KR101088892B1 - 4-시아노 벤질브로마이드의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 여러 가지 의약품 또는 합성 중간체로 사용되어지는 4-시아노 벤질브로마이드 (4-cyanobenzylbromide)의 제조방법에 관한 것이다.
Figure 112009023156358-pat00001
본 발명의 제조방법에 따르면, 공정이 지극히 안전하고 간단하며 기존의 방법에 비해 가격이 저렴한 원료를 사용하기 때문에 경제성이 높을 뿐만 아니라 인체에 유해한 브롬이나 화학적으로 불안정한 과산화물 (peroxide), 아질산나트륨 (NaNO2) 등의 사용을 배제하면서 고수율, 고순도로 제조할 수 있어 산업적 이용 가치가 매우 크다.
벤질브로마이드, 유도체, Benzylbromide, derivative, 브롬화수소산

Description

4-시아노 벤질브로마이드의 제조방법{Synthetic Methods of 4-cyanobenzylbromide}
본 발명은 여러 가지 의약품 또는 합성 중간체로 사용되어지는 4-시아노 벤질브로마이드 (4-cyanobenzylbromide, 화학식 I)의 신규한 제조방법에 관한 것이다.
[화학식 I]
Figure 112009023156358-pat00002
현재까지 보고된 4-시아노 벤질브로마이드의 제조방법은 아래 <도식 1>에서 보는 바와 같이 크게 3 가지 방법으로 분류될 수 있다.
<도식 1>
Figure 112009023156358-pat00003
첫째, 방법 A는 출발물질로 p-시아노톨루엔 (p-cyanotoluene, 아래 화학식 II)을 사용하는 방법으로서 문헌 Synlett, (5), pp 702-704 (2003년); Synthesis, (14), pp 2078-2080 (2001년) 및 일본공개특허 08059515 (1996년)에 기재되어 있는 제조방법이다. 이 제조방법은 고가의 할로겐화제로써 N-Bromosuccinicimide (NBS)을 사용하기 때문에 경제성이 낮으며 또한 인체에 극히 유해한 브로민 (Br2)과 과산화물 (peroxide)을 사용하기 때문에 안전성 측면에서 좋은 제조방법이 될 수 없 다. 또한 부산물의 생성으로 정제가 어렵기 때문에 고순도의 목적물을 얻는데 한계가 있다.
[화학식 II]
Figure 112009023156358-pat00004
둘째, 방법 B는 출발물질로 p-시아노벤질알콜 (화학식 III)을 사용하는 제조방법으로서 Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 17(3), PP 756-760 (2007년)에 개시되어 있다. 이 방법에서는 2,2''-azobisisobutyronitrile (AIBN)을 라디칼 개시제로 사용하고 카본테트라브로마이드 (CBr4)를 브롬화제로 사용한다. 하지만 카본테트라브로마이드는 인체에 신경독성을 유발하기 때문에 이것을 대량으로 사용하는 산업적 방법에는 제한이 따른다.
[화학식 III]
Figure 112009023156358-pat00005
셋째, 방법 C는 출발물질로 p-시아노벤질아민 (화학식 IV)을 사용하는 제조방법으로 유럽공개 특허, EP 1004574 (2000년) 및 미합중국특허 US 6187945 (2001년)에 개시되어 있는데 이 방법은 황산과 NaNO2 (아질산나트륨)를 사용한다. 따라서 매우 자극적인 아질산 가스가 발생되므로 인체에 유해하며, 산업적 사용을 위해서는 추가적인 환경 설비가 필요하기 때문에 비경제적일 뿐만 아니라, 유독 가스의 발생으로 공정이 안전하지 못한 단점이 있다.
[화학식 IV]
Figure 112009023156358-pat00006
본 발명은 전술한 종래의 제조상 단점인 비경제성, 유해성, 안전성 및 낮은 순도와 수율 등의 기술적 과제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 발명의 목적은 제조공정이 극히 간단하고 안전하며 저비용, 고수율 및 고순도로 여러 가지 의약품 또는 합성 중간체로 사용되어지는 4-시아노 벤질브로마이드 (4-cyanobenzylbromide, 화학식 I)를 제조할 수 있는 방법을 제공하는데 있다.
전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 4-시아노 벤질브로마이드 (화학식 I)를 제조하는 방법은, 하기의 p-시아노벤질알콜 (화학식 III)을 브롬화수소산 (hydrobromic acid, HBr)과 반응시켜서 얻는 것을 특징으로 한다.
Figure 112009023156358-pat00007
이 경우, 상기 브롬화수소산은 브롬화수소산 수용액 (48%) 또는 브롬화수소산 초산용액 (33%)인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 브롬화수소산은 p-시아노벤질알콜 (화학식 III)에 대해 1 내지 20 당량을 사용되는 것을 특징으로 한다.
또한, 반응온도는 20℃ 내지 150℃인 것을 특징으로 한다.
또한, 아세톤, 메칠이소부칠케톤 (MIBK), 메칠에칠케톤, 디에칠에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로퓨란, 디옥산, 아세토니트릴, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 톨루엔, 크시렌, 헥산, 헵탄, 옥탄, 초산에틸, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올 및 이소부탄올 중에서 선택된 어느 1종으로 이루어진 반응 용매를 추가적으로 사용하여 벤질브로마이드 유도체를 제조하는 것을 특징으로 한다.
또한, 마지막으로 톨루엔, 초산에틸, 시클로헥산, 노르말헥산, 에탄올, 메탄올, 부탄올, 이소프로판올 및 물로 부터 선택되는 1종 이상의 용매에서 재결정하여 정제하는 공정이 추가되는 것이 바람직하다.
전술한 바와 같은 구성의 본 발명에 따르면, 제조공정이 지극히 안전하고 간단하며 기존의 방법에 비해 가격이 저렴한 원료를 사용하기 때문에 경제성이 높을 뿐만 아니라, 인체에 유해한 브롬이나 화학적으로 불안정한 과산화물 (peroxide), 아질산나트륨 (NaNO2) 등의 사용을 배제하면서 상기 화합물을 고수율, 고순도로 제조할 수 있어 산업적 이용 가치가 매우 크다는 이점이 있다.
본 발명의 연구자들은 인체에 유해하며 화학적으로 불안정한 브롬 (Br2)이나 과산화물 (peroxide), 아질산나트륨 (NaNO2) 등의 사용을 배제하면서 4-시아노 벤질브로마이드 (4-cyanobenzylbromide, 화학식 I)를 경제적이면서도 고수율, 고순도로 제조할 수 방법을 중점적으로 연구한 결과 본 발명을 완성하게 되었다.
본 발명에서는 화학식 I의 제조방법은 하기의 <도식 2>에서 보는 바와 같이 4-시아노벤질알콜 (4-cyanobenzylalcohol, 화학식 III)의 브롬화 반응 (bromination)에 의해 이루어진다.
<도식 2>
Figure 112009023156358-pat00008
본 발명에 따른 제조방법에서는 매우 경제적이면서 취급, 보관, 유해성 측면에서 기존의 원료에 비해 유리한 브롬화수소산 (hydrobromic acid, HBr)을 원료로 사용하기 때문에 제조공정이 지극히 간단하고 안전성이 높으며 또한 고수율, 고순도의 4-시아노 벤질브로마이드 (4-cyanobenzylbromide, 화학식 I)를 제조할 수 있는 장점을 가진다.
브롬화수소산은 상업적으로 구매 가능한 브롬화수소산 수용액 (48%) 또는 브롬화수소산 초산용액 (33%)을 사용할 수 있는데, 경우에 따라 물 또는 초산으로 희석하여 사용할 수 있으나 바람직하게는 희석하지 않고 직접 사용하는 것이 좋다.
브롬화수소산의 사용량은 출발물질인 4-시아노 벤질알콜 (화학식 III)에 비해 1-20 당량이 사용될 수 있으며 바람직하게는 1-5 당량 사용하는 것이 좋다.
본 발명에서는, 반응 용매 없이 브롬화수소산에 의해서만 반응을 수행할 수도 있으며, 용매를 사용하는 경우에는 아세톤, 메칠이소부칠케톤 (MIBK), 메칠에칠케톤, 디에칠에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로퓨란, 디옥산, 아세토니트릴, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 톨루엔, 크시렌, 헥산, 헵탄, 옥탄, 초산에틸, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 이소부탄올 등을 사용할 수 있다.
반응 온도는 20 내지 150 ℃인 것이 바람직한데 상기 반응 온도가 20℃ 미만일 경우에는 반응 온도가 낮아서 반응속도가 늦어지며, 150 ℃를 초과하는 경우에는 부반응 등에 의하여 수율이 낮아지고 불순물이 증가되므로 상기 온도 범위를 유지하는 것이 바람직하다.
반응 후 얻어진 4-시아노 벤질브로마이드 (4-cyanobenzylbromide, 화학식 I)는 재결정에 의해 정제할 수가 있으며 이러한 단계를 거침으로써 순도 99% 이상의 목적물을 순수하게 얻을 수 있다. 상기 재결정 단계에 사용될 수 있는 용매로는 톨루엔, 초산에틸, 시클로헥산, 노르말헥산, 에탄올, 메탄올, 부탄올, 이소프로판올 및 물로 부터 선택되는 1종 이상의 용매 중에서 행해질 수 있다.
본 발명은 하기의 실시 예에 의해 더욱 구체적으로 설명되지만 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 청구범위 내에서 다양한 변형과 수정이 있을 수 있다.
실시예 1
이소프로판올 (550ml)에 p-시아노벤질알콜 (114.5g)과 48%-HBr (218g)을 가하고 3 시간 환류 교반한다. 실온으로 냉각하고 용매를 감압 제거하면 고체가 얻어 지며 메탄올 (600ml)을 가한 후 환류하여 완전히 용해시킨다. 빙욕조에서 2시간 냉각 후 고체를 여과한다. 50oC에서 건조하면 백색의 결정으로서 155g (92%)의 4-시아노 벤질브로마이드 (4-cyano benzylbromide, 화학식 I)를 얻는다.
융점 : 114-116 oC
1H-NMR(CDCl3); δ 4.48(2H, s), 7.48 (2H, d), 7.63 (2H, d).
실시예 2
아세톤 (550ml)에 p-시아노벤질알콜 (114.5g)과 48%-HBr (218g)을 가하고 6 시간 환류 교반한다. 실온으로 냉각하고 용매를 감압 제거하면 고체가 얻어지며 메탄올 (600ml)을 가한 후 환류하여 완전히 용해시킨다. 빙욕조에서 2시간 냉각 후 고체를 여과한다. 50oC에서 건조하면 백색의 결정으로서 140g (83%)의 4-시아노 벤질브로마이드 (4-cyano benzylbromide, 화학식 I)을 얻는다.
융점 : 실시예 1의 것과 동일.
1H-NMR(CDCl3); 실시예 1의 것과 동일.
실시예 3
아세톤 (550ml)에 p-시아노벤질알콜 (114.5g)과 33%-HBr 초산용액 (250g)을 가하고 4 시간 환류 교반한다. 실온으로 냉각하고 용매를 감압 제거하면 고체가 얻 어지며 메탄올 (600ml)을 가한 후 환류하여 완전히 용해시킨다. 빙욕조에서 2시간 냉각 후 고체를 여과한다. 50oC에서 건조하면 백색의 결정으로서 132g (78%)의 4-시아노 벤질브로마이드 (4-cyanobenzylbromide, 화학식 I)를 얻는다.
융점 : 실시예 1의 것과 동일.
1H-NMR(CDCl3); 실시예 1의 것과 동일.
실시예 4
n-헥산 (550ml)에 p-시아노벤질알콜 (114.5g)과 48%-HBr (218g)을 가하고 2 시간 환류 교반한다. 실온으로 냉각하고 용매를 감압 제거하면 고체가 얻어지며 메탄올 (600ml)을 가한 후 환류하여 완전히 용해시킨다. 빙욕조에서 2시간 냉각 후 고체를 여과한다. 50oC에서 건조하면 백색의 결정으로서 155g (92%)의 4-시아노 벤질브로마이드 (4-cyano benzylbromide, 화학식 I)를 얻는다.
융점 : 실시예 1의 것과 동일.
1H-NMR(CDCl3); 실시예 1의 것과 동일.

Claims (6)

  1. 하기의 p-시아노벤질알콜 (화학식 III)을 브롬화수소산 (hydrobromic acid, HBr)과 반응시켜 하기의 4-시아노 벤질브로마이드 (화학식 I)를 제조하는 방법.
    Figure 112009023156358-pat00009
  2. 제 1항에 있어서,
    브롬화수소산은 브롬화수소산 수용액 (48%) 또는 브롬화수소산 초산용액 (33%)을 사용하여 4-시아노 벤질브로마이드 (화학식 I)를 제조하는 방법.
  3. 제 1항에 있어서,
    브롬화수소산은 p-시아노벤질알콜 (화학식 III)에 대해 1 내지 20 당량을 사용하여 4-시아노 벤질브로마이드 (화학식 I)를 제조하는 방법.
  4. 제 1항에 있어서,
    반응온도는 20 내지 150 ℃에서 수행하여 4-시아노 벤질브로마이드 (화학식 I)를 제조하는 방법.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
    아세톤, 메칠이소부칠케톤 (MIBK), 메칠에칠케톤, 디에칠에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로퓨란, 디옥산, 아세토니트릴, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 톨루엔, 크시렌, 헥산, 헵탄, 옥탄, 초산에틸, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올 및 이소부탄올 중에서 선택된 어느 1종으로 이루어진 반응 용매를 추가적으로 사용하여 4-시아노 벤질브로마이드 (화학식 I)를 제조하는 방법.
  6. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
    톨루엔, 초산에틸, 시클로헥산, 노르말헥산, 에탄올, 메탄올, 부탄올, 이소프로판올 및 물로 부터 선택되는 1종 이상의 용매에서 재결정하여 정제하는 것을 특징으로 하는 4-시아노 벤질브로마이드 (화학식 I)를 제조하는 방법.
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