이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조로 상세하게 설명한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 가스센서는, 저항의 변화를 측정할 수 있는 전극(11)이 형성된 센서기판(10)과, 센서기판(10) 상에 증착된 촉매(12)를 포함하는 다공성 금속산화물 감지층(13)을 포함한다. 이때, 상기 촉매(12)를 포함하는 다공성 금속산화물 감지층(13)은 센서기판(10) 상에 콜로이달 템플레이팅 방법을 통해 얻어진다.
상기 센서전극(11)으로 백금(Pt), 금(Au), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 은(Ag), 루테늄(Ru), 니켈(Ni), 스테인리스 스틸(STS), 알루미늄(Al), 몰리브데늄(Mo), 크롬(Cr), 구리(Cu), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), ITO(In doped SnO2)및 FTO(F doped SnO2)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 전극(11)을 사용할 수 있다.
상기 센서기판(10)으로 바람직하게는 세라믹 기판, 알루미나(Al2O3)기판, 절연층이 증착되어진 실리콘(Si) 기판 및 실리콘옥사이드(SiO2) 기판 등을 사용할 수 있다. 또한, 상기 센서기판(10)은 바람직하게는 센서전극(11)이 인터디지탈 전극(11)(Interdigital Electrode) 형태로 패터닝된 기판을 포함한다.
본 발명에 따른 가스센서의 제조방법을 살펴보면, 상기 센서기판(10)이 적어도 두 개가 정렬(array)되고, 상기 적어도 두 개의 센서기판(10) 위에 마이크로 입자 템플레이트(microsphere template) 공정에 의해 구형의 고분자 나노입자를 균일하게 도포하는 단계와, 촉매(12) 타겟과 금속산화물 타겟을 상온에서 동시 스퍼터 링(Co-sputtering) 방법으로 증착하여 촉매(12)를 포함하는 금속산화물 감지층(13)을 형성하는 단계와, 고온 열처리를 거쳐 구형의 고분자 나노입자를 제거하여 금속산화물 감지층(13)에 다공성을 부여하는 단계를 포함하여 이루어진다. 이때, 상기 촉매(12) 타겟과 금속산화물 타겟을 동시 스퍼터링 하는 방법 대신에 촉매(12)를 포함하는 금속산화물을 단일 타겟으로 하여 스퍼터링 하는 방법을 사용할 수 있다.
본 발명은 상기 템플레이트로 이용되는 마이크로 입자(이하, "희생입자"와 혼용됨)의 크기 조절을 통해 촉매(12)가 포함된 금속산화물 감지층(13)의 다공성을 구조적으로 조절함으로써, 외부 가스에 대한 감도 및 반응속도, 선택성 등을 조절할 수 있다. 이때, 희생입자의 크기는 직경이 100nm ~ 10μm 인 것이 바람직하다. 왜냐하면, 100 nm 미만의 경우 균일한 마이크로 입자 분산이 어려우며, 10μm 를 초과하는 경우, 마이크로 입자간의 공간이 커져, 박막 증착시 균일한 감지층(13)의 도포가 어려워지는 문제점이 발생할 수 있다. 특히 얇은 다공성 감지층(13)이 10μm 크기로 존재하는 경우, 박층의 안정성이 떨어지게 되기 때문이다.
또한, 본 발명은 다공성 금속산화물 감지층(13) 구조의 특성상 가스 확산이 빠르고, 비표면적이 일반 박막층에 비해 크게 증대되어 감도를 향상시킬 수 있다.
이하, 본 발명의 가스센서의 제조방법을 각 단계별로 상세히 설명한다.
1) 희생입자 층의 제조
전극(11)이 형성된 센서기판(10) 위에 다공성 구조의 금속산화물 감지층(13)을 만들기 위해 먼저 상기 센서기판(10) 위에 희생입자층(14)을 형성하는데, 이 희생입자층(14)을 형성하기 위해 고분자 입자 분산액을 제조한다.
본 실시예에서는 희생입자로 800 nm 크기의 폴리메틸메싸크릴레이트(PMMA)를 이용한다. 용매속에 PMMA 2wt%를 첨가하고, 30분간 초음파 분산처리를 진행한다.
상기 용매로 에탄올, 메탄올, 프로판올, 부탄올, IPA, 디메틸포름아마이드(dimethylformamide; DMF), 아세톤, 데트라하이드로퓨란, 톨루엔, 물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종을 사용할 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
희생입자 및 용매의 비율에 있어서, 고분자 입자가 균일하게 용매속에 분산될 수 있는 함량이면 특정 범위에 제약을 두지는 않는다. 바람직하게는 희생입자가 용매 대비 0.5 ~ 10 wt%의 범위에서 분산용액을 제조할 수 있다. 도 2는 센서기판(10)위에 균일하게 분산된 PMMA 희생입자층(14)의 주사전자현미경 사진을 보여준다.
PMMA가 포함된 분산액을 스포이드를 이용하여 센서 전극(11)이 형성된 기판(10)위에 분산을 시키고, 24 시간 건조시켜 희생입자층(14)을 형성한다. 희생입자층(14)의 형성은 분산액의 드롭(drop) 방식 뿐만아니라, 스핀코팅법으로도 제조가 가능하다.
본 발명의 일 실시예에 따른 분산용액의 조성 및 제조방법을 살펴보면, 희생입자로서 1-2 μm 크기를 갖는 폴리스타이렌 입자와, 희생입자의 분산을 도와주는 계면활성제로서 Polyethylene glycol tert-octylphenyl ether t-Octylphenoxypolyethoxyethanol (Triton X-100)와, 용매로서 에탄올로 조성되고, 폴리스타이렌 : Triton X-100 : 에탄올의 무게비가 0.05~0.1 : 0.001~0.001 : 1이 되도록 혼합하고 희생입자를 분산시킨다. 그리고, 상기 고분자 희생입자 분산용액을 2000 rpm에서 15분간 원심분리하고, 상층액을 제거한 후 에탄올 입자 분산액(21 wt%)을 제조한다.
그 다음, 희생입자 분산액을 2000 rpm ~ 4000 rpm, 20 s ~ 40 s 조건에서 단층으로 스핀코팅한다. 다만, 본 발명의 내용은 이에 한정되지 않으며, 희생입자층(14)이 복층이 되도록 스핀코팅할 수도 있다.
상기 희생입자로는 폴리스타이렌(PS), 폴리메틸메싸크릴레이트(PMMA), 폴리염화비닐(PVC), 폴리스타이렌-코-아크릴로나이트릴(poly(strene-co-acrylonitrile)(SAN)), 라텍스(latex), 폴리염화비닐리덴-코-염화비닐(poly(vinylidene chloride-co-vinyl chloride)), 폴리부타디엔(poly(butadiene)), 폴리불화비닐리덴(poly(vinylidene fluoride)(PVDF)) 등의 고분자가 사용될 수 있다.
2) 촉매(12)가 포함된 금속산화물 박층의 제조
폴리스타이렌(PS)이나 폴리메틸메싸크릴레이트(PMMA)와 같은 희생입자를 분산시켜 형성된 희생입자층(14) 위에 2개 이상의 타겟으로부터 동시 스퍼터링 방법 또는 촉매(12)가 함유된 금속산화물의 단일 타겟으로부터 스퍼터링 방법을 이용하여 촉매(12)가 함유된 금속산화물 감지층(13)을 증착한다.
이때 금속산화물은 SnO2, TiO2, ZnO, VO2, In2O3, NiO, MoO3, SrTiO3, Fe2O3, WO3 및 CuO 등의 소재를 포함하며, 촉매(12)는 Pt, Pd, Ni, Cu 등을 포함한다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
이때, 스퍼터링 시간과 RF 파워(W)를 조절함으로써 촉매(12)의 함량 및 금속산화물 박막의 두께 및 표면 형상(morphology)을 조절할 수 있고, 상기 금속산화물 감지층(13)의 두께는 10nm~1㎛의 범위로 조절되는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 상기 감지층의 두께가 10nm 미만인 경우에는 기계적인 안정성이 저하되고, 1㎛를 초과하는 경우에는 감도가 저하되기 때문이다.
희생입자는 원형의 고분자로 유리전이온도 및 녹는점(melting temperature)이 낮기 때문에, 금속산화물 박막 증착 후 450℃ 고온열처리를 통하여 희생입자층(14)을 제거할 수 있다.
3) 후열처리 단계
이어서, 상기 제조된 촉매(12)가 포함된 다공성 금속산화물 감지층(13)을 300℃~800℃의 온도에서 열처리를 실시한다. 이 후열처리 과정을 통해 고분자 희생입자층(14)을 제거하고, 상온에서 증착된 촉매(12)가 포함된 다공성 금속산화물 감지층(13)을 결정화 시켜, 전기전도 특성을 개선시켜주는 역할을 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 촉매(12)가 포함된 다공성 금속산화물 박층으로 이루어진 가스센서의 구조를 개략적으로 도시한 단면도로서, 최종적으로 후열처리 과정을 거친 감지층은 도 1에서처럼 촉매(12)가 다공성 금속산화물 박층 표면에 도포되어 있는 구조를 보여준다.
이하, 본 발명을 다음 실시예에 의거하여 더욱 상세히 설명하겠는바, 본 발명이 다음 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
실시예 1 : Pt 촉매(12)가 포함된 다공성 ZnO 감지층의 제조
희생입자 분산 용액을 제조하기 위해, 본 실시예에서는 직경 800 nm의 PMMA 구형 고분자를 물과 에탄올 혼합 용액에 2 wt% 첨가하고, 30분간 초음파 처리를 통해 분산시켰다. 상기의 PMMA 희생입자층(14)을 센서 전극(11)이 형성된 기판(10)위에 마이크로피펫을 이용하여 분산시키고, 24 시간 대기중에서 건조시켰다.
이때 센서 전극(11)은 IDE(Interdegitated Electrode, 16 fingers, 8 mm long and 200 μm wide, spaced 200 μm apart) 구조로 구성되며, 전극 물질로는 200 nm 두께의 Au를 이용하였고, 하부 Al2O3 기판(10)과의 접착 특성을 좋게 하기 위해 50 nm 두께의 Ti 층을 접착층으로 이용하였다.
Pt 촉매(12)가 함유된 ZnO 박막을 얻기 위해서, 본 실시예에서는 동시 스퍼터링 방법을 이용하였다. 도 3은 Pt 타겟과 ZnO 타겟으로부터 제조된 동시 스퍼터링 과정의 이미지를 보여준다. 스퍼터링은 3 inch 타겟을 이용하였으며, 증착 과정에서 고분자 희생층의 분해를 방지하기 위해서 상온에서 이루어진다. 공정압력은 10 mTorr, Pt와 ZnO의 RF(고주파) 전력은 50W, 110W 였다. Ar 가스를 20 sccm의 속도로 흘려 주었으며, 23 분 동안 증착을 진행하였다. 이때 Pt의 함유량은 Pt의 증착 시간을 변화시켜가면서 조절하였다.
동시 스퍼터링을 통해 Pt 함유된 다공성 ZnO 감지층을 형성한 후에, 희생 입자층을 제거하고, Pt 촉매(12)가 표면에 잘 분포될 수 있도록 550℃에서 후열처리를 진행하였다. 도 4는 Pt 촉매(12)가 포함된 ZnO 다공성 박층의 주사전자현미경 사진(x 30,000 배율)을 보여준다. 다공성 ZnO 반구체 구조 표면에 Pt 촉매(12) 입자가 육각형(hexagonal) 모양으로 밀집되어 있는 구조를 가지고 있음을 확인할 수 있다.
도 5는 Pt 촉매(12)가 포함된 ZnO 다공성 박층의 확대된 주사전자현미경 (x 100,000 배율)이미지로서 Pt 촉매(12)가 잘 분포되어져 있음을 알 수 있다. 본 발명에 의해 제조된 반구형 구조체는 마이크로 단위의 다공성 구조를 제공함으로써, 외부 유해가스가 용이하게 침투하여 감도 특성이 우수한 가스센서를 제조할 수 있게 된다.
도 6은 Pt 촉매(12)와 ZnO 금속산화물의 결정화 정도를 확인하기 위해 상기 금속산화물 감지층(13)을 750℃까지 온도를 높여서 후열처리 한 후에, X-선 회절 분석 결과를 보여준다. 도 6에 도시한 바와 같이 2-theta 각도에 따라 Pt와 ZnO의 결정 피크(peak)가 뚜렷이 관찰되는 것으로 보아 Pt 상과 ZnO 상이 잘 형성되어져 있음을 알 수 있다. 이때 각각의 상의 비율(함유량)은 스퍼터링 시간과 RF 파워를 조절하여 제어할 수 있다.
실시예 2 : Pt 촉매(12)가 포함된 다공성 SnO2 감지층의 제조
상기 실시예 1과 동일한 과정을 거치되, ZnO 대신 SnO2 타겟을 이용하여 동시 스퍼터링 방법으로 Pt 촉매(12)가 포함된 다공성 SnO2 박층을 제조하였다. 도 7은 Pt 촉매(12)가 포함된 SnO2 다공성 박층을 550℃에서 후열처리 후에 관찰된 주사전자현미경 사진(x 50,000 배율)을 보여준다.
속이 비어 있는 반구체 구조의 SnO2 감지층 위에 Pt 촉매(12)가 균일하게 분포되어 있음을 확인할 수 있다. 도 8은 Pt 촉매(12)와 SnO2 금속산화물의 결정화 정도를 확인하기 위해 상기 SnO2 감지층을 750℃까지 온도를 높여서 후열처리 한 후에, X-선 회절 분석 결과를 보여준다. 2-theta 각도에 따라 Pt와 SnO2 의 결정피크가 다르게 나타나는 것으로 보아 Pt 상과 SnO2 상이 잘 형성되어져 있음을 알 수 있다. 이때 각각의 상의 비율(함유량)은 스퍼터링 시간과 RF 파워를 조절하여 제어할 수 있다.
실시예 3 : NiO 촉매(12)가 포함된 다공성 ZnO 감지층의 제조
상기 실시예 1과 동일한 과정을 거치되, Pt 대신 NiO 타겟을 이용하여 동시 스퍼터링 방법으로 NiO 촉매(12)가 포함된 다공성 ZnO 감지층을 제조하였다. 800 nm의 크기를 가진 PMMA의 분산, NiO 와 ZnO의 동시 스퍼터링 증착, 후열처리 공정을 통해서 NiO 촉매(12)가 포함된 다공성 ZnO 나노입자 감지층을 제조할 수 있다. 도 9는 NiO 촉매(12)가 포함된 ZnO 다공성 박층의 주사전자현미경 사진(x 50,000 배율)을 보여준다. 금속 촉매(12)가 포함된 다공성 금속산화물과는 달리, NiO와 ZnO는 둘다 금속산화물이므로, 다공성 반구 구조 표면에 미세한 나노입자들이 돌출된 구조를 형성하고 있지는 않지만, ZnO와 NiO가 균일하게 분포되어 있어서, 선택성 및 감도 특성의 개선을 유도할 수 있다.
이러한 결과로부터 NiO 또한 촉매(12)로 활용될 수 있다. 상기 공정은 NiO 세라믹 타겟 대신 Ni 금속 타겟을 촉매(12)로 이용하여 제조함으로써, 표면 구조를 조절하는 것 또한 가능하다.
본 발명에 의해 제조된 반구형 구조체는 마이크로 단위의 다공성 구조를 제공함으로써, 외부 유해가스가 용이하게 침투하여 감도 특성이 우수한 가스센서를 제조할 수 있게 된다. 도 10은 NiO 촉매(12)와 ZnO 금속산화물의 결정화 정도를 확인하기 위해 상기의 박층을 750℃까지 온도를 높여서 후열처리 한 후에, X-선 회절 분석 결과를 보여준다. 도시한 바와 같이 NiO 상과 ZnO 상이 잘 형성되어져 있음을 알 수 있다. 이때 각각의 상의 비율(함유량)은 스퍼터링 시간과 RF 파워를 조절하여 제어할 수 있다.
본 발명에 따른 촉매가 함유된 금속산화물 반구형 구조체를 가스센서 감지층(13)으로 이용하여 외부 환경가스(수소, 산소, CO, NOx, alcohol, SOx, DMMP, 페놀, acetone, formaldehyde 등)를 검출하는 가스센서로 이용할 수 있다.
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되지 않으며, 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 기술적 사상 을 벗어나지 않는 범위내에서 실시할 수 있는 다양한 형태의 실시예들을 모두 포함한다.