KR101099850B1 - 알킬방향족 화합물의 산화 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 알킬방향족 화합물을 상응하는 하이드로퍼옥사이드로 산화시키는 방법으로서, 하기 화학식 I의 알킬방향족 화합물을, 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드를 포함하는 첨가된 촉매의 존재 및 임의의 다른 촉매의 부재 하에 산소와 접촉시켜 하기 화학식 II의 하이드로퍼옥사이드를 생성하는 단계를 포함하는 방법을 제공한다:
화학식 I
화학식 II
상기 식에서,
R1 및 R2는 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기를 각각 독립적으로 나타내되, R1과 R2는 결합하여 탄소 원자 수 4 내지 10의 치환된 또는 비치환된 사이클릭 기를 형성하고,
R3은 수소, 1개 이상의 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기 또는 사이클로헥실 기를 나타낸다.
상기 단계 후, 상기 하이드로퍼옥사이드는 페놀 및 하기 화학식 III의 케톤으로 전환될 수 있다:
화학식 III
R1COCH2R2
상기 식에서,
R1 및 R2는 화학식 I에서와 동일한 의미를 갖는다.
Description
본 발명은 알킬방향족 화합물을 산화시키고 경우에 따라 산화 생성물을 페놀 및 케톤으로 전환시키는 방법에 관한 것이다.
페놀 및 치환된 페놀은 화학산업에서 중요한 물질이고, 예를 들어, 페놀계 수지, 비스페놀 A, ε-카프로락탐, 아디프산 및 가소제의 제조에 유용하다.
현재, 페놀 제조의 가장 통상적인 방법은 혹(Hock) 방법이다. 이 방법은 3-단계 방법으로서, 제1 단계는 벤젠을 프로필렌으로 알킬화하여 쿠멘을 제조한 후 쿠멘을 상응하는 하이드로퍼옥사이드로 산화시킨 다음, 하이드로퍼옥사이드를 분해하여 등몰량의 페놀 및 아세톤을 생성하는 과정을 수반한다. 그러나, 페놀에 대한 전세계의 수요는 아세톤에 대한 전세계의 수요보다 더 급속히 증가하고 있다. 뿐만 아니라, 부텐의 가격에 비해 프로필렌의 가격이 증가하는 경향이 있는데, 이는 프로필렌의 부족이 점진적으로 심각해지고 있기 때문이다.
따라서, 공급원료로서 프로필렌 대신에 부텐 또는 고급 알켄을 사용하고 아 세톤보다 메틸 에틸 케톤(MEK) 또는 고급 케톤 예컨대, 사이클로헥사논을 함께 생성하는 방법이 페놀 제조를 위한 유망한 대안 방법이 될 수 있다. 예를 들어, 락커 및 용매로서 뿐만 아니라 윤활유의 탈왁싱(dewaxing)에 유용한 MEK에 대한 시장이 성장하고 있다. 또한, 사이클로헥사논은 산업용 용매로서, 산화 반응의 활성화제로서, 및 아디프산, 사이클로헥사논 수지, 사이클로헥사논 옥심, 카프로락탐 및 나일론 6의 제조에서의 활성화제로 사용된다.
원하는 페놀 및 MEK로 분해되는 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드 및 퍼록사이드를 수득하기 위해 2급-부틸벤젠을 산화시키는 방법에 있어서 2급-부틸벤젠으로부터 페놀 및 MEK가 생성될 수 있음은 공지되어 있다. 이 방법의 개요는 문헌(Process Exonomics Report No. 22B entitled "Phenol", published by the Stanford Research Institute in December, 1977)의 제113면 내지 제121면 및 제261면 내지 제263면에 기재되어 있다.
그러나, 쿠멘과 비교할 때, 탄소 원자 수 4 이상의 분지쇄 알킬 기로 치환된 방향족 화합물 예컨대, 2급-부틸벤젠을 상응하는 하이드로퍼옥사이드로 산화시키는 것은 보다 높은 온도를 요구하고 불순물의 존재에 매우 민감하다. 예를 들어, 1 중량%의 아이소부틸벤젠을 함유하는 2급-부틸벤젠의 경우, 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드의 형성 속도는 2급-부틸벤젠이 아이소부틸벤젠을 함유하지 않는 경우의 형성 속도의 약 91%까지 감소한다. 유사하게, 아이소부틸벤젠 함량이 1.65 중량%인 경우, 산화율은 약 86%까지 감소하고, 아이소부틸벤젠 함량이 2 중량%인 경우, 산화율은 약 84%까지 감소하며, 아이소부틸벤젠 함량이 3.5 중량%인 경우, 산화율은 약 82%만큼 낮은 수준까지 감소한다.
따라서, 기존 산화 방법보다 불순물의 존재에 대해 훨씬 덜 민감하고 페놀 및 MEK 또는 고급 케톤의 효율적인 상업적 규모의 제조를 가능하게 하는 C4+ 알킬 방향족 하이드로퍼옥사이드, 특히 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드의 제조를 위한 산화 방법을 찾을 필요가 있다.
미국 특허 제5,298,667호(스미토모) 및 유럽 특허출원 제548,986호(스미토모)에는 (i) (A) 에틸 하이드로퍼옥사이드, 카복실산 및 페놀을 실질적으로 함유하지 않는 2급-부틸벤젠, (B) 스티렌을 실질적으로 함유하지 않는 2급-부틸벤젠, 및 (C) 메틸벤질 알코올을 실질적으로 함유하지 않는 2급-부틸벤젠으로 구성된 군으로부터 선택된 물질을 촉매의 부재 하에 산소 함유 기체로 산화시켜 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드를 수득하는 단계; 및 (ii) 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드를 산성 촉매로 분해하여 페놀 및 MEK를 수득하는 단계를 포함하는 페놀 및 MEK의 제조 방법이 개시되어 있다.
유럽 특허출원 제1,088,809호(페놀케미)에는, 페놀, MEK 및 아세톤의 제조 방법으로서, 쿠멘 및 25 중량% 이하의 2급-부틸벤젠을 함유하는 혼합물을 산화시킨 후 하이드로퍼옥사이드를 훅 분해하여 생성물 중의 페놀:아세톤:MEK의 비가 상기 공급 혼합물의 조성을 통해 조절될 수 있는, 방법이 개시되어 있다. 공급 혼합물은 시판되는 알킬화 촉매 예컨대, AlCl3, H3PO4/SiO2 또는 제올라이트의 존재 하에 벤젠을 프로펜과 1-부텐/2-부텐의 상응하는 혼합물로 알킬화시킴으로써 직접 제조한다. 산화는 대기 또는 산소의 존재 및 촉매의 부재 하에 일어난다.
프랑스 특허출원 제2,182,802호(유니온 카르바이드)에는 대기 및 경우에 따라 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드의 존재 하에 2급-부틸벤젠을 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드로 산화시킨 후 퍼록사이드를 분해함으로써 페놀 및 MEK를 제조하는 방법이 개시되어 있다. 동 특허출원에 따르면, 2급-부틸벤젠은 1 중량%를 초과하는 양의 아이소부틸벤젠을 함유해서는 안 되는데, 이는 아이소부틸벤젠의 존재가 전체 공정 효율을 유의하게 감소시킴으로써 페놀 및 MEK의 수율을 유의하게 감소시키기 때문이다.
일본 특허출원 공개 제62/114922호(1987년 5월 26일 공개)에는 2급-부틸벤젠을 90 내지 145℃의 온도 및 1 내지 20 kg/cm2G의 압력에서 쿠멘 또는 쿠멘 하이드로퍼옥사이드의 존재 하에 산소 분자를 함유하는 기체, 바람직하게는 대기로 산화시킬 수 있음이 개시되어 있다.
미국 특허출원 공개 제2004/0162448호(쉘) 및 제2004/0236152호(쉘)에는 페놀 및 아세톤 및/또는 MEK의 제조 방법이 개시되어 있는데, 이때 쿠멘과 2급-부틸 벤젠의 혼합물은 산소의 존재 하에 상응하는 퍼록사이드로 산화되고, 이어서 상기 퍼록사이드는 분해된다. 실시예에서, 산화 혼합물은 개시제로서 1%의 쿠멘 하이드로퍼옥사이드 또한 함유한다. 동 특허출원에 따르면, 산화 혼합물에의 중화 염기의 첨가는 하이드로퍼옥사이드의 수율을 개선시키고 원치않는 부산물의 형성을 감소시킨다.
미국 특허 제6,852,893호(크레아비스) 및 제6,720,462호(크레아비스)에는 알킬방향족 탄화수소를 상응하는 하이드로퍼옥사이드로 촉매 산화시킨 후 이 하이드로퍼옥사이드를 분해하여 페놀 및 케톤을 수득함으로써 페놀을 제조하는 방법이 개시되어 있다. 촉매 산화는 자유 라디칼 개시제 및 촉매, 전형적으로 N-하이드록시카보다이이미드 촉매 예컨대, N-하이드록시프탈이미드의 존재 하에 산소를 사용하여 일으킨다. 이 방법에 의해 산화될 수 있는 바람직한 기질은 쿠멘, 사이클로헥실벤젠, 사이클로도데실벤젠 및 2급-부틸벤젠을 포함한다.
미국 특허 제4,136,123호(굿이어)에는 탄소 원자 수 4 내지 6의 알킬 하이드로퍼옥사이드 및 탄소 원자 수 8 내지 14의 아르알킬 하이드로퍼옥사이드로 구성된 군으로부터 선택된 자유 라디칼 개시제 및 황산염화된 메탈로 프탈로시아닌 촉매의 존재 하에 알킬방향족 화합물을 상응하는 하이드로퍼옥사이드로 산화시키는 방법이 개시되어 있다.
미국 특허 제4,282,383호(업존)에는 페놀 및 사이클로헥사논의 형성에 있어서 중간체로서 유용한 사이클로헥실벤젠 하이드로퍼옥사이드를 제조하는 방법이 개시되어 있다. 이 방법은 산소; 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드, 쿠멘 하이드로퍼옥사이드 및 p-다이아이소프로필벤젠 다이하이드로퍼옥사이드, 쿠멘 하이드로퍼옥사이드 및 p-다이아이소프로필벤젠 다이하이드로퍼옥사이드로 구성된 군으로부터 선택된 약 2 내지 6 중량%(사이클로헥실벤젠을 기준으로 함)의 하이드로퍼옥사이드; 및 아자비스아이소부티로나이트릴, 3급-부틸퍼벤조에이트 및 다이쿠밀 퍼록사이드로 구성된 군으로부터 선택된 약 0.1 내지 5 중량%(사이클로헥실벤젠을 기준으로 함)의 자유 라디칼 개시제의 존재 하에 약 80 내지 약 105℃의 온도에서 사이클로헥실벤젠을 가열하는 단계를 수반한다.
미국 특허 제4,450,303호(필립스 페트롤륨)에는 산소의 존재 하에 60 내지 200℃의 온도에서 2급 알킬 치환된 벤젠 예컨대, 사이클로헥실벤젠, 쿠멘, 2급-부틸벤젠, 2급-펜틸벤젠, p-메틸-2급-부틸벤젠, 1,4-다이페닐시클로헥산, 파라-다이사이클로헥실벤젠 및 2급-헥실벤젠을 가열하여 2급 알킬 치환된 벤젠 하이드로퍼옥사이드를 제조하는 방법이 개시되어 있다. 상기 가열은 화학식 R"COOSm(이때, R"는 탄소 원자 수 1 내지 20의 알킬, 아릴, 알크아릴 또는 아르알킬 라디칼임)의 사마륨 촉매 약 0.05 내지 5 중량%, 및 경우에 따라 아조-타입 화합물 또는 퍼록사이드 화합물인 자유 라디칼 개시제의 존재 하에 수행될 수도 있다. 한 실시양태에서, 2급 알킬 치환된 벤젠은 사이클로헥실벤젠이고, 촉매는 아세트산사마륨이며, 자유 라디칼 개시제는 쿠멘 하이드로퍼옥사이드이다.
문헌(Sheldon et al entitled "Organocatalytic Oxidations Mediated by Nitroxyl Radicals" in Adv. Synth. Catal., 2004, 346, pages 1051-1071)에는 사이클로헥실벤젠(CHB)이 0.5 몰%의 N-하이드록시프탈이미드 촉매 및 유리 라디칼 개시제로서의 2 몰%의 하이드로퍼옥사이드 생성물의 존재 하에 100℃에서 32% CHB 전환율 및 97.6%의 선별도로 1-하이드로퍼옥사이드로 산화될 수 있음이 개시되어 있다.
미국 특허 제3,959,381호(텍사코)에는 1:99 내지 99:1 몰비의 사이클로헥실벤젠과 쿠멘 또는 쿠멘 하이드로퍼옥사이드의 혼합물을 약 90 내지 140℃의 온도 및 3:1 이상의 사이클로헥실벤젠에 대한 산소의 몰비에서 산소 함유 기체와 접촉시켜 1-페닐사이클로헥실 하이드로퍼옥사이드와 쿠밀 하이드로퍼옥사이드의 제2 혼합물을 형성하고, 이어서 과량의 쿠멘 및 과량의 사이클로헥실벤젠의 적어도 일부를 상기 제2 혼합물로부터 제거한 후, 약 20 내지 50℃의 온도에서 하이드로카빌 설폰산 및 광물산으로 구성된 군으로부터 선택된 산 분해 촉매 및 탄소 원자 수 3 내지 6의 알카논과 상기 제2 혼합물을 접촉시키고 최종 생성물로부터 페놀 및 사이클로헥사논을 회수함으로써 페놀 및 사이클로헥사논을 제조하는 방법이 개시되어 있다.
본 발명자들은 2급-부틸벤젠 및 사이클로헥실벤젠을 비롯한 일부 2급 알킬 치환 벤젠이 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드의 존재 및 다른 촉매의 부재 하에 상응하는 하이드로퍼옥사이드로 산화될 수 있음을 발견하였다.
도 1은 실시예 1의 산화 방법에 있어서 첨가된 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드(TBHP) 촉매의 농도에 대한 2급-부틸벤젠 전환율을 보여주는 그래프이다.
도 2는 실시예 1의 산화 방법에 있어서 다양한 양의 TBHP 촉매를 첨가하였을 때 실시 시간(time on stream)에 대한 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드 선별도를 보여주는 그래프이다.
도 3은 실시예 2의 산화 방법에 있어서 쿠멘 하이드로퍼옥사이드 촉매를 첨가하였을 때 및 첨가하지 않았을 때 실시 시간에 대한 2급-부틸벤젠 전환율을 보여주는 그래프이다.
도 4는 실시예 2의 산화 방법에 있어서 쿠멘 하이드로퍼옥사이드 촉매를 첨가하였을 때 및 첨가하지 않았을 때 실시 시간에 대한 2급-부틸벤젠 선별도를 보여주는 그래프이다.
한 측면에서, 본 발명은 알킬방향족 화합물을 상응하는 하이드로퍼옥사이드로 산화시키는 방법으로서, 하기 화학식 I의 알킬방향족 화합물을 첨가된 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드 촉매의 존재 및 임의의 다른 촉매의 부재 하에 산소와 접촉시켜 하기 화학식 II의 하이드로퍼옥사이드를 생성하는 단계를 포함하는 방법을 제공한다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기를 각각 독립적으로 나타내되, R1과 R2는 결합하여 탄소 원자 수 4 내지 10의 치환된 또는 비치환된 사이클릭 기를 형성할 수도 있고,
R3은 수소, 1개 이상의 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기 또는 사이클로헥실 기를 나타낸다.
추가 측면에서, 본 발명은
(a) 하기 화학식 I의 알킬방향족 화합물을 첨가된 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드 촉매의 존재 및 임의의 다른 촉매의 부재 하에 산소와 접촉시켜 하기 화학식 II의 하이드로퍼옥사이드를 생성하는 단계; 및
(b) 화학식 II의 하이드로퍼옥사이드를 페놀 및 하기 화학식 III의 케톤으로 전환시키는 단계
를 포함하는 페놀 제조 방법을 제공한다:
화학식 I
화학식 II
상기 식에서,
R1 및 R2는 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기를 각각 독립적으로 나타내되, R1과 R2는 결합하여 탄소 원자 수 4 내지 10의 치환된 또는 비치환된 사이클릭 기를 형성할 수도 있고,
R3은 수소, 1개 이상의 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기 또는 사이클로헥실 기를 나타낸다.
바람직하게는, 상기 알킬방향족 화합물은 2급-부틸벤젠, 2급-펜틸벤젠, p-메틸-2급-부틸벤젠, 1,4-다이페닐사이클로헥산, 2급-헥실벤젠 및 사이클로헥실벤젠으로 구성된 군으로부터 선택되고, 가장 바람직하게는, 2급-부틸벤젠 또는 사이클로헥실벤젠이다.
바람직하게는, 산소와의 접촉은 20 내지 150℃의 온도에서 수행된다. 산화는 산소 그 자체를 사용하여 수행할 수 있거나 산소 분자를 포함하는 기체, 편리하게는 대기를 사용하여 수행할 수 있다.
본 발명은 하기 화학식 I의 알킬방향족 화합물을 산화시키는 방법을 제공한다:
화학식 I
상기 식에서,
R1 및 R2는 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기를 각각 독립적으로 나타내되, R1과 R2는 결합하여 탄소 원자 수 4 내지 10의 치환된 또는 비치환된 사이클릭 기를 형성할 수도 있고,
R3은 수소, 1개 이상의 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기 또는 사이클로헥실 기를 나타낸다. 한 실시양태에서, R1과 R2는 결합하여 1개 이상의 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기 또는 1개 이상의 페닐 기로 치환된 탄소 원자 수 4 내지 10의 사이클릭 기, 편리하게는 사이클로헥실 기를 형성한다. 적절한 알킬방향족 화합물의 예로는 2급-부틸벤젠, 2급-펜틸벤젠, p-메틸-2급-부틸벤젠, 1,4-다이페닐사이클로헥산, 2급-헥실벤젠 및 사이클로헥실벤젠을 들 수 있고, 2급-부틸벤젠 및 사이클로헥실벤젠이 바람직하다. 또한, R1 및 R2가 결합하여 사이클릭 기를 형성하는 경우, 사이클릭 고리를 형성하는 탄소 원자 수는 4 내지 10개이다. 그러나, 상기 고리는 그 자체가 1개 이상의 치환기 예컨대, 1개 이상의 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기 또는 1,4-다이페닐사이클로헥산의 경우에서와 같이 1개 이상의 페닐 기를 가질 수 있음을 이해할 것이다.
산화는 상기 알킬방향족 화합물을 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드를 포함하는 첨가된 촉매의 존재 및 임의의 다른 촉매의 부재 하에 산소와 접촉시킴으로써 수행된다. "첨가된 촉매"라 함은 반응의 일부로서 반응기 내에서 생성되는 촉매가 아니라 산화 반응에 의도적으로 첨가되는 촉매를 의미한다. 전형적으로, 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드는 알킬방향족 화합물과 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드의 조합물의 0.05 내지 5 몰% 예컨대, 0.5 내지 3 몰%, 바람직하게는 0.7 내지 2 몰%, 보다 바람직하게는 0.8 내지 1.5 몰%의 양으로 존재한다.
본 발명은 쿠멘과 비교할 때 탄소 원자 수 4 이상의 분지쇄 알킬 기로 치환된 방향족 화합물 예컨대, 2급-부틸벤젠이 상응하는 하이드로퍼옥사이드로 산화되는 데 더 높은 온도가 요구된다는 관찰, 즉 상기 방향족 화합물의 산화율이 더 낮다는 관찰에 의거한 것이다. 이론에 구속받고자 하는 것은 아니지만, 2급-부틸벤젠의 낮은 산화 반응 속도는 β 분할 반응 기작에 기인할 수 있는 것으로 생각되는데, 2급-부틸벤젠을 사용한 β 분할은 (메틸 라디칼을 형성하는) 쿠멘을 사용한 β 분할보다 훨씬 더 빠른 속도로 에틸 라디칼을 생성하고 훨씬 더 빠른 속도로 라디칼 반응을 종결한다. 개시제에 의한 아르알칸으로부터의 수소 원자 제거에 대한 속도 상수는 아르알칸 구조(예를 들어, 2급-부틸벤젠 대 쿠멘 대 사이클로헥실벤젠)에 의해 유의하게 영향을 받지 않는 듯하다. 그러나, 아르알칸 퍼옥시 라디칼은 종결 단계에서 핵심적인 역할을 한다. 3급 퍼옥시 라디칼의 자가 반응은 하기 반응식 1에 나타나 있다:
동역학적 종결 과정에 영향을 미치는 3가지 인자는 i) R-O-O-O-O-R 형성에 대한 평형 상수, ii) 테트록사이드의 비가역적인 분해에서의 변경, 및 iii) 용매 케이지(cage)에서 조합되는 알콕시 라디칼 쌍의 분류에서의 변경이다.
알콕시 라디칼(RO-)은 β 분할에 의해 분할되어 케톤 및 알킬 라디칼을 생성하고 이 알킬 라디칼은 산소와 반응하여 1급 퍼옥시 라디칼을 생성한다. 예를 들어, 2급-부틸벤젠으로부터 형성된 알콕시 라디칼은 에틸퍼옥시 라디칼 및 아세토페논을 생성할 것이다. 1급 퍼옥시 라디칼의 반응성은 일반적으로 3급 퍼옥시 라디칼보다 약 3 내지 5배 더 높은데, 예를 들어, 2급-부틸벤젠의 산화에 있어서 2-페닐부틸-2-퍼옥시 라디칼은 또 다른 2-페닐부틸 라디칼보다는 에틸퍼옥시 라디칼과 더 빨리 반응하거나 벤질 수소를 제거할 것이다. 또한, 초기 케톤 및 알킬 라디칼의 안정성은 β 분할 방식을 결정한다.
전체 종결 과정의 보다 높은 활성화 에너지는 보다 높은 온도에서의 알콕시 라디칼 β 분할의 보다 빠른 속도, 및 2종의 알콕시 라디칼이 만들어진 케이지로부터 상기 2종의 알콕시 라디칼의 보다 용이한 확산을 반영한다. 하기 표 1은 2급-부틸벤젠 및 쿠멘 산화에 대한 종결 속도 상수(kt) 및 성장 속도 상수(kp)를 보여준다. 2급-부틸벤젠 및 쿠멘 둘 다에 대한 성장 속도 상수는 유사하다. 그러나, 2급-부틸벤젠에 대한 종결 속도 상수는 쿠멘의 종결 속도 상수보다 10배 더 높다.
β 분할 종결 반응을 최소화할 물질은 종결 속도 상수를 감소시킬 것이고, 그 결과 반응 속도를 개선시킬 것이다. 촉매량의 개시제의 첨가는 이 문제점을 극복하는 한 방법이며, 경제적일 수 있는 훌륭한 해결책은 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드(TBHP)의 사용이다. 따라서, 3급-부틸퍼옥시 라디칼에 의한 쇄 종결에 대한 속도 상수는 임의의 다른 공지된 알킬퍼옥시 라디칼에 대한 속도 상수보다 더 낮다. 본원에서 사용된 촉매(TBHP)는 에틸 또는 n-프로필처럼 유해한 1급 라디칼을 잘 형성하지 않는다. 다른 한편으로, 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드와 같은 화합물은 벤젠 탄소에 결합된 에틸 기의 분할에 의해 에틸 라디칼을 형성하기 쉽기 때문에 적합한 산화 촉매인 것으로 간주되지 않을 것이다.
본 산화 단계에 적합한 조건은 20 내지 150℃ 예컨대, 70 내지 130℃ 및/또는 100 내지 3000 kPa의 기압(약 1 내지 30 대기압) 예컨대, 100 내지 1000 kPa의 기압(약 1 내지 10 대기압)을 포함한다. 염기성 완충제는 산화 도중에 형성될 수 있는 산성 부산물과 반응하도록 첨가될 수 있다. 또한, 염기성 화합물 예컨대, 탄산나트륨의 용해를 도울 수 있는 수성 상(aqueous phase)이 도입될 수 있다. 산화 단계에서 1회 통과 당 전환율은 부산물의 형성이 최소화되도록 50% 미만으로 유지되는 것이 바람직하다. 산화 반응은 촉매 증류 유니트(unit)에서 편리하게 수행되고, 생성된 하이드로퍼옥사이드는 미반응된 알킬방향족 화합물의 증류에 의해 농축될 수 있다.
산화 반응의 생성물은 하기 화학식 II의 하이드로퍼옥사이드를 포함한다:
화학식 II
상기 식에서,
R1, R2 및 R3은 화학식 I에서와 동일한 의미를 갖는다. 바람직하게는, 하이드로퍼옥사이드는 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드 또는 사이클로헥실벤젠 하이드로퍼옥사이드이다. 그 다음, 이 하이드로퍼옥사이드는 산 분해에 의해 페놀 또는 치환된 페놀 및 하기 화학식 III의 케톤으로 전환될 수 있다:
화학식 III
R1COCH2R2
상기 식에서,
R1 및 R2는 화학식 I에서와 동일한 의미를 갖는다.
분해 반응은 20 내지 150℃ 예컨대, 40 내지 120℃, 50 내지 2500 kPa 예컨대, 100 내지 1000 kPa, 및/또는 하이드로퍼옥사이드를 기준으로 0.1 내지 100 시간-1, 바람직하게는 1 내지 50 시간-1의 액체 시공 속도(LHSV)에서 하이드로퍼옥사이드를 액상 촉매를 접촉시킴에 의해 편리하게 수행된다. 하이드로퍼옥사이드는 바람직하게는 분해 반응에 대해 불활성을 나타내는 유기 용매 예컨대, 메틸 에틸 케톤, 페놀 또는 2급-부틸벤젠 중에 희석되어 열 제거를 돕는다. 분해 반응은 촉매 증류 유니트에서 편리하게 수행된다.
분해 반응에 사용되는 촉매는 균질 촉매 또는 불균질 촉매일 수 있다.
적절한 균질 분해 촉매로는 황산, 과염소산, 인산, 염산 및 p-톨루엔설폰산을 들 수 있다. 염화철, 삼불화붕소, 이산화황 및 삼산화황도 효과적인 균질 분해 촉매이다. 바람직한 균질 분해 촉매는 황산이다.
2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드의 분해에 사용하기에 적합한 불균질 촉매로는 미국 특허 제4,870,217호(텍사코)(동 특허의 전체 개시내용은 본원에 참고로 도입됨)에 기재된 스멕타이트(smectite) 점토 예컨대, 산성 몬트모릴로나이트(montmorillonite) 실리카-알루미나 점토를 들 수 있다.
본 발명은 하기 비-제한적 실시예의 언급을 통해 더 구체적으로 기재될 것이다.
실시예 1: 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드(TBHP)의 존재 하의 SBB 산화
응축기, 교반기 및 대기 살포기가 장착된 250 ㎖ 둥근 바닥 플라스크를 100 g의 2급-부틸벤젠(TCI에 의해 공급됨) 및 예정된 양의 TBHP로 충전하였다. 상기 플라스크를 온도-조절 가열 맨틀로 가열하였다. 반응 온도는 90℃이었고, 반응 압력은 대략 대기압이었다. 대기 유동 속도는 약 220 cc/분이었다. 45분마다 반응 혼합물의 분취물 소량을 플라스크로부터 회수하여 기체 크로마토그래피(GC)로 분석하였다. 시험은 6시간 동안 수행하였다. 시험은 2급-부틸벤젠과 TBHP의 총 몰수를 기준으로 0 내지 3 몰%의 TBHP를 사용하여 반복하였고, 그 결과는 도 1 및 2에 나타나 있다. 촉매작용이 없는 SBB 산화는 전환을 전혀 보이지 않았고 최대 SBB 전환은 약 1.25 몰%의 TBHP 농도에서 얻어짐을 도 1로부터 알 수 있다. 6시간 시험의 종결 시점에서 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드에 대한 선별도는 시험된 TBHP의 모든 농도에서 85 내지 90 중량%로 본질적으로 동일함을 도 2로부터 알 수 있다.
실시예 2(비교예): 쿠멘 하이드로퍼옥사이드(CHP)의 존재 하의 SBB 산화
응축기, 교반기 및 대기 살포기가 장착된 250 ㎖ 둥근 바닥 플라스크를 100 g의 2급-부틸벤젠(TCI에 의해 공급됨) 및 1.5 g의 CHP로 충전하였다. 상기 플라스크를 온도-조절 가열 맨틀로 가열하였다. 반응 온도는 115℃이었고, 반응 압력은 대략 대기압이었다. 대기 유동 속도는 약 220 cc/분이었다. 45분마다 반응 혼합물의 분취물 소량을 플라스크로부터 회수하여 GC로 분석하였다. 시험은 6시간("실시 시간" 또는 T.O.S.) 동안 수행하였다. 상기 시험을, CHP 첨가 없이 반복하였고, 시험 둘 다에 대한 결과는 도 3 및 4에 나타나 있다. 첨가된 CHP의 존재 하의 2급-부틸벤젠 전환은 6시간 시험의 종결 시점에서 약 7%인 반면, 첨가된 CHP의 부재 하의 2급-부틸벤젠 전환은 단지 약 1%임을 도 3으로부터 알 수 있다. 6시간 시험의 종결 시점에서 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드에 대한 선별도는 약 90 중량%임을 도 4로부터 알 수 있다.
실시예 1의 결과와 실시예 2의 결과를 비교하면, CHP가 TBHP보다 하이드로퍼옥사이드에 대해 다소 더 높은 선별성을 나타내는 것으로 보이지만, TBHP의 경우 얻어진 유의하게 높은 전환율은 CHP의 첨가에 의해 얻어진 것과 비교할 때 TBHP의 첨가에 의한 2급-부틸벤젠 하이드로퍼옥사이드의 총 수율이 개선됨을 의미한다.
본 발명은 구체적인 실시양태를 언급함으로써 기술되고 설명되어 있지만, 당업자라면 본원에 기재되지 않은 변경을 본 발명 자체에 가할 수 있음을 인식할 것이다. 이러한 이유로, 본 발명의 진정한 범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 결정되어야 한다.
Claims (16)
- 알킬방향족 화합물을 상응하는 하이드로퍼옥사이드로 산화시키는 방법으로서, 하기 화학식 I의 알킬방향족 화합물을, 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드를 포함하는 첨가된 촉매의 존재 및 임의의 다른 촉매의 부재 하에 산소와 접촉시켜 하기 화학식 II의 하이드로퍼옥사이드를 생성하는 단계를 포함하고, 이 때 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드가 상기 알킬방향족 화합물과 상기 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드의 조합물의 0.5 내지 3 몰%의 양으로 존재하는, 방법:화학식 I화학식 II상기 식에서,R1 및 R2는 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기를 각각 독립적으로 나타내되, R1과 R2는 결합하여 1개 이상의 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기 또는 1개 이상의 페닐기로 치환되거나 비치환된 탄소 원자 수 4 내지 10의 사이클릭 기를 형성할 수도 있고, R3은 수소, 1개 이상의 탄소 원자 수 1 내지 4의 알킬 기 또는 사이클로헥실 기를 나타낸다.
- 삭제
- 제1항에 있어서,상기 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드가 상기 알킬방향족 화합물과 상기 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드의 조합물의 0.7 내지 2 몰%의 양으로 존재하는, 방법.
- 제1항에 있어서,상기 알킬방향족 화합물이 2급-부틸벤젠, 2급-펜틸벤젠, p-메틸-2급-부틸벤젠, 1,4-다이페닐사이클로헥산, 2급-헥실벤젠 및 사이클로헥실벤젠으로 구성된 군으로부터 선택되는, 방법.
- 제4항에 있어서,상기 알킬방향족 화합물이 2급-부틸벤젠 또는 사이클로헥실벤젠인, 방법.
- 제1항에 있어서,상기 접촉이 20 내지 150℃의 온도에서 수행되는, 방법.
- 제6항에 있어서,상기 접촉이 100 내지 3000 kPa의 압력에서 수행되는, 방법.
- 제8항에 있어서,상기 전환 단계가 촉매의 존재 하에 수행되는, 방법.
- 제9항에 있어서,상기 전환 단계가 균질 촉매의 존재 하에 수행되는, 방법.
- 제10항에 있어서,상기 균질 촉매가 황산, 과염소산, 인산, 염산, p-톨루엔설폰산, 염화철, 삼불화붕소, 이산화황 및 삼산화황 중 하나 이상을 포함하는, 방법.
- 제9항에 있어서,상기 전환 단계가 불균질 촉매의 존재 하에 수행되는, 방법.
- 제12항에 있어서,상기 불균질 촉매가 스멕타이트(smectite) 점토를 포함하는, 방법.
- 제8항에 있어서,상기 전환 단계가, 40 내지 120℃의 온도, 100 내지 1000 kPa의 압력 및 하이드로퍼옥사이드를 기준으로 1 내지 50 시간-1의 액체 시공 속도(LHSV) 중 하나 이상의 조건 하에서 수행되는, 방법.
- 제1항에 있어서,상기 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드가 알킬방향족 화합물과 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드의 조합물의 0.8 내지 1.5 몰%의 양으로 존재하는, 방법.
- 제6항에 있어서,상기 접촉이 100 내지 1000 kPa의 압력에서 수행되는, 방법.
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