KR101106415B1 - 플로트 유리 제조 장치 - Google Patents

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KR101106415B1
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Abstract

본 발명은 용융 주석 배스의 내부에 수용된 용융 주석 위로 용융 유리를 플로팅시켜 플로트 유리를 제조하기 위한 플로트 유리 제조 장치에 있어서, 용융 주석 배스에 수용된 용융 주석의 일부를 용융 주석 배스의 외부로 배출시키기 위해 용융 주석 배스에 연통되도록 설치된 적어도 하나 또는 그 이상의 배출라인들; 용융 주석 배스로부터 배출되는 용융 주석을 배출라인을 통해 수용할 수 있는 산소 제거 챔버; 산소 제거 챔버 내의 용융 주석에 수소를 포함하는 산소 제거 가스를 분사하는 분사부재; 및 분사부재에 의해 산소가 제거된 산소 제거 챔버 내부의 용융 주석을 용융 주석 배스로 복귀시키기 위해 용융 주석 배스에 연통되도록 설치된 적어도 하나 또는 그 이상의 복귀라인들을 구비한다.

Description

플로트 유리 제조 장치{APPARATUS FOR MANUFACTURING FLOAT GLASS}
본 발명은 용융 주석 배스의 내부에 수용된 용융 주석 위로 유리를 플로팅하여 플로트 유리를 제조함에 있어, 용융 주석 배스 내의 용존 산소량을 감소시킬 수 있도록 구조가 개선된 플로트 유리 제조 장치에 관한 것이다.
통상적으로, 플로트법(float process)에 의해 제조되는 판유리와 같은 플로트 유리는, 용융 주석 배스 내부에 수용된 비중이 큰 용융 주석의 상부에, 용융된 유리를 주입함으로써 성형된다. 종래의 플로트 유리 생산 과정에 있어서, 용융 주석 배스를 이용한 판유리 생산 시, 주석 산화물 또는 주석 내 용존되어 있는 산소에 의한 기포 불량이 최종 생산 제품의 불량을 야기하는 문제점이 있다. 이를 해결하기 위해, 용융 주석 배스의 내부 분위기를 산소가 없도록 유지하고, 외부 공기가 용융 주석 배스 내부로 유입되지 않도록 하는 실링(Sealing)을 통해 주석 내부에 산소가 용존되는 것을 방지하는 기술이 개발되었으나, 이러한 방식은 용융 주석 배스 내부에 용존된 산소를 충분히 제거하기 용이하지 않음에 따라, 최종 생산 제품의 불량률을 낮추는데 한계가 있었다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 착상된 것으로서, 용융 주석 배스 내 용융 주석의 용존 산소량을 온도에 따른 산소 용해도 차이와 수소를 포함하는 산소 제거 가스에 의해 용융 주석의 산소를 효과적으로 제거하여, 제품 불량을 감소시킬 수 있는 플로트 유리 제조 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플로트 유리 제조 장치는, 용융 주석 배스의 내부에 수용된 용융 주석 위로 용융 유리를 플로팅시켜 플로트 유리를 제조하기 위한 플로트 유리 제조 장치에 있어서, 상기 용융 주석 배스에 수용된 상기 용융 주석의 일부를 상기 용융 주석 배스의 외부로 배출시키기 위해 상기 용융 주석 배스에 연통되도록 설치된 적어도 하나 또는 그 이상의 배출라인들; 상기 용융 주석 배스로부터 배출되는 상기 용융 주석을 상기 배출라인을 통해 수용할 수 있는 산소 제거 챔버; 상기 산소 제거 챔버 내의 용융 주석에 수소를 포함하는 산소 제거 가스를 분사하는 분사부재; 및 상기 분사부재에 의해 산소가 제거된 상기 산소 제거 챔버 내부의 용융 주석을 상기 용융 주석 배스로 복귀시키기 위해 상기 용융 주석 배스에 연통되도록 설치된 적어도 하나 또는 그 이상의 복귀라인들을 구비한다.
바람직하게, 상기 분사부재는, 상기 산소 제거 챔버 내의 용융 주석의 온도를 낮춰 상기 용융 주석에 포함된 산소의 포화 용해도를 감소시킴에 따라 상기 용융 주석에 포함된 산소가 제거될 수 있도록, 수소를 포함하는 산소 제거 가스를 상기 산소 제거 챔버 내부에 수용된 용융 주석에 버블링시키는 버블링부를 구비한다.
바람직하게, 상기 버블링부는 다수의 구멍들이 마련된 다공성 플레이트를 구비한다.
바람직하게, 상기 구멍들은 상기 다공성 플레이트의 판면에 대해 경사지게 형성된다.
바람직하게, 상기 다공성 플레이트는 세라믹 재질로 형성된다.
바람직하게, 상기 버블링부에 의해 버블링 처리된 상기 산소 제거 챔버 내부의 용융 주석의 온도는 400~700℃이다.
바람직하게, 상기 분사부재는 0.2~2Nm3/hr의 유량과, 2~5kgf/cm2 의 압력으로, 온도가 300~500℃인 산소 제거 가스를 공급한다.
바람직하게, 상기 분사부재는 상기 수소와 함께 불활성 가스를 혼합하여 분사할 수 있다.
바람직하게, 상기 불활성 가스와 상기 수소 가스의 혼합 비율은, 부피를 기준으로, 불활성 가스:수소 가스 = 90~100미만 : 0초과~10이다.
바람직하게, 상기 산소 제거 챔버는 내부에서 생성되는 수증기를 외부로 배출시킬 수 있는 배출구를 더 구비한다.
바람직하게, 상기 산소 제거 챔버와 상기 복귀라인 사이에 배치된 가열챔버; 및 상기 산소가 제거된 용융 주석을 가열시키기 위해 상기 가열챔버에 설치된 가열부재를 더 구비한다.
바람직하게, 상기 가열챔버와 상기 산소 제거 챔버는 격벽에 의해 서로 구획되는 일체형 챔버를 형성하고; 상기 산소 제거 챔버에서 산소가 제거된 상기 용융 주석이 상기 가열챔버로 이동될 수 있도록 상기 격벽에 형성된 관통구를 더 구비한다.
바람직하게, 상기 가열챔버에서 가열된 용융 주석의 온도는 1200~1400℃이다.
바람직하게, 상기 배출라인은 상기 용융 주석 배스의 전 영역 중 용융 주석의 온도가 700~1000℃인 영역에 연결되고 상기 복귀라인은 상기 용융 주석 배스의 전 영역 중 용융 주석의 온도가 1200~1400℃인 영역에 연결된다.
본 발명에 따르면, 용융 주석 배스 내의 용존 산소량을 감소시킬 수 있음에 따라, 틴 드랍(Tin Drop), 틴 픽업(Tin Pick-up) 및 탑 스펙(Top Speck)과 같은 주석 산화물에 의한 불량과, 기포 불량(Bottom Open Seed)을 감소시킬 수 있다.
전술한 본 발명의 요약뿐만 아니라 이어지는 본 발명의 바람직한 실시예들의 상세한 설명은 첨부된 도면들과 함께 읽혀질 때 더 잘 이해될 것이다. 본 출원의 바람직한 예시적 실시예에 따른 플로트 유리의 제조 장치를 설명하기 위한 목적으로, 바람직한 실시예들의 도면들이 도시된다. 그러나, 본 출원은 그러한 도면들에 도시된 정확한 장치 및 수단에 한정되지 않는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플로트 유리의 제조 장치의 평면도이다.
도 2는 도 1의 A-A선에 따른 산소 제거 챔버와 가열챔버의 단면도이다.
도 3은 도 2의 다공성 부재의 단면도이다.
이어지는 상세한 설명에서 사용된 특정의 용어는 편의를 위한 것이지 제한적인 것은 아니다. "우", "좌", "상면" 및 "하면"의 단어들은 참조가 이루어진 도면들에서의 방향을 나타낸다. "내측으로" 및 "외측으로"의 단어들은 각각 지정된 장치, 시스템 및 그 부재들의 기하학적 중심을 향하거나 그로부터 멀어지는 방향을 나타낸다. "전방", "후방", "상방", "하방" 및 그 관련 단어들 및 어구들은 참조가 이루어진 도면에서의 위치들 및 방위들을 나타내며 제한적이어서는 아니된다. 이러한 용어들은 위에서 열거된 단어들, 그 파생어 및 유사한 의미의 단어들을 포함한다.
본 발명의 특정의 예시적 실시예들은 도면들을 참조하여 설명될 것이다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플로트 유리의 제조 장치의 평면도이고, 도 2는 도 1의 A-A선에 따른 산소 제거 챔버와 가열챔버의 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 따른 플로트 유리 제조 장치(100)는 용융 주석 배스(10)의 내부에 수용된 용융 주석(S) 위로 용융 유리(G)를 플로팅시켜 플로트 유리(G)를 제조하기 위한 것이다. 플로트 유리 제조 장치(100)는 용융 주석 배스(10)에 수용된 용융 주석(S)의 일부를 용융 주석 배스(10)의 외부로 배출시키기 위해 용융 주석 배스(10) 양측면에 연통되도록 설치된 2개의 배출라인들(20)과, 용융 주석 배스(10)로부터 배출되는 용융 주석(S)을 배출라인(20)을 통해 수용할 수 있도록 각각의 배출라인(20)에 연결된 2개의 산소 제거 챔버들(30), 각각의 산소 제거 챔버(30) 내의 용융 주석(S)에 수소를 포함하는 산소 제거 가스를 분사하기 위해 각각의 산소 제거 챔버(30)에 설치된 분사부재(40), 및 상응하는 분사부재(40)에 의해 산소가 제거된 산소 제거 챔버(30) 내부의 용융 주석(S)을 용융 주석 배스(10)로 복귀시키기 위해 용융 주석 배스(10)의 양측면에 연통되도록 설치된 2개의 복귀라인들(50)을 구비한다.
각각의 배출라인(20)의 일단은 용융 주석 배스(10)의 전 영역 중 용융 주석(S)의 온도가 700~1000℃인 영역 즉, 용융 주석 배스(10)의 길이 방향으로 하류측에 연결되는 것이 바람직하다. 배출라인(20)의 타단은 산소 제거 챔버(30)의 측벽과 연결된다.
각각의 산소 제거 챔버(30)는 용융 주석 배스(10) 내의 용융 주석(S)에 용존되어 있는 산소를 제거하기 위한 영역이다. 산소 제거 챔버(30)는 후술하는 가열챔버(60)와 함께 일체화된 스트리핑 챔버를 형성한다. 또한, 산소 제거 챔버(30)와 가열챔버(60)는 스트리핑 챔버 내부에서 격벽(62)에 의해 구획된다. 산소 제거 챔버(30)와 가열챔버(60)는 완전히 구획될 수 있다. 이 경우, 산소 제거 챔버(30)와 가열 챔버(60)는 별도의 연결 라인에 의해 연결될 수 있음은 당업자에게 명백하다. 스트리핑 챔버의 용융 주석 유입측은, 배출라인(20)과 연결되어 용융 주석 배스(10)로부터 배출되는 용융 주석(S)을 산소 제거 챔버(30) 내부로 공급받는다. 또한, 스트리핑 챔버의 용융 주석 유출측은, 산소 제거 챔버(30) 내부에서 일정 수준 이하 예컨대, 용존 산소량이 수 ppm 이하로 산소가 제거된 용융 주석을 가열하기 위한 가열챔버(60)의 측벽에서 복귀라인(50)에 의해 용융 주석 배스(10)에 연결된다.
격벽(62)은 산소 제거에 유리한 산소 제거 챔버(30)의 내부 분위기 조건과 산소가 제거된 용융 주석의 가열 과정에서의 재산화를 억제하기 위한 가열챔버(60)의 내부 분위기 조건을 분리하기 위한 것이다. 또한, 격벽(62)에는 산소 제거 챔버(30)에서 산소가 제거된 용융 주석이 가열챔버(60)로 이동할 수 있는 관통구(64)가 마련된다. 즉, 관통구(64)는 산소 제거 챔버(30)에 수용된 용융 주석의 수위보다 낮은 격벽(62)의 하측 즉, 관통구(64)가 용융 주석에 잠길 정도의 위치에 형성된다. 부연 설명하면, 산소 제거 챔버(30)에서 용융 주석(S)이 버블링됨에 따라, 용융 주석(S)의 온도는 내려가게 되고, 이에 따른 산화 주석이 산소 제거 챔버(30) 내부의 용융 주석(S)의 표면에 발생되어 부유할 수도 있는데, 이렇게 부유하는 산화 주석층이 관통구(64)를 통해 가열챔버(60)로 넘어가는 것을 방지하기 위해, 관통구(64)는 용융 주석(S)의 액위 보다 낮게 예컨대 용융 주석(S)에 잠기는 정도의 위치에 형성되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 관통구(64)는 산소 제거 챔버(30)의 바닥면으로부터 일정 높이에 위치하도록 격벽(62)에 형성되어 있을 수 있다.
각각의 분사부재(40)는 산소 제거 챔버(30)의 내부 바람직하게 바닥 근처에 설치되는 것으로서, 산소 제거 챔버(30) 내의 용융 주석(S)의 온도를 낮춰 용융 주석에 포함된 산소의 포화 용해도를 감소시킴에 따라 용융 주석에 포함된 산소가 제거될 수 있도록, 수소를 포함하는 산소 제거 가스를 산소 제거 챔버(30) 내부에 수용된 용융 주석을 버블링시킬 수 있는 버블링부(44)를 구비한다.
버블링부(44)는 다수의 구멍들(48)이 마련되고 용융 주석(S)에 대해 기계적 및 화학적 내구성이 있는 세라믹 재질의 다공성 플레이트(46)를 구비한다. 구멍들(48)은 다공성 플레이트(46)의 판면에 대해 경사지게 형성된다. 버블링부(44)에 의해 버블링 처리된 산소 제거 챔버(30) 내부의 용융 주석의 온도는 400~700℃이다. 산소 제거 챔버(30) 내부로 공급되는 질소(N2)와 수소(H2)의 혼합 가스는 세라믹 재질의 다공성 플레이트(46)의 구멍들(48)을 통과하게 된다.
분사부재(40)는 0.2~2Nm3/hr의 유량과, 2~5kgf/cm2의 압력으로, 온도가 300~500℃인 산소 제거 가스를 산소 제거 챔버(30) 내부로 공급한다. 분사부재(40)는 수소와 함께 예를 들어, 질소와 같은 불활성 가스를 혼합하여 분사할 수 있다. 불활성 가스와 수소 가스의 혼합 비율은, 부피를 기준으로, 90~100미만: 0초과~10이다.
본 실시예에 따른 플로트 유리 제조 장치(100)는, 전술한 바와 같이, 산소 제거 챔버(30)와 복귀라인(50) 사이에 배치된 가열챔버(60), 및 산소가 제거된 용융 주석을 가열시키기 위해 가열챔버(60)에 설치된 가열부재(64)를 구비한다. 가열챔버(60)와 산소 제거 챔버(30)는 격벽에 의해 서로 구획되는 일체형 챔버를 형성한다. 산소 제거 챔버(30)에서 산소가 제거된 용융 주석(S)이 가열챔버(60)로 이동될 수 있도록 격벽(62)에는 관통구(64)가 형성된다.
복귀라인(50)은 용융 주석 배스(10)의 전 영역 중 용융 주석(S)의 온도가 1200~1400℃인 영역 즉, 용융 주석 배스(10)의 상류측에 연결되어 산소가 제거된 용융 주석(S)을 용융 주석 배스(10)로 복귀시킨다. 복귀라인(50)은 용융 주석(S)의 깊이(depth)가 가급적 깊은 곳에 예컨대, 깊이가 70~100mm인 곳에 연결되는 것이 바람직하다. 그러나, 용융 주석 배스(10) 내의 용융 주석(S)의 흐름을 방해하지 않는다면 그 설치 위치가 한정되는 것은 아니다.
버블링부(44)는 세라믹 재질로 형성되는 다공성 플레이트(46)를 포함할 수 있다. 다공성 플레이트(46)에는 다수의 구멍들(48)이 마련되는데, 구멍들(48)은 판면에 대한 수직 방향으로 형성될 수도 있지만, 도 3에 도시된 바와 같이, 일 방향으로 경사지게 형성되는 것이 바람직하다. 다공성 플레이트(46)의 구멍들(48)이 사선 방향으로 경사지게 형성되면, 이러한 구멍들(48)을 통과하는 산소 제거 가스의 부상 궤적이 구멍들(48)이 수직 방향으로 형성된 경우 보다 길게 될 수 있어, 산소 제거 가스가 용융 주석(S)과의 반응 시간을 연장시킬 수 있다. 또한, 최종적으로 부유되는 산화 주석의 제거가 필요한 경우, 경사진 구멍들(48)의 배치 구조는 용융 주석 표면에 부유할 수 있는 산화 주석을 가급적 한 곳으로 모이게 할 수 있는 흐름을 형성하여, 산화 주석 부유층을 용이하게 제거할 수 있도록 한다.
버블링부(44)에 의해 버블링되는 산소 제거 가스는 가스 공급 라인(미도시)에 의해 산소 제거 챔버(30)에 연결된다. 버블링부(44)에 의해 버블링 처리된 산소 제거 챔버(30) 내부의 용융 주석의 온도는 예를 들어, 400~700℃일 수 있다. 또한, 버블링부(44)에 의해 버블링 처리된 용융 주석에 포함된 산소의 포화 용해도는 수십 ppm 이하일 수 있다.
산소 제거 챔버(30) 내부에서 용융 주석(S)에 포함된 산소와 수소가 반응하여 물(H2O)이 생성됨에 따라, 용융 주석(S)에 포함된 산소는 제거되는데, 산소 제거 챔버(30)에는, 물(H2O)이 수증기 형태로 변화되어 외부로 배출될 수 있는 배출구(32)가 마련된다.
이와 같이, 본 발명의 바람직한 예시적 실시예에 따른 플로트 유리 제조 장치에 따르면, 산소 제거 가스를 용융 주석에 직접 접촉시켜 용융 주석의 온도를 낮추어 용해도를 감소시킴에 따라, 용융 주석 내에 용존 산소가 용해도 차이에 의해 배출되고, 이에 용융 주석 배스 내의 용존 산소량을 감소시킬 수 있게 된다.
산소 제거 가스를 용융 주석과 접촉시킬 때 산소 제거 가스를 버블링시키는 경우, 산소 제거 가스의 버블링에 의해 용존 산소의 추출(extraction)이 더욱 용이해 진다. 이때, 산소 제거 가스의 기포가 용융 주석에 포함된 산소를 흡수하여 부상하게 되고, 버블링되는 산소 제거 가스에 의해 용융 주석의 용존 산소를 화학적으로 제거 즉, 용융 주석의 산소와 수소의 반응에 의해 물(H2O)이 생성됨에 따라 용존 산소를 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 산소 제거 가스에 의한 냉각 효과로 용존 산소와 포화도를 감소시켜 용존 산소를 추출해내는 물리적인 기능도 함께 이루어진다. 또한, 상술한 과정에 의해 산소 제거 챔버(30) 내부에서 생성되는 물(H2O)은 산소 제거 챔버(30)의 산소 제거 영역에서수증기 형태로 변환되어 산소 제거 챔버(30)의 상측에 마련된 배출구(32)를 통해 배출된다.
가열챔버(60)는, 산소 제거 챔버(30)에서 산소가 제거된 용융 주석(S)의 온도와 유리가 성형되고 있는 용융 주석 배스(10)의 용융 주석(S)의 온도를 맞추기 위해, 산소 제거 챔버(30)를 통과한 용융 주석(S)을 일정 온도 이상 예컨대 1200~1400℃ 이상으로 가열하는 가열 영역이다. 가열챔버(60)의 내부에는 용융 주석(S)을 가열하기 위해 복수의 전기 히터들로 구성되는 가열부재(64)가 설치된다. 여기서, 전기 히터들은 용융 주석 배스(10) 내의 전기 히터(미도시)와 동일 또는 유사한 종류가 사용될 수 있다. 가열챔버(60)의 일측에는 용융 주석 배스(10)와 가열챔버(60)를 연결하는 복귀라인(50)이 연결된다.
이와 같이, 본 발명에 따르면, 용융 주석 배스 내 용융 주석의 용존산소량을 온도에 따른 산소 용해도 차이와 수소를 포함하는 산소 제거 가스의 버블링(Bubbling)에 의해 용융 주석의 산소를 효과적으로 제거하여, 용존 산소를 수 ppm 이하로 유지시킬 수 있어, 제품 불량을 감소시킬 수 있다.
용융 주석에 포함된 산소의 포화 용해도는 예컨대 하기 표 1과 같을 수 있다.

Tc(℃)
용해도(Solubility)(%, O2)

536
6 ×10-6

600
2 ×10-4

700
6 ×10-4
여기서, 용해도는, 온도에 따른 용해도(열역학 데이터)로서, 버블링 후 최대 산소 포화도를 의미한다.
전술한 상세한 설명 및 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예들을 나타내는 한편, 첨부된 청구항들에서 정의된 바와 같이 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않는 한 다양한 부가물, 변형물, 조합들 및/또는 대체물들이 만들어 질 수 있음을 이해해야 한다. 본 발명의 원칙을 벗어나지 않는 한 특정의 환경 및 작동 조건들에 특히 적합하도록 된 구조, 배열, 비율, 물질, 성분의 많은 변형과 함께 본 발명이 사용될 수 있음을 당업자는 이해할 것이다. 또한, 본 명세서에서 설명된 특징들은 단독적으로 사용될 수도 있고 다른 특징들과 조합하여 사용될 수도 있다. 예를 들어, 하나의 실시예와 관련하여 설명된 특징들은 다른 실시예에서 설명된 특징들과 함께 및/또는 상호 교체되어 사용될수 있다. 따라서, 현재 개시된 실시예들은 모든 면에서 제한적이 아닌 설명적인 것으로 간주되어야 하며, 발명의 범위는 첨부된 청구범위에 의해 표시되며, 전술한 상세한 설명에 한정되어서는 아니된다.
첨부된 청구범위의 넓은 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명의 다양한 변형들 및 변경들이 가능함을 당업자는 이해할 것이다. 이러한 것들의 몇몇은 위에서 논의되었으며 다른 것들은 당업자에게 명백할 것이다.
10…용융 주석 배스 20…배출라인
30…산소 제거 챔버 32…배출구
40…분사부재 44…버블링부
46…다공성 플레이트 48…구멍
50…복귀라인 60…가열챔버
62…격벽 64…관통구
100…플로트 유리 제조 장치

Claims (14)

  1. 용융 주석 배스의 내부에 수용된 용융 주석 위로 용융 유리를 플로팅시켜 플로트 유리를 제조하기 위한 플로트 유리 제조 장치에 있어서,
    상기 용융 주석 배스에 수용된 상기 용융 주석의 일부를 상기 용융 주석 배스의 외부로 배출시키기 위해 상기 용융 주석 배스의 전 영역 중 용융주석의 온도가 700~1000℃인 영역에 연통되도록 설치된 적어도 하나 또는 그 이상의 배출라인들;
    상기 용융 주석 배스로부터 배출되는 상기 용융 주석을 각각의 상기 배출라인을 통해 수용할 수 있는 하나 또는 그 이상의 산소 제거 챔버들;
    각각의 상기 산소 제거 챔버 내의 용융 주석에 수소를 포함하는 산소 제거 가스를 분사하여 상기 용융주석에 포함된 산소를 제거할 수 있는 분사부재; 및
    상기 분사부재에 의해 산소가 제거된 상기 산소 제거 챔버 내부의 용융 주석을 상응하는 상기 용융 주석 배스로 복귀시키기 위해 상기 용융 주석 배스의 전 영역 중 용융주석의 온도가 1200~1400℃인 영역에 연통된 적어도 하나 또는 그 이상의 복귀라인들을 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 분사부재는, 상기 산소 제거 챔버 내의 용융 주석의 온도를 낮춰 상기 용융 주석에 포함된 산소의 포화 용해도를 감소시킴에 따라 상기 용융 주석에 포함된 산소가 제거될 수 있도록, 수소를 포함하는 산소 제거 가스를 상기 산소 제거 챔버 내부에 수용된 용융 주석에 버블링시키는 버블링부를 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 버블링부는 다수의 구멍들이 마련된 다공성 플레이트를 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 구멍들은 상기 다공성 플레이트의 판면에 대해 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 다공성 플레이트는 세라믹 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 버블링부에 의해 버블링 처리된 상기 산소 제거 챔버 내부의 용융 주석의 온도는 400~700℃인 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 분사부재는 0.2~2Nm3/hr의 유량과, 2~5kgf/cm2 의 압력으로, 온도가 300~500℃인 산소 제거 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 분사부재는 상기 수소와 함께 불활성 가스를 혼합하여 분사할 수 있는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 불활성 가스와 상기 수소 가스의 혼합 비율은, 부피를 기준으로, 불활성 가스:수소 가스 = 90~100미만 : 0초과~10인 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 산소 제거 챔버는 내부에서 생성되는 수증기를 외부로 배출시킬 수 있는 배출구를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 산소 제거 챔버와 상기 복귀라인 사이에 배치된 가열챔버; 및
    상기 산소가 제거된 용융 주석을 가열시키기 위해 상기 가열챔버에 설치된 가열부재를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 가열챔버와 상기 산소 제거 챔버는 격벽에 의해 서로 구획되는 일체형 챔버를 형성하고;
    상기 산소 제거 챔버에서 산소가 제거된 상기 용융 주석이 상기 가열챔버로 이동될 수 있도록 상기 격벽에 형성된 관통구를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리 제조 장치.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 가열챔버에서 가열된 용융 주석의 온도는 1200~1400℃인 것인 플로트 유리 제조 장치.
  14. 삭제
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