KR101111650B1 - Apparatus adjusting position electromagnet for control anti-bending strip - Google Patents
Apparatus adjusting position electromagnet for control anti-bending strip Download PDFInfo
- Publication number
- KR101111650B1 KR101111650B1 KR1020110073639A KR20110073639A KR101111650B1 KR 101111650 B1 KR101111650 B1 KR 101111650B1 KR 1020110073639 A KR1020110073639 A KR 1020110073639A KR 20110073639 A KR20110073639 A KR 20110073639A KR 101111650 B1 KR101111650 B1 KR 101111650B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- main body
- electromagnet
- spiral shaft
- thin plate
- drive motor
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/003—Apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/14—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
- C23C2/16—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using fluids under pressure, e.g. air knives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/14—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
- C23C2/24—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using magnetic or electric fields
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 박판 반곡제어용 전자석 위치조절장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 박판의 반곡위치에 따라서 전자석의 위치를 조절하여 반곡현상을 최소화할 수 있도록 하는 박판 반곡제어용 전자석 위치조절장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an electromagnet position adjusting apparatus for thin plate half-curve control, and more particularly, to an electromagnet position adjusting apparatus for thin plate semi-curve control to adjust the position of the electromagnet according to the semi-curve position of the thin plate to minimize the semi-curve phenomenon.
일반적으로 전자석(30)은 도 1에 도시된 바와 같이 도금욕조(10)와 에어나이프(20)를 통과하는 박판(A)의 양측 사이에 설치되어 제진성을 확보하는 역할을 수행한다.
전술한 본 발명의 배경기술은 대한민국 등록특허공보 제0497082호(2005.06.23)에 개시되어 있다.In general, the
Background art of the present invention described above is disclosed in Republic of Korea Patent Publication No. 0497082 (2005.06.23).
그러나 종래의 전자석(30)은 자력을 발생시켜 박판(A)의 진동을 최소화할 수 있으나, 이와 달리 박판(A)의 통과위치 및 진동의 발생위치에 따라서 전자석(30)의 위치(간격)를 조절할 수 없으므로 기능상의 한계를 갖게 되었다.However, the
특히 전자석(30)의 위치조절이 불가능하여 제진성을 균일하게 유지할 수 없으므로 박판의 반곡현상을 유발함은 물론 도금량 품질을 저하시키는 심각한 문제점을 갖게 되었다.
In particular, since the position adjustment of the
따라서 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서,Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art,
본 발명은 전자석의 위치를 원활하게 조절하여 박판의 반곡현상을 최소화할 수 있는 박판 반곡제어용 전자석 위치조절장치를 제공함에 목적이 있다.
An object of the present invention is to provide an electromagnet position adjusting device for thin plate half-curve control which can smoothly adjust the position of the electromagnet to minimize the half-curvature of the thin plate.
본 발명은 내부에 보조프레임(120)이 형성되는 프레임(110)과; 상기 보조프레임(120)의 상부 양측에 형성되는 고정축(121)에 삽입되도록 양측에 삽입공(211) 및 장공(211a)이 구비되고 일측면에는 수평방향으로 유도공(212)이 구비되는 본체(210)와; 상기 본체(210)의 상부와 하부 일측에 형성되는 지지롤러(213)와; 상기 본체(210)의 일측면에 회전할 수 있도록 설치되는 나선축(220)과; 상기 나선축(220)과 나선결합되어 회전방향에 따라서 이동되며 상기 유도공(212)을 관통하여 상기 본체(210)의 내측에 위치한 전자석(30)과 결합되는 이동구(230)와; 상기 나선축(220)의 일단에 연결되는 구동모터(240)와; 상기 전자석(30)의 일측면에는 설치되는 지지구(31)와; 상기 본체(210)의 내측면에 설치되어 상기 지지구(31)가 장착되는 레일(214)로 구성되는 것을 특징으로 한다.The
여기서 상기 보조프레임(120)의 상부 일측에는 구동모터(130)가 구비되고, 상기 본체(210)의 일측에는 나선축(141)이 나선결합되며, 상기 구동모터(130)와 나선축(141)을 연결하도록 기어박스(140)가 설치되고, 상기 구동모터(130)와 기어박스(140)의 사이에 클러치(131)가 형성되며, 상기 기어박스(140)의 일측에는 회전축(150)이 마련되며, 상기 회전축(150)의 일단에는 핸들(160)이 구비되는 것을 특징으로 한다.Here, the upper side of the
또한, 상기 나선축(220)은 중간에 유니버설조인트(231)가 포함되고 일측은 오른나사 타측은 왼나사로 형성되는 것을 특징으로 한다.
In addition, the
본 발명은 전자석의 간격 및 위치를 원활하게 조절하여 박판의 제진성을 확보함과 동시에 반곡현상을 최소화할 수 있는 효과를 갖는다.The present invention has the effect of smoothly adjusting the spacing and position of the electromagnet to ensure the vibration damping of the thin plate and at the same time to minimize the semi-bending phenomenon.
또한, 본 발명은 박판의 제진성을 균일하게 유지하여 도금품질을 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.
In addition, the present invention has the effect of maintaining the vibration damping properties of the thin plate uniformly to improve the plating quality.
도 1은 일반적인 박판 도금공정을 나타내기 위한 참고도.
도 2는 본 발명 박판 반곡제어용 전자석 위치조절장치의 구조를 나타내기 위한 정면도.
도 3은 본 발명 박판 반곡제어용 전자석 위치조절장치의 구조를 나타내기 위한 평면도.
도 4는 도 3의 B-B선 단면도.
도 5는 본 발명 박판 반곡제어용 전자석 위치조절장치의 작동상태를 나타내기 위한 참고도.1 is a reference diagram for showing a general thin plate plating process.
Figure 2 is a front view showing the structure of the electromagnet position control device for thin plate half-curve control of the present invention.
Figure 3 is a plan view for showing the structure of the electromagnet position adjusting device for thin plate half-curve control of the present invention.
4 is a cross-sectional view taken along line BB of FIG. 3.
Figure 5 is a reference diagram for showing the operating state of the electromagnet position control device for thin plate half-curve control of the present invention.
상기한 바와 같이 본 발명의 구성을 첨부한 도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail by the accompanying drawings, the configuration of the present invention as described above are as follows.
도 2는 본 발명 박판 반곡제어용 전자석 위치조절장치의 구조를 나타내기 위한 정면도이고, 도 3은 본 발명 박판 반곡제어용 전자석 위치조절장치의 구조를 나타내기 위한 평면도이며, 도 4는 도 3의 B-B선 단면도이고, 도 5는 본 발명 박판 반곡제어용 전자석 위치조절장치의 작동상태를 나타내기 위한 참고도를 도시한 것이다.2 is a front view showing the structure of the electromagnet position adjusting device for thin plate half-curve control of the present invention, FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a working state of the electromagnet position adjusting device for thin plate half-curve control of the present invention.
본 발명은 내부에 보조프레임(120)이 형성되는 프레임(110)과; 상기 보조프레임(120)의 상부 양측에 형성되는 고정축(121)에 삽입되도록 양측에 삽입공(211) 및 장공(211a)이 구비되고 일측면에는 수평방향으로 유도공(212)이 구비되는 본체(210)와; 상기 본체(210)의 상부와 하부 일측에 형성되는 지지롤러(213)와; 상기 본체(210)의 일측면에 회전할 수 있도록 설치되는 나선축(220)과; 상기 나선축(220)과 나선결합되어 회전방향에 따라서 이동되며 상기 유도공(212)을 관통하여 상기 본체(210)의 내측에 위치한 전자석(30)과 결합되는 이동구(230)와; 상기 나선축(220)의 일단에 연결되는 구동모터(240)와; 상기 전자석(30)의 일측면에는 설치되는 지지구(31)와; 상기 본체(210)의 내측면에 설치되어 상기 지지구(31)가 장착되는 레일(214)로 구성된다.The
여기서 상기 프레임(110)의 주변설비 또는 에어나이프(20)의 상부에 설치되어 박판(A)이 내부 중간위치를 통과할 수 있도록 유도한다.Here it is installed on the peripheral equipment of the
이때 상기 보조프레임(120)은 프레임(110)의 내부에 설치되어 위치조절부재(200)의 하중을 지지한다.At this time, the
특히 상기 보조프레임(120)의 상부 양측에는 고정축(121)이 형성되는데, 이는 상기 본체(210)가 상부에 안착되어 흔들리지 않고 안정적으로 고정할 수 있도록 유도한다.In particular, the
한편, 상기 프레임(110)의 상부 및 하부에는 지지롤러(111)가 형성되어 박판(A)이 맞닿을 경우 회전하면서 자연스럽게 이동시켜 박판(A)이 프레임(110)과 부딪치면서 발생하는 품질저하를 사전에 방지할 수 있다.On the other hand, the
아울러, 도 3에 도시된 바와 같이 상기 보조프레임(120)의 상부 일측에는 구동모터(130)가 구비되고, 상기 본체(210)의 일측에는 나선축(141)이 나선결합되며, 상기 구동모터(130)와 나선축(141)을 연결하도록 기어박스(140)가 설치되고, 상기 구동모터(130)와 기어박스(140)의 사이에 클러치(131)가 형성되며, 상기 기어박스(140)의 일측에는 회전축(150)이 마련되며, 상기 회전축(150)의 일단에는 핸들(160)이 구비될 수 있다.In addition, as shown in FIG. 3, a
이는 작업자가 상기 핸들(160)을 돌리면서 상기 기어박스(140)를 작동시켜 상기 회전축(150)을 회전시키고 동시에 상기 본체(210)를 이동시켜 박판(A)의 위치에 따라서 전자석(30)의 표면에 근접되도록 위치를 조절할 수 있다.The operator rotates the
반대로 상기 구동모터(130)를 작동할 경우에는 상기 클러치(131)를 조작하여 동력을 연결한 후 상기 나선축(141)을 회전시켜 상기 본체(210)의 위치를 조절할 수 있다.On the contrary, when the
이때 상기 본체(210)의 일측에는 걸림턱(142)을 형성하고 상기 걸림턱(142)의 위치를 감지할 수 있도록 센서(143)를 형성하여 상기 회전축(150)의 회전으로 이동하는 상기 본체(210)의 위치를 측정할 수 있다.At this time, the main body (210) is formed on one side of the main body (210) and the sensor (143) is formed so as to detect the position of the locking step (142) to move in the rotation of the rotary shaft (150). The position of 210 may be measured.
한편, 상기 삽입공(211) 및 장공(211a)은 상기 본체(210)가 이동하면서 일측으로 치우칠 경우 상기 삽입공(211)의 기준으로 본체(210)가 장공(211a)의 형성거리만큼 기울어질 수 있도록 유도한다.Meanwhile, when the
따라서 상기 본체(210)가 박판(A)의 표면을 향하도록 이동하는 과정에서 일측으로 기울어지더라도 부하가 발생하지 않고 안정적으로 이동할 수 있다.Therefore, even when the
특히 상기 지지롤러(213)는 박판(A)이 맞닿을 경우 회전하면서 자연스럽게 이동시켜 박판(A)이 상기 본체(210)와 부딪치면서 발생하는 품질저하를 사전에 방지할 수 있다.In particular, the
또한, 상기 나선축(220)은 회전방향에 따라서 상기 이동구(230)와 전자석(30)을 박판(A)의 위치에 따라서 좌우방향으로 이동시키는 역할을 수행한다.In addition, the
이때 상기 나선축(220)은 중간에 유니버설조인트(231)가 포함되고 일측은 오른나사 타측은 왼나사로 형성될 수 있는데, 상기 유니버설조인트(231)는 상기 나선축(220)의 길이가 길어지거나 위치가 상이할 경우 이를 중간에 연결하여 원활하게 회전시킬 수 있으며, 상기 이동구(230)를 동시에 내측 또는 외측으로 이동시키기 위해서 왼나사와 오른나사로 형성하였다.In this case, the
특히 상기 본체(210)의 일측면에 형성되는 유도공(212)은 상기 이동구(230)가 좌우방향으로 간섭없이 원활하게 이동할 수 있도록 유도한다.In particular, the
한편, 상기 이동구(230)는 나선축(220)과 나선결합된 상태로 상기 나선축(220)의 회전방향에 따라서 상기 전자석(30)을 이동시킨다.On the other hand, the
본 발명에서 상기 구동모터(240)는 상기 나선축(220)을 회전시키기 위한 구동력을 발생시킨다.In the present invention, the
또한, 상기 지지구(31)와 레일(214)은 상기 전자석(30)이 흔들림없이 안정적으로 이동할 수 있도록 지지력을 확보하는 역할을 수행한다.In addition, the
이때 상기 지지구(31)와 레일(214)은 미끄럼운동을 확보할 수 있도록 LM블록과 LM가이드를 사용하였다.At this time, the
따라서 본 발명은 도 5에 도시된 바와 같이 상기 구동모터(240)의 작동으로 상기 나선축(220)을 회전하면서 상기 이동구(230)와 전자석(30)을 반곡위치에 따라서 이동시켜 박판(A)의 제진성과 반곡현상을 방지할 수 있다.Therefore, the present invention, as shown in Figure 5 by rotating the
이처럼 상기와 같이 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 실시예와 실질적으로 균등의 범위에 있는 것까지 본 발명의 권리범위가 포함되는 것은 당연하다.
As described above, the embodiments of the present invention have been described in detail, but the scope of the present invention is not limited thereto, and the scope of the present invention is included to those which are substantially equivalent to the embodiments of the present invention. Of course.
10: 도금욕조 20: 에어나이프
30: 전자석 31: 지지구
100: 본 발명 박판 반곡제어용 전자석 위치조절장치
110: 프레임 111: 지지롤러
120: 보조프레임 121: 고정축
130: 구동모터 131: 클러치
140: 기어박스 141: 나선축
142: 걸림턱 143: 센서
150: 회전축 160: 핸들
200: 위치조절부재
210: 본체 211: 삽입공
211a: 장공 212: 유도공
213: 지지롤러 214: 레일
220: 나선축 230: 이동구
231: 유니버설조인트
240: 구동모터
A: 박판(아연도금강판)10: plating bath 20: air knife
30: electromagnet 31: support
100: electromagnet position adjusting device for thin plate half-curve control of the present invention
110: frame 111: support roller
120: auxiliary frame 121: fixed axis
130: drive motor 131: clutch
140: gearbox 141: spiral shaft
142: jam step 143: sensor
150: axis of rotation 160: handle
200: positioning member
210: main body 211: insertion hole
211a: long hole 212: guided hole
213: support roller 214: rail
220: spiral shaft 230: moving tool
231: universal joint
240: drive motor
A: thin plate (galvanized steel sheet)
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110073639A KR101111650B1 (en) | 2011-07-25 | 2011-07-25 | Apparatus adjusting position electromagnet for control anti-bending strip |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110073639A KR101111650B1 (en) | 2011-07-25 | 2011-07-25 | Apparatus adjusting position electromagnet for control anti-bending strip |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR101111650B1 true KR101111650B1 (en) | 2012-02-14 |
Family
ID=45840137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110073639A KR101111650B1 (en) | 2011-07-25 | 2011-07-25 | Apparatus adjusting position electromagnet for control anti-bending strip |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101111650B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101507449B1 (en) * | 2014-05-30 | 2015-03-31 | 김민호 | Moving device of plated strip |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5713157A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-23 | Nisshin Steel Co Ltd | Control method for antivibration device of strip |
KR100797329B1 (en) | 2001-12-10 | 2008-01-22 | 주식회사 포스코 | An apparatus for removing films on anode for strip plating |
KR100963426B1 (en) * | 2003-07-07 | 2010-06-15 | 주식회사 포스코 | Apparatus for controlling and polishing a lip of air knife in a galvanizing line |
KR20110077057A (en) * | 2009-12-30 | 2011-07-07 | 재단법인 포항산업과학연구원 | Continuous galvanizing apparatus |
-
2011
- 2011-07-25 KR KR1020110073639A patent/KR101111650B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5713157A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-23 | Nisshin Steel Co Ltd | Control method for antivibration device of strip |
KR100797329B1 (en) | 2001-12-10 | 2008-01-22 | 주식회사 포스코 | An apparatus for removing films on anode for strip plating |
KR100963426B1 (en) * | 2003-07-07 | 2010-06-15 | 주식회사 포스코 | Apparatus for controlling and polishing a lip of air knife in a galvanizing line |
KR20110077057A (en) * | 2009-12-30 | 2011-07-07 | 재단법인 포항산업과학연구원 | Continuous galvanizing apparatus |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101507449B1 (en) * | 2014-05-30 | 2015-03-31 | 김민호 | Moving device of plated strip |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20160046020A1 (en) | Selective compliance assembly robot arm | |
KR101632422B1 (en) | bending repair device of slide rail | |
WO2010038969A3 (en) | Automatic flange surface machining apparatus | |
KR101746549B1 (en) | Device positioning of air knife | |
CN105071614A (en) | Tape wrapping machine used for high-speed rail traction motor coil | |
ATE522464T1 (en) | DEVICE FOR OPERATING AN ELEVATOR DOOR | |
KR101880883B1 (en) | Variable supporting device for welding member | |
KR101111650B1 (en) | Apparatus adjusting position electromagnet for control anti-bending strip | |
JP6373658B2 (en) | Electromagnetic wave measuring device | |
JP2007228688A (en) | Actuator | |
KR100803305B1 (en) | Seat sliding apparatus of vehicle | |
KR100875682B1 (en) | Belt tension adjusting device of linear motion guide | |
JP2008248654A (en) | Door body guide device for sliding door | |
KR101259888B1 (en) | Apparatus for controlling swerving motion of belt conveyor | |
TWI803669B (en) | telescopic device | |
US20170088367A1 (en) | Transfer apparatus | |
JP4816521B2 (en) | Belt transmission device and robot equipped with the same | |
KR101892417B1 (en) | Multi limit switch for stage machine | |
KR101713912B1 (en) | Crossing gate for vehicles | |
KR101180851B1 (en) | Device for controlling up and down of rollbrush | |
JP4782534B2 (en) | Automatic door opener | |
KR20100128569A (en) | Amplitude control was possible for vibration apparatus | |
KR101568815B1 (en) | Distance measuring device for bending corrugated member | |
WO2011132219A1 (en) | Door opening/closing device | |
JP2010132422A5 (en) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150126 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160126 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170126 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180126 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190128 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200128 Year of fee payment: 9 |