KR101104632B1 - 기화기 및 박막증착시스템 - Google Patents

기화기 및 박막증착시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR101104632B1
KR101104632B1 KR1020100031472A KR20100031472A KR101104632B1 KR 101104632 B1 KR101104632 B1 KR 101104632B1 KR 1020100031472 A KR1020100031472 A KR 1020100031472A KR 20100031472 A KR20100031472 A KR 20100031472A KR 101104632 B1 KR101104632 B1 KR 101104632B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
precursor
liquid
vaporizer
carrier gas
liquid source
Prior art date
Application number
KR1020100031472A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20110112071A (ko
Inventor
진송완
홍주표
강성훈
김윤철
하용태
Original Assignee
주식회사 마이크로이즈
한국산업기술대학교산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 마이크로이즈, 한국산업기술대학교산학협력단 filed Critical 주식회사 마이크로이즈
Priority to KR1020100031472A priority Critical patent/KR101104632B1/ko
Publication of KR20110112071A publication Critical patent/KR20110112071A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101104632B1 publication Critical patent/KR101104632B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4481—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 기화공간 및 기상 전구체 배출구를 가지는 기화기 케이스, 기화공간에 전구체 배출구 측으로 액상 전구체를 분무하는 분무유닛, 분무되는 액상 전구체와 충돌되도록 다른 방향에서 캐리어가스를 분사하여 분무되는 액상 전구체를 재차 무화시키는 분사유닛으로 구성된 기화기 및 이 기화기를 포함하는 박막증착시스템을 제공한다.

Description

기화기 및 박막증착시스템{Vaporizer and System for Depositing Thin Film}
본 발명은, 박막증착장치에 기상 전구체(Precursor)를 제공하기 위하여 액상 전구체를 기화시키는 기화기 및 이 기화기를 포함하는 박막증착시스템에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체용 웨이퍼나 평판표시소자용 글라스와 같은 기판 등의 박막증착에는 박막증착장치가 이용되는데, 이 장치는 증착대상의 증착공정을 위한 공간을 한정하는 공정챔버를 포함하고, 이 공정챔버는 기상 전구체 등을 제공받아 내부의 증착공간에 플라즈마를 형성, 증착대상에 박막을 증착한다.
여기에서, 기상 전구체는 전구체 공급장치에 의하여 제공되며, 이 전구체 공급장치는 전구체 탱크, 전구체 이송라인 및 기화기를 포함하는데, 전구체 탱크에는 액상 전구체가 저장되고, 이 액상 전구체는 전구체 이송라인을 따라 공정챔버 측으로 이송되며, 기화기는 이 전구체 이송라인 상에 설치되어 이송되는 액상 전구체를 기화시킨다.
기화기의 구성을 살펴보면, 기화기는 액상 전구체의 기화를 위한 기화공간을 한정하는 기화기 케이스 및 이 기화기 케이스 내 기화공간에 액상 전구체를 분무하는 전구체 분무유닛을 포함하고, 이 전구체 분무유닛은 기화기 케이스에 마련된 전구체 배출구의 맞은편에서 이 전구체 배출구를 향하여 액상 전구체를 분무한다.
일반적으로, 기화기의 기화효율은 액상 전구체의 무화효율에 비례한다. 그러나 이전까지의 기화기는 무화의 대부분을 단지 전구체 분무유닛의 성능에만 의존하여 이루었는바, 이러한 방식으로는 보다 향상된 기화효율을 기대할 수 없었다.
본 발명은 이와 같은 종래기술의 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 한층 향상된 기화효율을 보장할 수 있는 기화기 및 이러한 기화기를 포함하는 박막증착시스템을 제공하는 데 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 액상소스(액상 전구체)를 기화시키기 위한 기화공간과 기화된 액상소스가 배출되는 배출구를 가지는 기화기 케이스와; 상기 배출구의 맞은편에 위치하도록 상기 기화기 케이스에 설치되고 상기 기화공간에 액상소스를 분무하는 액상소스 분무유닛과; 상기 기화공간에 상기 액상소스 분무유닛으로부터 분무되는 액상소스와 충돌되도록 다른 방향에서 캐리어가스를 분사하여 상기 분무되는 액상소스를 재차 무화시키는 캐리어가스 분사유닛을 포함하는 기화기가 제공된다.
여기에서, 상기 기화공간은 상기 배출구가 위치하는 말단 부분에 이 말단 부분의 내주를 상기 배출구 측으로 갈수록 축소시키는 기화공간 축소부가 마련될 수 있다. 상기 액상소스 분무유닛은 액상소스가 분사되는 내관 및 캐리어가스가 분사되는 외관으로 구성된 이중관을 포함할 수 있다. 상기 캐리어가스 분사유닛은 상기 액상소스 분사유닛과 함께 상기 배출구의 맞은편에 위치하는 것과 동시에, 분사되는 캐리어가스가 상기 액상소스 분사유닛으로부터 분무되는 액상소스와 교차하도록 상기 기화기 케이스에 설치될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 기화기는 상기 기화공간에 설치되어 상기 배출구 측으로 이송되는 상기 액상소스 분무유닛으로부터의 액상소스를 가열하는 액상소스 가열수단을 더 포함할 수 있다.
여기에서, 상기 액상소스 가열수단은 상기 배출구 측으로 이송되는 액상소스와 충돌 가능하도록 배치된 적어도 하나의 가열 플레이트를 포함할 수 있고, 상기 가열 플레이트는 상기 배출구 측으로 이송되는 액상소스가 통과하면서 무화되도록 다수 개의 무화구멍을 가질 수 있다. 이 때, 상기 가열 플레이트는 상기 기화공간이 상기 액상소스 분무유닛으로부터 상기 배출구 측으로 적어도 세 공간으로 구획되도록 복수 개 구비될 수 있다. 또한, 상기 다수 개의 무화구멍 중 적어도 일부는 크기가 상이할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 액상 전구체를 기화시켜 증착공정을 행하는 공정챔버 내에 기상 전구체를 제공하는 기화기와; 전구체 공급원으로부터의 액상 전구체를 상기 기화기로 이송하는 전구체 이송라인을 포함하고, 상기 기화기는 액상 전구체를 기화시키기 위한 기화공간과 기상 전구체가 배출되는 배출구를 가지는 기화기 케이스와; 상기 배출구의 맞은편에 위치하도록 상기 기화기 케이스에 설치되고 상기 전구체 이송라인과 연결되어 상기 기화공간에 액상 전구체를 분무하는 전구체 분무유닛과; 상기 기화공간에 상기 전구체 분무유닛으로부터 분무되는 액상 전구체와 충돌되도록 캐리어가스 공급원으로부터의 캐리어가스를 다른 방향에서 분사하여 상기 분무되는 액상 전구체를 재차 무화시키는 캐리어가스 분사유닛을 포함하며, 상기 전구체 이송라인은 상기 전구체 분무유닛과 연결되는 말단에 액상 전구체를 상기 전구체 분무유닛 내로 분사하는 오리피스가 마련됨과 아울러, 상기 말단 부분에 이 말단 부분의 내주를 상기 오리피스 측으로 갈수록 축소시키는 관로 축소부가 형성된 전구체 공급장치가 제공된다.
여기에서, 상기 관로 축소부는 유선형 구조를 가지도록 곡면으로 구성될 수 있다. 그리고 상기 관로 축소부는 상기 오리피스의 중심을 기준으로 비대칭 구조를 가지도록 형성될 수 있다. 또, 상기 오리피스는 편심 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 전구체 공급장치는 상기 전구체 이송라인을 가열하는 이송라인 가열수단을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 내부의 증착공간에서 증착공정이 이루어지는 공정챔버와; 전구체 공급원으로부터의 액상 전구체를 기화시켜 상기 증착공간에 기상 전구체를 제공하는 기화기를 포함하고, 상기 기화기는 액상 전구체를 기화시키기 위한 기화공간 및 기상 전구체가 배출되는 배출구를 가지는 기화기 케이스와; 상기 배출구의 맞은편에 위치하도록 상기 기화기 케이스에 설치되고 상기 기화공간에 상기 전구체 공급원으로부터의 액상 전구체를 분무하는 전구체 분무유닛과; 상기 기화공간에 상기 전구체 분무유닛으로부터 분무되는 액상 전구체와 충돌되도록 캐리어가스 공급원으로부터의 캐리어가스를 다른 방향에서 분사하여 상기 분무되는 액상 전구체를 재차 무화시키는 캐리어가스 분사유닛을 포함하는 박막증착시스템이 제공된다.
본 발명은 액상소스(액상 전구체)의 무화효율을 증대시킬 수 있고, 나아가서는 증착대상에 대한 증착공정 작업효율을 높일 수 있다.
또한, 증착공정에 요구되는 액상 전구체와 캐리어가스의 양은 증착공정에 따라 다르므로, 이를 위하여, 종래에는 대개 전구체 분무유닛을 다른 규격의 것으로 교체하여야 하였으나, 본 발명은 요구하는 액상 전구체와 캐리어가스의 양에 탄력적으로 대응하면서 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 박막증착시스템이 도시된 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 기화기를 나타내는 단면도이다.
도 3은 도 2의 B 부분 확대도이다.
도 4는 도 3의 C-C선 단면도이다.
도 5는 도 3의 D 부분 확대도인바, 분무되는 액상 전구체를 캐리어가스에 의하여 무화시키는 상태를 나타낸다.
도 6은 도 2에 도시된 가열 플레이트를 나타내는 정면도이다.
도 7은 도 4의 E 부분 확대도이다.
도 8은 도 7의 F-F선 단면도이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다. 참고로, 본 발명을 설명함에 있어서, 참조하는 도면에 도시된 구성요소의 크기, 선의 두께 등은 이해의 편의를 위하여 다소 과장되게 표현되어 있을 수 있다. 또, 본 발명의 설명에 사용되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의한 것이므로 사용자, 운용자의 의도, 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서 이러한 용어에 대한 정의는 이 명세서의 전반에 걸친 내용을 토대로 내리는 것이 마땅하겠다.
도 1은 본 발명에 따른 박막증착시스템이 도시된 구성도이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 박막증착시스템(A)은 박막증착장치(A1), 기상 전구체를 제공하는 전구체 공급장치(A2), 캐리어가스를 제공하는 캐리어가스 공급장치(A3)를 포함한다.
증착대상(예를 들어, 반도체용 웨이퍼나 평판표시소자용 글라스와 같은 기판 등)에 박막을 증착하는 박막증착장치(A1)는 증착공정을 위한 공간을 한정하는 공정챔버(10), 이 공정챔버(10)의 내부인 증착공간의 상하에 대향하도록 설치된 상, 하부전극 어셈블리(도시되지 않음), 공정챔버(10)의 증착공간을 진공분위기로 조성하기 위한 진공펌프(20)를 포함한다.
여기에서, 상부전극 어셈블리는 샤워헤드(shower head)를 포함할 수 있는데, 이 샤워헤드는 전구체 공급장치(A2)로부터 기상 전구체를 제공받아 공정챔버(10)의 증착공간으로 분출한다. 하부전극 어셈블리는 그 위에 증착대상이 놓이는 스테이지로서 기능할 수 있다.
전구체 공급장치(A2)는 액상 전구체가 저장된 전구체 탱크(30), 액상 전구체를 기화시키는 기화기(40), 전구체 탱크(30)에 저장된 액상 전구체를 기화기(40)로 이송하는 액상 전구체 이송라인(50), 기화기(40)에서 기화된 기상 전구체를 공정챔버(10)로 이송하는 기상 전구체 이송라인(60), 액상 전구체 이송라인(50)을 가열하는 이송라인 가열수단(70)을 포함한다.
여기에서, 전구체 탱크(30)의 액상 전구체는 펌프와 같은 이송수단(도시되지 않음)에 의하여 액상 전구체 이송라인(50)을 따라 기화기(40)로 이송되고, 이 기화기(40)로부터의 기상 전구체는 기상 전구체 이송라인(60)을 따라 이송되어 공정챔버(10)에 공급된다.
도 2는 기화기(40)가 도시된 단면도이다. 이 도 2에 도시된 바와 같이, 기화기(40)는 기화공간(413)을 가지는 기화기 케이스(410), 기화공간(413)에 액상 전구체 이송라인(50)을 따라 이송되는 전구체 탱크(30)로부터의 액상 전구체를 분무하는 전구체 분무유닛(420), 기화공간(413)에 캐리어가스 공급장치(A3)로부터의 캐리어가스를 분사하는 캐리어가스 분사유닛(430), 기화공간(413)에 설치된 전구체 가열수단(440)을 포함한다.
기화기 케이스(410)는 양단 중 한쪽이 개방된 박스형의 케이스 본체(411) 및 이 케이스 본체(411)의 개방 부분을 개폐하는 케이스 커버(412)를 포함하고, 이 케이스 커버(412)에 의하여 개폐되는 케이스 본체(411)의 내부를 액상 전구체의 기화를 위한 기화공간(413)으로 한다. 케이스 본체(411)의 양단 중 다른 쪽에는 기화된 기상 전구체가 배출되는 전구체 배출구(414)가 마련된다. 기화공간(413)은 그 횡단면이 원형 또는 타원형으로 형성되고, 전구체 배출구(414)가 위치하는 말단 부분에는 이 부분의 안쪽둘레를 전구체 배출구(414) 측으로 갈수록 축소시켜 액상 전구체의 흐름을 이 전구체 배출구(414) 측으로 안내하는 기화공간 축소부(415)가 마련된다. 이러한 기화기 케이스(410)에서, 케이스 본체(411)와 케이스 커버(412)는 일체로 구성할 수도 있고, 셋 이상으로 분할 가능한 조립식으로 구성하여 조립 시 기화기 케이스(410)를 이루도록 할 수도 있다.
도 3은 도 2의 B 부분 확대도이고, 도 4는 도 3의 C-C선 단면도인바, 전구체 분무유닛(420)과 캐리어가스 분사유닛(430)의 구성 및 설치구조를 나타낸다. 이 도 3, 4에 도시된 바와 같이, 케이스 커버(412)에는 전구체 분무유닛(420)과 캐리어가스 분사유닛(430)이 각각 설치되는데, 이 전구체 분무유닛(420)과 캐리어가스 분사유닛(430)은 기화공간(413)의 중심선(416)을 사이에 두도록 배치되는 것과 동시에, 그 선단이 기화공간(413)의 중심선(416)을 향하도록 이 중심선(416)에 대하여 각각 일정한 각도 경사져, 캐리어가스 분사유닛(430)으로부터 분사되는 캐리어가스는 전구체 분무유닛(420)으로부터 분무되는 액상 전구체와 교차하면서 충돌하여 이 분무되는 액상 전구체를 재차 무화시키고 분산시킨다. 도 5에는 분무되는 액상 전구체를 캐리어가스에 의하여 무화시키는 상태가 나타나 있는바, 도 5에 도시된 바와 같이, 분무된 액상전구체는 캐리어가스에 의하여 이 캐리어가스 분사방향 측으로 분산되면서 무화된다.
전구체 분무유닛(420)은 내관(421)과 외관(422)으로 구성된 이중관을 포함하는데, 이 이중관 중 내관(421)에서는 전구체 탱크(30)로부터의 액상 전구체가 분사되고, 외관(422)에서는 캐리어가스 공급장치(A3)로부터의 캐리어가스가 분사된다.
전구체 가열수단(440)은 기화공간(413)이 이 기화공간(413)의 중심선(416)을 따라 4개의 단위공간으로 구획되도록 이 중심선(416)에 대하여 대략 수직으로 배치된 3개의 전열식 가열 플레이트(441)를 포함한다. 도 6은 가열 플레이트(441)가 도시된 정면도이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 가열 플레이트(441)는 각각 다수 개의 무화구멍(442)을 가진다. 이러한 전구체 가열수단(440)에 의하면, 분무되어 기화공간(413)을 따라 전구체 배출구(414) 측으로 이송되는 액상 전구체는 가열 플레이트(441)의 열에 의하여 가열되는 한편, 이 가열 플레이트(441)와 충돌하고 무화구멍(442)을 통과하는 과정에서 다시 한번 무화된다.
각 가열 플레이트(441)의 무화구멍(442)은 그 크기가 모두 동일할 수도 있으나, 여기에서는 적어도 일부가 상이한 크기를 가지도록 하였고, 상대적으로 크기가 작은 무화구멍(442)은 무화효율 향상을 위하여 상대적으로 액상 전구체가 집중되는 부분에 배치하였다.
또한, 여기에서는 가열 플레이트(441)가 3개 설치되고, 이에 따라 기화공간(413)이 네 단위공간으로 구획되는 것으로 설명하였으나, 가열 플레이트(441)의 설치 개수는 실시조건에 따라 증감될 수 있다.
한편, 이상의 설명에 따르면, 케이스 본체(411)의 양단 중 다른 쪽에는 전구체 배출구(414)가 마련되고, 케이스 커버(412)에는 전구체 분무유닛(420)이 설치되므로, 기화기 케이스(410)의 양쪽에는 전구체 배출구(414)와 전구체 분무유닛(420)이 각각 위치되나, 이 전구체 배출구(414)와 전구체 분무유닛(420)의 위치는 제 기능을 발휘할 수 있는 범위 내에서 얼마든지 변경될 수 있다. 예를 들면, 전구체 배출구(414)는 케이스 본체(411)의 둘레 부분에 마련될 수 있다. 또는, 이 전구체 배출구(414)는 전구체 분무유닛(420)과 함께 기화기 케이스(410)의 한쪽에 마련될 수 있고, 이러한 경우에는 기화공간(413)이 Ｕ자형의 구조를 가지도록 형성되어, 기화공간(413)의 양단 부분은 전구체 배출구(414) 측 및 전구체 분무유닛(420) 측과 각각 연결될 수 있다.
도 7은 도 4의 E 부분이 도시된 확대도이고, 도 8은 이 도 7의 F-F선 단면도이다. 도 7, 8에 도시된 바와 같이, 액상 전구체 이송라인(50)은 내관(421)에 연결된다. 액상 전구체 이송라인(50)은 일반적인 파이프의 구조를 가지되, 내관(421)과의 연결 부분인 말단은 액상 전구체가 내관(421)으로 분사되도록 형성된다. 즉, 액상 전구체 이송라인(50)의 말단은 일반적인 파이프 구조와 달리 폐쇄되어 있되, 액상 전구체가 분사되는 오리피스(51)를 가지는 것이다. 이 때, 오리피스(51)는 액상 전구체 이송라인(50)의 말단을 오므려서 마련할 수도 있다.
액상 전구체 이송라인(50)의 말단 부분에는 이 말단 부분의 내주를 축소시키는 관로 축소부(52)가 마련되는데, 이 관로 축소부(52)는 액상 전구체 이송라인(50)의 말단에 위치한 오리피스(51) 측으로 갈수록 축소되는 구조로 형성된다. 이러한 관로 축소부(52)에 따르면, 액상 전구체 이송라인(50)의 관로를 따라 이송되는 액상 전구체는 정체됨이 없이 오리피스(51) 측으로 자연스럽게 흐르게 된다. 즉, 액상 전구체 이송라인(50)의 관로에 액상 전구체의 흐름을 방해하는 사각지대가 없도록 한 것이다.
이와 같은 관로 축소부(52)는 액상 전구체의 흐름이 보다 자연스럽게 이루어지도록 만곡한 곡면으로 구성되는데, 이 관로 축소부(52)를 구성하는 곡면은 관로 축소부(52)가 유선형 구조를 가질 수 있도록 형성된다.
관로 축소부(52)의 곡면은 관로 축소부(52)가 오리피스(51)의 중심을 기준으로 비대칭 구조를 가지도록 형성된다. 즉, 오리피스(51)의 중심을 기준으로 할 때 관로 축소부(52)의 한쪽과 그 반대쪽 형상이 다르도록 형성한 것이다. 이 비대칭 구조에 따르면, 액상 전구체 이송라인(50)의 관로를 따라 이송되는 액상 전구체는 와류를 형성하면서 오리피스(51) 측으로 흐르게 된다.
오리피스(51)는 액상 전구체 이송라인(50)의 말단 중앙에 위치될 수도 있으나, 여기에서는 말단의 중앙에 배치하지 않고 한쪽으로 치우쳐 있도록 편심 배치하였다. 이 편심 구조는 액상 전구체 이송라인(50)의 관로를 따라 이송되는 액상 전구체에 보다 복잡한 와류를 발생시킨다.
액상 전구체 이송라인(50)을 따라 흐르는 액상 전구체는 관로 축소부(52)의 유선형 구조에 의한 자연스러운 흐름 및 비대칭 구조에 의한 와류작용으로 응축됨이 없이 오리피스(51)를 통하여 내관(421)으로 분무되고, 이후 기화공간(413)에서 효과적으로 기화된다. 즉, 관로 축소부(52)의 유선형 및 비대칭 구조가 기화기(40)의 작용을 도와 액상 전구체가 양호하게 기화되는 것이고, 이에 따라 공정챔버(10)의 내에 양질의 기상 전구체가 공급되어 이 기상 전구체의 과도한 반응이나 미반응을 방지할 수 있다.
이송라인 가열수단(70)은 액상 전구체 이송라인(50)에 감겨 액상 전구체 이송라인(50)에 60~150℃의 열을 가하는 열선을 포함한다. 이 이송라인 가열수단(70)은 액상 전구체 이송라인(50)을 따라 흐르는 액상 전구체의 고형을 방지한다.
캐리어가스 공급장치(A3)는 캐리어가스 탱크(80) 및 이 캐리어가스 탱크(80)로부터의 캐리어가스를 이송하는 캐리어가스 이송라인(90)을 포함하는데, 캐리어가스 이송라인(90)은 그 말단이 두 갈래로 갈라져, 이 두 갈래 중 하나는 외관(422)에 연결되고, 나머지 하나는 캐리어가스 분사유닛(430)에 연결된다.
도시하지는 않았으나, 기상 전구체 이송라인(60)도 이송라인 가열수단(70)과 동일한 가열수단에 의하여 일정한 온도로 가열될 수 있다.
이상, 본 발명을 설명하였으나, 본 발명은 이 명세서에 개시된 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 한정되지 않으며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 이내에서 당업자에 의하여 다양하게 변형될 수 있다.
10 : 공정챔버 30 : 전구체 탱크
40 : 기화기 410 : 기화기 케이스
413 : 기화공간 414 : 전구체 배출구
415 : 기화공간 축소부 420 : 전구체 분무유닛
421 : 내관 422 : 외관
430 : 캐리어가스 분사유닛 440 : 전구체 가열수단
441 : 가열 플레이트 442 : 무화구멍

Claims (9)

  1. 액상소스를 기화시키기 위한 기화공간과 기화된 액상소스가 배출되는 배출구를 가지는 기화기 케이스와;
    상기 기화공간에 액상소스를 분무하는 액상소스 분무유닛과;
    상기 기화공간에 상기 액상소스 분무유닛으로부터 분무되는 액상소스와 충돌되도록 다른 방향에서 캐리어가스를 분사하여 상기 분무되는 액상소스를 재차 무화시키는 캐리어가스 분사유닛을 포함하고,
    상기 액상소스 분무유닛은, 액상소스가 분사되는 내관 및 캐리어가스가 분사되는 외관으로 구성된 이중관을 포함하는 기화기.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 기화공간은, 상기 배출구가 위치하는 말단 부분에 이 말단 부분의 내주를 상기 배출구 측으로 갈수록 축소시키는 축소부가 마련된 기화기.
  3. 삭제
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 캐리어가스 분사유닛은, 상기 액상소스 분사유닛 측에 위치하는 것과 동시에, 분사되는 캐리어가스가 상기 액상소스 분사유닛으로부터 분무되는 액상소스와 교차하도록 상기 기화기 케이스에 설치된 기화기.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 기화공간에 설치되어 상기 배출구 측으로 이송되는 상기 액상소스 분무유닛으로부터의 액상소스를 가열하는 가열수단을 더 포함하는 기화기.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 가열수단은, 상기 배출구 측으로 이송되는 액상소스와 충돌 가능하도록 배치된 적어도 하나의 가열 플레이트를 포함하고,
    상기 가열 플레이트는, 상기 배출구 측으로 이송되는 액상소스가 통과하면서 무화되도록 다수 개의 무화구멍을 가지는 기화기.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 가열 플레이트는, 상기 기화공간이 상기 액상소스 분무유닛으로부터 상기 배출구 측으로 적어도 세 공간으로 구획되도록 복수 개 구비된 기화기.
  8. 청구항 6에 있어서,
    상기 다수 개의 무화구멍 중 적어도 일부는, 크기가 상이한 기화기.
  9. 내부의 증착공간에서 증착공정이 이루어지는 공정챔버와; 전구체 공급원으로부터의 액상 전구체를 기화시켜 상기 증착공간에 기상 전구체를 제공하는 기화기를 포함하고,
    상기 기화기는,
    액상 전구체를 기화시키기 위한 기화공간 및 기상 전구체가 배출되는 배출구를 가지는 기화기 케이스와; 상기 기화공간에 상기 전구체 공급원으로부터의 액상 전구체를 분무하는 전구체 분무유닛과; 상기 기화공간에 상기 전구체 분무유닛으로부터 분무되는 액상 전구체와 충돌되도록 캐리어가스 공급원으로부터의 캐리어가스를 다른 방향에서 분사하여 상기 분무되는 액상 전구체를 재차 무화시키는 캐리어가스 분사유닛을 포함하며,
    상기 전구체 분무유닛은, 액상 전구체가 분사되는 내관 및 캐리어가스가 분사되는 외관으로 구성된 이중관을 포함하는 박막증착시스템.
KR1020100031472A 2010-04-06 2010-04-06 기화기 및 박막증착시스템 KR101104632B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100031472A KR101104632B1 (ko) 2010-04-06 2010-04-06 기화기 및 박막증착시스템

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100031472A KR101104632B1 (ko) 2010-04-06 2010-04-06 기화기 및 박막증착시스템

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110112071A KR20110112071A (ko) 2011-10-12
KR101104632B1 true KR101104632B1 (ko) 2012-01-12

Family

ID=45027983

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100031472A KR101104632B1 (ko) 2010-04-06 2010-04-06 기화기 및 박막증착시스템

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101104632B1 (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180027129A (ko) * 2016-09-06 2018-03-14 이도형 반도체 제조장비의 히터블록 구조
KR101949030B1 (ko) * 2017-08-24 2019-05-08 주식회사 메카로 투룸형 기화기
KR102125183B1 (ko) * 2019-10-07 2020-06-22 김기남 반도체 박막증착을 위한 기화기
KR102124290B1 (ko) * 2019-10-07 2020-06-17 김기남 반도체 박막증착을 위한 기화기용 아토마이저
KR102367902B1 (ko) 2021-09-15 2022-02-25 주식회사 엠아이 박막증착을 위한 기화기

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0147042B1 (ko) * 1989-10-17 1998-08-17 엘런 제이. 밀러 화학적 증착용 증기상 반응물의 제조 방법
KR100474970B1 (ko) * 2002-07-18 2005-03-10 주식회사 아이피에스 박막증착장치용 기화기

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0147042B1 (ko) * 1989-10-17 1998-08-17 엘런 제이. 밀러 화학적 증착용 증기상 반응물의 제조 방법
KR100474970B1 (ko) * 2002-07-18 2005-03-10 주식회사 아이피에스 박막증착장치용 기화기

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110112071A (ko) 2011-10-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101104632B1 (ko) 기화기 및 박막증착시스템
JP4519173B2 (ja) 内燃機関の排気ガス導管内に液体媒体を供給するための装置
KR100764959B1 (ko) 기판 처리 시스템에서 증착 물질의 기화를 개선시키는방법 및 장치
US7827932B2 (en) Vaporizer and processor
TW476994B (en) Semiconductor manufacturing system having a vaporizer which efficiently vaporizes a liquid material
JP5118644B2 (ja) 液体材料気化装置
WO2007098438A3 (en) Direct liquid injector device
KR960039122A (ko) 사이클론 증착기
JP2008014213A (ja) 排気処理装置
CN101658823B (zh) 用于闪蒸雾化的表面处理和涂层
CN105143628B (zh) 用于输送液态添加剂的排气管道部分
KR101072471B1 (ko) 전구체 공급장치 및 이를 포함하는 박막증착시스템
CN110914624A (zh) 热交换器
TW201825697A (zh) 氣溶膠蒸發器
JP2009062860A (ja) エンジン用排気処理装置
KR100805354B1 (ko) 액체 원료 기화 장치
KR102596950B1 (ko) 박막 증착용 기화 장치
KR20070005314A (ko) 유기 박막 증착 장치
KR101003545B1 (ko) 기화 장치
KR20130134647A (ko) 기화기
US20090025796A1 (en) Close-coupled purgeable vaporizer valve
KR100455224B1 (ko) 기화기
TW201730366A (zh) 蒸氣放出裝置及成膜裝置
KR100709034B1 (ko) 박막증착장치용 직접액체분사장치
KR100962475B1 (ko) 기화기

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141230

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151218

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161216

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180103

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee