KR101085241B1 - Gate valve assembly and water processing system having the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 게이트밸브어셈블리에 관한 것으로서, 기판이 입출되는 제1기판입출구와 제2기판입출구가 각각 형성된 제1챔버와 제2챔버 사이에 배치되는 밸브챔버와; 상기 밸브챔버 내에 구비되는 게이트밸브와; 상기 게이트밸브가 상기 밸브챔버 내를 이동하며 상기 제1기판입출구 또는 상기 제2기판입출구 중 어느 하나를 선택적으로 폐쇄하도록 상기 게이트밸브를 구동하는 밸브구동부와; 상기 밸브구동부의 구동방향을 제어하여 상기 구동방향의 기판입출구가 폐쇄되도록 상기 밸브구동부를 제어하는 밸브제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 의하여 한 개의 게이트밸브로 제1챔버와 제2챔버 사이의 기판출입구를 선택적으로 폐쇄할 수 있다. The present invention relates to a gate valve assembly, comprising: a valve chamber disposed between a first chamber and a second chamber each having a first substrate inlet / outlet and a second substrate inlet / outlet through which a substrate is input and output; A gate valve provided in the valve chamber; A valve driving part which drives the gate valve so that the gate valve moves in the valve chamber and selectively closes one of the first substrate inlet and the second substrate inlet and outlet; And a valve control unit controlling the valve driving unit to control the driving direction of the valve driving unit so that the substrate entrance and exit of the driving direction is closed.
As a result, a single gate valve can selectively close the substrate entrance between the first chamber and the second chamber.

Description

게이트밸브어셈블리와 이를 포함하는 기판처리시스템{GATE VALVE ASSEMBLY AND WATER PROCESSING SYSTEM HAVING THE SAME}GATE VALVE ASSEMBLY AND WATER PROCESSING SYSTEM HAVING THE SAME

본 발명은 게이트밸브어셈블리에 관한 것으로, 구체적으로는 기판을 처리하기 위한 기판처리시스템의 게이트밸브어셈블리에 관한 것이다.The present invention relates to a gate valve assembly, and more particularly, to a gate valve assembly of a substrate processing system for processing a substrate.

최근, 액정 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 장치, 반도체 장치들의 제조를 위한 기판 처리 시스템들은 복수 매의 기판을 일관해서 처리할 수 있는 클러스터 시스템이 채용되고 있다. 클러스터(cluster) 시스템은 이송 로봇(또는 핸들러; handler)과 그 주위에 마련된 복수의 기판 처리 모듈을 포함하는 멀티 챔버형 기판 처리 시스템을 지칭한다. 일반적으로, 클러스터 시스템은 이송 챔버(transfer chamber)와 이송 챔버 내에 회동이 자유롭게 마련된 이송 로봇을 구비한다. 이송 챔버의 각 변에는 기판의 처리 공정을 수행하기 위한 기판 처리 챔버가 장착된다. 이와 같은 클러스터 시스템은 복수개의 기판을 동시에 처리하거나 또는 여러 공정을 연속해서 진행 할 수 있도록 함으로 기판 처리량을 높이고 있다. 기판 처리량을 높이기 위한 또 다른 노력으로는 다중 기판 처리 챔버에서 복수 매의 기판을 동시에 처리하도록 하여 시간당 기판 처리량을 높이도록 하고 있다.In recent years, a substrate processing system for manufacturing a liquid crystal display device, a plasma display device, and semiconductor devices has been adopted a cluster system capable of processing a plurality of substrates consistently. A cluster system refers to a multi-chambered substrate processing system comprising a transfer robot (or handler) and a plurality of substrate processing modules provided around it. In general, a cluster system includes a transfer chamber and a transfer robot freely rotatable in the transfer chamber. Each side of the transfer chamber is equipped with a substrate processing chamber for performing a substrate processing process. Such a cluster system increases substrate throughput by allowing a plurality of substrates to be processed simultaneously or a plurality of processes can be performed continuously. Another effort to increase substrate throughput is to increase the substrate throughput per hour by simultaneously processing a plurality of substrates in multiple substrate processing chambers.

한편, 복수의 기판을 처리하기 위한 멀티 프로세스 시스템의 경우 기판 처리를 위한 공정 챔버가 다수 구성될 때 각각의 구성 별로 독립된 구성들이 사용되고 있다. Meanwhile, in the case of a multi-process system for processing a plurality of substrates, when a plurality of process chambers for processing a substrate are configured, independent configurations are used for each configuration.

상술한 멀티 프로세스 시스템의 경우 이송 챔버로부터 각 공정챔버로 기판의 이송을 위해 각 챔버의 기판출입구에는 게이트밸브가 마련된다. 게이트밸브는 공정진행 중일 때는 챔버를 폐쇄하여 진공상태를 유지하고 공정이 완료된 경우 개방되어 기판이 입출입되도록 하고 있다. In the multi-process system described above, a gate valve is provided at the substrate entrance of each chamber to transfer the substrate from the transfer chamber to each process chamber. The gate valve maintains a vacuum state by closing the chamber when the process is in progress and opens when the process is completed to allow the substrate to enter and exit.

복수의 기판을 동시에 처리하기 위해 복수의 기판처리챔버가 구비된 클러스터 타입의 경우 복수의 기판처리챔버 중 어느 한 개가 고장나서 수리가 필요한 때가 있다. 기판처리챔버와 이송챔버 사이에 한 개의 게이트밸브가 구비된 경우 고장난 기판처리챔버의 수리를 위해 압력변화가 생긴 경우 고장나지 않은 챔버에 압력이 가해져 기판처리공정에 영향을 미칠 우려가 있다.In the case of a cluster type in which a plurality of substrate processing chambers are provided for simultaneously processing a plurality of substrates, one of the plurality of substrate processing chambers may fail and require repair. When a gate valve is provided between the substrate processing chamber and the transfer chamber, if a pressure change occurs to repair the failed substrate processing chamber, pressure may be applied to the failed chamber to affect the substrate processing process.

본 발명의 목적은 한 쌍의 기판출입구를 선택적으로 개폐하는 게이트밸브를 마련하여 프로세스 챔버의 고장여부 및 사용여부에 따라 게이트밸브를 이동시킬 수 있는 게이트밸브 어셈블리 및 이를 포함하는 기판처리시스템을 제공하는데 그 목적이 있다. An object of the present invention is to provide a gate valve assembly and a substrate processing system including the same to provide a gate valve for selectively opening and closing a pair of substrate entrance and exit to move the gate valve according to the failure and use of the process chamber. The purpose is.

상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일면은 게이트밸브어셈블리에 관한 것이다. 본 발명의 게이트밸브어셈블리는 기판이 입출되는 제1기판입출구와 제2기판입출구가 각각 형성된 제1챔버와 제2챔버 사이에 배치되는 밸브챔버와;상기 밸브챔버 내에 구비되는 게이트밸브와; 상기 게이트밸브가 상기 밸브챔버 내를 이동하며 상기 제1기판입출구 또는 상기 제2기판입출구 중 어느 하나를 선택적으로 폐쇄하도록 상기 게이트밸브를 구동하는 밸브구동부와; 상기 밸브구동부의 구동방향을 제어하여 상기 구동방향의 기판입출구가 폐쇄되도록 상기 밸브구동부를 제어하는 밸브제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. One aspect of the present invention for achieving the above technical problem relates to a gate valve assembly. The gate valve assembly of the present invention includes a valve chamber disposed between a first chamber and a second chamber having a first substrate inlet and a second substrate inlet and outlet, respectively; A valve driving part which drives the gate valve so that the gate valve moves in the valve chamber and selectively closes one of the first substrate inlet and the second substrate inlet and outlet; And a valve control unit controlling the valve driving unit to control the driving direction of the valve driving unit so that the substrate entrance and exit of the driving direction is closed.

일 실시예에 따르면, 상기 밸브구동부는, 상기 게이트밸브가 상하 승강 및 좌우 회동가능하도록 상기 게이트밸브의 하부영역을 지지하는 밸브지지실린더와; 상기 게이트밸브의 양단부영역에 치합되고 상기 밸브제어부의 제어에 따라 구동방향으로 회동되어 치합된 상기 게이트밸브를 상기 구동방향으로 이동시키는 치합회동부를 포함한다.According to one embodiment, the valve driving unit, and the valve support cylinder for supporting the lower region of the gate valve so that the gate valve can be moved up and down and left and right rotation; And a engaging pivot portion which is engaged with both end regions of the gate valve and is moved in the driving direction under the control of the valve controller to move the gate valve engaged in the driving direction.

일 실시예에 따르면, 상기 밸브구동부는, 상기 게이트밸브의 양단부에 회동가능하게 구비되며, 단부영역이 상기 구동방향의 반대방향 챔버벽에 접촉지지되도록 회동되어 상기 게이트밸브가 상기 구동방향의 기판출입구를 폐쇄하도록 상기 게이트밸브를 가압하는 회동지지판을 포함한다.According to one embodiment, the valve driving portion is rotatably provided at both ends of the gate valve, the end region is rotated so as to be supported in contact with the chamber wall in the opposite direction of the driving direction so that the gate valve is a substrate entrance in the driving direction Rotating support plate for pressing the gate valve to close the.

일 실시예에 따르면, 상기 밸브챔버 벽 외측에 구비되어 상기 회동지지판을 상기 구동방향의 반대방향으로 회동시키는 자기회동판을 더 포함하고, 상기 회동지지판과 상기 자기회동판은 서로 반대되는 극성의 자석으로 구비된다. According to one embodiment, the valve chamber further comprises a magnetic rotating plate provided on the outside of the wall to rotate the pivot support plate in the opposite direction of the driving direction, the pivot support plate and the magnetic pivot plate are magnets of opposite polarity It is provided with.

일 실시예에 따르면, 상기 게이트밸브의 양단부영역에는 “V"자 형태의 레버수용홈이 구비되고, 상기 밸브구동부는, 상기 밸브챔버 벽 내측에 회동가능하게 구비되어 상승하는 게이트밸브의 구동방향측의 레버수용홈에 수용되어 상기 게이트밸브를 구동방향으로 안내하는 방향전환레버를 포함한다.According to an embodiment, both end regions of the gate valve are provided with a “V” shaped lever receiving groove, and the valve driving portion is rotatably provided inside the valve chamber wall in a driving direction side of the rising gate valve. It is accommodated in the lever receiving groove of the direction switching lever for guiding the gate valve in the driving direction.

일 실시예에 따르면, 상기 밸브구동부는, 상기 게이트밸브를 승강 및 회동가능하게 지지하는 밸브지지실린더와; 상기 밸브챔버 벽과 상기 게이트밸브 사이에 구비되며 판면에 함몰형성된 지지면이 형성된 좌우 한 쌍의 지지프레임과; 상기 밸브챔버 벽에 일정길이 관통형성된 좌우 한 쌍의 가이드레일과; 회동축이 상기 밸브챔버 벽과 상기 지지프레임 사이에서 상기 좌우 가이드홈 중 구동방향의 가이드홈을 따라 상승하며 회동하고, 상기 지지면을 따라 상승하며 이동하는 제2레버와, 상기 게이트밸브와 결합된 상태로 상기 제2레버와 소정 각도로 이격되게 구비되며 상기 제2레버의 상승궤적에 따라 상기 게이트밸브를 구동방향으로 가압하는 제1레버를 갖는 회동가압레버를 포함한다. According to one embodiment, the valve driving unit, and a valve support cylinder for supporting the gate valve to lift and rotate; A pair of left and right support frames provided between the valve chamber wall and the gate valve and having a support surface recessed on a plate surface; A pair of left and right guide rails formed at a predetermined length through the valve chamber wall; A second lever pivoted along a guide groove in a driving direction among the left and right guide grooves between the valve chamber wall and the support frame, and a second lever moving up and moving along the support surface; And a rotation pressing lever having a first lever spaced apart from the second lever at a predetermined angle in a state and pressurizing the gate valve in a driving direction according to the rising trajectory of the second lever.

한편, 본 발명의 목적은 기판처리시스템에 의해 달성될 수 있다. 기판처리시스템은 제1기판출입구 및 제2기판출입구가 각각 형성된 제1챔버 및 제2챔버와; 상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이에 구비되며 상기 제1기판출입구와 상기 제2기판출입구 중 어느 하나를 선택적으로 개폐하는 상술한 게이트밸브어셈블리를 포함하는 것을 특징으로 한다. On the other hand, the object of the present invention can be achieved by a substrate processing system. The substrate processing system includes a first chamber and a second chamber each having a first substrate entrance and a second substrate entrance; And the gate valve assembly described above provided between the first chamber and the second chamber to selectively open or close any one of the first substrate inlet and the second substrate inlet.

본 발명의 게이트밸브 어셈블리에 따르면, 한 쌍의 기판출입구 사이에 한 개의 게이트밸브가 위치가 이동되어 선택적으로 기판출입구를 폐쇄할 수 있다. According to the gate valve assembly of the present invention, one gate valve is moved between a pair of substrate entrances to selectively close the substrate entrances.

도 1은 본 발명의 기판처리시스템의 개략적인 구성을 도시한 개략도,
도 2는 본 발명의 게이트밸브어셈블리의 구성을 개략적으로 도시한 개략도,
도 3 내지 도5는 본 발명의 게이트밸브어셈블리의 동작과정을 개략적으로 도시한 개략도,
도 6 내지 도9는 본 발명의 게이트밸브어셈블리의 제1실시예에 따른 밸브구동부의 구성과 동작과정을 도시한 도면들이고,
도 10 내지 도13 본 발명의 게이트밸브어셈블리의 제2실시예에 따른 밸브구동부의 구성과 동작과정을 도시한 도면들이고,
도 14 내지 도19는 본 발명의 게이트밸브어셈블리의 제3실시예에 따른 밸브구동부의 구성과 동작과정을 도시한 도면들이고,
도 20 내지 도24는 본 발명의 게이트밸브어셈블리의 제4실시예에 따른 밸브구동부의 구성과 동작과정을 도시한 도면들이고,
도 25 내지 도30은 본 발명의 게이트밸브어셈블리의 제5실시예에 따른 밸브구동부의 구성과 동작과정을 도시한 도면들이고,
도 31 내지 도34는 본 발명의 게이트밸브어셈블리의 자기구동부의 일례를 도시한 예시도이다.1 is a schematic view showing a schematic configuration of a substrate processing system of the present invention;
Figure 2 is a schematic diagram schematically showing the configuration of the gate valve assembly of the present invention,
3 to 5 is a schematic diagram schematically showing the operation of the gate valve assembly of the present invention,
6 to 9 are views showing the configuration and operation of the valve driving unit according to the first embodiment of the gate valve assembly of the present invention,
10 to 13 are views showing the configuration and operation of the valve driving unit according to the second embodiment of the gate valve assembly of the present invention,
14 to 19 are views showing the configuration and operation of the valve driving unit according to the third embodiment of the gate valve assembly of the present invention,
20 to 24 are views showing the configuration and operation of the valve driving unit according to the fourth embodiment of the gate valve assembly of the present invention,
25 to 30 are views showing the configuration and operation of the valve driving unit according to the fifth embodiment of the gate valve assembly of the present invention,
31 to 34 are exemplary views showing an example of a magnetic drive unit of the gate valve assembly of the present invention.

본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공 되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. 각 도면에서 동일한 부재는 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.
In order to fully understand the present invention, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Embodiment of the present invention may be modified in various forms, the scope of the invention should not be construed as limited to the embodiments described in detail below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Therefore, the shape of the elements in the drawings and the like may be exaggerated to emphasize a more clear description. It should be noted that the same members in each drawing are sometimes shown with the same reference numerals. Detailed descriptions of well-known functions and configurations that are determined to unnecessarily obscure the subject matter of the present invention are omitted.

도1은 본 발명에 따른 기판처리시스템의 구성을 개략적으로 도시한 개략도이다. 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 기판처리시스템(10)은 제1, 제2 및 제3 공정 챔버(100a,100b,100c)와 그 사이에 배치된 트랜스퍼 챔버(200)를 구비한다. 제1공정챔버(100a), 제2공정챔버(100b) 및 제3공정챔버(100c)에는 각각 기판이 입출입되는 제1기판출입구(120)와 제2기판출입구(220)가 마련된다. 트랜스퍼 챔버(200)의 전방으로 로드 락 챔버(300)가 구비되고, 로드 락 챔버(300)의 전방으로 다수의 캐리어(520)가 장착되는 인덱스(500)가 설치된다. 인덱스(500)는 설비 전방 단부 모듈(equipment front end module, 이하 EFEM)이라고도 하며 때로는 로드 락 챔버를 포괄하여 명칭 된다. 기판 처리 시스템은 필요에 따라 기판 냉각을 위한 냉각 처리 챔버 또는 기판 예열을 위한 예열 처리 챔버가 구비될 수 있다. 각각의 공정챔버(100a,100b,100c)와 트랜스퍼챔버(200) 사이에는 기판의 입출을 위해 기판출입구(120,220)를 개폐하는 게이트밸브어셈블리(400)가 구비된다.
1 is a schematic diagram schematically showing a configuration of a substrate processing system according to the present invention. As shown, the substrate processing system 10 according to the present invention includes the first, second and third process chambers 100a, 100b, 100c and a transfer chamber 200 disposed therebetween. A first substrate entrance 120 and a second substrate entrance 220 are provided in the first process chamber 100a, the second process chamber 100b, and the third process chamber 100c, respectively. The load lock chamber 300 is provided in front of the transfer chamber 200, and the index 500 in which the plurality of carriers 520 is mounted in front of the load lock chamber 300 is installed. Index 500, also known as an equipment front end module (EFEM), is sometimes referred to as a load lock chamber. The substrate processing system may be provided with a cooling processing chamber for cooling the substrate or a preheating chamber for preheating the substrate, as necessary. A gate valve assembly 400 is provided between each of the process chambers 100a, 100b, and 100c and the transfer chamber 200 to open and close the substrate entrances 120 and 220 for entering and exiting the substrate.

게이트밸브어셈블리(400)는 도2에 도시된 바와 같이 제1기판출입구(120)와 제2기판출입구(220) 사이에 구비되는 밸브챔버(410)와, 밸브챔버(410) 내에서 좌우로 이동하며 제1기판출입구(120)와 제2기판출입구(220)를 선택적으로 개폐하는 게이트밸브(420)와, 게이트밸브(420)를 제1기판출입구(120) 또는 제2기판출입구(220) 측으로 선택적으로 이동시키는 밸브구동부(430)와, 밸브구동부(430)의 구동방향을 선택하는 방향선택부(440)와, 게이트밸브(420)의 구동시점과 구동방향을 결정하여 밸브구동부(430)를 제어하는 밸브제어부(450)를 포함한다. As shown in FIG. 2, the gate valve assembly 400 moves left and right within the valve chamber 410 and the valve chamber 410 provided between the first substrate entrance 120 and the second substrate entrance 220. And a gate valve 420 for selectively opening and closing the first substrate entrance 120 and the second substrate entrance 220, and the gate valve 420 toward the first substrate entrance 120 or the second substrate entrance 220. The valve driving unit 430 for selectively moving, the direction selecting unit 440 for selecting the driving direction of the valve driving unit 430, and the driving time and driving direction of the gate valve 420 are determined to determine the valve driving unit 430. It includes a valve control unit 450 for controlling.

게이트밸브어셈블리(400)는 트랜스퍼챔버(200)와 공정챔버(100) 사이에 기판의 출입이 있는 경우 도3에 도시된 바와 같이 게이트밸브(420)가 밸브챔버(410) 내에서 하부로 하강된 상태를 유지한다. 그리고, 공정챔버(100)에서 기판의 처리가 진행되는 동안에는 도4에 도시된 바와 같이 게이트밸브(420)가 밸브구동부(430)에 의해 상방향으로 상승하여 제1기판출입구(120) 측으로 이동하여 제1기판출입구(120)를 폐쇄한다. The gate valve assembly 400 is a gate valve 420 is lowered in the valve chamber 410 as shown in Figure 3 when the substrate is in and out between the transfer chamber 200 and the process chamber 100 Maintain state. While the substrate is processed in the process chamber 100, the gate valve 420 is lifted upward by the valve driver 430 to move toward the first substrate entrance 120 as shown in FIG. 4. The first substrate entrance 120 is closed.

또한, 공정챔버(100)가 고장이 나서 작동이 안되는 경우 도5에 도시된 바와 같이 게이트밸브(420)는 밸브구동부(430)에 의해 제2기판출입구(220)를 폐쇄하여 공정챔버(100)와 트랜스퍼챔버(200)를 격리시킨다.In addition, when the process chamber 100 fails and is not operated, as shown in FIG. 5, the gate valve 420 closes the second substrate inlet and outlet 220 by the valve driver 430 to process the chamber 100. And the transfer chamber 200 are isolated.

게이트밸브(420)의 판면에는 실링부재(425)가 구비되어 제1기판출입구(120) 및 제2기판출입구(220)와의 결속력을 높인다. A sealing member 425 is provided on the plate surface of the gate valve 420 to increase the binding force between the first substrate inlet 120 and the second substrate inlet 220.

여기서, 게이트밸브(420)가 제1기판출입구(120) 또는 제2기판출입구(220) 중 어느 방향으로 이동할지는 밸브제어부(450)에 의해 결정되고, 밸브제어부(450)의 제어에 의해 밸브구동부(430)가 게이트밸브(420)를 이동시킨다.
Here, the valve control unit 450 determines which direction the gate valve 420 moves in the first substrate inlet 120 or the second substrate inlet 220, and the valve driver is controlled by the valve controller 450. 430 moves the gate valve 420.

도6 내지 도9는 본 발명의 제1실시예에 따른 밸브구동부(430)의 구성을 도시한 도면들이다. 본 발명의 제1실시예에 따른 밸브구동부(430)는 게이트밸브(420)의 하부영역을 승강가능하게 지지하는 밸브지지실린더(431)와, 게이트밸브(420)의 양측면에 결합되어 게이트밸브(420)를 전후로 이동시키는 치합회동부(433)를 포함한다. 6 to 9 are views illustrating a configuration of the valve driving unit 430 according to the first embodiment of the present invention. The valve driver 430 according to the first embodiment of the present invention is coupled to both side surfaces of the valve support cylinder 431 and the gate valve 420 so as to support the lower region of the gate valve 420, the gate valve ( 420 includes a engagement pivoting portion 433 for moving the back and forth.

본 발명의 제1실시예에 따른 게이트밸브(420)는 양단부에 결합홈(426)이 형성된다. 결합홈(426)은 치합회동부(433)의 밸브결합홈(433b)에 치합된다. In the gate valve 420 according to the first embodiment of the present invention, coupling grooves 426 are formed at both ends. The coupling groove 426 is engaged with the valve coupling groove 433b of the engagement pivot portion 433.

밸브지지실린더(431)는 내부에 수용되는 승강축(431a)과, 밸브지지실린더(431)의 하부영역을 회동가능하게 지지하는 회동축(431b)을 포함한다. 승강축(431a)은 상부영역은 게이트밸브(420)의 하부영역에 결합되고 하부영역은 밸브지지지지실린더(431)의 내부에 수용된다. 승강축(431a)은 밸브제어부(450)의 제어에 따라 밸브지지실린더(431) 내부를 상승 또는 하강하며 게이트밸브(420)의 수직 위치를 조절한다.The valve support cylinder 431 includes a lifting shaft 431a accommodated therein, and a rotation shaft 431b rotatably supporting the lower region of the valve support cylinder 431. The lifting shaft 431a has an upper region coupled to a lower region of the gate valve 420, and the lower region is accommodated in the valve support cylinder 431. The lifting shaft 431a adjusts the vertical position of the gate valve 420 by raising or lowering the inside of the valve support cylinder 431 according to the control of the valve control unit 450.

회동축(431b)은 밸브지지실린더(431)를 밸브챔버(410)의 바닥면에 대해 좌우로 회동가능하게 지지한다. 이에 의해 밸브지지실린더(431)는 도7에 도시된 바와 같이 회동축(431b)을 중심으로 바닥면에 대해 좌우로 기울어지며 게이트밸브(420)가 제1기판출입구(120) 또는 제2기판출입구(220)로 수평 이동하도록 지지한다. The rotation shaft 431b rotatably supports the valve support cylinder 431 to the left and right with respect to the bottom surface of the valve chamber 410. As a result, the valve support cylinder 431 is inclined from side to side with respect to the bottom surface of the pivot shaft 431b as shown in FIG. Support horizontal movement to 220.

치합회동부(433)는 게이트밸브(420)의 양측에 결합되어 게이트밸브(420)가 제1기판출입구(120) 또는 제2기판출입구(220)로 수평이동하도록 위치를 안내한다. 치합회동부(433)는 내부에 구비되어 밸브제어부(450)의 제어에 따라 회동되며 치합회동부(433)를 회동시키는 회전축(433a)과, 치합회동부(433)의 외주연에 형성되어 게이트밸브(420)의 양단부와 치합되는 밸브결합홈(433b)과, 회전축(433a)의 하부영역을 지지하여 회전축(433a)을 구동방향으로 회동시키는 회동부(433c)를 포함한다. The engagement pivot 433 is coupled to both sides of the gate valve 420 to guide the position so that the gate valve 420 moves horizontally to the first substrate entrance 120 or the second substrate entrance 220. The engagement pivot portion 433 is provided at an outer circumference of the rotation shaft 433a and the engagement pivot portion 433 which are provided therein and are rotated under the control of the valve control portion 450 and rotate the engagement pivot portion 433. And a valve engaging groove 433b engaged with both ends of the valve 420, and a rotation part 433c supporting the lower region of the rotation shaft 433a to rotate the rotation shaft 433a in the driving direction.

회동부(433c)는 구동모터와 같은 구동원으로 구비되어 밸브제어부(450)의 제어에 따라 구동방향으로 회동되어 내부에 결합된 회전축(433a)을 구동방향으로 회동시킨다. 회동축(433c)은 지지프레임(433d)을 관통하여 회동부(433c)에 결합된다. The rotating unit 433c is provided as a driving source such as a driving motor, and rotates in the driving direction under the control of the valve control unit 450 to rotate the rotating shaft 433a coupled therein in the driving direction. The pivot shaft 433c penetrates through the support frame 433d and is coupled to the pivot part 433c.

이러한 구성을 갖는 본 발명의 제1실시예에 따른 밸브구동부(430)의 게이트밸브(420) 구동과정을 도7과 도8을 참조로 설명한다. A driving process of the gate valve 420 of the valve driving unit 430 according to the first embodiment of the present invention having such a configuration will be described with reference to FIGS. 7 and 8.

제1기판출입구(120)와 제2기판출입구(220)를 통해 기판이 출입될 때는 도7에 도시된 바와 같이 게이트밸브(420)는 밸브챔버(410)의 하부영역에 위치한다. 이 때, 게이트밸브(420)는 결합홈(426)이 밸브결합홈(433b)에 맞물리게 결합된 상태로 유지되고, 밸브지지실린더(431)는 축방향으로 수직하게 위치한다. When the substrate enters and exits through the first substrate entrance 120 and the second substrate entrance 220, as shown in FIG. 7, the gate valve 420 is located in the lower region of the valve chamber 410. At this time, the gate valve 420 is maintained in a state that the coupling groove 426 is engaged with the valve coupling groove 433b, the valve support cylinder 431 is positioned vertically in the axial direction.

기판처리를 위해 밸브제어부(450)가 제1기판출입구(120)를 폐쇄하도록 게이트밸브(420)를 이동시키고자 하면, 밸브제어부(450)는 승강축(431a)이 밸브지지실린더(431)의 상부영역으로 상승하도록 제어하고, 회동부(433c)가 반시계방향으로 회동되도록 제어한다. 승강축(431a)의 상승에 의해 게이트밸브(420)는 밸브결합홈(433b)을 따라 상승한다. 상승된 게이트밸브(420)는 회전축(433a)의 반시계방향 회동에 따라 제1기판출입구(120)를 향해 수평방향으로 이동하고 실링부재(425)가 제1기판출입구(120)를 커버하며 공정챔버(100)를 폐쇄한다. 이 때, 밸브지지실린더(431)는 게이트밸브(420)의 수평방향 이동에 의해 가압되어 회동축(431b)을 중심으로 제1기판출입구(120) 방향으로 기울어져 게이트밸브(420)를 지지한다. In order to move the gate valve 420 so that the valve control unit 450 closes the first substrate entrance 120 for substrate processing, the valve control unit 450 has a lifting shaft 431a of the valve support cylinder 431. A control is made to rise to the upper region, and the rotating part 433c is controlled to rotate counterclockwise. As the lifting shaft 431a rises, the gate valve 420 rises along the valve engagement groove 433b. The raised gate valve 420 moves in the horizontal direction toward the first substrate inlet 120 according to the counterclockwise rotation of the rotation shaft 433a, and the sealing member 425 covers the first substrate inlet 120. The chamber 100 is closed. At this time, the valve support cylinder 431 is pressed by the horizontal movement of the gate valve 420 is inclined toward the first substrate entrance 120 around the pivot shaft 431b to support the gate valve 420. .

한편, 게이트밸브(420)가 제2기판출입구(220)를 폐쇄하고자 하면 밸브제어부(450)는 회전축(433a)를 시계방향으로 회동시켜 게이트밸브(420)의 수평이동방향을 조절한다.
On the other hand, when the gate valve 420 tries to close the second substrate entrance 220, the valve controller 450 rotates the rotation shaft 433a clockwise to adjust the horizontal movement direction of the gate valve 420.

도10 내지 도13은 본 발명의 제2실시예에 따른 밸브구동부(460)의 구성을 도시한 도면들이다. 10 to 13 are views illustrating a configuration of the valve driving unit 460 according to the second embodiment of the present invention.

본 발명의 제2실시예에 따른 밸브구동부(460)는 게이트밸브(420)를 승강가능하게 지지하는 밸브지지실린더(461)와, 게이트밸브(420)의 양단부에 결합되어 구동방향의 반대방향으로 회동되며 게이트밸브(420)를 구동방향으로 이동시키는 회동지지판(463)과, 구동방향에 따라 회전하는 구동부(465)와, 구동부(465)와 자기구동축(464)에 의해 연결되어 구동부(465)의 구동방향으로 회전하는 자기구동판(466)을 포함한다. The valve driving unit 460 according to the second embodiment of the present invention is coupled to both ends of the valve support cylinder 461 and the gate valve 420 to support the gate valve 420 in the opposite direction to the driving direction. Rotating support plate 463, which rotates and moves the gate valve 420 in the driving direction, the driving unit 465 that rotates in the driving direction, the driving unit 465 and the magnetic drive shaft 464 is connected to the driving unit 465 It includes a magnetic drive plate 466 that rotates in the driving direction of.

밸브지지실린더(461)의 구성은 앞서 설명한 제1실시예에에서와 동일하므로 자세한 설명은 생략한다. Since the configuration of the valve support cylinder 461 is the same as in the first embodiment described above, detailed description thereof will be omitted.

회동지지판(463)과 자기구동판(466)는 자력에 의해 구동된다. 회동지지판(463)과 자기구동판(466)은 도13에 도시된 바와 같이 서로 다른 극성을 갖는 자석으로 배치된다. 이에 따라 자기구동판(466)이 회동되는 방향으로 회동지지판(463)이 자력에 의해 회동된다. The rotation support plate 463 and the magnetic drive plate 466 are driven by magnetic force. The rotation support plate 463 and the magnetic drive plate 466 are arranged as magnets having different polarities as shown in FIG. Accordingly, the rotation support plate 463 is rotated by the magnetic force in the direction in which the magnetic drive plate 466 is rotated.

회동지지판(463)은 부채꼴 형상으로 구비되며, 반경이 밸브챔버(410)의 중심에서 밸브챔버(410)의 측벽까지의 거리보다 길게 구비된다. 이에 의해 회동지지판(463)이 자기구동판(466)에 의해 회동되면, 회동지지판(463)의 외주연이 밸브챔버(410)의 측벽에 접촉되면서 게이트밸브(420)를 구동방향으로 가압한다. 따라서, 게이트밸브(420)는 수평방향으로 이동하여 제1기판출입구(120) 또는 제2기판출입구(220)를 폐쇄한다. Rotating support plate 463 is provided in a fan shape, the radius is provided longer than the distance from the center of the valve chamber 410 to the side wall of the valve chamber 410. As a result, when the rotation support plate 463 is rotated by the magnetic drive plate 466, the outer circumferential edge of the rotation support plate 463 contacts the side wall of the valve chamber 410 and presses the gate valve 420 in the driving direction. Accordingly, the gate valve 420 moves in the horizontal direction to close the first substrate entrance 120 or the second substrate entrance 220.

이러한 구성을 갖는 본 발명의 제2실시예에 따른 밸브구동부(460)의 게이트밸브(420) 구동과정을 도11과 도12를 참조로 설명한다. A driving process of the gate valve 420 of the valve driving unit 460 according to the second embodiment of the present invention having such a configuration will be described with reference to FIGS. 11 and 12.

제1기판출입구(120)와 제2기판출입구(220)를 통해 기판이 출입될 때는 게이트밸브(420)는 도11에 도시된 바와 같이 밸브챔버(410)의 하부영역에 구비된다. When the substrate enters and exits through the first substrate entrance 120 and the second substrate entrance 220, the gate valve 420 is provided in the lower region of the valve chamber 410 as shown in FIG. 11.

공정챔버(100)에서의 기판처리를 위해 게이트밸브(420)가 제1기판출입구(120)를 폐쇄해야 하는 경우, 밸브제어부(450)는 구동부(465)를 시계방향으로 구동하여 자기구동판(466)이 제2기판출입구(220) 방향으로 회동되도록 한다. 즉, 밸브제어부(450)는 게이트밸브(420)가 폐쇄해야 하는 기판출입구의 반대방향으로 자기구동판(466)이 회동되도록 한다. When the gate valve 420 needs to close the first substrate entrance 120 in order to process the substrate in the process chamber 100, the valve control unit 450 drives the driving unit 465 in a clockwise direction so that the magnetic driving plate ( 466 is rotated in the direction of the second substrate entrance 220. That is, the valve controller 450 allows the magnetic drive plate 466 to rotate in the direction opposite to the substrate entrance to which the gate valve 420 is to be closed.

회동지지판(463)은 자력에 의해 자기구동판(466)의 회동방향으로 회동되고, 회동지지판(463)의 단부영역은 제2기판출입구(220)가 형성된 밸브챔버(410)의 벽면에 접촉지지된다. 회동지지판(463)이 회동되면 회동지지판(463)은 밸브챔버(410)의 벽면에 접촉되면서 게이트밸브(420)를 제1기판출입구(120) 측으로 가압된다.The rotation support plate 463 is rotated in the direction of rotation of the magnetic drive plate 466 by magnetic force, and the end region of the rotation support plate 463 is in contact with the wall surface of the valve chamber 410 in which the second substrate entrance 220 is formed. do. When the pivot support plate 463 is rotated, the pivot support plate 463 contacts the wall surface of the valve chamber 410 and presses the gate valve 420 toward the first substrate entrance 120.

이에 의해 게이트밸브(420)는 제1기판출입구(120) 방향으로 수평이동하여 제1기판출입구(120)를 폐쇄한다.As a result, the gate valve 420 moves horizontally in the direction of the first substrate entrance 120 to close the first substrate entrance 120.

한편, 게이트밸브(420)가 제2기판출입구(220)를 폐쇄해야 하는 경우 자기구동판(466)은 제1기판출입구(120) 방향으로 회동되어 회동지지판(463)이 제1기판출입구(120) 측의 벽면에 접촉지지된다.
On the other hand, when the gate valve 420 is to close the second substrate entrance 220, the magnetic drive plate 466 is rotated in the direction of the first substrate entrance 120 so that the rotation support plate 463 is the first substrate entrance 120 ) Is supported by the wall on the side.

도14 내지 도19c는 본 발명의 제3실시예에 따른 밸브구동부(470)의 구성과 동작과정을 도시한 도면들이다. 14 to 19C are diagrams illustrating the configuration and operation of the valve driving unit 470 according to the third embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이 본 발명의 제3실시예에 따른 밸브구동부(470)는 게이트밸브(420)를 수직방향으로 승강지지하는 밸브지지실린더(471)와, 밸브챔버(410)의 측벽에 회동가능하게 결합되어 게이트밸브(420)의 수평이동을 안내하는 방향전환레버(473)를 포함한다.As shown, the valve driving unit 470 according to the third embodiment of the present invention is rotatable on the sidewall of the valve support cylinder 471 and the valve chamber 410 supporting the gate valve 420 in the vertical direction. It is coupled to include a direction switching lever 473 for guiding the horizontal movement of the gate valve 420.

또한, 본 발명의 제3실시예에 따른 밸브구동부(470)와 결합되는 게이트밸브(420)는 양측면에 방향전환레버(473)가 수용되는 한 쌍의 레버수용홈(427a,427b)이 “V"자 형상으로 구비된다. 제1레버수용홈(427a)는 제1기판출입구(120)를 향해 경사지게 구비되고, 제2레버수용홈(427b)는 제2기판출입구(220)를 향해 경사지게 구비된다. In addition, the gate valve 420 coupled to the valve driving unit 470 according to the third embodiment of the present invention has a pair of lever receiving grooves 427a and 427b in which the direction switching levers 473 are accommodated on both sides thereof. The first lever receiving groove 427a is provided to be inclined toward the first substrate entrance 120, and the second lever receiving groove 427b is provided to be inclined toward the second substrate entrance 220. .

방향전환레버(473)은 전환축(474)의 회동방향에 따라 제1기판출입구(120) 또는 제2기판출입구(220) 방향으로 회동된다. 방향전환레버(473)은 제1기판출입구(120)와 제2기판출입구(220)가 형성되어 있는 위치의 밸브챔버(410) 내벽면에 회동가능하게 결합된다. 방향전환레버(473)는 전환축(474)의 회동에 의해 좌우로 회동된다. 전환축(474)은 밸브제어부(450)의 제어에 따라 구동모터(미도시)와 같은 구동원에 의해 회동되거나 전기적인 신호에 의해 좌우로 회동된다. The direction switching lever 473 is rotated in the direction of the first substrate entrance 120 or the second substrate entrance 220 according to the rotation direction of the switching shaft 474. The direction switching lever 473 is rotatably coupled to the inner wall surface of the valve chamber 410 at the position where the first substrate entrance 120 and the second substrate entrance 220 are formed. The direction change lever 473 is rotated left and right by the rotation of the changeover shaft 474. The switching shaft 474 is rotated by a drive source such as a drive motor (not shown) under the control of the valve controller 450 or rotated left and right by an electrical signal.

방향전환레버(473)의 단부영역에는 게이트밸브(420)를 향해 절곡형성된 안내돌기(473a)가 구비된다. 안내돌기(473a)는 게이트밸브(420)의 승강에 따라 레버수용홈(427a,427b)에 수용되어 게이트밸브(420)의 이동방향을 안내한다.An end region of the direction change lever 473 is provided with a guide protrusion 473a that is bent toward the gate valve 420. The guide protrusion 473a is accommodated in the lever accommodation grooves 427a and 427b as the gate valve 420 moves up and down to guide the moving direction of the gate valve 420.

본 발명의 제3실시예에 따른 밸브구동부(470)의 게이트밸브(420) 구동과정을 도 15 내지 도19c를 참조하여 설명한다. A driving process of the gate valve 420 of the valve driving unit 470 according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 15 to 19C.

제1기판출입구(120)와 제2기판출입구(220)를 통해 기판이 입출될 때는 도15에 도시된 바와 같이 게이트밸브(420)는 승강지지실린더(471)에 의해 밸브챔버(410)의 하부영역에 위치한다. When the substrate enters and exits through the first substrate entrance 120 and the second substrate entrance 220, as shown in FIG. 15, the gate valve 420 is lowered from the valve chamber 410 by the lifting support cylinder 471. Located in the area.

이 때, 게이트밸브(420)가 제2기판출입구(220)를 폐쇄해야 하는 경우, 방향전환레버(473)는 시계방향으로 회동되어 안내돌기(473a)가 제2기판출입구(220)를 향하도록 배치된다. At this time, when the gate valve 420 needs to close the second substrate entrance 220, the direction switching lever 473 is rotated clockwise so that the guide protrusion 473a faces the second substrate entrance 220. Is placed.

도19a에 도시된 바와 같이 승강지지실린더(471)의 승강축(471a)의 상승에 의해 게이트밸브(420)가 상승하면, 도19b에 도시된 바와 같이 게이트밸브(420) 측면의 제2레버수용홈(427b)에 안내돌기(473a)가 수용된다. 안내돌기(473a)가 제2레버수용홈(427b)의 상부영역에 수용된 상태로 게이트밸브(420)가 계속 상승하면, 도19c에 도시된 바와 같이 게이트밸브(420)는 방향전환레버(473)를 따라 제2기판출입구(220) 측으로 이동된다. 이에 의해 게이트밸브(420)는 도16에 도시된 바와 같이 제2기판출입구(220)를 폐쇄하게 된다.
As shown in FIG. 19A, when the gate valve 420 rises due to the raising and lowering of the lifting shaft 471a of the lifting support cylinder 471, as shown in FIG. 19B, the second lever receiving side of the gate valve 420 is accommodated. The guide protrusion 473a is accommodated in the groove 427b. If the gate valve 420 continues to rise while the guide protrusion 473a is received in the upper region of the second lever accommodation groove 427b, the gate valve 420 is the direction switching lever 473 as shown in Fig. 19C. It is moved to the second substrate entrance 220 side along. As a result, the gate valve 420 closes the second substrate entrance 220 as shown in FIG.

도20 내지 도24는 본 발명의 제4실시예에 따른 밸브구동부(480)의 구성과 작동과정을 도시한 도면들이다. 20 to 24 are views illustrating a configuration and an operation process of the valve driving unit 480 according to the fourth embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이 본 발명의 제4실시예에 따른 밸브구동부(480)는 게이트밸브(420)의 하부영역을 지지하는 밸브지지실린더(481)과, 승강하며 게이트밸브(420)를 수평방향으로 이동시키는 회동가압레버(483)과, 회동가압레버(483)를 승강시키는 레버지지실린더(484)와, 회동가압레버(483)의 회동위치를 지지하는 지지프레임(485)과, 밸브챔버(410)의 측벽(482)에 형성되어 회동가압레버(483)의 승강위치를 안내하는 가이드레일(486)을 포함한다. As shown, the valve driving unit 480 according to the fourth embodiment of the present invention moves up and down with the valve support cylinder 481 supporting the lower region of the gate valve 420 and moves the gate valve 420 in the horizontal direction. A rotating pressure lever 483, a lever supporting cylinder 484 for elevating the rotating pressure lever 483, a support frame 485 for supporting the rotational position of the rotating pressure lever 483, and a valve chamber 410. The guide rail 486 is formed on the side wall 482 of the rotating pressure lever 483 to guide the lifting position.

회동가압레버(483)은 도24에 확대도시된 바와 같이 회동축(483c)와, 회동축(483)을 중심으로 “V"자 형상으로 연장형성된 제1레버(483a)와 제2레버(483b)를 포함한다. 제1레버(483a)와 제2레버(483b)는 단부영역에 요홈이 형성되어 지지프레임(485)의 제1지지축(485a) 또는 제2지지축(485b)에 수용된다. As shown in FIG. 24, the pivotal pressure lever 483 has a pivotal shaft 483c and a first lever 483a and a second lever 483b extending in a “V” shape about the pivotal shaft 483. The first lever 483a and the second lever 483b are formed in the end region to be accommodated in the first support shaft 485a or the second support shaft 485b of the support frame 485. .

회동가압레버(483)은 가이드레일(486)을 따라 회동축(483c)가 회동하며 승강하면 회동축(483c)의 회동방향에 따라 제1레버(483a)와 제2레버(483b)가 지지축(485a,485b)와 밸브챔버(410)의 벽면을 가압하여 게이트밸브(420)가 수평방향으로 이동되도록 한다. 여기서, 회동축(483c)은 게이트밸브(420)의 하부영역과 결합된다. When the pivoting shaft 483c rotates along the guide rail 486 and moves up and down, the pivoting lever 483 supports the first lever 483a and the second lever 483b along the rotational direction of the pivoting shaft 483c. The gate valve 420 is moved in the horizontal direction by pressing the walls 485a and 485b and the wall of the valve chamber 410. Here, the rotation shaft 483c is coupled to the lower region of the gate valve 420.

지지프레임(485)는 게이트밸브(420)와 측벽(482) 사이에 구비되어 회동가압레버(483)가 게이트밸브(420)를 구동방향으로 가압하도록 회동가압레버(483)를 지지한다. 지지프레임(485)은 밸브챔버(410)를 중심으로 좌우 양측에 한 쌍이 구비된다. 지지프레임(485)의 판면에는 회동가압레버(483)가 승강할 수 있도록 함몰형성된 함몰부(485c)가 형성된다. 함몰부(485c)의 상부영역에는 회동가압레버(483)가 결합되는 제1지지축(485a)와 제2지지축(485b)이 각각 좌우 양쪽으로 구비된다. The support frame 485 is provided between the gate valve 420 and the side wall 482 to support the rotational pressure lever 483 so that the rotational pressure lever 483 presses the gate valve 420 in the driving direction. The support frame 485 is provided with a pair on both the left and right sides around the valve chamber 410. On the plate surface of the support frame 485, a recessed portion 485c is formed so that the pivotal pressure lever 483 can be elevated. In the upper region of the recessed portion 485c, first and second support shafts 485a and 485b to which the pivoting pressure lever 483 is coupled are provided at right and left sides, respectively.

가이드레일(486)은 회동축(483c)의 승강궤적을 안내한다. 가이드레일(486)은 상부영역이 중심축에 대해 제1기판출입구(120)와 제2기판출입구(220) 측으로 함몰형성된 회동축수용레일(486a)을 포함한다. 이에 의해 회동축(483c)는 직선방향으로 상승한 후 내측으로 이동하여 상승하게 된다. The guide rail 486 guides the lifting trajectory of the rotation shaft 483c. The guide rail 486 includes a rotation shaft receiving rail 486a having an upper region recessed toward the first substrate entrance 120 and the second substrate entrance 220 with respect to the central axis. As a result, the rotational shaft 483c rises in a straight direction and then moves inward to ascend.

이러한 구성을 갖는 본 발명의 제4실시예에 따른 밸브구동부(480)의 밸브 구동과정을 도21 내지 도23d를 참조로 설명한다. A valve driving process of the valve driving unit 480 according to the fourth embodiment of the present invention having such a configuration will be described with reference to FIGS. 21 through 23D.

제1기판출입구(120)와 제2기판출입구(220)를 통해 기판이 입출될 때는 도21에 도시된 바와 같이 게이트밸브(420)가 밸브챔버(410) 하부영역에 배치된다. When the substrate enters and exits through the first substrate entrance 120 and the second substrate entrance 220, the gate valve 420 is disposed in the lower region of the valve chamber 410 as shown in FIG. 21.

이 때, 회동가압레버(483)은 레버지지실린더(484)에 의해 하강된 상태로 유지되고, 회동축(483c)는 가이드레일(486)의 최하부영역에 위치한다. At this time, the rotational pressure lever 483 is held in a lowered state by the lever support cylinder 484, and the rotational shaft 483c is located at the lowermost region of the guide rail 486.

제1기판출입구(120)를 폐쇄해야 하는 경우 밸브제어부(450)는 회동축(483c)를 시계방향으로 회동시킨다. 이에 의해 제2레버(483b)는 1시 방향을 향하고, 제1레버(483a)는 12시 방향을 향하게 위치한다.When the first substrate entrance 120 needs to be closed, the valve control unit 450 rotates the rotation shaft 483c clockwise. As a result, the second lever 483b faces the 1 o'clock direction and the first lever 483a faces the 12 o'clock direction.

게이트밸브(420)와 회동가압레버(483)가 밸브지지실린더(481)과 레버지지실린더(484)에 의해 상승하면 회동축(483c)는 도23a에 도시된 바와 같이 가이드레일(486)을 따라 상승한다. 도23b에 도시된 바와 같이 제2레버(483b)가 제2지지축(485b)과 결합되는 위치에서 회동축(483b)은 회동축수용레일(486a)로 진입한다.  When the gate valve 420 and the rotation pressure lever 483 are raised by the valve support cylinder 481 and the lever support cylinder 484, the rotation shaft 483c is guided along the guide rail 486 as shown in Fig. 23A. To rise. As shown in Fig. 23B, the pivot shaft 483b enters the pivot shaft receiving rail 486a at the position where the second lever 483b is engaged with the second support shaft 485b.

계속되는 레버지지실린더(484)의 상승에 의해 회동축(483b)는 회동축수용레일(486a)의 형상에 따라 경사지게 이동하고, 제2레버(483b)는 제2지지축(485b)를 중심으로 시계방향으로 회동하게 된다. 레버지지실린더(484)와 밸브지지실린더(481)이 최고 높이까지 상승하면 제1레버(483a)는 레버지지실린더(484)의 상승압력에 의해 제2레버(483b)를 중심으로 회동하고 도23c에 도시된 바와 같이 제2기판출입구(220)가 형성된 밸브챔버(410) 벽면을 접촉가압하게 된다. As the lever support cylinder 484 is continuously raised, the pivot shaft 483b is inclinedly moved according to the shape of the pivot shaft rail 486a, and the second lever 483b is clocked around the second support shaft 485b. It will rotate in the direction. When the lever support cylinder 484 and the valve support cylinder 481 are raised to the maximum height, the first lever 483a is rotated about the second lever 483b by the upward pressure of the lever support cylinder 484, and FIG. As shown in the drawing, contact pressure is applied to the wall surface of the valve chamber 410 on which the second substrate entrance 220 is formed.

이에 따라 게이트밸브(420)는 제1기판출입구(120) 방향으로 수평이동하여 제1기판출입구(120)를 폐쇄하게 된다.
Accordingly, the gate valve 420 moves horizontally in the direction of the first substrate entrance 120 to close the first substrate entrance 120.

도25 내지 도30은 본 발명의 제5실시예에 따른 밸브구동부(490)의 구성과 동작과정을 도시한 도면들이다. 25 to 30 are views showing the configuration and operation of the valve driving unit 490 according to the fifth embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이 본 발명의 제5실시예에 따른 밸브구동부(490)는 게이트밸브(420)의 하부영역을 지지하는 밸브지지실린더(491)와, 승강하며 게이트밸브(420)를 수평방향으로 이동시키는 회동가압레버(493)와, 회동가압레버(493)를 승강시키는 레버지지실린더(494)와, 회동가압레버(493)의 회동위치를 지지하는 지지프레임(495)과, 밸브챔버(410)의 측벽(492)에 형성되어 회동가압레버(489)의 승강위치를 안내하는 가이드레일(496)와, 상면에 게이트밸브(420)가 수평이동가능하게 적재되는 밸브지지플레이트(497)을 포함한다.As shown, the valve driving unit 490 according to the fifth embodiment of the present invention moves up and down the valve support cylinder 491 supporting the lower region of the gate valve 420 and moves the gate valve 420 horizontally. A rotating pressure lever 493, a lever supporting cylinder 494 for elevating the rotating pressure lever 493, a support frame 495 for supporting the rotational position of the rotating pressure lever 493, and a valve chamber 410. And a guide rail 496 formed on the side wall 492 of the rotary pressure lever 489 to guide the lifting position of the pivoting pressure lever 489, and a valve support plate 497 mounted on the upper surface thereof so that the gate valve 420 is horizontally movable. .

여기서, 게이트밸브(420)는 도 29에 도시된 바와 같이 밸브지지플레이트(497)의 상면에 결합된다. 이 때, 게이트밸브(420)의 하부영역에는 안내홈(428)이 형성되고, 밸브지지플레이트(497)의 판면에는 안내레일(497a)이 일정 높이 돌출 형성된다. 게이트밸브(420)는 안내홈(428)이 안내레일(497a)에 삽입된 상태로 밸브지지플레이트(497) 상에 지지된다. 게이트밸브(420)는 회동가압레버(493)의 밸브결합축(493d)에 의해 제1레버(493)와 결합되고, 제1레버(493)의 가압에 의해 안내레일(497a)을 따라 좌우로 이동하며 제1기판출입구(120) 또는 제2기판출입구(220)를 선택적으로 폐쇄한다. Here, the gate valve 420 is coupled to the upper surface of the valve support plate 497 as shown in FIG. At this time, the guide groove 428 is formed in the lower region of the gate valve 420, the guide rail 497a is formed to protrude a predetermined height on the plate surface of the valve support plate 497. The gate valve 420 is supported on the valve support plate 497 with the guide groove 428 inserted into the guide rail 497a. The gate valve 420 is coupled to the first lever 493 by the valve coupling shaft 493d of the rotational pressure lever 493, and is horizontally moved along the guide rail 497a by the pressure of the first lever 493. It moves and selectively closes the first substrate entrance 120 or the second substrate entrance 220.

회동가압레버(493)은 레버지지실린더(494)에 의해 승강하며 지지프레임(495)에 접촉가압되며 게이트밸브(420)를 구동방향으로 가압한다. 회동가압레버(493)은 제1레버(493a) 및 제2레버(493b)와, 제1레버(493a)와 제2레버(493b)를 회동시키는 회동축(493c)와, 제1레버(493a)의 상부영역에 구비되어 제1레버(493a)와 게이트밸브(420)를 결합시키는 밸브결합축(493d)를 포함한다. The pivotal pressure lever 493 is lifted and lowered by the lever support cylinder 494 to pressurize the contact frame 495 and press the gate valve 420 in the driving direction. The pivotal pressure lever 493 includes a first shaft 493a and a second lever 493b, a pivot shaft 493c for rotating the first lever 493a and a second lever 493b, and a first lever 493a. It is provided in the upper region of the valve comprises a valve coupling shaft (493d) for coupling the first lever (493a) and the gate valve (420).

제1레버(493a)와 제2레버(493b)는 서로 일정 각도로 이격되게 회동축(493c) 상에 결합된다. 레버지지실린더(494)의 상승에 따라 회동축(493c)이 가이드레일(496)을 따라 상승하면 제1레버(493a)와 제2레버(493b)는 지지프레임(495)의 제1지지면(495a) 또는 제2지지면(495b)를 따라 이동한다. The first lever 493a and the second lever 493b are coupled to the rotation shaft 493c to be spaced apart from each other at an angle. As the pivot shaft 493c ascends along the guide rail 496 as the lever support cylinder 494 is raised, the first lever 493a and the second lever 493b are formed on the first support surface of the support frame 495 ( 495a) or along second support surface 495b.

이러한 구성을 갖는 본 발명의 제5실시예에 따른 밸브구동부(490)의 밸브 구동과정을 도26 내지 도28c를 참조로 설명한다. A valve driving process of the valve driving unit 490 according to the fifth embodiment of the present invention having such a configuration will be described with reference to FIGS. 26 to 28C.

제1기판출입구(120)와 제2기판출입구(220)를 통해 기판이 입출될 때는 도26에 도시된 바와 같이 게이트밸브(420)가 밸브챔버(410) 하부영역에 배치된다. When the substrate enters and exits through the first substrate entrance 120 and the second substrate entrance 220, the gate valve 420 is disposed in the lower region of the valve chamber 410 as shown in FIG. 26.

이 때, 회동가압레버(493)은 레버지지실린더(494)에 의해 하강된 상태로 유지되고, 회동축(493c)은 가이드레일(496)의 최하부영역에 위치한다. At this time, the pivotal pressure lever 493 is held in a lowered state by the lever support cylinder 494, and the pivotal shaft 493c is located at the lowermost region of the guide rail 496.

제1기판출입구(120)를 폐쇄해야 하는 경우 밸브제어부(450)는 회동축(493c)를 시계방향으로 회동시킨다. 이에 의해 제1레버(493a)는 12시 방향을 향하고, 제2레버(493b)는 1시 방향을 향하게 위치한다.When the first substrate entrance 120 needs to be closed, the valve control unit 450 rotates the rotation shaft 493c clockwise. As a result, the first lever 493a faces the 12 o'clock direction and the second lever 493b faces the 1 o'clock direction.

게이트밸브(420)와 회동가압레버(493)가 밸브지지실린더(491)과 레버지지실린더(494)에 의해 상승하면 회동축(493c)는 도28a에 도시된 바와 같이 가이드레일(496)을 따라 상승한다. 도28b에 도시된 바와 같이 제2레버(493b)가 제2지지면(495b)의 최상부에 위치되면 제2레버(493b)의 상부영역은 더 이상 상승하지 못하고 위치가 고정된다.When the gate valve 420 and the rotational pressure lever 493 are raised by the valve support cylinder 491 and the lever support cylinder 494, the rotation shaft 493c follows the guide rail 496 as shown in Fig. 28A. To rise. As shown in Fig. 28B, when the second lever 493b is positioned at the top of the second support surface 495b, the upper region of the second lever 493b no longer rises and the position is fixed.

계속되는 레버지지실린더(494)의 상승에 의해 회동축(493b)는 가이드레일(496)의 최상위에 위치되어 위치가 고정된다. 회동축(493b)과 제2레버(493b)의 단부영역의 위치가 고정되므로 레버지지실린더(494)가 계속상승되면 제1레버(493a)는 도28c에 도시된 바와 같이 제1기판출입구(120) 측으로 각도가 벌어지게 된다. As the lever support cylinder 494 is continuously raised, the rotation shaft 493b is positioned at the uppermost position of the guide rail 496 to fix its position. Since the positions of the end regions of the rotational shaft 493b and the second lever 493b are fixed, when the lever support cylinder 494 continues to rise, the first lever 493a becomes the first substrate entrance 120 as shown in Fig. 28C. ), The angle is widened.

제1레버(493a)가 제1기판출입구(120) 측으로 이동되면 밸브결합축(493d)에 의해 결합된 게이트밸브(420)도 안내레일(497a)을 따라 제1기판출입구(120) 측으로 이동하여 제1기판출입구(120)를 폐쇄하게 된다. When the first lever 493a is moved toward the first substrate entrance 120, the gate valve 420 coupled by the valve coupling shaft 493d also moves along the guide rail 497a toward the first substrate entrance 120. The first substrate entrance 120 is closed.

도31 내지 도34는 앞서 설명한 본 발명의 제1실시예 내지 제5실시예의 밸브지지실린더의 게이트밸브 승강에 적용될 수 있는 자기구동부의 실시예를 도시한 예시도이다. 31 to 34 are exemplary views showing an embodiment of a magnetic drive unit that can be applied to the lift of the gate valve of the valve support cylinder of the first to fifth embodiments of the present invention described above.

먼저, 도31가 도32는 승강축(520)이 밸브지지실린더(510) 내부를 수직 승강하는 과정을 도시한 예시도이다. 승강축(520)의 내부에는 제1자석(521)이 구비되고, 밸브지지실린더(510)의 외측에는 제1자석(521)과 반대되는 극성을 갖는 제2자석(530)이 배치된다. First, FIG. 31 and FIG. 32 are exemplary views illustrating a process in which the lifting shaft 520 vertically lifts the inside of the valve support cylinder 510. A first magnet 521 is provided inside the lifting shaft 520, and a second magnet 530 having a polarity opposite to that of the first magnet 521 is disposed outside the valve support cylinder 510.

밸브제어부(450)가 제2자석(530)을 승강시키면 제1자석(521)이 자력에 의해 연동하여 승강하며 게이트밸브(420)를 승강시킬 수 있다. When the valve control unit 450 lifts and lowers the second magnet 530, the first magnet 521 may move up and down by the magnetic force, and may lift and lower the gate valve 420.

한편, 도33과 도34는 랙(561)과 피니언(553)에 의해 승축(540)이 승강되는 과정을 도시한 예시도이다. 도시된 바와 같이 랙(560) 내부에 제1자석(563)이 구비되고 밸브챔버(410)의 하부영역에 제1자석(563)과 반대되는 극성을 갖는 제2자석(571)이 구비된다. 제2자석(571)을 포함한 구동부(570)가 지지프레임(580)을 따라 좌우로 이동하면 제1자석(563)이 자력에 의해 좌우로 이동한다. 제1자석(563)의 이동에 따라 팩기어(561)에 치합된 피니언(553)이 회전하여 피니언(553)과 동축상에 위치한 레버(550)가 회동한다. 레버(550)의 회동에 따라 레버(550)의 외주연에 접촉 지지된 승강축(540)이 상승하게 된다.
33 and 34 are exemplary views illustrating a process of lifting and lowering the lift shaft 540 by the rack 561 and the pinion 553. As illustrated, a first magnet 563 is provided inside the rack 560, and a second magnet 571 having a polarity opposite to that of the first magnet 563 is provided in the lower region of the valve chamber 410. When the driving unit 570 including the second magnet 571 moves left and right along the support frame 580, the first magnet 563 is moved left and right by magnetic force. As the first magnet 563 moves, the pinion 553 engaged with the pack gear 561 rotates so that the lever 550 coaxial with the pinion 553 rotates. As the lever 550 rotates, the lifting shaft 540 in contact with the outer circumference of the lever 550 is raised.

앞서 설명한 본 발명의 게이트밸브어셈블리는 공정챔버와 트랜스퍼챔버 사이에 구비된 것으로 설명하였으나, 이 뿐만 아니고 트랜스퍼챔버와 로드락챔버 사이에도 구비될 수 있다.
The gate valve assembly of the present invention described above has been described as being provided between the process chamber and the transfer chamber, but may also be provided between the transfer chamber and the load lock chamber.

이상에서 설명된 본 발명의 게이트밸브어셈블리와 이를 포함하는 기판처리장치의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 그러므로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Embodiments of the gate valve assembly of the present invention and the substrate processing apparatus including the same described above are merely exemplary, and those skilled in the art to which the present invention pertains various modifications and other equivalent embodiments therefrom. You can see that examples are possible. Therefore, it will be understood that the present invention is not limited to the forms mentioned in the above detailed description. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims. It is also to be understood that the present invention includes all modifications, equivalents, and substitutes within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

10 : 기판처리시스템 100a, 100b, 100c: 공정챔버
110 : 서셉터 120: 제1기판출입구
200: 트랜스퍼챔버 210: 트랜스퍼로봇
220: 제2기판출입구 300: 로드락챔버
400: 게이트밸브어셈블리 410: 밸브챔버
420: 게이트밸브 421: 밸브본체
425: 실링부재 426 : 결합홈
430 : 밸브구동부 431: 밸브지지실린더
431a: 승강축 431b: 회동축
433: 치합회동부 433a: 회전축
433b: 밸브결합홈 433c: 회동부
433c: 지지프레임 440 : 방향선택부
450 : 밸브제어부 460 : 밸브구동부
461 : 밸브지지실린더 461a : 승강축
461b : 회동축 462 : 방향전환축
463 : 회동지지판 464 : 자기구동축
465: 구동부 466: 자기구동판
470: 밸브구동부 471: 밸브지지실린더
471a: 승강축 471b: 회동축
473: 방향전환레버 473a: 결합돌기
474: 전환축 480 : 밸브구동부
481 : 밸브지지실린더 481a : 승강축
481b : 회동축 482 : 측벽
483 : 회동가압레버 483a : 제1레버
483b: 제2레버 483c: 회동축
484 : 레버지지실린더 484a : 레버지지축
485 : 지지프레임 485a : 제1지지축
485b : 제2지지축 485c : 함몰부
486: 가이드레일 486a : 회동축수용레일
490 : 밸브구동부 491 : 밸브지지실린더
491a : 승강축 491b : 회동축
492 : 측벽 493 : 회동가압레버
493a : 제1레버 493b: 제2레버
493c: 회동축 493d : 밸브결합축
494 : 레버지지실린더 494a : 레버지지축
495 : 지지프레임 495a : 제1지지면
495b : 제2지지면 496: 가이드레일
497 : 밸브지지플레이트 497a : 안내레일 10: substrate processing system 100a, 100b, 100c: process chamber
110: susceptor 120: the first substrate entrance
200: transfer chamber 210: transfer robot
220: second substrate entrance and exit 300: load lock chamber
400: gate valve assembly 410: valve chamber
420: gate valve 421: valve body
425: sealing member 426: coupling groove
430: valve driving unit 431: valve support cylinder
431a: lifting shaft 431b: rotating shaft
433: engagement pivot 433a: rotation axis
433b: valve coupling groove 433c: rotating part
433c: support frame 440: direction selector
450: valve control unit 460: valve driving unit
461: valve support cylinder 461a: lifting shaft
461b: rotating shaft 462: turning shaft
463: rotation support plate 464: magnetic drive shaft
465: drive unit 466: magnetic drive plate
470: valve driving portion 471: valve support cylinder
471a: lifting shaft 471b: rotating shaft
473: direction change lever 473a: engaging projection
474: switching shaft 480: valve drive unit
481: valve support cylinder 481a: lifting shaft
481b: pivot 482: side wall
483: pivoting lever 483a: first lever
483b: second lever 483c: rotating shaft
484: lever support cylinder 484a: lever support shaft
485: support frame 485a: first support shaft
485b: second support shaft 485c: depression
486: guide rail 486a: pivoting rail
490: valve drive part 491: valve support cylinder
491a: lifting shaft 491b: rotating shaft
492: side wall 493: rotating pressure lever
493a: first lever 493b: second lever
493c: rotating shaft 493d: valve coupling shaft
494: lever support cylinder 494a: lever support shaft
495 support frame 495a first ground plane
495b: 2nd Ground 496: Guide Rail
497: valve support plate 497a: guide rail

Claims (7)

삭제delete 기판이 입출되는 제1기판입출구와 제2기판입출구가 각각 형성된 제1챔버와 제2챔버 사이에 배치되는 밸브챔버, 상기 밸브챔버 내에 구비되는 게이트밸브, 상기 게이트밸브가 상기 밸브챔버 내를 이동하며 상기 제1기판입출구 또는 상기 제2기판입출구 중 어느 하나를 선택적으로 폐쇄하도록 상기 게이트밸브를 구동하는 밸브구동부 및, 상기 밸브구동부의 구동방향을 제어하여 상기 구동방향의 기판입출구가 폐쇄되도록 상기 밸브구동부를 제어하는 밸브제어부를 포함하고,
상기 밸브구동부는
상기 게이트밸브가 상하 승강 및 좌우 회동가능하도록 상기 게이트밸브의 하부영역을 지지하는 밸브지지실린더와;
상기 게이트밸브의 양단부영역에 치합되고 상기 밸브제어부의 제어에 따라 구동방향으로 회동되어 치합된 상기 게이트밸브를 상기 구동방향으로 이동시키는 치합회동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 게이트밸브어셈블리.A valve chamber disposed between a first chamber and a second chamber in which a first substrate inlet and a second substrate inlet and outlet, respectively, into and out of the substrate are formed; a gate valve provided in the valve chamber; A valve driver for driving the gate valve to selectively close either the first substrate inlet or the second substrate inlet and outlet; and the valve driver to close the substrate inlet and outlet in the driving direction by controlling the driving direction of the valve driver. It includes a valve control unit for controlling,
The valve driving unit
A valve support cylinder for supporting a lower region of the gate valve so that the gate valve can be moved up and down and left and right rotated;
And a engaging pivot portion which is engaged with both end regions of the gate valve and is rotated in a driving direction under the control of the valve control unit to move the combined gate valve in the driving direction. 기판이 입출되는 제1기판입출구와 제2기판입출구가 각각 형성된 제1챔버와 제2챔버 사이에 배치되는 밸브챔버, 상기 밸브챔버 내에 구비되는 게이트밸브, 상기 게이트밸브가 상기 밸브챔버 내를 이동하며 상기 제1기판입출구 또는 상기 제2기판입출구 중 어느 하나를 선택적으로 폐쇄하도록 상기 게이트밸브를 구동하는 밸브구동부 및, 상기 밸브구동부의 구동방향을 제어하여 상기 구동방향의 기판입출구가 폐쇄되도록 상기 밸브구동부를 제어하는 밸브제어부를 포함하고,
상기 밸브구동부는,
상기 게이트밸브의 양단부에 회동가능하게 구비되며, 단부영역이 상기 구동방향의 반대방향 챔버벽에 접촉지지되도록 회동되어 상기 게이트밸브가 상기 구동방향의 기판출입구를 폐쇄하도록 상기 게이트밸브를 가압하는 회동지지판을 포함하는 것을 특징으로 하는 게이트밸브어셈블리.A valve chamber disposed between a first chamber and a second chamber in which a first substrate inlet and a second substrate inlet and outlet, respectively, into and out of the substrate are formed; a gate valve provided in the valve chamber; A valve driver for driving the gate valve to selectively close either the first substrate inlet or the second substrate inlet and outlet; and the valve driver to close the substrate inlet and outlet in the driving direction by controlling the driving direction of the valve driver. It includes a valve control unit for controlling,
The valve driving unit,
Rotating support plates provided on both ends of the gate valve, the end region is rotated so as to be in contact with the chamber wall in the opposite direction of the driving direction, the rotation support plate for pressing the gate valve so that the gate valve closes the substrate entrance in the driving direction Gate valve assembly comprising a. 제3항에 있어서,
상기 밸브챔버 벽 외측에 구비되어 상기 회동지지판을 상기 구동방향의 반대방향으로 회동시키는 자기회동판을 더 포함하고,
상기 회동지지판과 상기 자기회동판은 서로 반대되는 극성의 자석으로 구비되는 것을 특징으로 하는 게이트밸브어셈블리. The method of claim 3,
And a magnetic rotating plate provided outside the valve chamber wall to rotate the rotating support plate in a direction opposite to the driving direction.
The rotation support plate and the magnetic rotation plate is a gate valve assembly, characterized in that provided with a magnet of opposite polarity. 기판이 입출되는 제1기판입출구와 제2기판입출구가 각각 형성된 제1챔버와 제2챔버 사이에 배치되는 밸브챔버, 상기 밸브챔버 내에 구비되는 게이트밸브, 상기 게이트밸브가 상기 밸브챔버 내를 이동하며 상기 제1기판입출구 또는 상기 제2기판입출구 중 어느 하나를 선택적으로 폐쇄하도록 상기 게이트밸브를 구동하는 밸브구동부 및, 상기 밸브구동부의 구동방향을 제어하여 상기 구동방향의 기판입출구가 폐쇄되도록 상기 밸브구동부를 제어하는 밸브제어부를 포함하고,
상기 게이트밸브의 양단부영역에는 “V"자 형태의 레버수용홈이 구비되고,
상기 밸브구동부는,
상기 밸브챔버 벽 내측에 회동가능하게 구비되어 상승하는 게이트밸브의 구동방향측의 레버수용홈에 수용되어 상기 게이트밸브를 구동방향으로 안내하는 방향전환레버를 포함하는 것을 특징으로 하는 게이트밸브어셈블리. A valve chamber disposed between a first chamber and a second chamber in which a first substrate inlet and a second substrate inlet and outlet, respectively, into and out of the substrate are formed, a gate valve provided in the valve chamber, and the gate valve move in the valve chamber. A valve driver for driving the gate valve to selectively close either the first substrate inlet or the second substrate inlet and outlet; and the valve driver to close the substrate inlet and outlet in the driving direction by controlling the driving direction of the valve driver. It includes a valve control unit for controlling,
Both end regions of the gate valve are provided with a "V" shaped lever receiving groove,
The valve driving unit,
And a turning lever provided in the valve receiving groove on the driving direction side of the rising gate valve and rotatably provided inside the valve chamber wall to guide the gate valve in the driving direction. 기판이 입출되는 제1기판입출구와 제2기판입출구가 각각 형성된 제1챔버와 제2챔버 사이에 배치되는 밸브챔버, 상기 밸브챔버 내에 구비되는 게이트밸브, 상기 게이트밸브가 상기 밸브챔버 내를 이동하며 상기 제1기판입출구 또는 상기 제2기판입출구 중 어느 하나를 선택적으로 폐쇄하도록 상기 게이트밸브를 구동하는 밸브구동부 및, 상기 밸브구동부의 구동방향을 제어하여 상기 구동방향의 기판입출구가 폐쇄되도록 상기 밸브구동부를 제어하는 밸브제어부를 포함하고,
상기 밸브구동부는,
상기 게이트밸브를 승강 및 회동가능하게 지지하는 밸브지지실린더와;
상기 밸브챔버 벽과 상기 게이트밸브 사이에 구비되며 판면에 함몰형성된 지지면이 형성된 좌우 한 쌍의 지지프레임과;
상기 밸브챔버 벽에 일정길이 관통형성된 좌우 한 쌍의 가이드레일과;
회동축이 상기 밸브챔버 벽과 상기 지지프레임 사이에서 상기 좌우 가이드홈 중 구동방향의 가이드홈을 따라 상승하며 회동하고, 상기 지지면을 따라 상승하며 이동하는 제2레버와, 상기 게이트밸브와 결합된 상태로 상기 제2레버와 소정 각도로 이격되게 구비되며 상기 제2레버의 상승궤적에 따라 상기 게이트밸브를 구동방향으로 가압하는 제1레버를 갖는 회동가압레버를 포함하는 것을 특징으로 하는 게이트밸브어셈블리.A valve chamber disposed between a first chamber and a second chamber in which a first substrate inlet and a second substrate inlet and outlet, respectively, into and out of the substrate are formed; a gate valve provided in the valve chamber; A valve driver for driving the gate valve to selectively close either the first substrate inlet or the second substrate inlet and outlet; and the valve driver to close the substrate inlet and outlet in the driving direction by controlling the driving direction of the valve driver. It includes a valve control unit for controlling,
The valve driving unit,
A valve support cylinder for lifting and rotating the gate valve;
A pair of left and right support frames provided between the valve chamber wall and the gate valve and having a support surface recessed on a plate surface;
A pair of left and right guide rails formed at a predetermined length through the valve chamber wall;
A second lever pivoted along a guide groove in a driving direction among the left and right guide grooves between the valve chamber wall and the support frame, and a second lever moving up and moving along the support surface; And a rotational pressure lever having a first lever that is spaced apart from the second lever at a predetermined angle in a state and pressurizes the gate valve in a driving direction according to the rising trajectory of the second lever. . 삭제delete
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