KR101091087B1 - 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치 - Google Patents

슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101091087B1
KR101091087B1 KR1020090115014A KR20090115014A KR101091087B1 KR 101091087 B1 KR101091087 B1 KR 101091087B1 KR 1020090115014 A KR1020090115014 A KR 1020090115014A KR 20090115014 A KR20090115014 A KR 20090115014A KR 101091087 B1 KR101091087 B1 KR 101091087B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
slit nozzle
photoresist
discharge port
hardening
curing liquid
Prior art date
Application number
KR1020090115014A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20110058280A (ko
Inventor
현재일
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020090115014A priority Critical patent/KR101091087B1/ko
Publication of KR20110058280A publication Critical patent/KR20110058280A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101091087B1 publication Critical patent/KR101091087B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B15/00Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
    • B05B15/50Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70916Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

포토레지스트 도포 장치의 포토레지스트 경화 방지 유닛은 수용부 및 조절 부재를 포함한다. 수용부는 휘발성을 갖는 포토레지스트 경화 방지액을 수용하고, 경화 방지액과 이격되도록 포토레지스트 슬릿 노즐을 수용한다. 조절 부재는 휘발된 경화 방지액의 증기가 슬릿 노즐의 토출구를 향하도록 증기의 흐름을 조절한다.

Description

슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치{Unit for preventing hardening of photoresist of a slit nozzle and apparatus for coating photoresist on a substrate having the unit}
본 발명은 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 대기 상태의 슬릿 노즐 토출구에서 포토레지스트가 경화되는 것을 방지하기 위한 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 장치의 제조 또는 디스플레이 장치의 제조는 기판 상에 박막의 형성하고, 상기 박막을 일부 제거하여 패턴을 형성하는 반복된 과정을 포함한다.
상기 박막의 일부를 제거하여 패턴을 형성하는 방법으로, 포토레지스트를 식각 마스크로 이용한다. 상기 디스플레이 장치의 제조에 사용되는 대면적의 기판에 상기 포토레지스트를 도포하기 위해서는 슬릿 노즐을 이용한다. 상기 대면적 기판을 지지대에 로딩한 상태에서 상기 슬릿 노즐이 상기 대면적 기판과 일정 간격 이격되어 균일한 속도로 이동하면서 상기 포토레지스트를 토출하여 상기 포토레지스 트 도포 공정이 이루어진다.
상기 포토레지스트 도포가 완료된 기판은 지지대에서 언로딩되며, 새로운 대면적 기판이 지지대에 로딩된다. 상기와 같이 대면적 기판이 로딩될 때까지 상기 슬릿 노즐은 대기상태로 있으며, 상기 대기시간이 길어질수록 상기 슬릿 노즐에 잔류하는 포토레지스트가 경화된다. 따라서, 상기 슬릿 노즐의 토출구가 막혀 공정을 진행할 수 없거나, 경화된 포토레지스트가 토출되어 상기 기판에 상기 포토레지스트를 균일하게 도포할 수 없게 된다.
본 발명은 슬릿 노즐이 대기하는 동안 토출구의 포토레지스트 경화를 방지할 수 있는 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛을 제공한다.
본 발명은 상기 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛을 포함하는 포토레지스트 도포 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛은 휘발성을 갖는 포토레지스트 경화 방지액을 수용하고, 상기 경화 방지액과 이격되도록 포토레지스트 슬릿 노즐을 수용하는 수용부 및 휘발된 상기 경화 방지액의 증기가 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향하도록 상기 증기의 흐름을 조절하는 조절 부재를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 조절 부재는 상기 슬릿 노즐의 하부에 배치되고, 일부가 상기 경화 방지액에 침지되어 회전하는 회전 롤러일 수 있다.
발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 조절 부재는 상기 수용부에 배치되고, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 바람을 보내는 송풍기일 수 있다.
발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 조절 부재는 상기 수용부에 담긴 경화 방지액을 덮고, 상기 슬릿 노즐을 향하는 경사면을 갖는 커버일 수 있다.
본 발명에 따른 포토레지스트 도포 장치는 기판을 지지하는 지지대와, 상기 지지대 상에 배치되며, 상기 기판으로 포토레지스트를 도포하기 위한 슬릿 노즐과, 상기 슬릿 노즐을 상기 지지대 상에 놓여진 기판의 상면과 평행하게 이송하기 위한 이송 유닛 및 상기 슬릿 노즐이 상기 포토레지스트를 도포하지 않고 대기하는 동안 상기 슬릿 노즐의 토출구에 잔류하는 포토레지스트의 경화를 방지하는 경화 방지 유닛을 포함하고, 상기 경화 방지 유닛은 휘발성을 갖는 포토레지스트 경화 방지액을 수용하고, 상기 경화 방지액과 이격되도록 상기 슬릿 노즐을 수용하는 수용부 및 휘발된 상기 경화 방지액의 증기가 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향하도록 상기 증기의 흐름을 조절하는 조절 부재를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛은 조절 부재를 이용하여 휘발된 상기 경화 방지액의 증기가 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향하게 한다. 따라서, 상기 슬릿 노즐의 토출구에서 포토레지스트의 경화를 방지할 수 있으므로, 상기 슬릿 노즐의 토출구가 막혀 공정을 진행할 수 없거나, 경화된 포토레지스트가 토출되어 상기 기판에 상기 포토레지스트를 균일하게 도포할 수 없는 현상을 방지할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일 치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.
도 1을 참조하면, 상기 유닛(100)은 수용부(110) 및 회전 롤러(120)를 포함한다.
상기 수용부(110)는 상방이 개방된 용기 형태를 가지며, 포토레지스트의 경화를 방지하는 경화 방지액(112)을 수용한다. 상기 경화 방지액(112)은 휘발성 용제가 사용되며, 그 예로는 시너(thinner), 아세톤 등을 들 수 있다.
또한, 상기 수용부(110)는 포토레지스트를 분사하는 슬릿 노즐(10)을 수용한다. 이때, 상기 슬릿 노즐(10)은 상기 경화 방지액(112)과 접촉하지 않으며, 상기 경화 방지액(112)과 이격된다.
상기 회전 롤러 토출구(12) 하부에 배치된다. 상기 회전 롤러(120)는 상기 슬릿 노즐(10)의 토출구(12)를 향하는 휘발된 상기 경화 방지액(112)의 증기의 량을 조절하는 량 조절 부재이다. 상기 회전 롤러(120)는 상기 슬릿 노즐(10)에 침지되고, 일부가 상기 경화 방지액(112)으로부터 노출된다. 상기 회전 롤러(120)의 회전에 따라 상기 경화 방지액(112) 표면의 유동량이 증가하고 상기 회전롤러(120)의 회전 조절에 따라 휘발되는 량이 조절될 수 있다. 따라서 상기 슬릿 노즐(10)의 토출구(12)를 향하는 증기의 량이 조절된다.
일 예로, 상기 회전 롤러(120)는 상기 슬릿 노즐(10)의 토출구(12) 하부에 하나가 구비될 수 있다. 이때, 상기 회전 롤러(120)는 시계 방향 및 반시계 방향 중 어느 방향으로 회전할 수 있다.
다른 예로, 상기 회전 롤러(120)는 상기 슬릿 노즐(10)의 토출구(12) 하부 양측에 각각 하나씩 구비될 수 있다. 이때, 상기 토출구(12)를 향하는 기류를 형성하기 위해 상기 회전 롤러(120)는 서로 반대 방향으로 회전할 수 있다. 구체적으로, 상기 슬릿 노즐(10)의 토출구(12) 하부 좌측에 위치한 회전 롤러는 시계 방향으로 회전하고, 상기 슬릿 노즐(10)의 토출구(12) 하부 우측에 위치한 회전 롤러는 반시계 방향으로 회전할 수 있다.
상기 경화 방지액(112)의 증기가 상기 슬릿 노즐(10)의 토출구(12)로 제공된다. 따라서, 상기 토출구(12)의 포토레지스트가 경화되는 것을 방지할 수 있다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.
도 2를 참조하면, 상기 유닛(200)은 수용부(210) 및 송풍기(220)를 포함한다.
상기 수용부(210)는 상방이 개방된 용기 형태를 가지며, 포토레지스트의 경화를 방지하는 경화 방지액(212)을 수용한다. 상기 경화 방지액(212)은 휘발성 용제가 사용되며, 그 예로는 시너(thinner), 아세톤 등을 들 수 있다.
또한, 상기 수용부(210)는 포토레지스트를 분사하는 슬릿 노즐(20)을 수용한다. 이때, 상기 슬릿 노즐(20)은 상기 경화 방지액(212)과 접촉하지 않으며, 상기 경화 방지액(212)과 이격된다.
상기 송풍기(220)는 휘발된 상기 경화 방지액(212)의 증기가 상기 슬릿 노즐(20)의 토출구(22)를 향하도록 상기 증기의 흐름을 조절하는 조절 부재이다. 상기 송풍기(220)는 상기 슬릿 노즐(20)의 토출구(22)와 동일한 높이로 상기 수용부(210)에 고정된다. 상기 송풍기(220)는 상기 토출구(22)를 향해 바람을 불어 상기 슬릿 노즐(20)의 토출구(22)를 향하는 기류가 형성된다.
일 예로, 상기 송풍기(220)는 상기 수용부(210)의 양측 측벽 중 일측벽을 따라 다수개가 배치될 수 있다.
다른 예로, 상기 송풍기(220)는 상기 수용부(210)의 양측 측벽에 각각 다수개가 배치될 수 있다. 즉, 상기 송풍기(220)가 서로 마주보도록 배치되어 상기 토출구(22)를 향해 바람을 보낸다.
상기 기류에 의해 상기 경화 방지액(212)의 증기가 상기 슬릿 노즐(20)의 토출구(22)로 제공된다. 따라서, 상기 토출구(22)의 포토레지스트가 경화되는 것을 방지할 수 있다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.
도 3을 참조하면, 상기 유닛(300)은 수용부(310) 및 커버(320)를 포함한다.
상기 수용부(310)는 상방이 개방된 용기 형태를 가지며, 포토레지스트의 경화를 방지하는 경화 방지액(312)을 수용한다. 상기 경화 방지액(312)은 휘발성 용 제가 사용되며, 그 예로는 시너(thinner), 아세톤 등을 들 수 있다.
또한, 상기 수용부(310)는 포토레지스트를 분사하는 슬릿 노즐(30)을 수용한다. 이때, 상기 슬릿 노즐(30)은 상기 경화 방지액(312)과 접촉하지 않으며, 상기 경화 방지액(312)과 이격된다.
상기 커버(320)는 휘발된 상기 경화 방지액(312)의 증기가 상기 슬릿 노즐(30)의 토출구(32)를 향하도록 상기 증기의 흐름을 조절하는 조절 부재이다. 상기 커버(320)는 상기 슬릿 노즐(30)의 하부에 상기 수용부(310)에 고정되도록 배치된다. 상기 커버(320)는 상기 수용부(310)에 담긴 경화 방지액(312)을 덮는다. 이때, 상기 커버(320)와 상기 경화 방지액(312) 사이에는 공간이 존재한다.
상기 커버(320)는 중앙 부위에 상기 슬릿 노즐(30)의 토출구(32)와 대응하는 개구(322)를 갖는다. 또한, 상기 커버(320)는 상기 개구(322)를 향해 상방으로 경사지는 경사면을 갖는다. 상기 경화 방지액(312)의 증기가 상기 커버(320)의 경사면을 따라 상기 슬릿 노즐(30)의 토출구(32)를 향하게 된다.
상기 커버(320)의 경사면으로 인해 상기 경화 방지액(312)의 증기가 상기 슬릿 노즐(30)의 토출구(32)로 제공된다. 따라서, 상기 토출구(32)의 포토레지스트가 경화되는 것을 방지할 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛을 갖는 포토레지스트 도포 장치를 설명하기 위한 사시도이다.
도 4를 참조하면, 상기 포토레지스트 도포 장치(500)는 기판(40) 상에 포토 레지스트를 도포하기 위한 것으로, 지지대(510), 슬릿 노즐(520), 이송 유닛(530) 및 경화 방지 유닛(540)을 포함한다.
상기 지지대(510)는 평판 형태를 가지며, 상기 기판(40)에 대한 포토레지스트 도포 공정이 진행되는 동안 상기 기판(40)을 지지한다.
상기 슬릿 노즐(520)은 상기 기판(40)의 폭 방향으로 연장하도록 상기 기판(40)이 놓여진 지지대(510) 상에 배치되고, 상기 기판(40)으로 포토레지스트를 도포한다. 상기 슬릿 노즐(520)의 길이는 상기 기판(40)의 폭과 같거나 클 수 있다. 따라서, 상기 슬릿 노즐(520)은 상기 기판(40)의 폭만큼 포토레지스트를 도포할 수 있다.
상기 이송 유닛(530)은 상기 지지대(510)의 폭 방향 양단에 배치된다. 이때, 상기 지지대(510)의 폭 방향은 상기 기판(40)의 폭 방향과 동일한 방향이다. 상기 이송 유닛(530)은 상기 슬릿 노즐(520)의 양단을 고정하며, 상기 슬릿 노즐(520)을 상기 지지대(510) 상의 기판(40)의 상면과 평행하도록 이송한다. 이때, 상기 슬릿 노즐(520)의 이송 방향은 상기 기판(40)의 폭 방향과 수직하는 길이 방향일 수 있다. 상기 슬릿 노즐(520)이 상기 기판(40)의 폭과 같거나 큰 폭을 가지며 상기 기판(40)의 길이 방향으로 가능하므로, 상기 슬릿 노즐(520)은 상기 기판(40)의 상면 전체에 포토레지스트를 균일하게 도포할 수 있다.
상기 경화 방지 유닛(540)은 상기 지지대(510)의 길이 방향 일단에 배치되며, 상기 폭 방향을 따라 연장한다. 상기 경화 방지 유닛(540)은 상기 슬릿 노즐(520)이 상기 포토레지스트 도포 공정을 수행하지 않고 대기하는 동안 상기 슬릿 노즐(520)을 수용하며, 상기 토출구에 잔류하는 포토레지스트의 경화를 방지한다. 상기 슬릿 노즐(520)을 수용하기 위해 상기 경화 방지 유닛(540)의 길이는 상기 슬릿 노즐(520)의 길이보다 약간 긴 것이 바람직하다.
상기 경화 방지 유닛(540)은 휘발성을 갖는 포토레지스트 경화 방지액을 수용하고, 상기 경화 방지액과 이격되도록 상기 슬릿 노즐(520)을 수용하는 수용부 및 휘발된 상기 경화 방지액의 증기가 상기 슬릿 노즐(520)의 토출구를 향하도록 상기 증기의 흐름을 조절하는 조절 부재를 포함할 수 있다.
상기 경화 방지 유닛(540)에 대한 구체적인 설명은 도 1을 참조한 경화 방지 유닛(100)과 실질적으로 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
한편, 상기 경화 방지 유닛(540)은 도 2를 참조한 경화 방지 유닛(200) 또는 도 3을 참조한 경화 방지 유닛(300)과 실질적으로 동일할 수도 있다.
상기 경화 방지 유닛(540)은 상기 포토레지스트 경화 방지액의 증기가 상기 슬릿 노즐(520)의 토출구를 향하게 하여 상기 토출구에서 상기 포토레지스트가 경화되는 것을 방지한다. 그러므로, 상기 슬릿 노즐(520)의 토출구가 막혀 공정을 진행할 수 없거나, 경화된 포토레지스트가 토출되어 상기 기판(40)에 상기 포토레지스트를 균일하게 도포할 수 없는 현상을 방지할 수 있다.
이하에서는 상기 포토레지스트 도포 장치(500)의 동작에 대해 간단히 설명한다.
우선 지지대(510) 상에 기판(40)이 로딩된다. 이때, 슬릿 노즐(520)은 대기 위치인 상기 경화 방지 유닛(540)에 수용된다. 상기 경화 방지 유닛(540)은 상기 슬릿 노즐(520)의 토출구에 잔류하는 포토레지스트가 경화되는 것을 방지한다.
상기 기판(40)의 로딩이 완료되면, 상기 이송 유닛(530)은 상기 슬릿 노즐(520)을 상기 기판(40)의 길이 방향을 따라 일정한 속도로 이송한다. 상기 슬릿 노즐(520)은 일정한 속도로 이동하면서 상기 기판(40)으로 포토레지스트를 도포한다. 따라서, 상기 기판(40) 상에 일정한 두께의 포토레지스트 막을 형성한다.
상기 포토레지스트 도포가 완료되면, 상기 슬릿 노즐(520)은 상기 포토레지스트의 도포를 중단하고, 상기 이송 유닛(530)은 상기 슬릿 노즐(520)은 반송하여 상기 대기 위치인 경화 방지 유닛(540)에 수용시킨다.
이후, 상기 포토레지스트 막이 형성된 기판(40)을 상기 지지대(510)로부터 언로딩하고, 새로운 기판(40)을 로딩한다.
상기 기판(40)이 교체되는 동안 상기 경화 방지 유닛(540)은 상기 슬릿 노즐(520)의 토출구로 경화 방지액 증기를 제공하여 상기 토출구에 잔류하는 포토레지스트가 경화되는 것을 방지한다.
이후 상기 과정을 반복하여 상기 기판(40)에 대한 포토레지스트 도포 공정을 수행한다.
본 발명에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛은 휘발된 경화 방지액의 증기를 슬릿 노즐의 토출구를 제공하여 상기 슬릿 노즐의 토출구에서 포토레지스트의 경화를 방지한다. 그러므로, 상기 슬릿 노즐의 토출구가 막혀 공정을 진행할 수 없거나, 경화된 포토레지스트가 토출되어 상기 기판에 상기 포토레지스트를 균일하게 도포할 수 없는 현상을 방지하여 상기 슬릿 노즐을 이용한 도포 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛을 갖는 포토레지스트 도포 장치를 설명하기 위한 사시도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 포토레지스트 경화 방지 유닛 110 : 수용부
112 : 경화 방지액 120 : 롤러
10 : 슬릿 노즐 12 : 토출구

Claims (6)

  1. 휘발성을 갖는 포토레지스트 경화 방지액을 수용하고, 상기 경화 방지액과 이격되도록 포토레지스트 슬릿 노즐을 수용하는 수용부; 및
    휘발된 상기 경화 방지액의 증기가 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향하도록 상기 증기의 흐름을 조절하는 조절 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛.
  2. 휘발성을 갖는 포토레지스트 경화 방지액을 수용하고, 상기 경화 방지액과 이격되도록 포토레지스트 슬릿 노즐을 수용하는 수용부; 및
    상기 슬릿 노즐의 토출구를 향하는 휘발된 상기 경화 방지액의 증기의 량을 조절하는 량 조절 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛.
  3. 제1항에 있어서, 상기 조절 부재는 상기 수용부에 배치되고, 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향해 바람을 보내는 송풍기인 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛.
  4. 제1항에 있어서, 상기 조절 부재는 상기 수용부에 담긴 경화 방지액을 덮고, 상기 슬릿 노즐을 향하는 경사면을 갖는 커버인 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛.
  5. 기판을 지지하는 지지대;
    상기 지지대 상에 배치되며, 상기 기판으로 포토레지스트를 도포하기 위한 슬릿 노즐;
    상기 슬릿 노즐을 상기 지지대 상에 놓여진 기판의 상면과 평행하게 이송하기 위한 이송 유닛; 및
    상기 슬릿 노즐이 상기 포토레지스트를 도포하지 않고 대기하는 동안 상기 슬릿 노즐의 토출구에 잔류하는 포토레지스트의 경화를 방지하는 경화 방지 유닛을 포함하고,
    상기 경화 방지 유닛은
    휘발성을 갖는 포토레지스트 경화 방지액을 수용하고, 상기 경화 방지액과 이격되도록 상기 슬릿 노즐을 수용하는 수용부; 및
    휘발된 상기 경화 방지액의 증기가 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향하도록 상기 증기의 흐름을 조절하는 조절 부재 또는 상기 슬릿 노즐의 토출구를 향하는 휘발된 상기 경화 방지액의 증기의 량을 조절하는 량 조절 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치.
  6. 제2항에 있어서, 상기 량 조절 부재는 상기 슬릿 노즐의 하부에 배치되고, 일부가 상기 경화 방지액에 침지되어 회전하는 회전 롤러인 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛.
KR1020090115014A 2009-11-26 2009-11-26 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치 KR101091087B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090115014A KR101091087B1 (ko) 2009-11-26 2009-11-26 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090115014A KR101091087B1 (ko) 2009-11-26 2009-11-26 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110058280A KR20110058280A (ko) 2011-06-01
KR101091087B1 true KR101091087B1 (ko) 2011-12-09

Family

ID=44393803

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090115014A KR101091087B1 (ko) 2009-11-26 2009-11-26 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101091087B1 (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004167476A (ja) 2002-11-07 2004-06-17 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd スリットコータの予備吐出装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004167476A (ja) 2002-11-07 2004-06-17 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd スリットコータの予備吐出装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110058280A (ko) 2011-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101493649B1 (ko) 액 처리에 있어서의 노즐 세정, 처리액 건조 방지 방법 및 그 장치
KR101061706B1 (ko) 액처리 방법 및 액처리 장치
JP5186520B2 (ja) 塗布処理方法、塗布処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
JP5132781B2 (ja) 成膜装置及び成膜方法
US6432199B1 (en) Apparatus and method for processing a substrate
TWI498171B (zh) 塗佈處理方法、電腦記憶媒體及塗佈處理裝置
JP5133641B2 (ja) 塗布処理方法、塗布処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
JP4074593B2 (ja) 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法
JP6212066B2 (ja) 塗布処理方法、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置
WO2007069728A1 (ja) 塗布装置及び塗布方法
JP4676359B2 (ja) プライミング処理方法及びプライミング処理装置
JP2001239202A (ja) 塗布処理装置
JP2010016315A (ja) 回転塗布装置の洗浄用治具および洗浄方法
KR100923022B1 (ko) 감광물질 코팅 방법 및 장치
JP2021166996A (ja) 塗布方法
KR101091087B1 (ko) 슬릿 노즐의 포토레지스트 경화 방지 유닛 및 이를 갖는 포토레지스트 도포 장치
WO2010044310A1 (ja) 乾燥方法および乾燥装置
JP2005277268A (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
JP4039048B2 (ja) 塗布装置
CN104209239A (zh) 成膜装置以及成膜方法
JP2001198515A (ja) 薄膜形成装置及び薄膜除去装置
KR100691481B1 (ko) 감광액 슬릿 노즐의 감광액 경화 방지장치 및 방법
KR101347925B1 (ko) 도포 처리 장치, 기판 처리 시스템, 도포 처리 방법 및컴퓨터 기억 매체
KR101087773B1 (ko) 롤 코팅 장치
JP2001189266A (ja) 基板処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141201

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161202

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171106

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191203

Year of fee payment: 9