는 이산화티탄의 경우, 미세 기공 구조(framework)가 무정형(amorphous)으로 구성되어 있기 때문에, 이러한 무정형 구조(amorphous framework)의 미세 기공에 대한 결정성을 높이기 위함이다.
따라서, 초음파 처리를 실시할 경우, 무정형 구조(amorphous framework)의 나노기공이 점점 결정성을 갖는 구조로 변하게 된다. 즉, 반응조 내에 채워진 혼합된 용액, 즉 반응물의 초음파처리를 통해 버블 붕괴(bubble collapse)가 될 때 국소적으로 5000K의 온도와 1000bar 정도의 압력 그리고 1010K/s의 가열비/냉각비 등이 극한의 조건(extreme condition)을 갖게 된다. 이런 이유로, 반응물의 결정성이 증가될 수 있으며, 반응물 표면의 화학반응(chemical reactivity)이 상당히 증가될 수 있다.
좀더 구체적으로 설명하면, 원료 혼합 및 졸-겔 반응 단계(S110)에서 계면활성제(surfactant)가 수용액 상에서 자기정렬(self-assembly)하여 교질입자(micelle)를 형성하게 되고, 이때 교질입자(micelle)들은 이산화티탄의 티타늄 종(species)들과 결합하여 협동정렬(cooperative assembly)을 이루면서 나노 기공을 형성하게 된다. 이와 같이 만들어진 웜홀 형상의 기공(wormhole-like pore)과 무정형 구조(amorphous framework)는 초음파 처리를 통하여 국소적인 높은 온도와 압력 그리고 가열비/냉각비 등의 극한의 조건에 의하여 높은 결정성을 가질 수 있게 된다.
이때, 초음파 처리는 15 ~ 30KHz 및 90 ~ 110W의 에너지량을 갖는 고밀도 초음파(high-intensity ultrasound)를 10분 이상 동안 인가하는 것이 바람직하다.
여기서, 초음파 처리의 출력 전압이 낮을 경우나, 초음파 처리의 시간이 짧을 경우에는 비표면적의 증가가 두드러질 수는 있으나, 결정성 향상 효과를 제대로 발휘할 수 없다. 예를 들어, 초음파처리를 하기 전, 반응물의 비표면적은 약 700m2/g 정도이지만, 초음파 처리를 10분간 실시하게 되면 대략 600m2/g로, 그리고 40분간 실시하게 되면 대략 400m2/g로 비표면적이 감소하게 된다.
그럼에도 불구하고, 초음파 출력 전압 및 초음파 처리 시간을 상기의 범위로 실시하는 이유는 적정한 출력 전압 및 초음파 처리 시간으로 실시해야만 반응물의 결정성과 비표면적이 적절히 조화를 이루기 때문이다.
여기서, 초음파 처리 시간을 10분 이상 실시하는 이유는 10분 동안 초음파 처리를 실시할 때부터 TiO2의 아나타제상(Anatase phase)의 회절 피크가 나타나며, 10분 이후부터 계속적으로 결정성이 증가하는 경향이 있기 때문이다.
이때, 본 발명에서와 같이, 고밀도 초음파(high-intensity ultrasound)를 인가할 경우 아나타제 결정상뿐만 아니라, 아나타제(anatase)와 브루카이트(brookite)를 포함하는 복합 조직을 가지게 되며, 이러한 복합 조직(bicrystalline phase)은 광분해 효과면에서 보다 우수한 특성을 나타내게 된다.
이상으로, 본 발명의 실시예에 따른 고결정성 나노기공 이산화티탄을 제조할 수 있다.
상기의 과정(S110 ~ S150)으로 제조되는 고결정 나노기공 이산화티탄은 평균 직경이 1 ~ 3nm의 웜홀 형상(wormhole-like)의 기공을 갖는다. 이 결과, 본 발명에 따른 방법으로 제조되는 고결정 나노기공 이산화티탄은 웜홀 형상의 미세 기공에 의하여 유기물 광분해 능력이 우수한 특성을 보인다.
실시예
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.
여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.
1. 시료 제조
실시예 1
티타늄 전구체로는 알드리치 사(Aldrich社)의 티타늄 엔-부톡사이드(titanium n-butoxide)(97%)를 사용하였고, 계면활성제로는 알드리치 사(Aldrich社)의 세틸트리메틸암모늄브로마이드(cetyltrimethyl ammonium bromide)를 사용하였다.
먼저, 티타늄 엔-부톡사이드(titanium n-butoxide)와 카본 체인(carbon chain)에서 탄소의 수가 11개인 세틸트리메틸암모늄브로마이드(cetyltrimethyl ammonium bromide : CTBA)(M ratio= 2 : 0.5) 용액을 5분 동안 기계식 강력 교반기로 혼합하여 25℃에서 졸-겔 반응시킨 후, 17℃에서 12시간 동안 숙성하였다.
이후, 25℃에서 졸-겔 반응으로 생성된 이산화티탄 침전물을 감압 필터링하면서 증류수(50 vol%)와 에탄올(50 vol%) 용액을 이용하여3차례 세척하였다.
이후, 이산화티탄 침전물을 35℃에서 12시간 동안 진공 건조한 다음, 증류수와 혼합한 상태에서60분 동안 초음파 처리(ultrasonification)를 실시하여 나노기공 이산화티탄 입자를 제조하였다.
실시예 2
카본 체인에서 탄소의 수가 13개인 세틸트리메틸암모늄브로마이드 용액을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 나노기공 이산화티탄 입자를 제조하였다.
실시예 3
카본 체인에서 탄소의 수가 15개인 세틸트리메틸암모늄브로마이드 용액을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 나노기공 이산화티탄 입자를 제조하였다.
실시예 4
카본 체인에서 탄소의 수가 17개인 세틸트리메틸암모늄브로마이드 용액을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 나노기공 이산화티탄 입자를 제조하였다.
비교예 1
광촉매로 널리 쓰이고 있는 Degussa사의 P25 TiO2를 마련하였다.
2. 물성 평가
도 2는 본 발명의 실시예 1에 따라 제조된 시료를 저배율 전자투과현미경으로 촬영한 사진이고, 도 3은 본 발명의 실시예 1에 따라 제조된 시료를 고배율 전자투과현미경으로 촬영한 사진이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 실시예 1에 따라 제조된 시료는 평균 직경이 대략 2nm의 웜홀 형상(wormhole-like)의 기공을 갖는 것을 확인할 수 있다.
도 4는 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들을 주사전자현미경으로 촬영한 사진이다.
도 4를 참조하면, 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들은 대략 수 ~ 수십nm의 입자 형태로 이루어져 있는 것을 확인할 수 있다.
도 5는 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들에 대한 소각 엑스선 회절 패턴(small-angle X-ray diffraction pattern)을 나타낸 도면이고, 도 6은 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들에 대한 엑스선 회절 패턴을 나타낸 도면이다.
도 5를 참조하면, 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들(1,2,3,4)은 결정 피크가 나타나는 것을 알 수 있다. 이때, 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들(1,2,3,4)은 장배열 규칙(long-range orientational ordering)은 나타나지 않았으나, 단배열 규칙(short-range ordering)은 어느 정도 갖고 있기 때문에 엑스선 소각산란 패턴이 나타난 것으로 파악된다.
한편, 도 6을 참조하면, 엑스선 회절 패턴 결과에서 알 수 있듯이 결정 피크에 차이는 있으나 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들(1,2,3,4) 모두 결정성이 우수한 특성을 보이는 것을 확인할 수 있다. 이때, 계면활성제의 카본 체인에서 탄소의 수에 관계없이 모두 아나타제 상을 갖는다.
도 7은 실시예 1 ~ 3에 따라 제조된 시료들에 대한 질소 흡탈착 실험 결과를 나타낸 도면이다.
도 7을 참조하면, 실시예 1 ~ 3에 따라 제조된 시료들(1,2,3)에 대한 질소 흡탈착 실험 결과, 전형적인 나노기공 형태의 곡선 형태가 나타나며, 계면활성제의 카본 체인에서 탄소의 수가 적은 것을 사용할수록 비표면적이 증가한다는 것을 알 수 있다.
도 8은 실시예 1 ~ 4 및 비교예 1에 따라 제조된 시료들에 대한 유기물 광분해 실험 결과를 나타낸 도면이다. 이때, 유기물 광분해 실험은 실시예 1 ~ 4 및 비교예 1에 따라 제조된 시료들을 Reactive Black 5 : 1mg/L와 Rhodamine B 0.1g/L와 함께 밀폐된 시험관 내에서 40동안 보관하였다.
도 8을 참조하면, 유기물 광분해 실험 결과, 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들(1,2,3,4)은 비교예 1에 따라 제조된 시료(5)에 비하여 정화능력이 우수하다는 것을 알 수 있다.
비교예 1에 따라 제조된 시료(5)에 비하여 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들(1,2,3,4)의 정화능력이 우수한 것은 실시예 1 ~ 4에 따라 제조된 시료들(1,2,3,4)이 비교예 1에 따라 제조된 시료(5)에 비하여 비표면적이 우수할 뿐만 아니라 결정성이 좋은 데 기인한 것으로 파악된다.
이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자의 수준에서 다양한 변경이나 변형을 가할 수 있다. 이러한 변경과 변형은 본 발명이 제공하는 기술 사상의 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명에 속한다고 할 수 있다. 따라서 본 발명의 권리범위는 이하에 기재되는 청구범위에 의해 판단되어야 할 것이다.
S110 : 원료혼합 및 졸-겔 반응 단계
S120 : 숙성 단계
S130 : 필터/세척 단계
S140 : 건조 단계
S150 : 초음파 인가 단계

Claims (11)

  1. (a) 티타늄 전구체 및 계면활성제를 3 : 0.05 ~ 3 : 1의 몰비로 용매에 혼합하고, 실온에서 졸-겔(sol-gel) 반응시키는 단계;
    (b) 상기 졸-겔(sol-gel) 반응시킨 반응물을 실온에서 12 ~ 30시간 동안 숙성하는 단계;
    (c) 상기 숙성된 반응물을 필터링한 후, 세척하는 단계;
    (d) 상기 세척된 반응물을 건조하여 나노기공을 갖는 이산화티탄을 수득하는 단계; 및
    (e) 상기 수득한 이산화티탄을 증류수에 혼합한 후, 상기 혼합된 용액에 대하여 15 ~ 30KHz 및 90 ~ 110W의 에너지량을 갖는 고밀도 초음파를 10 ~ 40분 동안 인가하는 단계;를 포함하며,
    상기 (e) 단계에서, 상기 초음파 인가에 의하여 상기 이산화티탄은 아나타제 및 브루카이트를 포함하는 복합 조직을 갖는 것을 특징으로 하는 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 (a) 단계에서,
    상기 계면활성제의 몰농도는
    0.05 ~ 2M인 것을 특징으로 하는 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 (a) 단계에서,
    상기 티타늄 전구체는
    티타늄 엔-부톡사이드(titanium n-butoxide) 또는 티타늄 아이소프로폭사이드(titanium isopropoxide)인 것을 특징으로 하는 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 (a) 단계에서,
    상기 계면활성제는
    하기 화학식 1을 만족하는 양이온 계면활성제인 세틸트리메틸암모늄브로마이드(cetyltrimethyl ammonium bromide) 또는 하기 화학식 2를 만족하는 양이온 계면활성제인 세틸트리메틸암모늄 클로라이드(cetyltrimethyl ammonium chloride)를 포함하는 것을 특징으로 하는 고결정 나노기공 이산화티탄 제조 방법.
    화학식 1 : CH3(CH2)nN+(CH3)3Br-
    화학식 2 : CH3(CH2)nN+(CH3)3Cl-
  6. 제5항에 있어서,
    상기 양이온 계면활성제는
    상기 화학식 1 또는 화학식 2에서 n = 1 ~ 20개인 것을 특징으로 하는 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 (a) 단계 및 (b) 단계에서,
    상기 실온은
    1 ~ 40℃인 것을 특징으로 하는 고결정성 나노기공 이산화티탄 제조 방법.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 제1항, 제3항 내지 제7항 중에서 어느 하나의 항에 기재된 방법으로 제조되어,
    평균 직경이 1 ~ 3nm의 웜홀 형상(wormhole-like)의 나노기공을 갖는 것을 특징으로 하는 고결정성 나노기공 이산화티탄.
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