KR101104643B1 - Asynchronous e-fuse OTP memory cell and asynchronous e-fuse OTP memory device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 OTP 메모리 셀 및 OTP 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 비트라인과 워드라인에 기생하는 커패시턴스를 줄여 동작전류를 감소시킴으로써 저전력의 장치를 구현하기 위해 이퓨즈(e-fuse) 셀에 큰 채널 폭을 갖는 프로그램 모드용 트랜지스터와 작은 채널 폭을 갖는 독출 모드용 트랜지스터를 구비한 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀 및 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치에 관한 것이다The present invention relates to an OTP memory cell and an OTP memory device. In particular, the present invention relates to a large channel width in an e-fuse cell to realize a low-power device by reducing operating current by reducing parasitic capacitances in bit lines and word lines. An asynchronous eFuse OTP memory cell and an asynchronous eFuse OTP memory device having a transistor for a program mode having a transistor and a transistor for a read mode having a small channel width.

본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치에 의하면, 독출모드에서 워드라인과 비트라인의 기생 커패시턴스를 줄여 독출 모드의 동작전류를 감소시킬수 있는 효과가 있다.According to the asynchronous E-Fuse OTP memory device according to the present invention, the parasitic capacitance of the word line and the bit line can be reduced in the read mode, thereby reducing the operating current of the read mode.

또한 비동기식 인터페이스 방식과 분리된 I/O 방식을 사용함으로써 저면적의 메모리 장치를 구현할 수 있다는 장점이 있다.In addition, the use of a separate I / O method and the asynchronous interface method has the advantage that the memory device can be implemented.

OTP 메모리 장치, 비동기식, OTP 셀, 이퓨즈(e-fuse) OTP memory device, asynchronous, OTP cell, e-fuse

Description

비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀 및 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치{Asynchronous e-fuse OTP memory cell and asynchronous e-fuse OTP memory device}Asynchronous e-fuse OTP memory cell and asynchronous e-fuse OTP memory device

본 발명은 OTP 메모리 셀 및 OTP 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 비트라인과 워드라인에 기생하는 커패시턴스를 줄여 동작전류를 감소시킴으로써 저전력의 장치를 구현하기 위해 이퓨즈(e-fuse) 셀에 큰 채널 폭을 갖는 프로그램 모드용 트랜지스터와 작은 채널 폭을 갖는 독출 모드용 트랜지스터를 구비한 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀 및 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an OTP memory cell and an OTP memory device. In particular, the present invention relates to a large channel width in an e-fuse cell to realize a low-power device by reducing operating current by reducing parasitic capacitances in bit lines and word lines. An asynchronous e-fuse OTP memory cell and an asynchronous e-fuse OTP memory device having a program mode transistor having a transistor and a read mode transistor having a small channel width.

일반적으로 주제어장치(MCU), 전원 집적회로(Power IC), 디스플레이 구동 칩, 씨모스(CMOS) 이미지 센서 등에는 프로그램 메모리로 EPROM, EEPROM, 플래시 메모리와 같은 비휘발성 메모리가 사용된다.In general, nonvolatile memories such as EPROM, EEPROM, and flash memory are used for a main control unit (MCU), a power integrated circuit (Power IC), a display driving chip, and a CMOS image sensor.

그러나 이들 비휘발성 메모리는 긴 공정 시간(Turn-Around Time:TAT), 복잡도의 증가, 낮은 신뢰성 및 높은 제조 비용을 유발하는 부가적인 공정을 필요로 한다. 따라서 추가 공정이 필요 없는 이퓨즈(e-fuse)나 안티퓨즈 (antifuse) 방식의 로직 공정 기반 설계가 가능한 OTP (One-Time Programmable) 메모리 장치가 많 이 사용되고 있다.However, these nonvolatile memories require additional processing that results in long turn-around time (TAT), increased complexity, lower reliability, and higher manufacturing costs. As a result, many OTP (One-Time Programmable) memory devices that can be designed based on e-fuse or anti-fuse logic processes without additional processes are used.

안티퓨즈 방식의 OTP 메모리 셀은 얇은 게이트 산화막 (gate oxide)에 항복전압 (breakdown voltage)보다 높은 전압을 인가하여 전기적으로 단락시켜 프로그램하게 된다. 안티퓨즈 OTP 메모리 장치는 프로그램 전압이 5.5V~8.5V이므로 로직 트랜지스터와 5V의 중간전압(Medium Voltage;MV) 트랜지스터를 필요로 한다.Anti-fuse OTP memory cells are electrically shorted by applying a voltage higher than the breakdown voltage to a thin gate oxide. The antifuse OTP memory device requires a logic transistor and a 5V medium voltage (MV) transistor because the program voltage is 5.5V to 8.5V.

그런데 로직 트랜지스터와 3.3V의 중간전압의 트랜지스터만 제공하는 공정에서는 프로그램 전압에서 3.3V의 트랜지스터가 견딜 수 없으므로 안티퓨즈 OTP는 부적합하다. 반면 이퓨즈(electrical Fuse:e-fuse) OTP 셀은 폴리실리콘 게이트에 10mA~20mA 정도의 과전류를 흘려 이퓨즈(e-fuse)를 블로잉(blowing)하여 퓨즈를 선택적으로 끊어준다. 이퓨즈(e-fuse)의 경우는 3.3V 트랜지스터로 프로그램이 가능하다.However, in the process of providing only logic transistor and 3.3V intermediate voltage transistor, antifuse OTP is not suitable because the 3.3V transistor cannot be tolerated at the program voltage. On the other hand, the electric fuse (e-fuse) OTP cell blows the e-fuse by blowing an overcurrent of about 10 mA to 20 mA through the polysilicon gate to selectively blow the fuse. In the case of e-fuse, a 3.3V transistor can be programmed.

도 1은 종래의 이퓨즈 셀을 나타내는 회로도이다.1 is a circuit diagram showing a conventional e-fuse cell.

도 1에 도시된 바와 같이 종래의 이퓨즈 셀(100)은 이퓨즈 소자(110)와 NMOS 트랜지스터(120)로 구성되어 있으며, 프로그램 이전에 이퓨즈 소자의 저항은 50~100Ω 정도이다. 이퓨즈를 블로잉(blowing)하는 경우 비트라인(Bit-Line:BL)과 워드라인(Word-Line:WL)에 I/O 인터페이스 전압인 VIO (=3.3V) 전압을 인가하면 이퓨즈 소자(110)와 NMOS 트랜지스터(120)을 통해 프로그램 전류가 흐르면서 이퓨즈 소자(110)의 저항은 수 100kΩ 이상이 된다. 이와 같이 이퓨즈 소자(110)는 전도상태 (conductive state)와 고저항 상태 (highly resistive state) 중 하나로 프로그램 된다.As shown in FIG. 1, the conventional e-fuse cell 100 includes an e-fuse device 110 and an NMOS transistor 120. Before the program, the e-fuse device has a resistance of about 50 to 100 Ω. In the case of blowing the fuse, if the I / O interface voltage VIO (= 3.3 V) is applied to the bit line (BL) and the word line (WL), the fuse element 110 And the program current flows through the NMOS transistor 120, the resistance of the e-fuse device 110 becomes a few 100 kΩ or more. As such, the e-fuse element 110 is programmed in one of a conductive state and a highly resistive state.

그런데 종래의 이퓨즈 셀은 도 1에 도시된 NMOS 트랜지스터인 MN0에 의해 프로그램 동작과 독출 동작이 이루어지므로 프로그램 전류를 만족하기 위해서는 NMOS 트랜지스터의 채널 폭 (channel width)이 커야 한다. 또한 비트라인(BL)에 기생하는 저항을 줄여 프로그램 전압을 낮추기 위해서는 비트라인(BL)의 메탈 폭 (metal width)이 커야 한다.However, in the conventional e-fuse cell, since the program operation and the read operation are performed by MN0, which is the NMOS transistor shown in FIG. 1, the channel width of the NMOS transistor must be large to satisfy the program current. In addition, the metal width of the bit line BL must be large in order to reduce the parasitic resistance of the bit line BL to reduce the program voltage.

그러나 이러한 경우에는 워드라인(WL)과 비트라인(BL)의 기생 커패시턴스가 증가하므로 독출 모드에서의 스위칭에 의한 동작 전류가 증가하는 문제점이 있었다.However, in this case, since the parasitic capacitance of the word line WL and the bit line BL increases, there is a problem in that an operating current due to switching in the read mode increases.

본 발명의 목적은, OTP 메모리 셀 어레이가 차지하는 면적을 줄이고 워드라인과 비트라인의 기생커패시턴스를 줄일 수 있는 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀을 제공하는데 있다.It is an object of the present invention to provide an asynchronous e-fuse OTP memory cell capable of reducing the area occupied by an OTP memory cell array and reducing parasitic capacitance of word lines and bit lines.

본 발명의 다른 목적은 상기 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀로 구성되는 OTP 메모리 셀 어레이를 포함하는 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide an asynchronous e-fuse OTP memory device including an OTP memory cell array composed of the asynchronous e-fuse OTP memory cells.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀은, 제1단자가 접지전압에 연결되고 프로그램 워드라인 신호(WWL)가 그 게이트에 인가되는 제1엔모스 트랜지스터, 제1단자가 비트라인(BL)에 연결되고 제2단자가 상 기 제1엔모스 트랜지스터의 제2단자에 연결되고 독출 워드라인 신호(RWL)가 그 게이트에 인가되는 제2엔모스 트랜지스터 및 제1단자가 소스라인(SL)에 연결되고 제2단자가 상기 제1엔모스 트랜지스터의 제2단자 및 상기 제2엔모스 트랜지스터의 제2단자에 공통으로 연결되는 이퓨즈 소자(330);를 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the asynchronous E-Fuse OTP memory cell according to the present invention includes a first NMOS transistor and a first terminal having a first terminal connected to a ground voltage and a program word line signal WWL applied to the gate thereof. Is connected to the bit line BL, the second terminal is connected to the second terminal of the first NMOS transistor, and the second NMOS transistor and the first terminal to which the read word line signal RWL is applied to the gate thereof. And an e-fuse device 330 connected to the source line SL and having a second terminal connected to the second terminal of the first NMOS transistor and the second terminal of the second NMOS transistor in common. It is done.

상기 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치는, 적어도 둘 이상의 소스 라인, 적어도 둘 이상의 비트라인, 적어도 둘 이상의 프로그램 워드라인, 적어도 둘 이상의 독출 워드라인에 각각 연결되는 적어도 둘 이상의 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀들이 배치되는 이퓨즈 OTP 메모리 셀 어레이, 상기 이퓨즈(e-fuse) OTP 메모리 장치의 프로그램 모드 또는 독출 모드 등의 동작을 지시하는 모드제어신호들을 발생시키는 제어부, 상기 모드제어신호에 응답하여 로직전압(VDD) 또는 인터페이스 전압(VIO)을 상기 이퓨즈 OTP 메모리 셀 어레이에 공급하는 전원 스위치 회로, 로우 어드레스신호를 디코딩하는 로우 디코더, 상기 모드제어신호 및 디코딩된 로우 어드레스 신호에 응답하여 상기 적어도 둘 이상의 프로그램 워드라인 및 적어도 둘 이상의 독출 워드라인을 구동하는 워드라인 구동회로 칼럼 어드레스신호를 디코딩하는 칼럼 디코더, 상기 모드제어신호 및 데이터 입력신호에 응답하여 해당 소스라인을 구동하는 소스라인 구동회로 및 상기 모드 제어 신호에 응답하여 비트라인을 감지 증폭하는 비트라인 감지증폭회로를 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above another object, an asynchronous e-Fuse OTP memory device according to the present invention, at least two source lines, at least two bit lines, at least two program word lines, at least two read word lines, each connected at least An e-fuse OTP memory cell array in which two or more asynchronous e-fuse OTP memory cells are disposed, a control unit for generating mode control signals instructing an operation such as a program mode or a read mode of the e-fuse OTP memory device; A power switch circuit for supplying a logic voltage VDD or an interface voltage VIO to the eFuse OTP memory cell array in response to a mode control signal, a row decoder for decoding a row address signal, the mode control signal and a decoded row address The at least two program word lines in response to a signal and A word decoder for decoding at least two read word lines; a column decoder for decoding a column address signal; a source line driver circuit for driving a corresponding source line in response to the mode control signal and a data input signal; and a response to the mode control signal; And a bit line sense amplifier circuit for sensing and amplifying the bit line.

본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치에 의하면, 독출 모드에서 워드라인과 비트라인의 기생 커패시턴스를 줄여 독출 모드의 동작전류를 감소시킬 수 있는 효과가 있다.According to the asynchronous E-Fuse OTP memory device according to the present invention, the parasitic capacitance of the word line and the bit line can be reduced in the read mode, thereby reducing the operating current of the read mode.

또한 비동기식 인터페이스 방식과 분리된 I/O 방식을 사용함으로써 저면적의 메모리 장치를 구현할 수 있다는 장점이 있다.In addition, the use of a separate I / O method and the asynchronous interface method has the advantage that the memory device can be implemented.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 예시적인 실시 예를 설명하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다. In order to fully understand the present invention and the operational advantages of the present invention and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings, which are provided for explaining exemplary embodiments of the present invention, and the contents of the accompanying drawings.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 블록 다이어그램을 설명하는 도면이다.2 is a block diagram illustrating an asynchronous e-fus OTP memory device according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치(200)는, 128 rows x 9 columns x 1Kb의 이퓨즈 OTP 메모리 셀 어레이(210), 제어부(220), 전원스위치회로(230), 로우 디코더(240), 워드라인 구동회로(250), 칼럼 디코더(260), 소스라인 구동회로(270) 및 비트라인 감지증폭회로(280)를 구비한다Referring to FIG. 2, the asynchronous eFuse OTP memory device 200 according to an exemplary embodiment of the present invention may include an eFuse OTP memory cell array 210, a controller 220, and a power switch of 128 rows × 9 columns × 1Kb. A circuit 230, a row decoder 240, a word line driver circuit 250, a column decoder 260, a source line driver circuit 270, and a bit line sense amplification circuit 280.

상기 이퓨즈 OTP 메모리 셀 어레이(210)는 적어도 둘 이상의 소스 라인, 적어도 둘 이상의 비트라인, 적어도 둘 이상의 프로그램 워드 라인, 적어도 둘 이상의 독출 워드 라인 및 적어도 둘 이상의 소스라인 스위치 인에이블 신호 라인에 각 각 연결되는 적어도 둘 이상의 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀들이 배치된다.Each of the eFuse OTP memory cell arrays 210 includes at least two source lines, at least two bit lines, at least two program word lines, at least two read word lines, and at least two source line switch enable signal lines, respectively. At least two asynchronous eFuse OTP memory cells that are connected are disposed.

상기 제어부(220)는 제어신호(PGM, READ)에 따라 상기 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치(200)의 프로그램 모드와 독출 모드 및 대기모드 등의 동작을 지시하는 모드제어신호들(GPM_ENb, WWL, RWL, RD_EN...)을 생성한다.The controller 220 controls mode control signals GPM_ENb, WWL, and RWL instructing operation of a program mode, a read mode, and a standby mode of the asynchronous EFuse OTP memory device 200 according to control signals PGM and READ. , RD_EN ...)

상기 전원 스위치 회로(230)는 상기 모드제어신호에 응답하여 동작 모드에 따라 로직전압(VDD) 또는 인터페이스전압(VIO)을 스위칭하여 상기 이퓨즈 OTP 메모리 셀 어레이(210)에 공급한다.The power switch circuit 230 switches the logic voltage VDD or the interface voltage VIO in response to the mode control signal to supply to the eFuse OTP memory cell array 210 according to an operation mode.

상기 로우 디코더(440)는 로우 어드레스신호(RA[6:0])를 디코딩하여 디코딩된 로우 어드레스 신호들을 생성한다.The row decoder 440 decodes the row address signal RA [6: 0] to generate decoded row address signals.

상기 워드라인 구동회로(250)는 상기 모드제어신호 중 워드라인 인에이블 프로그램 신호(WLEN_PGM), 워드라인 인에이블 독출 신호(WLEN_RD) 및 디코딩된 로우 어드레스 신호에 응답하여 상기 적어도 둘 이상의 프로그램 워드라인 신호(WWL) 및 적어도 둘 이상의 독출 워드라인 신호(RWL)를 구동한다.The word line driver circuit 250 may include the at least two program word line signals in response to a word line enable program signal WLEN_PGM, a word line enable read signal WLEN_RD, and a decoded row address signal among the mode control signals. (WWL) and at least two read wordline signals RWL.

상기 칼럼 디코더(260)는 칼럼 어드레스신호(CA[2:0])를 디코딩하여 디코딩된 칼럼 어드레스 신호(WY)들을 생성한다.The column decoder 260 decodes the column address signal CA [2: 0] to generate decoded column address signals WY.

상기 소스라인 구동회로(270)는 상기 모드제어신호 중 내부 프로그램 신호(IPGM) 및 데이터 입력신호(WD)에 응답하여 해당 소스라인을 구동한다.The source line driving circuit 270 drives the corresponding source line in response to an internal program signal IPGM and a data input signal WD among the mode control signals.

상기 비트라인 감지증폭회로(280)는 독출 모드에서 OTP 셀의 이퓨즈를 프로그램 하였는지의 여부에 따라 비트라인(BL) 전압을 센싱하여 출력포트로 디지털 데이터를 출력한다.The bit line sense amplification circuit 280 senses the bit line BL voltage according to whether or not the e-fuse of the OTP cell is programmed in the read mode and outputs digital data to the output port.

본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 주요 특징은 표 1과 같다.The main features of the asynchronous E-Fuse OTP memory device according to the present invention are shown in Table 1.

Figure 112009067623210-pat00001
Figure 112009067623210-pat00001

도 3a는 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀을 나타내는 회로도이다.3A is a circuit diagram illustrating an asynchronous EFuse OTP memory cell in accordance with an embodiment of the present invention.

도 3a에 도시된 바와 같이 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀은, 제1NMOS 트랜지스터(310), 제2NMOS 트랜지스터(320) 및 이퓨즈 소자(330)를 구비한다. As shown in FIG. 3A, an asynchronous e-fuse OTP memory cell according to an exemplary embodiment includes a first NMOS transistor 310, a second NMOS transistor 320, and an e-fuse device 330.

상기 제1NMOS 트랜지스터(310)는 제1단자가 접지전압(VSS)에 연결되고, 프로그램 워드라인 신호(WWL)가 그 게이트에 인가된다. 상기 제1NMOS 트랜지스터(310)는 큰 채널 폭을 가지며 프로그램 모드용으로 사용된다.A first terminal of the first NMOS transistor 310 is connected to a ground voltage VSS, and a program word line signal WWL is applied to its gate. The first NMOS transistor 310 has a large channel width and is used for a program mode.

상기 제2NMOS 트랜지스터(320)는 제1단자가 비트라인(BL)에 연결되고, 제2단자는 상기 제1NMOS 트랜지스터(310)의 제2단자에 연결되고, 독출 워드라인 신호(RWL)가 그 게이트에 인가된다. 상기 제2NMOS 트랜지스터(320)는 작은 채널 폭을 가지며 독출 모드용으로 사용된다.A first terminal of the second NMOS transistor 320 is connected to a bit line BL, a second terminal of the second NMOS transistor 320 is connected to a second terminal of the first NMOS transistor 310, and a read word line signal RWL is connected to a gate thereof. Is applied to. The second NMOS transistor 320 has a small channel width and is used for a read mode.

상기 이퓨즈 소자(330)는 제1 단자가 소스라인(SL)에 연결되고 제2단자가 상기 제1NMOS 트랜지스터(310)의 제2단자 및 상기 제2NMOS 트랜지스터(320)의 제2단자에 공통으로 연결된다. 상기 이퓨즈 소자(330)는 프로그램전에 50옴(Ω) 내지 100옴(Ω) 정도의 저항을 갖는다. In the eFuse device 330, a first terminal is connected to the source line SL, and a second terminal is common to the second terminal of the first NMOS transistor 310 and the second terminal of the second NMOS transistor 320. Connected. The e-fuse device 330 has a resistance of about 50 Ω to about 100 Ω before programming.

도 3b는 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀의 레이아웃을 나타내는 사진이며, 도 3c는 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀 어레이의 회로도이다.FIG. 3B is a photograph showing a layout of an asynchronous eFuse OTP memory cell according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3C is a circuit diagram of an asynchronous eFuse OTP memory cell array according to an embodiment of the present invention.

도 3c에는 일 실시예로 128행 x 8열로 이루어진 이퓨즈 OTP 메모리 셀 어레이가 도시되어 있다.3C shows an eFuse OTP memory cell array of 128 rows by 8 columns in one embodiment.

표 2는 본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀의 동작 모드에 따른 노드별 바이어스 전압(Bias voltage) 조건을 보여준다.Table 2 shows the bias voltage conditions for each node according to the operation mode of the asynchronous EFuse OTP memory cell according to the present invention.

Figure 112009067623210-pat00002
Figure 112009067623210-pat00002

표 2를 참고하면, 프로그램모드에서 선택된 프로그램 워드라인(WWL)은 VIO로 활성화된다. 이때 선택되지 않은 프로그램 워드라인(WWL)은 0V를 유지하므로 OTP 셀의 이퓨즈 소자(310)는 비트라인(BL)으로부터 격리(Floating)된다. Referring to Table 2, the program word line WWL selected in the program mode is activated as VIO. At this time, since the unselected program word line WWL maintains 0V, the e-fuse element 310 of the OTP cell is isolated from the bit line BL.

프로그램 모드에서 이퓨즈 OTP 셀을 프로그램하기 위해서는 입력포트(DIN)에 VDD를 인가하고 프로그램신호(PGM)에 펄스를 인가하면 소스라인(SL)과 프로그램 워드라인(WWL)에 VIO의 전압이 인가되면서 이퓨즈(330)와 제1NMOS 트랜지스터(310)를 통해 프로그램 전류가 흐른다. 이렇게 하면 이퓨즈 소자(330)는 프로그램되고 이퓨즈 소자(330)의 저항은 수백kΩ 이상이 된다. In programming mode, to program the E-Fuse OTP cell, VDD is applied to the input port DIN and pulse is applied to the program signal PGM. The voltage of VIO is applied to the source line SL and the program word line WWL. Program current flows through the e-fuse 330 and the first NMOS transistor 310. In this way, the e-fuse element 330 is programmed and the resistance of the e-fuse element 330 is several hundred kΩ or more.

만약 프로그램 되지 않는 셀인 경우 입력포트(DIN)에는 0V를 인가하고 소스라인(SL)은 0V를 유지하기 때문에 이퓨즈 소자(330)의 저항은 변화가 없다. 본 발명에 따른 이퓨즈 OTP 메모리 장치에서 입력포트(DIN)에 로직 '1'이 인가된 경우에는 이퓨즈 OTP 메모리 셀이 프로그램되고, 입력포트(DIN)에 로직 '0'이 인가된 경우에는 이퓨즈 OTP 메모리 셀이 프로그램되지 않는다. If the cell is not programmed, 0V is applied to the input port DIN and the source line SL maintains 0V, so the resistance of the e-fuse device 330 is not changed. When a logic '1' is applied to an input port DIN in an eFuse OTP memory device according to the present invention, an eFuse OTP memory cell is programmed and a logic '0' is applied to an input port DIN. Fuse OTP memory cells are not programmed.

한편 독출 모드에서는 비트라인(BL)을 로직전압(VDD)으로 프리차지 (precharge)시킨 뒤 로우 어드레스신호(RA[6:0])의 디코딩된 신호에 의해 128개의 독출 워드라인(RWL) 중 하나의 독출 워드라인(RWL)만 로직전압(VDD)으로 활성화된다.Meanwhile, in the read mode, the bit line BL is precharged to the logic voltage VDD and one of the 128 read word lines RWL is decoded by the decoded signal of the row address signal RA [6: 0]. Only the read word line RWL is activated to the logic voltage VDD.

만약 이퓨즈 소자가 프로그램 되지 않은 셀의 경우 도 3a의 제2 NMOS 트랜지스터(320)와 이퓨즈 소자(330)를 통해 전류 경로가 제공되어 비트라인(BL)은 0V로 방전되며, 출력포트(DOUT)에는 로직 '0'이 출력된다. In the case of a cell in which an e-fuse device is not programmed, a current path is provided through the second NMOS transistor 320 and the e-fuse device 330 of FIG. 3A, so that the bit line BL is discharged to 0V and the output port DOUT. ), Logic '0' is output.

한편 프로그램된 셀은 이퓨즈 소자(330)가 고저항상태 (highly resistive state)에 있으며, 비트라인(BL) 전압은 로직전압(VDD)으로 프리차징된 상태를 유지하므로 출력포트(DOUT)에는 로직 '1'이 출력된다.In the programmed cell, since the e-fuse device 330 is in a highly resistive state and the bit line BL is precharged with the logic voltage VDD, a logic is provided at the output port DOUT. '1' is output.

본 발명에서는 저전력, 저면적의 이퓨즈 OTP 메모리 장치를 구현하기 위해 비동기식 인터페이스 및 입력포트와 출력포트를 분리하여 사용하는 분리된 I/O 방식을 사용하였다.In the present invention, to implement a low-power, low-area eFuse OTP memory device, an asynchronous interface and a separate I / O method using separate input and output ports are used.

도 4a는 본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 프로그램 모드에서의 타이밍 다이어그램이고, 도 4b는 본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 독출 모드에서의 타이밍 다이어그램이다.4A is a timing diagram in a program mode of an asynchronous eFuse OTP memory device according to the present invention, and FIG. 4B is a timing diagram in a read mode of an asynchronous eFuse OTP memory device according to the present invention.

도 4a에 도시된 바와 같이 프로그램 모드에서는 어드레스와 입력포트(DIN)의 데이터를 먼저 인가한 상태에서 프로그램신호(PGM)가 하이(high)로 활성화 되면 선택되는 OTP 메모리 셀에 한 비트의 데이터입력신호를 입력포트(DIN)를 통해 프로그램하게 된다.As shown in FIG. 4A, in the program mode, a bit of data input signal is input to an OTP memory cell selected when the program signal PGM is activated high while the data of the address and the input port DIN are first applied. Program through the input port (DIN).

도 4b에 도시된 바와 같이 독출 모드에서는 읽어낼 어드레스를 먼저 인가한 후 독출신호(READ)를 하이(high)로 활성화시키면 선택된 셀의 바이트 데이터가 액세스시간(Access Time)이 지난 이후 출력포트(DOUT)로 출력된다. 이때 프로그램신호(PGM)는 로우(low) 상태를 유지한다.In the read mode, as shown in FIG. 4B, when an address to be read is first applied and then a read signal READ is activated high, the byte data of the selected cell has an output port after the access time has passed. DOUT). At this time, the program signal PGM maintains a low state.

도 5는 도 2의 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 워드라인 구동회로를 나타내는 도면이다.FIG. 5 is a diagram illustrating a word line driver circuit of the asynchronous EFuse OTP memory device of FIG. 2.

도 5를 참고하면, 본 발명의 일실시예에 따른 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 워드라인 구동회로(250)는, 로우 어드레스 신호(RA210, RA543)를 입력하는 제1 낸드게이트(21), 워드라인 인에이블 프로그램 신호(WLEN_PGM) 및 반전된 워드라인 인에이블 프로그램 신호(WLENb_PGM)에 응답하여 상기 제1 낸드게이트(41)의 출력을 전달하는 제1 전송 게이트(22), 로직전압(VDD)이 그 소스에 연결되고 상기 워드라인 인에이블 프로그램 신호(WLEN_PGM)가 그 게이트에 연결되며 상기 제1 전송 게이트(22)의 출력이 그 드레인에 연결되는 제1 피모스 트랜지스터(23), 상기 제1 전송 게이트(22)의 출력을 입력하는 제2 인버터(24), 접지전압(VSS)이 그 소스에 연결되고 상기 제1 전송 게이트(22)의 출력이 그 게이트에 연결되는 제3 엔모스 트랜지스터(25), 접지전압(VSS)이 그 소스에 연결되고 상기 제2 인버터(24)의 출력이 그 게이트에 연결되는 제4 엔모스 트랜지스터(26), 인터페이스 전압(VIO)이 그 소스에 연결되고 상기 제4 엔모스 트랜지스터(26)의 드레인이 그 게이트에 연결되고 상기 제3 엔모스 트랜지스터(25)의 드레인이 그 드레인에 연결되는 제2 피모스 트랜지스터(27), 상기 인터페이스 전압(VIO)이 그 소스에 연결되고 상기 제3 엔모스 트랜지스터(25)의 드레인이 그 게이트에 연결되고 상기 제4 엔모스 트랜지스터(26)의 드레인이 그 드레인에 연결되는 제3 피모스 트랜지스터(28), 상기 인터페이스 전압(VIO)에 의해 구동되고 상기 제3 엔모스 트랜지스터(25)의 드레인이 그 입력 단자에 연결되고 반전된 프로그램 워드라인 신호(WWLb)가 그 출력 단자에 연결되는 제3 인버터(29) 및 상기 제1 낸드게이트(21)의 출력과 반전된 워드라인 인에이블 독출 신호(WLENb_RD)를 입력받고 독출 워드라인(RWL)이 그 출력단자에 연결되는 제1 노아게이트(30)를 구비한다.Referring to FIG. 5, the word line driving circuit 250 of the e-fuse OTP memory device according to an exemplary embodiment of the present invention may include a first NAND gate 21 and a word line to input row address signals RA210 and RA543. In response to the enable program signal WLEN_PGM and the inverted word line enable program signal WLENb_PGM, a first transfer gate 22 and a logic voltage VDD that transfer an output of the first NAND gate 41 are included. A first PMOS transistor 23 and a first transfer gate connected to a source, the word line enable program signal WLEN_PGM connected to a gate thereof, and an output of the first transfer gate 22 connected to a drain thereof; A second inverter 24 that inputs the output of 22, a third NMOS transistor 25 whose ground voltage VSS is connected to its source and the output of the first transfer gate 22 is connected to its gate. Ground voltage VSS is connected to a source thereof and The fourth NMOS transistor 26 having its output connected to its gate, an interface voltage VIO connected to its source, and the drain of the fourth NMOS transistor 26 connected to its gate and A second PMOS transistor 27 having a drain of the third NMOS transistor 25 connected to the drain thereof, the interface voltage VIO is connected to a source thereof, and a drain of the third NMOS transistor 25 is connected thereto. A third PMOS transistor 28 connected to a gate and the drain of the fourth NMOS transistor 26 is connected to the drain thereof, driven by the interface voltage VIO and of the third NMOS transistor 25. The word line enable read signal inverted with the output of the third inverter 29 and the first NAND gate 21 having a drain connected to its input terminal and an inverted program word line signal WWLb connected to its output terminal. (WLENb_RD) The first word is line (RWL), a read receiving input is connected to the output terminal and a NOR gate (30).

도 5에 도시된 바와 같이, 워드라인 구동회로(250)는 프로그램 모드로 진입하게 되면 로우 디코더(240)에서 디코딩된 신호(A6)에 의해 선택된 워드라인 인에이블 프로그램 신호(WLEN_PGM)와 반전된 워드라인 인에이블 프로그램 신호(WLENb_PGM)는 각각 로직 '1'과 로직 '0'으로 된다. 이 상태에서 로우 어드레스인 A[6:0]을 디코딩하여 선택되는 프로그램 워드라인(WWL)만 VIO로 구동되고 선택되지 않은 프로그램 워드라인(WWL)은 0V를 유지하도록 한다.As shown in FIG. 5, when the word line driving circuit 250 enters the program mode, the word inverted from the word line enable program signal WLEN_PGM selected by the signal A6 decoded by the row decoder 240. The line enable program signal WLENb_PGM becomes logic '1' and logic '0', respectively. In this state, only the program word line WWL selected by decoding the row address A [6: 0] is driven by VIO and the unselected program word line WWL is maintained at 0V.

도 6은 도 2의 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 소스라인 구동회로를 나타내는 도면이다FIG. 6 is a diagram illustrating a source line driving circuit of the asynchronous EFuse OTP memory device of FIG. 2. FIG.

도 6을 참조하면, 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 소스라인 구동회로(270)는, 상기 칼럼디코더에 의해 디코딩된 칼럼 어드레스 신호(WY) 및 데이터입력신호(WD)를 입력받는 제2 낸드게이트(50), 상기 제어부에 의해 생성된 내부 프로그램 신호(IPGM)를 입력받는 제4인버터(51), 상기 제4인버터(51)의 출력을 입력받는 제5인버터(52), 상기 내부 프로그램 신호(IPGM) 및 반전된 내부 프로그램 신호(IPGMb)에 응답하여 상기 제2 낸드게이트(50)의 출력을 전달하는 제2전송게이트(53), 제1 단자에 로직전압(VDD)이 연결되고 제2단자에 상기 제2전송게이트(53)의 출력이 연결되며 상기 내부 프로그램 신호(IPGM)가 그 게이트에 인가되는 제4 피모스 트랜지스터(54), 상기 제2전송게이트(53)의 출력을 입력하는 제6 인버터(59), 접지전압(VSS)이 그 소스에 연결되고 상기 제2전송게이트(53)의 출력이 그 게이트에 연결되는 제5 엔모스 트랜지스터(55), 접지전압(VSS)이 그 소스에 연결되고 상기 제6인버터(59)의 출력이 그 게이트에 연결되는 제6 엔모스 트랜지스터(56), 상기 인터페이스 전압(VIO)이 그 소스에 연결되고 상기 제6 엔모스 트랜지스터(56)의 드레인이 그 게이트에 연결되고 상기 제5 엔모스 트랜지스터(55)의 드레인이 그 드레인에 연결되는 제5 피모스 트랜지스터(57), 상기 인터페이스 전압(VIO)이 그 소스에 연결되고 상기 제5 엔모스 트랜지스터(55)의 드레인이 그 게이트에 연결되고 상기 제6 엔모스 트랜지스터(56)의 드레인이 그 드레인에 연결되는 제6 피모스 트랜지스터(58) 및 상기 인터페이스 전압(VIO)에 의해 구동되고 상기 제5 엔모스 트랜지스터(55)의 드레인이 그 입력 단자에 연결되는 제7인버터(60) 및 상기 제7인버터의 출력을 반전시키는 제8인버터(61)를 포함한다.Referring to FIG. 6, the source line driving circuit 270 of the asynchronous EFuse OTP memory device may include a second NAND gate that receives a column address signal WY and a data input signal WD decoded by the column decoder. 50), a fourth inverter 51 receiving the internal program signal IPGM generated by the controller, a fifth inverter 52 receiving the output of the fourth inverter 51, and the internal program signal IPGM. ) And a second transfer gate 53 which transfers the output of the second NAND gate 50 in response to the inverted internal program signal IPGMb, and a logic voltage VDD connected to a first terminal and connected to a second terminal. A fourth PMOS transistor 54 to which the output of the second transfer gate 53 is connected and the internal program signal IPGM is applied to the gate, and a sixth to input the output of the second transfer gate 53. Inverter 59, ground voltage VSS is connected to its source and the second transfer gate 53 A fifth NMOS transistor 55 having an output of which is connected to its gate, a ground voltage VSS connected to its source, and a sixth NMOS transistor having an output of the sixth inverter 59 connected to its gate 56) a second voltage connected to the source of the interface voltage VIO, a drain of the sixth NMOS transistor 56 to a gate thereof, and a drain of the fifth NMOS transistor 55 to a drain thereof; 5 PMOS transistor 57, the interface voltage (VIO) is connected to its source, the drain of the fifth NMOS transistor 55 is connected to its gate and the drain of the sixth NMOS transistor 56 is A seventh inverter 60 driven by the sixth PMOS transistor 58 connected to the drain and the interface voltage VIO, and a drain of the fifth NMOS transistor 55 connected to an input terminal thereof; 7 Half the output of the inverter Which includes an eighth inverter (61).

소스라인 구동회로(270)는 프로그램 모드에서 이퓨즈 소자의 양극(anode)에 인터페이스 전압(VIO)을 공급한다. 입력포트(DIN)의 데이터입력신호(WD)가 로직 '1'인 경우에는 소스라인(SL)에 인터페이스 전압(VIO)을 공급하고, 입력포트(DIN)의 데이터입력신호(WD)가 로직 '0'인 경우에는 소스라인(SL)을 0V로 구동한다. 그리고 독출 모드에서는 내부 프로그램 신호(IPGM)가 로직 '0' 인 상태이므로 소스라인(SL)은 0V를 구동하도록 된다. The source line driver circuit 270 supplies the interface voltage VIO to the anode of the e-fuse device in the program mode. When the data input signal WD of the input port DIN is logic '1', the interface voltage VIO is supplied to the source line SL, and the data input signal WD of the input port DIN is logic '. In the case of 0 ', the source line SL is driven at 0V. In the read mode, since the internal program signal IPGM is logic '0', the source line SL drives 0V.

도 7은 도 2의 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 비트라인 감지증폭회로를 나타내는 도면이다.FIG. 7 is a diagram illustrating a bit line sense amplifier circuit of the asynchronous EFuse OTP memory device of FIG. 2.

도 7을 참고하면 본 발명에 따른 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 비트라인 감지증폭회로(280)는, 프리차아지신호(PRECHARGE)를 입력하는 제9인버터(71), 상기 로직전압(VDD)이 그 소스에 연결되고 상기 제9인버터(71)의 출력이 그 게이트에 연결되고 상기 비트라인(BL)이 그 드레인에 연결되는 제7 피모스 트랜지스터(72), 상기 로직전압(VDD)이 그 소스에 연결되고 비트(BL)이 그 드레인에 연결되며 반전된 비트라인 로드신호(BL_LOADb)가 그 게이트에 연결되는 제8 피모스 트랜지스터(73), 반전된 센싱 인에이블 신호(SAENb)를 입력하는 제10인버터(74), 상기 로직전압(VDD)이 그 소스에 연결되고 상기 비트라인(BL)이 그 게이트에 연결되는 제9 피모스 트랜지스터(75), 상기 제9 피모스 트랜지스터의 드레인이 그 소스에 연결되고 반전된 센싱 인에이블 신호(SAENb)가 그 게이트에 연결되는 제10 피모스 트랜지스터(76), 상기 제10 피모스 트랜지스터(76)의 드레인이 그 드레인에 연결되고 상기 제10 인버터의 출력이 그 게이트에 연결되는 제7 엔모스 트랜지스터(77), 상기 제7 엔모스 트랜지스터의 소스가 그 드레인에 연결되고 접지전압(VSS)이 그 소스에 연결되며 상기 비트라인(BL)이 그 게이트에 연결되는 제8 엔모스 트랜지스터(78) 및 상기 제7 엔모스 트랜지스터의 드레인을 래치하여 출력포트(DOUT)로 디지털 데이터를 출력하는 래치(79)를 구비한다.Referring to FIG. 7, the bit line detection amplification circuit 280 of the e-fuse OTP memory device according to the present invention includes a ninth inverter 71 for inputting a precharge signal PRECHARGE, and the logic voltage VDD. A seventh PMOS transistor 72 connected to a source, an output of the ninth inverter 71 connected to a gate thereof, and the bit line BL connected to a drain thereof, and the logic voltage VDD An eighth PMOS transistor 73 connected with a bit BL connected to a drain thereof and an inverted bit line load signal BL_LOADb connected to a gate thereof, and a tenth inputting an inverted sensing enable signal SAENb An inverter 74, a ninth PMOS transistor 75 having a logic voltage VDD connected to a source thereof, and a bit line BL connected to a gate thereof, and a drain of the ninth PMOS transistor connected to a source thereof The connected and inverted sensing enable signal SAENb is connected to its gate. A seventh NMOS transistor 77 and a seventh PMOS transistor 76 and a drain of the tenth PMOS transistor 76 connected to the drain thereof, and an output of the tenth inverter connected to the gate thereof; The source of the NMOS transistor is connected to the drain thereof, the ground voltage VSS is connected to the source thereof, and the bit line BL is connected to the gate thereof. A latch 79 for latching the drain and outputting digital data to the output port DOUT is provided.

본 발명에 따른 이퓨즈 OTP 메모리 장치는 비트 단위로 프로그램 되고 바이트 단위로 독출 동작을 수행한다. 독출 모드에서는 독출 워드라인(RWL)이 활성화되기 이전에 짧은 펄스의 프리차아지 신호(PRECHARGE)에 의해 제7 피모스 트랜지스터(72)가 턴 온(turn on)되면서 비트라인(BL)은 로직전압(VDD)으로 프리차아지된다. The E-Fuse OTP memory device according to the present invention is programmed in units of bits and performs read operations in units of bytes. In the read mode, the seventh PMOS transistor 72 is turned on by a short pulse precharge signal PRECHARGE before the read word line RWL is activated. Precharged to (VDD).

독출 워드라인(RWL)이 활성화되면서 로직 '1'로 프로그램된 셀에 연결된 비트라인(BL)은 로직전압(VDD)을 유지하는 반면, 로직 '0'으로 프로그램된 셀은 이퓨즈 소자의 저항이 50~100Ω 정도이므로 비트라인(BL)을 0V로 방전시킨다. The bit line BL connected to the cell programmed with logic '1' while the read word line RWL is activated maintains the logic voltage VDD, while the cell programmed with logic '0' has a resistance of the eFuse device. Since it is about 50 ~ 100Ω, discharge the bit line BL to 0V.

이퓨즈 OTP 메모리 셀의 데이터가 비트라인(BL)에 충분히 전달된 뒤 비트라인 감지증폭회로 인에이블 신호(Sense Amplifier Enable:SAENb)가 0V로 활성화되면 디지털 센싱 방식의 비트라인 감지 증폭회로(280)는 비트라인(BL)의 전압을 센싱하여 읽은 데이터를 출력포트(DOUT)로 출력한다. When the data of the EFuse OTP memory cell is sufficiently transferred to the bit line BL and the bit line sense amplifier enable signal SAENb is activated to 0 V, the digital line sensing bit line sense amplifier circuit 280 is activated. Senses the voltage of the bit line BL and outputs the read data to the output port DOUT.

높은 임피던스를 갖는 PMOS 부하 트랜지스터인 제8 피모스 트랜지스터(73)는 독출 워드라인(RWL)이 선택되어 있는 동안 턴 온 되어 비트라인(BL)을 로직전압(VDD)으로 풀업(pull-up)시키는 부하(load)로 작용한다. 그래서 '1'의 데이터를 읽는 경우 선택된 셀에서 100kΩ 이상의 높은 저항을 갖는 이퓨즈 소자에 의해 로직전압(VDD)으로 프리차아지된 비트라인(BL)의 전압이 방전되지 않도록 한다.The eighth PMOS transistor 73, which is a PMOS load transistor having a high impedance, is turned on while the read word line RWL is selected to pull up the bit line BL to the logic voltage VDD. It acts as a load. Therefore, when reading the data of '1', the voltage of the bit line BL precharged to the logic voltage VDD is not discharged by the e-fuse device having a high resistance of 100 kΩ or more in the selected cell.

도 8a는 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 독출 모드에서 '0'으로 프로그램된 셀의 시뮬레이션 결과를 나타내는 도면이고, 도 8b는 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 독출 모드에서 '1'로 프로그램된 셀의 시뮬레이션 결과를 나타내는 도면이다.8A is a diagram illustrating a simulation result of a cell programmed as '0' in a read mode of an asynchronous EFuse OTP memory device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8B is an asynchronous eFuse according to an embodiment of the present invention. A diagram showing a simulation result of a cell programmed as '1' in the read mode of the OTP memory device.

도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같이 독출신호(READ)가 들어오면 프리차아지 신호(PRECHARGE)에 의해 비트라인(BL)은 로직전압(VDD)으로 프리차아지 된다. 비트라인(BL)이 프리차아지 된 이후 독출워드라인(RWL)이 활성화되면서 셀의 데이터가 비트라인(BL)에 전달된다. 비트라인(BL)에 셀의 데이터가 충분히 전달되면 비트라인 감지증폭회로 인에이블 신호(SAENb)에 의해 비트라인 감지증폭회로(280)에 의해 비트라인(BL)의 디지털 데이터가 센싱되어 출력포트(DOUT)로 출력된다. As shown in FIGS. 8A and 8B, when the read signal READ is input, the bit line BL is precharged to the logic voltage VDD by the precharge signal PRECHARGE. After the bit line BL is precharged, the read word line RWL is activated and data of the cell is transferred to the bit line BL. When the data of the cell is sufficiently transmitted to the bit line BL, the digital data of the bit line BL is sensed by the bit line detection amplifier circuit 280 by the bit line detection amplifier circuit enable signal SAENb to output an output port ( DOUT).

한편 SPICE 모의실험 결과 본 발명에 따른 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 독출 모드에서 동작 전류는 1.98V의 VDD, 3.6V의 VIO에서 각각 349.5㎂, 3.3㎂로 나왔다.On the other hand, SPICE simulation results show that the operating currents in the read mode of the E-Fuse OTP memory device according to the present invention are 349.5 ㎂ and 3.3 에서 at 1.98 V VDD and 3.6 V VIO, respectively.

도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 레이아웃 도면이다.9 is a layout diagram of an asynchronous e-fus OTP memory device according to an embodiment of the present invention.

도 9를 참고하면 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 레이아웃 면적은 300㎛ㅧ 557㎛ 임을 알 수 있다.Referring to FIG. 9, it can be seen that the layout area of the asynchronous E-Fuse OTP memory device according to an embodiment of the present invention is 300 μm × 557 μm.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

도 1은 종래의 이퓨즈 OTP 셀을 나타내는 회로도이다.1 is a circuit diagram showing a conventional e-fuse OTP cell.

도 2는 본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 블록 다이어그램을 설명하는 도면이다.2 is a block diagram illustrating an asynchronous e-fus OTP memory device according to the present invention.

도 3a는 본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀을 나타내는 회로도이다.3A is a circuit diagram illustrating an asynchronous eFuse OTP memory cell in accordance with the present invention.

도 3b는 본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀의 레이아웃을 나타내는 사진이다.Figure 3b is a photograph showing the layout of the asynchronous e-fuse OTP memory cell according to the present invention.

도 3c는 본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀 어레이를 나타내는 회로도이다.3C is a circuit diagram illustrating an asynchronous EFuse OTP memory cell array in accordance with the present invention.

도 4a는 본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 프로그램 모드에서의 타이밍 다이어그램이다.4A is a timing diagram in the program mode of an asynchronous eFuse OTP memory device in accordance with the present invention.

도 4b는 본 발명에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 독출 모드에서의 타이밍 다이어그램이다.4B is a timing diagram in a read mode of an asynchronous eFuse OTP memory device in accordance with the present invention.

도 5는 도 2의 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 워드라인 구동회로를 나타내는 도면이다.FIG. 5 is a diagram illustrating a word line driver circuit of the asynchronous EFuse OTP memory device of FIG. 2.

도 6은 도 2의 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 소스라인 구동회로를 나타내는 도면이다.FIG. 6 is a diagram illustrating a source line driving circuit of the asynchronous EFuse OTP memory device of FIG. 2.

도 7은 도 2의 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 비트라인 감지 증폭 회로를 나타내는 도면이다.FIG. 7 is a diagram illustrating a bit line sense amplifying circuit of the asynchronous EFuse OTP memory device of FIG. 2.

도 8a 및 도 8b는 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 독출 모드에서의 시뮬레이션 결과를 나타내는 도면이다.8A and 8B illustrate simulation results in a read mode of an asynchronous E-Fuse OTP memory device according to an embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 레이아웃을 나타내는 사진이다.9 is a photograph showing a layout of an asynchronous e-fus OTP memory device according to an embodiment of the present invention.

Claims (7)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 이퓨즈(e-fuse) OTP 메모리 장치에 있어서, In the e-fuse OTP memory device, 적어도 둘 이상의 소스 라인, 적어도 둘 이상의 비트라인, 적어도 둘 이상의 프로그램 워드라인, 적어도 둘 이상의 독출 워드라인에 각각 연결되는 적어도 둘 이상의 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 셀들이 배치되는 이퓨즈 OTP 메모리 셀 어레이(210);An eFuse OTP memory cell array 210 in which at least two asynchronous eFuse OTP memory cells are respectively coupled to at least two source lines, at least two bitlines, at least two program wordlines, and at least two read wordlines ; 상기 이퓨즈 OTP 메모리 장치의 프로그램 모드 또는 독출 모드 등의 동작을 지시하는 모드제어신호들을 발생시키는 제어부(220);A controller 220 for generating mode control signals instructing an operation of a program mode or a read mode of the eFuse OTP memory device; 상기 모드제어신호에 응답하여 로직전압(VDD) 또는 인터페이스 전압(VIO)을 상기 이퓨즈 OTP 메모리 셀 어레이에 공급하는 전원 스위치 회로(230);A power switch circuit 230 for supplying a logic voltage VDD or an interface voltage VIO to the eFuse OTP memory cell array in response to the mode control signal; 로우 어드레스신호를 디코딩하는 로우 디코더(240);A row decoder 240 for decoding a row address signal; 상기 모드제어신호 및 디코딩된 로우 어드레스 신호에 응답하여 상기 적어도 둘 이상의 프로그램 워드라인 및 적어도 둘 이상의 독출 워드라인을 구동하는 워드라인 구동회로(250);A word line driver circuit 250 for driving the at least two program word lines and at least two read word lines in response to the mode control signal and the decoded row address signal; 칼럼 어드레스신호를 디코딩하는 칼럼 디코더(260); A column decoder 260 for decoding a column address signal; 상기 모드제어신호 및 데이터 입력신호에 응답하여 해당 소스라인을 구동하는 소스라인 구동회로(270); 및A source line driver circuit 270 for driving the corresponding source line in response to the mode control signal and the data input signal; And 상기 모드 제어 신호에 응답하여 비트라인을 감지 증폭하는 비트라인 감지증폭회로(280)를 구비하되,And a bit line sense amplification circuit 280 for sensing and amplifying the bit line in response to the mode control signal. 상기 이퓨즈 OTP 메모리 셀은, The eFuse OTP memory cell, 제1단자가 접지전압에 연결되고 프로그램 워드라인(WWL)이 그 게이트에 연결되는 제1엔모스 트랜지스터;A first NMOS transistor having a first terminal connected to a ground voltage and a program word line WWL connected to a gate thereof; 제1단자가 비트라인에 연결되고 제2단자가 상기 제1엔모스 트랜지스터의 제2단자에 연결되고 독출 워드라인(RWL)이 그 게이트에 연결되는 제2엔모스 트랜지스터; 및A second NMOS transistor having a first terminal connected to a bit line, a second terminal connected to a second terminal of the first NMOS transistor, and a read word line RWL connected to a gate thereof; And 제1단자가 소스라인에 연결되고 제2단자가 상기 제1엔모스 트랜지스터의 제2단자 및 상기 제2엔모스 트랜지스터의 제2단자에 공통으로 연결되는 이퓨즈 소자;를 구비하는 것을 특징으로 하는 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치.And an e-fuse device having a first terminal connected to a source line and a second terminal connected to a second terminal of the first NMOS transistor and a second terminal of the second NMOS transistor in common. Asynchronous eFuse OTP memory device. 제 4항에 있어서, 상기 워드라인 구동회로(250)는, The word line driver circuit 250 of claim 4, wherein 로우 어드레스 신호를 입력하는 제1 낸드게이트(21);A first NAND gate 21 for inputting a row address signal; 워드라인 인에이블 프로그램 신호(WLEN_PGM) 및 반전된 워드라인 인에이블 프로그램 신호(WLENb_PGM)에 응답하여 상기 제1 낸드게이트의 출력을 전달하는 제1 전송 게이트(22);A first transfer gate 22 transferring an output of the first NAND gate in response to a word line enable program signal WLEN_PGM and an inverted word line enable program signal WLENb_PGM; 로직전압(VDD)이 그 소스에 연결되고 상기 워드라인 인에이블 프로그램 신호(WLEN_PGM)가 그 게이트에 연결되고 상기 제1 전송 게이트의 출력이 그 드레인에 연결되는 제1 피모스 트랜지스터(23);A first PMOS transistor (23) having a logic voltage (VDD) coupled to its source, the word line enable program signal (WLEN_PGM) coupled to its gate, and an output of the first transfer gate coupled to its drain; 상기 제1 전송 게이트의 출력을 입력하는 제2 인버터(24);A second inverter 24 for inputting an output of the first transfer gate; 접지전압(VSS)이 그 소스에 연결되고 상기 제1 전송 게이트의 출력이 그 게이트에 연결되는 제3 엔모스 트랜지스터(25);A third NMOS transistor 25 having a ground voltage VSS connected to a source thereof and an output of the first transfer gate connected to the gate thereof; 접지전압(VSS)이 그 소스에 연결되고 상기 제2 인버터의 출력이 그 게이트에 연결되는 제4 엔모스 트랜지스터(26);A fourth NMOS transistor 26 having a ground voltage VSS connected to a source thereof and an output of the second inverter connected to a gate thereof; 인터페이스 전압(VIO)이 그 소스에 연결되고 상기 제4 엔모스 트랜지스터(26)의 드레인이 그 게이트에 연결되고 상기 제3 엔모스 트랜지스터(25)의 드레인이 그 드레인에 연결되는 제2 피모스 트랜지스터(27);A second PMOS transistor having an interface voltage VIO connected to its source, a drain of the fourth NMOS transistor 26 connected to its gate, and a drain of the third NMOS transistor 25 connected to the drain thereof (27); 상기 인터페이스 전압(VIO)이 그 소스에 연결되고 상기 제3 엔모스 트랜지스 터(25)의 드레인이 그 게이트에 연결되고 상기 제4 엔모스 트랜지스터(26)의 드레인이 그 드레인에 연결되는 제3 피모스 트랜지스터(28);A third having the interface voltage VIO connected to its source, a drain of the third NMOS transistor 25 connected to its gate, and a drain of the fourth NMOS transistor 26 connected to its drain PMOS transistor 28; 상기 인터페이스 전압(VIO)에 의해 구동되고 상기 제3 엔모스 트랜지스터(25)의 드레인이 그 입력 단자에 연결되고 상기 반전된 프로그램 워드라인(WWLb)이 그 출력 단자에 연결되는 제3 인버터(29); 및 A third inverter 29 driven by the interface voltage VIO and having a drain of the third NMOS transistor 25 connected to its input terminal and the inverted program word line WWLb connected to its output terminal; ; And 상기 제1 낸드게이트(21)의 출력과 반전된 워드라인 인에이블 독출 신호(WLENb_RD)를 입력받고 독출 워드라인(RWL)이 그 출력단자에 연결되는 제1 노아게이트(30)를 구비하는 것을 특징으로 하는 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치.And a first NOR gate 30 configured to receive the word line enable read signal WLENb_RD inverted from the output of the first NAND gate 21 and receive a read word line RWL connected to an output terminal thereof. Asynchronous eFuse OTP memory device. 제 4항에 있어서, 상기 소스라인 구동회로(270)는, The method of claim 4, wherein the source line driving circuit 270, 상기 칼럼디코더에 의해 디코딩된 칼럼 어드레스 신호(WY) 및 데이터입력신호(WD)를 입력받는 제2 낸드게이트(50);A second NAND gate 50 for receiving the column address signal WY and the data input signal WD decoded by the column decoder; 상기 제어부에 의해 생성된 내부 프로그램 신호(IPGM)를 입력받는 제4인버터(51);A fourth inverter 51 receiving an internal program signal IPGM generated by the controller; 상기 제4인버터의 출력을 입력받는 제5인버터(52);A fifth inverter 52 receiving an output of the fourth inverter; 상기 내부 프로그램 신호(IPGM) 및 반전된 내부 프로그램 신호(IPGMb)에 응답하여 상기 제2 낸드게이트의 출력을 전달하는 제2전송게이트(53);A second transmission gate 53 which transfers the output of the second NAND gate in response to the internal program signal IPGM and the inverted internal program signal IPGMb; 제1 단자에 로직전압(VDD)이 연결되고 제2단자에 상기 제2전송게이트의 출력이 연결되며 상기 내부 프로그램 신호(IPGM)가 그 게이트에 인가되는 제4 피모스 트랜지스터(54);A fourth PMOS transistor 54 having a logic voltage VDD connected to a first terminal, an output of the second transfer gate connected to a second terminal, and an internal program signal IPGM applied to the gate; 상기 제2전송게이트의 출력을 입력하는 제6 인버터(59);A sixth inverter (59) for inputting an output of the second transfer gate; 접지전압(VSS)이 그 소스에 연결되고 상기 제2전송게이트의 출력이 그 게이트에 연결되는 제5 엔모스 트랜지스터(55);A fifth NMOS transistor 55 having a ground voltage VSS connected to the source thereof and an output of the second transfer gate connected to the gate thereof; 접지전압(VSS)이 그 소스에 연결되고 상기 제6인버터의 출력이 그 게이트에 연결되는 제6 엔모스 트랜지스터(56);A sixth NMOS transistor 56 having a ground voltage VSS connected to a source thereof and an output of the sixth inverter connected to a gate thereof; 상기 인터페이스 전압(VIO)이 그 소스에 연결되고 상기 제6 엔모스 트랜지스터의 드레인이 그 게이트에 연결되고 상기 제5 엔모스 트랜지스터의 드레인이 그 드레인에 연결되는 제5 피모스 트랜지스터(57);A fifth PMOS transistor (57) having the interface voltage (VIO) connected to its source, a drain of the sixth NMOS transistor connected to its gate, and a drain of the fifth NMOS transistor connected to the drain thereof; 상기 인터페이스 전압(VIO)이 그 소스에 연결되고 상기 제5 엔모스 트랜지스터의 드레인이 그 게이트에 연결되고 상기 제6 엔모스 트랜지스터의 드레인이 그 드레인에 연결되는 제6 피모스 트랜지스터(58); 및 A sixth PMOS transistor 58 having the interface voltage VIO connected to its source, a drain of the fifth NMOS transistor connected to its gate, and a drain of the sixth NMOS transistor connected to the drain thereof; And 상기 인터페이스 전압(VIO)에 의해 구동되고 상기 제5 엔모스 트랜지스터의 드레인이 그 입력 단자에 연결되는 제7인버터(60); 및A seventh inverter (60) driven by the interface voltage (VIO) and having a drain of the fifth NMOS transistor connected to its input terminal; And 상기 제7인버터의 출력을 반전시키는 제8인버터(61)를 구비하는 것을 특징으로 하는 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치.And an eighth inverter (61) for inverting the output of the seventh inverter. 제 4항에 있어서, 상기 비트라인 감지증폭회로는,The circuit of claim 4, wherein the bit line detection amplifier circuit comprises: 프리차아지신호(PRECHARGE)를 입력하는 제9인버터(71);A ninth inverter 71 for inputting a precharge signal PRECHARGE; 상기 로직전압(VDD)이 그 소스에 연결되고 상기 제9인버터의 출력이 그 게이트에 연결되고 상기 비트라인(BL)이 그 드레인에 연결되는 제7 피모스 트랜지스 터(72);A seventh PMOS transistor (72) having the logic voltage (VDD) connected to a source thereof, an output of the ninth inverter connected to a gate thereof, and the bit line (BL) connected to a drain thereof; 상기 로직전압(VDD)이 그 소스에 연결되고 비트(BL)이 그 드레인에 연결되며 반전된 비트라인 로드신호(BL_LOADb)가 그 게이트에 연결되는 제8 피모스 트랜지스터(73);An eighth PMOS transistor 73 having the logic voltage VDD connected to its source, a bit BL connected to its drain, and an inverted bit line load signal BL_LOADb connected to its gate; 반전된 센싱 인에이블 신호(SAENb)를 입력하는 제10인버터(74);A tenth inverter 74 for inputting the inverted sensing enable signal SAENb; 상기 로직전압(VDD)이 그 소스에 연결되고 상기 비트라인(BL)이 그 게이트에 연결되는 제9 피모스 트랜지스터(75);A ninth PMOS transistor (75) having the logic voltage (VDD) connected to its source and the bit line (BL) connected to its gate; 상기 제9 피모스 트랜지스터의 드레인이 그 소스에 연결되고 반전된 센싱 인에이블 신호(SAENb)가 그 게이트에 연결되는 제10 피모스 트랜지스터(76);A tenth PMOS transistor 76 having a drain of the ninth PMOS transistor connected to a source thereof and an inverted sensing enable signal SAENb connected to a gate thereof; 상기 제10 피모스 트랜지스터(76)의 드레인이 그 드레인에 연결되고 상기 제10 인버터의 출력이 그 게이트에 연결되는 제7 엔모스 트랜지스터(77);A seventh NMOS transistor (77) having a drain of the tenth PMOS transistor 76 connected to the drain thereof, and an output of the tenth inverter connected to the gate thereof; 상기 제7 엔모스 트랜지스터의 소스가 그 드레인에 연결되고 접지전압(VSS)이 그 소스에 연결되며 상기 비트라인(BL)이 그 게이트에 연결되는 제8 엔모스 트랜지스터(78); 및An eighth NMOS transistor 78 having a source of the seventh NMOS transistor connected to a drain thereof, a ground voltage VSS connected to the source thereof, and the bit line BL connected to a gate thereof; And 상기 제7 엔모스 트랜지스터의 드레인을 래치하여 비트라인 감지 증폭 회로의 출력포트로 출력하는 래치(79)를 구비하는 것을 특징으로 하는 비동기식 이퓨즈 OTP 메모리 장치.And a latch (79) for latching the drain of the seventh NMOS transistor and outputting the drain port to an output port of a bit line sense amplifying circuit.
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