KR101128877B1 - Gate valve device for wafer processing system - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A gate valve device of a substrate processing system is provided to move a gate valve according to a chamber condition by including the gate valve which selectively opens or closes a pair of substrate entrances. CONSTITUTION: A pair of valve members(110) closes a first substrate entrance or a second substrate entrance. A valve support cylinder(210) supports a lower area of a gate valve. A rotation pressing lever(240) moves the gate valve in a direction selected by a valve control unit. A guide rail(230) guides the ascent and descent of the rotation pressing lever. A lever support cylinder(250) moves the rotation pressing lever up and down.

Description

기판처리시스템의 게이트밸브장치{GATE VALVE DEVICE FOR WAFER PROCESSING SYSTEM}GATE VALVE DEVICE FOR WAFER PROCESSING SYSTEM

본 발명은 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 마모되거나 손상된 게이트밸브의 유지보수를 공정 중에도 용이하게 처리할 수 있는 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a gate valve device of a substrate processing system, and more particularly to a gate valve device of a substrate processing system that can easily handle maintenance of worn or damaged gate valve during the process.

일반적으로 액정 디스플레이장치, 플라즈마디스플레이장치, 반도체장치들의 제조를 위한 기판처리시스템들은 복수 개의 기판을 일괄처리 하는 클러스터(CLUSTER) 시스템이 채용되고 있다. 클러스터 시스템은 이송로봇 또는 핸들러(HANDLER)와 그 주위에 마련된 복수의 기판처리모듈을 포함하는 멀티챔버형 기판처리시스템을 지칭한다.In general, a substrate processing system for manufacturing a liquid crystal display device, a plasma display device, and semiconductor devices employs a cluster system for collectively processing a plurality of substrates. The cluster system refers to a multi-chamber substrate processing system including a transfer robot or a handler (HANDLER) and a plurality of substrate processing modules provided around the robot.

일반적으로 클러스터 시스템은 이송챔버(TRANSFER CHAMBER)와 이송챔버 내에서 회동이 자유로운 이송로봇이 구비된다.In general, the cluster system is provided with a transfer chamber and a transfer robot freely rotatable in the transfer chamber.

이와 같은 클러스터 시스템은 복수개의 기판을 동시에 처리하거나 또는 여러 공정을 연속해서 진행함으로써 기판 처리량을 높이고 있다. Such a cluster system increases substrate throughput by simultaneously processing a plurality of substrates or by performing a plurality of processes in succession.

한편, 다수의 기판이 처리되기 위한 멀티 프로세스 시스템의 경우 기판처리를 위한 각각 독립된 공정 챔버가 다수개 구성될 때 각각의 구성 별로 독립된 구성들이 사용되고 있다. Meanwhile, in the case of a multi-process system for processing a plurality of substrates, when a plurality of independent process chambers for substrate processing are configured, independent configurations are used for each configuration.

여기서, 멀티 프로세스 시스템의 경우 이송챔버로 부터 각 공정챔버로 기판의 이송을 위해 각 챔버에는 기판이 출입되는 기판출입구가 형성되고, 기판출입구는 게이트밸브에 의해 개폐되게 된다. 여기서 공정진행 중일 때는 게이트밸브가 챔버를 폐쇄하여 진공상태가 유지되도록 하고, 공정이 완료되면 기판출입구를 개방하여 기판이 입출 되도록 한다. Here, in the case of a multi-process system, a substrate inlet through which the substrate enters and exits is formed in each chamber to transfer the substrate from the transfer chamber to each process chamber, and the substrate inlet is opened and closed by a gate valve. Here, when the process is in progress, the gate valve closes the chamber to maintain the vacuum state, and when the process is completed, the substrate entrance is opened to allow the substrate to enter and exit.

이렇게, 기판출입구를 폐쇄하는 게이트밸브는 챔버내부의 플라즈마반응 및 플라즈마와 반응하는 기체에 의해 게이트밸브의 표면에 열화가 발생되어, 게이트밸브와 기판출입구 사이의 기밀성이 저하되게 된다. As described above, the gate valve closing the substrate entrance is deteriorated on the surface of the gate valve by the plasma reaction inside the chamber and the gas reacting with the plasma, thereby reducing the airtightness between the gate valve and the substrate entrance.

따라서, 게이트밸브를 보수하거나 게이트밸브의 오링을 교체함으로써 게이트밸브와 기판출입구 사이의 기밀성을 확보하게 된다. Therefore, the airtightness between the gate valve and the substrate entrance can be secured by repairing the gate valve or replacing the O-ring of the gate valve.

그러나, 공정중 게이트밸브를 보수하기 위해서는 챔버내의 진공을 해제하게 되고 보수완료 후에는 다시 진공펌프를 구동하여 챔버를 공정이 가능한 진공상태로 확보하는 과정을 수행해야 하기 때문에 보수를 하는 동안 시간과 비용에 있어서 많은 손실이 발생하게 되는 문제점이 있었다.
However, in order to repair the gate valve during the process, the vacuum in the chamber must be released, and after the maintenance is completed, the vacuum pump must be driven again to secure the chamber to a vacuum where the process can be performed. There was a problem that a lot of loss occurs in.

따라서 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 본 발명은 한 쌍의 기판출입구를 선택적으로 개폐하는 게이트밸브를 마련하여 챔버의 고장여부 및 사용여부에 따라 게이트밸브를 이동시킬 수 있는 게이트밸브장치를 제공하는데 그 목적이 있다. Therefore, the present invention has been proposed to solve the above problems, and the present invention provides a gate valve for selectively opening and closing a pair of substrate entrance and exit can move the gate valve according to the failure and use of the chamber The purpose is to provide a gate valve device.

또한, 게이트밸브의 보수가 필요한 경우 일측 챔버의 기판출입구는 폐쇄하여 진공상태를 유지하면서 타측 챔버의 기판출입구는 진공상태를 해제하고 게이트밸브의 보수를 할 수 있는 게이트밸브장치를 제공하고자 하는 것이다.
In addition, when the gate valve needs to be repaired, the substrate inlet of one chamber is closed to maintain the vacuum state, while the substrate inlet of the other chamber is to provide a gate valve device capable of releasing the vacuum state and repairing the gate valve.

상기의 목적을 달성하기 위해 제안된 본 발명은, 기판이 이송되는 제1기판출입구와 제2기판출입구가 각각 형성된 제1챔버와 제2챔버를 개폐하도록 제1챔버와 제2챔버의 사이에 형성되는 밸브챔버의 내부에 구비되며, 제1챔버출입구 또는 제2챔버출입구 중 어느 하나를 선택적으로 폐쇄하도록 게이트밸브와, 이를 구동하는 밸브구동부와, 밸브구동부를 제어하는 밸브제어부를 포함하여 이루어진 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 있어서; 상기 게이트밸브는, 제1챔버출입구 또는 제2챔버출입구를 선택적으로 폐쇄하도록 구비된 한 쌍의 밸브부재; 및 밸브부재 사이에 개재되고, 밸브부재가 서로 반대 방향을 향하도록 결합되는 베이스부를 포함하고, 각각의 밸브부재와 베이스부의 접촉되는 면에 형성되는 결합홈과, 결합돌기에 의해 결합되는 것을 특징으로 한다.The present invention proposed to achieve the above object is formed between the first chamber and the second chamber to open and close the first chamber and the second chamber, the first substrate entrance and the second substrate entrance to which the substrate is transferred, respectively; The substrate processing is provided in the valve chamber to be made, comprising a gate valve to selectively close any one of the first chamber entrance or the second chamber entrance, the valve driving unit for driving the valve control unit, and the valve control unit for controlling the valve driving unit A gate valve device of a system, comprising: The gate valve may include a pair of valve members provided to selectively close the first chamber entrance or the second chamber entrance; And a base portion interposed between the valve members and the valve members coupled to each other so as to face in opposite directions to each other, the coupling grooves being formed on the contact surfaces of the respective valve members and the base portion, and coupled by the coupling protrusions. do.

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그리고 상기 밸브구동부는 게이트밸브가 상하 승강 및 좌우 회동 가능하도록 지지하는 복수개의 밸브지지실린더와, 밸브챔버와 게이트밸브 사이에 구비되며 지지면이 형성된 좌우 한 쌍의 지지프레임과, 밸브챔버에 상부에서 하부로 일정길이 관통 형성된 좌우 한 쌍의 가이드레일과, 승강하며 밸브제어부에 선택된 방향으로 게이트밸브를 이동시키는 회동가압레버와, 회동가압레버의 하부를 지지하며 승하강시키는 레버지지실린더를 포함하는 것을 특징으로 한다.The valve driving unit includes a plurality of valve support cylinders for supporting the gate valve to be able to move up and down and to the left and right to rotate, a pair of left and right support frames formed between the valve chamber and the gate valve, and having a support surface, and at the upper portion of the valve chamber. And a pair of left and right guide rails formed at a predetermined length through the lower portion, a rotating pressure lever for lifting and moving the gate valve in a selected direction, and a lever supporting cylinder for lifting and lowering the lower portion of the rotating pressure lever. It features.

여기서, 상기 밸브지지실린더는 게이트밸브가 좌우로 회동가능하도록 게이트밸브의 하부를 지지하는 밸브회동부과, 밸브회동부의 하부에 결합되어 게이트밸브의 승하강을 지지하며 밸브지지실린더의 내부에 수용되는 밸브승강축과, 밸브지지실린더가 좌우로 회동가능하도록 밸브지지실린더의 하부를 지지하는 실린더회동부를 포함하는 것을 특징으로 한다. Here, the valve support cylinder is coupled to the lower portion of the valve valve for supporting the gate valve so that the gate valve can be rotated to the left and right, the lower portion of the valve pivot to support the lifting and lowering of the gate valve is received inside the valve support cylinder And a cylinder pivot supporting a lower portion of the valve support cylinder so that the valve lift shaft and the valve support cylinder can rotate left and right.

또한, 상기 회동가압레버는 선택된 방향으로 회동하여 지지프레임과 지지면을 따라 상승하는 제1레버와, 제1레버의 상승궤적에 따라 게이트밸브를 제1기판출입구 또는 제2기판출입구 측으로 가압하는 제2레버와, 제1레버 및 제2레버를 축결합하여 회동가능하도록 형성된 레버회동축을 포함하는 것을 특징으로 한다. The rotating pressure lever may include a first lever that rotates in a selected direction and rises along the support frame and the support surface, and presses the gate valve toward the first substrate inlet or the second substrate outlet in accordance with the rising trajectory of the first lever. And a lever rotating shaft formed to be rotatable by combining the second lever and the first lever and the second lever.

그리고 상기 게이트밸브는 양측면에 측면개구부가 형성되고, 상부에 상부개구부가 형성되며, 내부에 수용공간이 형성된 밸브케이스와, 상부개구부를 통해 수용공간에 수용되어 측면개구부로 돌출되는 밸브부재와, 밸브부재가 측면개구부로 돌출되도록 밸브부재의 후방에 배치되는 조절수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. The gate valve has side openings formed at both sides, an upper opening formed at an upper side thereof, a valve case having an accommodation space therein, a valve member accommodated in the accommodation space through the upper opening, and protruding to the side opening, and a valve. And a control means disposed behind the valve member so that the member protrudes into the side opening.

이때, 상기 조절수단은 서로 마주하는 경사면이 각각 형성된 복수개의 가압부재와, 복수개의 가압부재를 상하부로 승하강시키는 조절부재를 포함하는 것을 특징으로 한다. At this time, the adjusting means is characterized in that it comprises a plurality of pressing members each formed with inclined surfaces facing each other, and the adjusting member for raising and lowering the plurality of pressing members up and down.

또한, 상기 조절부재는 복수개의 가압부재 중 어느 하나에 형성되는 관통홀과, 복수개의 가압부재 중 다른 하나에 형성되는 암나사산을 갖는 체결홀과, 관통홀에 관통되면서 체결홀에 체결되는 수나사산이 형성되는 볼트부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.
In addition, the adjustment member is a through hole formed in any one of the plurality of pressing members, a fastening hole having a female thread formed in the other one of the plurality of pressing members, and a male thread that is fastened to the fastening hole while penetrating the through hole. It characterized in that it comprises a bolt member is formed.

본 발명에 따르면, 한 쌍의 기판출입구를 선택적으로 개폐하는 게이트밸브를 마련하여 챔버의 고장여부 및 사용여부에 따라 게이트밸브를 이동시킬수 있는 이점이 있다. According to the present invention, there is an advantage in that the gate valve to selectively open and close a pair of substrate entrance and exit to move the gate valve in accordance with the failure or use of the chamber.

또한, 게이트밸브의 보수가 필요한 경우 일측 챔버의 기판출입구는 폐쇄하여 진공상태를 유지하면서 타측 챔버의 기판출입구는 진공상태를 해제하고 게이트밸브의 보수를 할 수 있는 이점이 있다.
In addition, when the gate valve needs to be repaired, the substrate inlet of the one chamber is closed to maintain the vacuum state, while the substrate inlet of the other chamber has the advantage of releasing the vacuum state and repairing the gate valve.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 대한 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 대한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 밸브구동부의 요부를 도시한 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브에 적용되는 게이트밸브의 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브에서 일측의 밸브부재가 분리된 사시도이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브가 밸브챔버의 하부에 위치한 상태를 나타낸 단면도이다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브가 상승하여 제1기판출입구 또는 제2기판출입구를 밀폐한 상태를 나타낸 단면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브를 도시한 사시도이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브의 분해사시도이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브의 분해단면도이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브의 결합단면도이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치를 도시한 사시도이다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치의 사용상태도이다. 1 is a view showing a schematic configuration of a gate valve device of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view of a gate valve device of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view showing a main portion of a valve driving unit applied to a gate valve device of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of a gate valve applied to a gate valve applied to the gate valve device of the substrate processing system according to an embodiment of the present invention.
5 is a perspective view of one side of the valve member is separated from the gate valve applied to the substrate processing system gate valve device according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating a state in which a gate valve applied to a gate valve device of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention is located below the valve chamber.
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a state in which a gate valve applied to a gate valve device of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention is raised to seal a first substrate entrance or a second substrate entrance.
8 is a perspective view showing a gate valve applied to a gate valve device of a substrate processing system according to another embodiment of the present invention.
9 is an exploded perspective view of a gate valve applied to a gate valve device of a substrate processing system according to another embodiment of the present invention.
10 is an exploded cross-sectional view of a gate valve applied to a gate valve device of a substrate processing system according to another embodiment of the present invention.
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a coupling of a gate valve applied to a gate valve device of a substrate processing system according to another exemplary embodiment of the present disclosure.
12 is a perspective view showing a gate valve device of a substrate processing system according to still another embodiment of the present invention.
13 is a state diagram of use of the gate valve device of the substrate processing system according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업 계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공 되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings in order to fully understand the present invention. Embodiment of the present invention may be modified in various forms, the scope of the invention should not be construed as limited to the embodiments described in detail below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Therefore, the shape of the elements in the drawings and the like may be exaggerated to emphasize a more clear description.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 대한 개략적인 구성을 도시한 도면이다. 1 is a view showing a schematic configuration of a gate valve device of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.

도 1에서 보는 바와 같이, 기판처리시스템의 게이트밸브장치는 제1기판출입구(3)가 형성된 제1챔버(1)와 제2기판출입구(4)가 형성된 제2챔버(2) 사이에 형성되는 밸브챔버(5)와, 밸브챔버(5) 내에서 승강하며 좌우로 이동하여 제1기판출입구(3)와 제2기판출입구(4)중 하나를 선택적으로 개폐하는 게이트밸브(100)와, 게이트밸브(100)를 제1기판출입구(3)와 제2기판출입구(4)중 한측으로 이동시키는 밸브구동부(200)와, 게이트밸브(100)의 구동시점과 구동방향을 결정하여 밸브구동부(200)를 제어하는 밸브제어부(300)로 구성된다. As shown in FIG. 1, a gate valve device of a substrate processing system is formed between a first chamber 1 having a first substrate entrance 3 and a second chamber 2 having a second substrate entrance 4. A gate valve 100 for moving the valve chamber 5 and the valve chamber 5 to move left and right to selectively open and close one of the first substrate entrance 3 and the second substrate entrance 4; The valve driver 200 moves the valve 100 to one side of the first substrate inlet 3 and the second substrate inlet 4, and determines a driving time and a driving direction of the gate valve 100. It is composed of a valve control unit 300 for controlling.

기판처리시스템은 제1챔버(1)와 제2챔버(2) 사이에 기판의 출입이 있을 경우 밸브챔버(5) 내의 게이트밸브(100)는 밸브챔버(5)의 하부로 하강된 상태로 유지되고, 제1챔버(1)에서 기판의 처리가 진행되는 동안에는 게이트밸브(100)가 밸브구동부(200)에 의해 상방향으로 상승하여 제1기판출입구(3)측으로 이동하여 제1기판출입구(3)를 폐쇄하게 된다. The substrate processing system maintains the gate valve 100 in the valve chamber 5 lowered to the lower portion of the valve chamber 5 when there is an entry or exit of the substrate between the first chamber 1 and the second chamber 2. While the substrate is being processed in the first chamber 1, the gate valve 100 is lifted upward by the valve driver 200 to move toward the first substrate entrance 3 and the first substrate entrance 3. ) Will be closed.

여기서, 게이트밸브(100)가 제1기판출입구(3) 또는 제2기판출입구(4) 중 어느 방향으로 이동할지는 밸브제어부(300)에 의해 결정되고, 밸브제어부(300)의 제어에 의해 밸브구동부(200)가 게이트밸브(100)를 이동시킨다.Here, the valve control unit 300 determines in which direction the gate valve 100 moves in the first substrate entrance 3 or the second substrate entrance 4, and is controlled by the valve control unit 300. 200 moves the gate valve 100.

도 2는 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 대한 사시도이고, 도 3은 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 밸브구동부의 요부를 도시한 사시도이다. Figure 2 is a perspective view of a gate valve device of the substrate processing system according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a main portion of the valve driving unit applied to the gate valve device of the substrate processing system according to an embodiment of the present invention. One perspective view.

도 2 및 도 3에서 보는 바와 같이, 게이트밸브(100)는 제1기판출입구(3) 또는 제2기판출입구(4)를 폐쇄하도록 형성된 한쌍의 밸브부재(110)가 구비된다. 이때, 밸브부재(110)의 일측면에 형성되는 복수개의 결합홈(111)과, 한쌍의 밸브부재(110)가 서로 반대 방향을 향하도록 결합되는 베이스부(120)와, 베이스부(120)의 양측면에 형성된 복수개의 결합돌기(121)가 구성된다. 2 and 3, the gate valve 100 is provided with a pair of valve member 110 formed to close the first substrate inlet (3) or the second substrate inlet (4). At this time, the plurality of coupling grooves 111 formed on one side of the valve member 110, the base portion 120 and the base portion 120 are coupled so that the pair of valve members 110 in the opposite direction to each other, A plurality of coupling protrusions 121 are formed on both sides of the.

여기서, 밸브부재(110)의 일측면에 형성된 복수개의 결합홈(111)을 베이스부(120)에 형성된 복수개의 결합돌기(121)에 수직 방향으로 슬라이딩하여 결합 또는 분리할 수 있다.. Here, the plurality of coupling grooves 111 formed on one side of the valve member 110 may be coupled or separated by sliding in a vertical direction to the plurality of coupling protrusions 121 formed on the base portion 120.

도 4는 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브에 적용되는 게이트밸브의 사시도이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브에서 일측의 밸브부재가 분리된 사시도이다. 4 is a perspective view of a gate valve applied to a gate valve applied to the gate valve device of the substrate processing system according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is a substrate processing system gate valve device according to an embodiment of the present invention One side valve member is separated from the gate valve to be applied is a perspective view.

도 4 및 도 5에서 보는 바와 같이, 게이트밸브장치의 밸브구동부(200)는 게이트밸브(100)가 상하 승강 및 좌우 회동 가능하도록 게이트밸브(100)의 하부영역을 지지하는 밸브지지실린더(210)와, 승강하며 밸브제어부(300)에 의해 선택된 방향으로 게이트밸브(100)를 이동시키는 회동가압레버(240)와, 밸브챔버(5)와 게이트밸브(100) 사이에 구비되며 회동가압레버(240)가 지지되어 상승하도록 함몰 형성된 지지면(221a,221b)이 구비된 지지프레임(220)과, 밸브챔버(5)의 좌우측 벽면에 세로로 일정길이 관통 형성되어 회동가압레버(240)의 승하강을 안내하는 가이드레일(230)과, 회동가압레버(240)의 하부를 지지하며 회동가압레버(240)를 승하강시키는 레버지지실린더(250)로 구성된다.4 and 5, the valve driving unit 200 of the gate valve device is a valve support cylinder 210 for supporting the lower region of the gate valve 100 so that the gate valve 100 can be moved up and down and left and right rotation And, a pivotal pressure lever 240 for elevating and moving the gate valve 100 in the direction selected by the valve control unit 300, and provided between the valve chamber 5 and the gate valve 100, and a pivotal pressure lever 240. The support frame 220 is provided with support surfaces 221a, 221b formed to be supported and ascended, and a predetermined length is vertically penetrated to the left and right wall surfaces of the valve chamber 5 to raise and lower the rotary pressure lever 240. Guide rail 230 for guiding the, and the lever supporting cylinder 250 for supporting the lower portion of the rotation pressing lever 240 to raise and lower the rotation pressing lever 240.

여기서, 밸브지지실린더(210)는 게이트밸브(100)의 하부를 지지하도록 형성되어 게이트밸브(100)를 좌우로 회동가능하도록 결합되는 밸브회동부(211)과, 밸브회동부(211)의 하부에 결합되고 게이트밸브(100)의 승하강을 지지하며 승강실린더(213)의 내부에 수용되도록 형성되는 밸브승강축(212)과, 승강실린더(213)의 하부를 지지하도록 형성되어 승강실린더(213)가 좌우로 회동가능하도록 결합되는 실린더회동부(214)로 구성된다. Here, the valve support cylinder 210 is formed so as to support the lower portion of the gate valve 100 is coupled to the valve rotating portion 211 so as to rotate the gate valve 100 to the left and right, the lower portion of the valve rotating portion 211 And a valve lift shaft 212 which is coupled to and supports the lift of the gate valve 100 and is accommodated inside the lift cylinder 213, and is configured to support a lower portion of the lift cylinder 213. ) Is composed of a cylinder rotating part 214 coupled to be rotatable from side to side.

또한, 회동가압레버(240)는 레버지지실린더(250)에 의해 승강하며 지지프레임(220)에 지지되어 게이트밸브(100)를 구동방향으로 가압한다. 회동가압레버(240)는 밸브제어부(300)에 의해 선택된 방향으로 회동하여 지지프레임(220)에 형성된 지지면(221a,221b)에 지지되어 상승하는 제1레버(241)와, 게이트밸브(100)에 결합되며 제1레버(241)의 상승궤적에 따라 게이트밸브(100)를 제1기판출입구(3) 또는 제2기판출입구(4)로 가압하는 제2레버(242)와, 제1레버(241)와 제2레버(242)를 축결합하여 회동시키는 레버회동축(243)으로 구성된다. In addition, the rotation pressure lever 240 is lifted by the lever support cylinder 250 and supported by the support frame 220 to press the gate valve 100 in the driving direction. The rotational pressure lever 240 rotates in the direction selected by the valve control unit 300 and is supported by the support surfaces 221a and 221b formed on the support frame 220 so as to rise, and the gate valve 100. A second lever 242 coupled to the first lever 241 and pressurizing the gate valve 100 to the first substrate inlet 3 or the second substrate inlet 4 according to the ascending trajectory of the first lever 241, and the first lever. And a lever pivot 243 for pivoting the 241 and the second lever 242 by rotation.

여기서, 제1레버(241)와 제2레버(242)는 서로 일정 각도로 이격되게 레버회동축(243) 상에 결합되는 것이 바람직하다. 레버지지실린더(250)의 승강에 따라 레버회동축(243)이 가이드레일(230)을 따라 승강하면 제1레버(241)는 지지프레임(220)의 제1지지면(221a) 또는 제2지지면(221b)을 따라 승강하고, 제2레버(242)는 게이트밸브(100)의 하부에 결합한 상태로 게이트밸브(100)와 함께 승강한다.
Here, the first lever 241 and the second lever 242 are preferably coupled on the lever pivot 243 to be spaced apart from each other at a predetermined angle. When the lever pivot 243 moves up and down along the guide rails 230 as the lever support cylinder 250 moves up and down, the first lever 241 may support the first support surface 221a or the second support of the support frame 220. Lifting along the surface 221b, the second lever 242 is elevated together with the gate valve 100 in a state coupled to the lower portion of the gate valve 100.

이러한 구성을 갖는 본 발명의 기판처리시스템의 게이트밸브장치의 동작과정을 도면을 참조하여 설명한다. An operation process of the gate valve device of the substrate processing system of the present invention having such a configuration will be described with reference to the drawings.

도 6은 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브가 밸브챔버의 하부에 위치한 상태를 나타낸 단면도이고, 도 7은 본 발명의 일실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브가 상승하여 제1기판출입구 또는 제2기판출입구를 밀폐한 상태를 나타낸 단면도이다. 6 is a cross-sectional view illustrating a state in which a gate valve applied to a gate valve device of a substrate processing system according to an embodiment of the present invention is located below the valve chamber, and FIG. 7 is a substrate processing system according to an embodiment of the present invention. Is a cross-sectional view showing a state in which a gate valve applied to a gate valve device of the valve is raised to seal the first substrate entrance or the second substrate entrance.

제1기판출입구(3)와 제2기판출입구(4)를 통해 기판이 입출될 때는 도 6 및 도 7에서 보는 바와 같이, 게이트밸브(100)가 밸브챔버(5) 하부영역에 위치되는데, 회동가압레버(240)는 레버지지실린더(250)에 의해 하강된 상태로 유지되고, 레버회동축(243)은 가이드레일(230)의 최하부에 위치한다. When the substrate enters and exits through the first substrate entrance 3 and the second substrate entrance 4, as shown in FIGS. 6 and 7, the gate valve 100 is positioned in the lower region of the valve chamber 5. The pressing lever 240 is maintained in the lowered state by the lever support cylinder 250, the lever pivot 243 is located at the bottom of the guide rail 230.

제1기판출입구(3)를 폐쇄해야 하는 경우 밸브제어부(300)는 레버회동축(243)을 시계방향으로 회동시킨다. 이에 의해 제1레버(241)는 시계방향으로 회동하여 제1지지면(221a)의 최하부에 위치된다. When the first substrate entrance 3 needs to be closed, the valve control unit 300 rotates the lever pivot 243 in a clockwise direction. As a result, the first lever 241 rotates in the clockwise direction and is positioned at the bottom of the first supporting surface 221a.

게이트밸브(100)와 회동가압레버(240)가 밸브지지실린더(210)와 레버지지실린더(250)에 의해 상승하면 레버회동축(243)은 가이드레일(230)을 따라 상승한다. 이때, 제1레버(241)는 제1지지면(221a)을 따라 상승하여 제1지지면(221a)의 최상부에 위치되고, 레버회동축(243)은 가이드레일(230)의 최상부에 위치되어 더 이상 상승하지 못하고 고정된다. When the gate valve 100 and the rotation pressure lever 240 are lifted by the valve support cylinder 210 and the lever support cylinder 250, the lever pivot 243 is raised along the guide rail 230. At this time, the first lever 241 is raised along the first support surface 221a and positioned at the top of the first support ground 221a, and the lever pivot 243 is positioned at the top of the guide rail 230. It no longer rises and is fixed.

여기서, 레버지지실린더(250)가 계속적으로 상승하게 되면 레버회동축(243)과, 제1레버(241)의 단부영역은 가이드레일(230)의 최상부와, 제1지지면(221a)의 최상부에 위치가 고정되므로 제1레버(241)와 레버회동축(243)으로 연결된 제2레버(242)는 제1기판출입구(3) 측으로 각도가 벌어지게 된다. 즉, 제1레버(241)와 각도가 벌어지는 제2레버(242)는 게이트밸브(100)를 제1기판출입구(3) 측으로 가압하여 제1기판출입구(3)를 폐쇄하게 된다. Here, when the lever support cylinder 250 continuously rises, the lever pivot shaft 243 and the end region of the first lever 241 are the top of the guide rail 230 and the top of the first supporting surface 221a. Since the position is fixed to the second lever 242 connected to the first lever 241 and the lever pivot 243 is an angle toward the first substrate entrance (3). That is, the second lever 242 having an angle with the first lever 241 presses the gate valve 100 toward the first substrate entrance 3 to close the first substrate entrance 3.

또한, 제2기판출입구(4)를 폐쇄해야 하는 경우는 밸브제어부(300)가 레버회동축(243)을 반시계방향으로 회동시키고, 제1레버(241)는 반시계방향으로 회동하여 제2지지면(221b)의 최하부에 위치된다. In addition, when it is necessary to close the second substrate entrance 4, the valve control unit 300 rotates the lever pivot 243 in the counterclockwise direction, and the first lever 241 rotates in the counterclockwise direction to the second. It is located in the lowest part of the support surface 221b.

게이트밸브(100)와 회동가압레버(240)가 밸브지지실린더(210)와 레버지지실린더(250)에 의해 상승하면 상기와 마찬가지로 레버회동축(243)은 가이드레일(230)을 따라 상승하고, 제1레버(241)는 제2지지면(221b)을 따라 상승하여 제2지지면(221b)의 최상부에 위치되며 레버지지실린더(250)가 계속적으로 상승하게 되면 레버회동축(243)과, 제1레버(241)의 단부영역은 가이드레일(230)의 최상부와, 제2지지면(221b)의 최상부에위치가 고정되므로 제1레버(241)와 레버회동축(243)으로 연결된 제2레버(242)는 제2기판출입구(4) 측으로 각도가 벌어지게 된다. 즉, 제1레버(241)와 각도가 벌어지는 제2레버(242)는 게이트밸브(100)를 제2기판출입구(4) 측으로 가압하여 제1기판출입구(3)를 폐쇄하게 된다. When the gate valve 100 and the rotational pressure lever 240 are raised by the valve support cylinder 210 and the lever support cylinder 250, the lever pivot 243 ascends along the guide rail 230 as described above. The first lever 241 is raised along the second support ground 221b and is positioned at the top of the second support ground 221b. When the lever support cylinder 250 is continuously raised, the lever pivot shaft 243 and The end region of the first lever 241 is fixed to the uppermost portion of the guide rail 230 and the uppermost portion of the second support ground 221b, so that the second lever connected to the first lever 241 and the lever pivot 243 is connected. The lever 242 is opened at an angle toward the second substrate entrance 4. That is, the second lever 242 having an angle with the first lever 241 presses the gate valve 100 toward the second substrate entrance 4 to close the first substrate entrance 3.

상기와 같은 동작을 하는 게이트밸브장치의 고장에 따른 수리 또는 밸브부재(110)를 교환하는 보수를 해야할 경우 보수가 필요한 밸브부재(110)와 반대방향의 기판출입구를 폐쇄하여 챔버의 진공상태를 유지하면서 밸브부재(110)에 형성된 결합홈(111)과 베이스부(120)에 형성된 결합돌기(121)에 의해 밸브부재(110)를 상방향으로 당기면 베이스부(120)에서 분리되므로 밸브부재(110)를 교체할 수 있다.
In case of repair or replacement of the valve member 110 due to the failure of the gate valve device which operates as described above, the substrate entrance in the opposite direction to the valve member 110 requiring repair is closed to maintain the vacuum state of the chamber. While the valve member 110 is pulled upward by the coupling groove 111 formed in the valve member 110 and the coupling protrusion 121 formed in the base portion 120, the valve member 110 is separated from the base portion 120. ) Can be replaced.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브를 도시한 사시도이고, 도 9는 본 발명의 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브의 분해사시도이고, 도 10은 본 발명의 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브의 분해단면도이고, 도 11은 본 발명의 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 적용되는 게이트밸브의 결합단면도이다.8 is a perspective view showing a gate valve applied to a gate valve device of a substrate processing system according to another embodiment of the present invention, Figure 9 is applied to a gate valve device of a substrate processing system according to another embodiment of the present invention 10 is an exploded perspective view of a gate valve, FIG. 10 is an exploded cross-sectional view of a gate valve applied to a gate valve device of a substrate processing system according to another embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a cross-sectional view of the substrate processing system according to another embodiment of the present invention. Coupling sectional view of the gate valve applied to a gate valve apparatus.

또한, 도 8 내지 도 11에서 보는 바와 같이, 게이트밸브(100)의 다른 실시예는 양측면에 측면개구부(402)가 형성되고, 상부에 상부개구부(401)가 형성되며, 내부에 수용공간(403)이 형성된 밸브케이스(410)와, 상부개구부(401)를 통해 수용공간(403)에 수용되어 측면개구부(402)로 돌출되는 밸브부재(420)와, 밸브부재(420)가 측면개구부(402)로 돌출되도록 밸브부재(420)의 후방에 배치되는 조절수단(430)으로 구성된다. 8 to 11, in another embodiment of the gate valve 100, side openings 402 are formed at both sides, an upper opening 401 is formed at an upper portion thereof, and an accommodation space 403 is formed therein. Is formed in the valve case 410, the valve member 420 is received in the receiving space 403 through the upper opening 401 and protrudes into the side opening 402, the valve member 420 is the side opening 402 It is composed of the adjusting means 430 is disposed in the rear of the valve member 420 to protrude.

여기서, 조절수단(430)은 서로 마주되는 경사면(432)이 각각 형성된 복수개의 가압부재(431)와, 가압부재(431)들을 상하부로 승하강시키는 조절부재(433)로 구성된다. Here, the adjusting means 430 is composed of a plurality of pressing members 431, each having an inclined surface 432 facing each other, and an adjusting member 433 for raising and lowering the pressing members 431 up and down.

이때, 가압부재(431)는 복수개의 가압부재(431) 중 어느 하나에 형성되는 관통홀(431a)과, 복수개의 가압부재(431) 중 다른 하나에 형성되는 암나사산을 갖는 체결홀(431b)로 구성된다. In this case, the pressing member 431 has a through hole 431a formed in any one of the plurality of pressing members 431 and a fastening hole 431b having a female thread formed in the other one of the plurality of pressing members 431. It consists of.

밸브부재(420)는 조절수단(430)에 의해 밸브케이스(410)의 측면개구부(402)로 돌출되어 제1기판출입구(3) 또는 제2기판출입구(4)를 개폐할 수 있도록 형성된다. 즉, 밸브케이스(410)의 상부개구부(401)를 통하여 수용공간(403)에 수용된 밸브부재(420)의 돌출부가 측면개구부(402)를 통해 밸브케이스(410)의 외부로 돌출되도록 측면개구부(402)측으로 밀착시킨다. 그리고 복수개의 가압부재(431)들 중에서 가압부재(431)의 내부에 암나사산이 형성된 체결홀(431b)을 구비한 가압부재(431) 및 내부에 관통홀(431a)이 형성된 가압부재(431)를 밸브케이스(410)의 상부개구부(401)를 통하여 밸브부재(420) 후측의 수용공간(403)으로 설치하는데 이때, 가압부재(431)의 경사면은 측면개구부(402)를 향하도록 설치된다. The valve member 420 protrudes from the side opening 402 of the valve case 410 by the adjusting means 430 so as to open and close the first substrate entrance 3 or the second substrate entrance 4. That is, the side opening portion (not shown) so that the protrusion of the valve member 420 accommodated in the accommodation space 403 through the upper opening portion 401 of the valve case 410 protrudes out of the valve case 410 through the side opening portion 402. 402). Among the plurality of pressing members 431, a pressing member 431 having a fastening hole 431b having a female thread formed therein and a pressing member 431 having a through hole 431a formed therein. The valve case 410 is installed to the receiving space 403 at the rear side of the valve member 420 through the upper opening 401. At this time, the inclined surface of the pressing member 431 is installed to face the side opening 402.

이렇게 설치된 가압부재(431)를 조절부재(430)로 관통하여 결합하는데 하부에 설치된 가압부재(431)의 체결홀(431b)에 조절부재(430)의 하부에 형성된 볼트부재가 결합되어 조절부재(430)를 조이면 하부에 설치된 가압부재(431)가 상승하고 상부에 설치된 가압부재(431)가 하강하여 밸브부재(420)를 측면개구부(402)측으로 가압한 상태로 밸브부재(420)의 후면을 지지하게 된다. The pressure member 431 installed as described above penetrates and is coupled to the adjustment member 430, and the bolt member formed at the lower portion of the adjustment member 430 is coupled to the fastening hole 431b of the pressure member 431 installed at the lower side to adjust the adjustment member ( When the 430 is tightened, the pressure member 431 installed at the lower portion is raised and the pressure member 431 installed at the upper portion is lowered to press the valve member 420 toward the side opening 402 side. Support.

상기와 같이 구성된 게이트밸브장치의 고장에 따른 수리 또는 밸브부재(420)를 교환하는 보수를 해야할 경우 보수가 필요한 밸브부재(420)와 반대방향의 기판출입구를 폐쇄하여 챔버의 진공상태를 유지하면서 밸브부재(420)를 교체하게 된다. When the repair or replacement of the valve member 420 is required due to the failure of the gate valve device configured as described above, the valve member 420 that needs to be repaired is closed and the substrate entrance in the opposite direction is closed to maintain the vacuum state of the chamber. The member 420 is replaced.

즉, 밸브케이스(410)에 설치된 조절수단(430)를 풀게되면 조절수단(430)에 형성된 볼트부재와 내부에 체결홀(431b)이 형성된 가압부재(431)에 의해 가압부재(431)들이 상하로 이동하게 된다. 이때, 후측 상하단에 경사면이 형성된 밸브부재(420)가 가압부재(431)에 형성된 경사면(432)에 지지되어 후측으로 이동된다. 이때, 가압부재(431)가 이동되어 조절부재(433)에 형성된 볼트부재가 체결홀(431b)을 빠져나오면 가압부재(431)중 상부에 있는 가압부재(431)와 조절부재(433)를 제거하여 남은 수용공간(403)을 통하여 밸브부재(420)를 교체하게 된다.
That is, when the adjusting means 430 installed in the valve case 410 is released, the pressing members 431 are moved up and down by the bolt member formed in the adjusting means 430 and the pressing member 431 in which the fastening hole 431b is formed. Will be moved to. At this time, the valve member 420 having the inclined surface formed on the rear upper and lower ends is supported by the inclined surface 432 formed on the pressing member 431 and moved to the rear side. At this time, when the pressing member 431 is moved and the bolt member formed in the adjusting member 433 exits the fastening hole 431b, the pressing member 431 and the adjusting member 433 of the upper part of the pressing member 431 are removed. The valve member 420 is replaced through the remaining accommodation space 403.

도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치를 도시한 사시도이고, 도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 기판처리시스템의 게이트밸브장치의 사용상태도이다. 12 is a perspective view showing a gate valve device of a substrate processing system according to still another embodiment of the present invention, and FIG. 13 is a state diagram of use of the gate valve device of the substrate processing system according to another embodiment of the present invention.

도 12에서 보는 바와 같이, 밸브구동부(200)는 게이트밸브(100)가 상하 승강 및 좌우 회동 가능하도록 지지하는 복수개의 밸브지지실린더(500)로 구성된다. As shown in FIG. 12, the valve driving unit 200 includes a plurality of valve support cylinders 500 for supporting the gate valve 100 to be able to vertically move up and down and rotate left and right.

여기서, 밸브지지실린더(500)는 게이트밸브(100)를 승강시키는 제1, 2, 3, 4승강실린더(510,520,530,540)와, 제1, 2, 3, 4승강실린더(510,520,530,540)의 상부에 형성되어 게이트밸브(100)가 좌우로 회동가능하도록 형성된 제1,2,3,4 밸브회동부(512,522,532,542)와, 제1, 2, 3, 4승강실린더(510,520,530,540)가 좌우로 회동가능하도록 제1, 2, 3, 4승강실린더(510,520,530,540)의 하부를 지지하는 제1, 2, 3, 4실린더회동부(511,521,531,541)를 포함한다. Here, the valve support cylinder 500 is formed on the first, second, third, fourth lift cylinders 510, 520, 530, 540 for elevating the gate valve 100, and the first, second, third, fourth lift cylinders 510, 520, 530, 540. The first, second, third, and fourth valve pivots 512, 522, 532, 542 and the first, second, third, and fourth lift cylinders 510, 520, 530, 540, which are formed so that the gate valve 100 is rotatable from side to side, are rotated from side to side. First, second, third, and fourth cylinder rotating parts (511,521,531,541) for supporting the lower portion of the 2, 3, 4 lifting cylinders (510, 520, 530, 540).

제1, 2, 3, 4승강실린더(510,520,530,540)는 게이트밸브(100)의 하부면에 제1,2,3,4밸브회동부(512,522,532,542)로 힌지결합된다. The first, second, third and fourth lifting cylinders 510, 520, 530 and 540 are hinged to the lower surface of the gate valve 100 by first, second, third and fourth valve pivots 512, 522, 532 and 542.

제1, 2, 3, 4실린더회동부(511,521,531,541)는 제1, 2, 3, 4승강실린더(510,520,530,540)의 하부에 형성되어 밸브챔버(5)의 바닥면에 결합된다. The first, second, third and fourth cylinder rotating parts 511, 521, 531 and 541 are formed below the first, second, third and fourth lifting cylinders 510, 520, 530 and 540 and are coupled to the bottom surface of the valve chamber 5.

이때, 제1, 4승강실린더(510,540)는 일렬로 형성되고, 제2, 3승강실린더(520,530)는 일렬로 형성된 제1, 4승강실린더(510,540)와 일정간격 좌측 또는 우측으로 이격되게 형성될 수 있다.
In this case, the first and fourth elevating cylinders 510 and 540 are formed in a row, and the second and third elevating cylinders 520 and 530 are formed to be spaced apart from the first and fourth elevating cylinders 510 and 540 in a predetermined distance to the left or the right. Can be.

상기와 같이 구성된 밸브구동부(200)의 동작은 도 13에서 보는 바와 같이, 제1, 4승강실린더(510,540)가 먼저 상승하고 제2, 3승강실린더(520,530)가 나중에 상승하면 게이트밸브(100)는 제1기판출입구(3) 방향으로 기울어져 상승하게 된다. 이때, 상승하는 게이트밸브(100)의 상부가 제1기판출입구(3)의 상부면에 닿았을 시 제2, 3승강실린더(520,530)가 계속적으로 상승하면 게이트밸브(100)의 하부가 제1기판출입구(3)의 하부면과 접촉하여 게이트밸브(100)는 제1기판출입구(3)를 폐쇄하게 된다. As shown in FIG. 13, the operation of the valve driving unit 200 configured as described above is performed when the first and fourth elevating cylinders 510 and 540 are raised first, and the second and third elevating cylinders 520 and 530 are later raised by the gate valve 100. Is inclined to the first substrate entrance (3) to rise. At this time, when the second and third elevating cylinders 520 and 530 continuously rise when the upper portion of the rising gate valve 100 touches the upper surface of the first substrate entrance 3, the lower portion of the gate valve 100 becomes first. The gate valve 100 closes the first substrate inlet 3 in contact with the lower surface of the substrate inlet 3.

또한, 제2, 3승강실린더(520,530)가 먼저 상승하고 제1, 4승강실린더(510,540)가 나중에 상승하면 게이트밸브(100)는 제2기판출입구(4) 방향으로 기울어져 상승하게 된다. 이때, 상승하는 게이트밸브(100)의 상부가 제2기판출입구(4)의 상부면에 접촉하고 제1, 4승강실린더(510,540)가 계속적으로 상승하면 게이트밸브(100)의 하부가 제2기판출입구(4)의 하부면과 접촉하여 게이트밸브(100)는 제2기판출입구(4)를 폐쇄하게 된다.
In addition, when the second and third elevating cylinders 520 and 530 rise first and the first and the fourth elevating cylinders 510 and 540 rise later, the gate valve 100 is inclined toward the second substrate entrance 4 to rise. At this time, when the upper portion of the rising gate valve 100 contacts the upper surface of the second substrate entrance 4 and the first and fourth lifting cylinders 510 and 540 continuously rise, the lower portion of the gate valve 100 becomes the second substrate. The gate valve 100 closes the second substrate entrance 4 in contact with the lower surface of the entrance 4.

이와 같이, 본 발명은 한 쌍의 기판출입구를 선택적으로 개폐하는 게이트밸브를 마련하여 챔버의 고장여부 및 사용여부에 따라 게이트밸브를 이동시킬 수 있고, 공정이 진행 중인 복수의 챔버중에서 게이트밸브의 보수가 필요한 경우 일측의 챔버는 진공상태를 유지하면서 타측의 챔버는 진공상태를 해제하고 게이트밸브의 보수를 할 수 있는 이점이 있다.
As described above, the present invention provides a gate valve for selectively opening and closing a pair of substrate entrances and doors to move the gate valve according to whether the chamber is broken and used, and repairs the gate valve in a plurality of chambers in the process. If there is a need to maintain the vacuum chamber on one side while the other chamber has the advantage to release the vacuum and to repair the gate valve.

1 : 제1챔버 2 : 제2챔버
3 : 제1기판출입구 4 : 제2기판출입구
5 : 밸브챔버 100 : 게이트밸브
110 : 밸브부재 111 : 결합홈
120 : 베이스부 121 : 결합돌기
200 : 밸브구동부 210 : 밸브지지실린더
211 : 밸브회동부 212 : 밸브승강축
213 : 승강실린더 214 : 실린더회동부
220 : 지지프레임 221 : 지지면
230 : 가이드레일 240 : 회동가압레버
241 : 제1레버 242 : 제2레버
243 : 레버회동축 300 : 밸브제어부1: 1st chamber 2: 2nd chamber
3: 1st substrate entrance 4: 2nd substrate entrance
5: Valve chamber 100: Gate valve
110: valve member 111: coupling groove
120: base portion 121: engaging projection
200: valve driving unit 210: valve support cylinder
211: valve rotating part 212: valve lift shaft
213: lifting cylinder 214: cylinder rotating part
220: support frame 221: support surface
230: guide rail 240: rotating pressure lever
241: first lever 242: second lever
243: lever rotating shaft 300: valve control unit

Claims (11)

삭제delete 기판이 이송되는 제1기판출입구(3)와 제2기판출입구(4)가 각각 형성된 제1챔버(1)와 제2챔버(2)를 개폐하도록 제1챔버(1)와 제2챔버(2)의 사이에 형성되는 밸브챔버(5)의 내부에 구비되며, 제1챔버출입구(3) 또는 제2챔버출입구(4) 중 어느 하나를 선택적으로 폐쇄하도록 게이트밸브(100)와, 이를 구동하는 밸브구동부(200)와, 밸브구동부(200)를 제어하는 밸브제어부(300);를 포함하여 이루어진 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 있어서;
상기 게이트밸브(100)는,
제1챔버출입구(3) 또는 제2챔버출입구(4)를 선택적으로 폐쇄하도록 구비된 한 쌍의 밸브부재(110); 및
밸브부재(110) 사이에 개재되고, 밸브부재(110)가 서로 반대 방향을 향하도록 결합되는 베이스부(120); 를 포함하고,
각각의 밸브부재(110)와 베이스부(120)의 접촉되는 면에 형성되는 결합홈(111)과, 결합돌기(121)에 의해 결합되는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템의 게이트밸브장치.
The first chamber 1 and the second chamber 2 so as to open and close the first chamber 1 and the second chamber 2 on which the first substrate entrance 3 and the second substrate entrance 4 are transferred, respectively. Is provided inside the valve chamber 5 formed between the gate valve 100 and selectively closing any one of the first chamber entrance 3 or the second chamber entrance 4. In the gate valve device of the substrate processing system comprising a; valve drive unit 200, and the valve control unit 300 for controlling the valve drive unit 200;
The gate valve 100,
A pair of valve members 110 provided to selectively close the first chamber entrance 3 or the second chamber entrance 4; And
A base portion 120 interposed between the valve members 110 and coupled to the valve members 110 in opposite directions; Including,
Gate valve device of the substrate processing system, characterized in that the coupling groove 111 formed on the contact surface of each valve member 110 and the base portion 120, and coupled by a coupling protrusion (121).
제 2항에 있어서,
상기 결합홈(111)과 결합돌기(121)는 밸브부재(110)가 수직 방향으로 슬라이딩되어 결합 또는 분리되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템의 게이트밸브장치.
The method of claim 2,
The coupling groove 111 and the coupling protrusion 121 is a gate valve device of a substrate processing system, characterized in that the valve member 110 is formed to be coupled or separated by sliding in the vertical direction.
기판이 이송되는 제1기판출입구(3)와 제2기판출입구(4)가 각각 형성된 제1챔버(1)와 제2챔버(2)를 개폐하도록 제1챔버(1)와 제2챔버(2)의 사이에 형성되는 밸브챔버(5)의 내부에 구비되며, 제1챔버출입구(3) 또는 제2챔버출입구(4) 중 어느 하나를 선택적으로 폐쇄하도록 게이트밸브(100)와, 이를 구동하는 밸브구동부(200)와, 밸브구동부(200)를 제어하는 밸브제어부(300);를 포함하여 이루어진 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 있어서;
상기 밸브구동부(200)는,
게이트밸브(100)가 상하 승강 및 좌우 회동 가능하도록 지지하는 밸브지지실린더(210);
밸브챔버(5)와 게이트밸브(100) 사이에 구비되는 좌우 두 쌍의 지지프레임(220);
밸브챔버(5)에 상부에서 하부로 관통 형성된 좌우 한 쌍의 가이드레일(230);
승강하며 밸브제어부(300)에 선택된 방향으로 게이트밸브(100)를 수평이동시키는 회동가압레버(240); 및
회동가압레버(240)의 하부를 지지하며 승하강시키는 레버지지실린더(250);를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템의 게이트밸브장치.
The first chamber 1 and the second chamber 2 so as to open and close the first chamber 1 and the second chamber 2 on which the first substrate entrance 3 and the second substrate entrance 4 are transferred, respectively. Is provided inside the valve chamber 5 formed between the gate valve 100 and selectively closing any one of the first chamber entrance 3 or the second chamber entrance 4. In the gate valve device of the substrate processing system comprising a; valve drive unit 200, and the valve control unit 300 for controlling the valve drive unit 200;
The valve driving unit 200,
A valve support cylinder 210 for supporting the gate valve 100 to be able to lift up and down and rotate left and right;
Two pairs of left and right support frames 220 provided between the valve chamber 5 and the gate valve 100;
A pair of left and right guide rails 230 penetrated from the top to the bottom in the valve chamber 5;
A lifting and lowering lever 240 which moves up and down and horizontally moves the gate valve 100 in the selected direction to the valve control unit 300; And
And a lever support cylinder (250) for supporting and lowering the lower portion of the rotation pressure lever (240).
제 4항에 있어서,
상기 밸브지지실린더(210)는,
게이트밸브(100)가 좌우로 회동가능하도록 게이트밸브(100)의 하부를 지지하는 밸브회동부(211);
밸브회동부(211)의 하부에 결합되어 게이트밸브(100)의 승하강을 지지하며 승강실린더(213)의 내부에 수용되는 밸브승강축(212); 및
승강실린더(213)가 좌우로 회동가능하도록 승강실린더(213)의 하부를 지지하는 실린더회동부(214);을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템의 게이트밸브장치.
The method of claim 4, wherein
The valve support cylinder 210,
A valve turning part 211 supporting a lower portion of the gate valve 100 so that the gate valve 100 can rotate left and right;
A valve lift shaft 212 coupled to the lower portion of the valve pivot 211 to support the lift of the gate valve 100 and accommodated in the lift cylinder 213; And
And a cylinder rotating part (214) for supporting a lower part of the lifting cylinder (213) so that the lifting cylinder (213) can rotate left and right.
제 4항에 있어서,
상기 회동가압레버(240)는
선택된 방향으로 회동하여 지지프레임(220)의 지지면(221)을 따라 상승하는 제1레버(241);
제1레버(241)의 상승궤적에 따라 게이트밸브(100)를 제1기판출입구(3) 또는 제2기판출입구(4)로 가압하는 제2레버(242); 및
제1레버(241) 및 제2레버(242)를 축결합하여 회동가능하도록 형성된 레버회동축(243);을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템의 게이트밸브장치.
The method of claim 4, wherein
The rotating pressure lever 240 is
A first lever 241 which rotates in a selected direction and rises along the support surface 221 of the support frame 220;
A second lever 242 for pressing the gate valve 100 to the first substrate entrance 3 or the second substrate entrance 4 according to the rising trajectory of the first lever 241; And
And a lever pivot shaft (243) formed to be rotatable by axially coupling the first lever (241) and the second lever (242).
기판이 이송되는 제1기판출입구(3)와 제2기판출입구(4)가 각각 형성된 제1챔버(1)와 제2챔버(2)를 개폐하도록 제1챔버(1)와 제2챔버(2)의 사이에 형성되는 밸브챔버(5)의 내부에 구비되며, 제1챔버출입구(3) 또는 제2챔버출입구(4) 중 어느 하나를 선택적으로 폐쇄하도록 게이트밸브(100)와, 이를 구동하는 밸브구동부(200)와, 밸브구동부(200)를 제어하는 밸브제어부(300);를 포함하여 이루어진 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 있어서;
상기 게이트밸브(100)는
양측면에 측면개구부(402)가 형성되고, 상부에 상부개구부(401)가 형성되며, 내부에 수용공간(403)이 형성된 밸브케이스(410);
상부개구부(401)를 통해 수용공간(403)에 수용되어 측면개구부(402)로 돌출되는 밸브부재(420); 및
밸브부재(420)가 측면개구부(402)로 돌출되도록 밸브부재(420)의 후방에 배치되는 조절수단(430);을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템의 게이트밸브장치.
The first chamber 1 and the second chamber 2 so as to open and close the first chamber 1 and the second chamber 2 on which the first substrate entrance 3 and the second substrate entrance 4 are transferred, respectively. Is provided inside the valve chamber 5 formed between the gate valve 100 and selectively closing any one of the first chamber entrance 3 or the second chamber entrance 4. In the gate valve device of the substrate processing system comprising a; valve drive unit 200, and the valve control unit 300 for controlling the valve drive unit 200;
The gate valve 100 is
A valve case 410 having side openings 402 formed at both sides, an upper opening 401 formed at an upper side thereof, and a receiving space 403 formed therein;
A valve member 420 received in the accommodation space 403 through the upper opening 401 and protruding to the side opening 402; And
And a control means (430) disposed at the rear of the valve member (420) such that the valve member (420) protrudes into the side opening (402).
제 7항에 있어서,
상기 조절수단(430)은
서로 마주하는 경사면(432)이 각각 형성된 복수개의 가압부재(431); 및
복수개의 가압부재(431)를 상하부로 승하강시키는 조절부재(433);를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템의 게이트밸브장치.
The method of claim 7, wherein
The adjusting means 430 is
A plurality of pressing members 431 each having inclined surfaces 432 facing each other; And
And a regulating member (433) for raising and lowering the plurality of pressing members (431) up and down.
제 8항에 있어서,
상기 가압부재(431)는
복수개의 가압부재(431) 중 어느 하나에 형성되는 관통홀(431a); 및
복수개의 가압부재(431) 중 다른 하나에 형성되는 암나사산을 갖는 체결홀(431b);을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템의 게이트밸브장치.
The method of claim 8,
The pressing member 431 is
A through hole 431a formed in any one of the plurality of pressing members 431; And
And a fastening hole (431b) having a female thread formed in another one of the plurality of pressing members (431).
기판이 이송되는 제1기판출입구(3)와 제2기판출입구(4)가 각각 형성된 제1챔버(1)와 제2챔버(2)를 개폐하도록 제1챔버(1)와 제2챔버(2)의 사이에 형성되는 밸브챔버(5)의 내부에 구비되며, 제1챔버출입구(3) 또는 제2챔버출입구(4) 중 어느 하나를 선택적으로 폐쇄하도록 게이트밸브(100)와, 이를 구동하는 밸브구동부(200)와, 밸브구동부(200)를 제어하는 밸브제어부(300);를 포함하여 이루어진 기판처리시스템의 게이트밸브장치에 있어서;
상기 밸브구동부(200)는,
게이트밸브(100)가 상하 승강 및 좌우 회동 가능하도록 지지하는 복수개의 밸브지지실린더(500)로 구성되고,
상기 밸브지지실린더(500) 중 양측의 최외측에 형성된 밸브지지실린더(500)와 내측에 형성된 밸브지지실린더(500)가 시간차를 두고 상승함으로써, 제1기판출입구(3) 또는 제2기판출입구(4) 중 하나를 선택적으로 폐쇄하는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템의 게이트밸브장치.
The first chamber 1 and the second chamber 2 so as to open and close the first chamber 1 and the second chamber 2 on which the first substrate entrance 3 and the second substrate entrance 4 are transferred, respectively. Is provided inside the valve chamber 5 formed between the gate valve 100 and selectively closing any one of the first chamber entrance 3 or the second chamber entrance 4. In the gate valve device of the substrate processing system comprising a; valve drive unit 200, and the valve control unit 300 for controlling the valve drive unit 200;
The valve driving unit 200,
It is composed of a plurality of valve support cylinder 500 for supporting the gate valve 100 to move up and down and left and right,
The valve support cylinder 500 formed on both outermost sides of the valve support cylinder 500 and the valve support cylinder 500 formed on the inner side thereof are lifted with a time difference, so that the first substrate entrance 3 or the second substrate entrance ( 4) The gate valve device of the substrate processing system, characterized in that for closing one of the selectively.
제 10항에 있어서,
상기 밸브지지실린더(500)는,
게이트밸브(100)를 승강시키는 제1, 2, 3, 4승강실린더(510,520,530,540);
제1, 2, 3, 4승강실린더(510,520,530,540)의 상부에 형성되어 게이트밸브(100)가 좌우로 회동가능하도록 형성된 제1,2,3,4 밸브회동부(512,522,532,542); 및
제1, 2, 3, 4승강실린더(510,520,530,540)가 좌우로 회동가능하도록 제1, 2, 3, 4승강실린더(510,520,530,540)의 하부를 지지하는 제1, 2, 3, 4실린더회동부(511,521,531,541)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리시스템의 게이트밸브장치.The method of claim 10,
The valve support cylinder 500,
First, second, third and fourth elevating cylinders 510, 520, 530 and 540 for elevating the gate valve 100;
First, second, third and fourth valve pivots 512, 522, 532, 542 formed on the first, second, third, and fourth lift cylinders 510, 520, 530, 540 so that the gate valve 100 can rotate left and right; And
First, second, third and fourth cylinder pivoting units 511, 521, 531, 541 supporting lower portions of the first, second, third, fourth lifting cylinders 510, 520, 530, 540 so that the first, second, third, fourth lifting cylinders 510, 520, 530, 540 can rotate left and right. Gate valve device of the substrate processing system comprising a.
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