KR101074101B1 - 결상 광학 시스템 - Google Patents

Abstract

기판의 일면 상에 배치된 타겟물체의 이미지를 정확하게 촬상할 수 있는 결상 광학 시스템이 개시된다. 결상 광학 시스템은 타겟물체로 광을 제공하는 조명유닛, 기판의 일면의 법선 방향과 평행한 결상광축을 갖는 결상렌즈, 및 타겟물체로부터 반사된 반사광을 결상렌즈를 통해 인가받아 타겟물체의 이미지를 촬상하는 카메라를 포함한다. 이때, 타겟물체는 결상광축을 기준으로 일측에 배치되고, 카메라는 결상광축을 기준으로 일측에 반대인 타측에 배치된다. 이와 같이, 결상렌즈가 결상광축이 기판의 일면의 법선 방향과 평행하도록 배치됨에 따라, 카메라에서 맺히는 타겟물체의 결상 형상이 기울어지는 것을 방지하여 보다 정확하게 타겟물체의 이미지를 촬상할 수 있다.

결상렌즈, 결상광축

Description

결상 광학 시스템{IMAGE FORMATION OPTICAL SYSTEM}

본 발명은 결상 광학 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판의 일면 상에 배치된 타겟물체의 이미지를 촬상하는 결상 광학 시스템에 관한 것이다.

일반적으로, 결상 광학 시스템은 기판의 일면 상에 배치된 타겟물체의 이미지를 촬상하는 시스템으로, 상기 타겟물체로 광을 제공하는 조명유닛 및 상기 타겟물체에서 반사된 반사광을 통해 상기 타겟물체의 이미지를 촬상하는 촬상유닛을 포함한다. 여기서, 상기 촬상유닛은 상기 반사광이 통과되는 결상렌즈 및 상기 결상렌즈를 통과한 상기 반사광을 인가받아 상기 타겟물체의 이미지를 촬상하는 카메라를 포함한다.

한편, 상기 조명유닛은 상기 타겟물체를 기준으로 일측에 경사지게 배치되고, 상기 촬상유닛은 상기 타겟물체를 기준으로 상기 일측과 반대측인 타측에 경사지게 배치된다. 그로 인해, 상기 촬상유닛은 상기 조명유닛에서 발생되어 상기 타겟물체에서 반사된 광을 인가받아 상기 타겟물체의 이미지를 촬상할 수 있다.

그러나, 상기 촬상유닛은 상기 타겟물체를 기준으로 상기 타측에 경사지게 배치됨에 따라, 상기 촬상유닛에 맺히는 상기 타겟물체의 결상 형상이 기울지게 형 성되고, 그로 인해 상기 타겟물체의 이미지를 정확하게 촬상할 수 없는 문제점이 발생될 수 있다.

따라서, 본 발명은 상기 문제점을 해결하고자 하는 것으로, 본 발명의 해결하고자 하는 과제는 타겟물체의 이미지를 정확하게 촬상할 수 있는 결상 광학 시스템을 제공하는 것이다.

본 발명의 일 실시예에 의한 결상 광학 시스템은 기판의 일면 상에 배치된 타겟물체의 이미지를 촬상하고, 조명유닛, 결상렌즈 및 카메라를 포함한다.

상기 조명유닛은 상기 타겟물체로 광을 제공한다. 상기 결상렌즈는 상기 기판의 일면의 법선 방향과 평행한 결상광축을 갖는다. 상기 카메라는 상기 타겟물체로부터 반사된 반사광을 상기 결상렌즈를 통해 인가받아 상기 타겟물체의 이미지를 촬상한다. 상기 타겟물체는 상기 결상광축을 기준으로 일측에 배치되고, 상기 카메라는 상기 결상광축을 기준으로 상기 일측에 반대인 타측에 배치된다.

상기 카메라는 상기 결상렌즈를 투과한 상기 반사광을 인가받아 상기 타겟물체의 평면형상의 이미지를 촬상하는 촬상소자를 포함하고, 상기 촬상소자의 수평축은 상기 기판의 일면의 법선 방향에 대하여 수직할 수 있다.

상기 결상렌즈 및 상기 카메라부는 상기 기판의 일면의 법선 방향과 평행하게 상기 타겟물체의 중심을 지나는 중심축을 기준으로 일측에 배치되고, 상기 조명 유닛은 상기 중심축을 기준으로 상기 일측에 반대인 타측에 배치될 수 있다.

상기 결상 광학 시스템은 상기 타겟물체 및 상기 조명유닛 사이에 배치되어, 상기 조명유닛에서 발생된 광을 상기 타겟물체로 투사하는 투사렌즈를 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 투사렌즈의 투사광축은 상기 기판의 일면의 법선 방향과 평행할 수 있다. 또한, 상기 결상렌즈 및 상기 투사렌즈는 상기 중심축을 기준으로 서로 대칭이 되는 위치에 배치될 수 있다.

상기 결상 광학 시스템은 상기 투사렌즈 및 상기 조명유닛 사이에 배치되어, 상기 조명유닛에서 발생된 광을 격자 이미지광으로 변경하여 상기 투사렌즈로 제공하는 격자유닛을 더 포함할 수 있다. 이때, 상기 촬상소자 및 상기 격자유닛은 상기 중심축을 기준으로 서로 대칭이 되는 위치에 배치될 수 있다. 또한, 상기 결상 광학 시스템은 상기 격자유닛과 결합하여 상기 격자유닛을 이동시키는 격자 이송유닛을 더 포함할 수 있다.

한편, 상기 타겟물체는 상기 기판의 일면 상에 장착된 표면 실장 소자(surface-mount device, SMD)일 수 있다.

본 발명에 의하면, 결상렌즈의 결상광축이 타겟물체가 배치된 기판의 일면의 법선 방향에 대하여 평행하게 형성됨에 따라, 카메라에서 맺히는 상기 타겟물체의 결상 형상이 기울어지는 것을 방지하여 보다 정확한 상기 타겟물체의 이미지를 획득할 수 있다.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예들을 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 갖는다.

일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명한다.

<실시예 1>

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 의한 결상 광학 시스템을 도시한 단면도이다.

도 1을 참조하면, 본 실시예에 의한 결상 광학 시스템은 베이스 기판(10)의 일면 상에 배치된 타겟물체(20)의 이미지를 촬상하는 시스템이다. 이때, 상기 베이스 기판(10)의 일면은 전체적으로 평평한 평면인 것이 바람직하다.

상기 타겟물체(20)는 상기 베이스 기판(10)의 일면 상에 장착된 표면 실장 소자(surface-mount device, SMD)일 수 있다. 즉, 상기 타겟물체(20)는 상기 베이스 기판(10)의 일면 상에 형성된 패드와 전기적으로 연결되도록 상기 베이스 기판(10)의 일면 상에 배치될 수 있다.

본 실시예에 의한 결상 광학 시스템은 조명유닛(100), 결상렌즈(200) 및 카메라(300)를 포함한다.

상기 조명유닛(100)은 상기 베이스 기판(10) 상부에 배치되어, 상기 타겟물 체(20)로 광을 제공한다. 상기 결상렌즈(200)는 상기 베이스 기판(10) 상부에 배치되어, 상기 타겟물체(20)에서 반사된 반사광을 투사시켜 상기 카메라(300)로 제공한다. 상기 카메라(300)는 상기 결상렌즈(200)의 상부에 배치되어, 상기 결상렌즈(200)를 통해 인가된 상기 반사광을 이용하여 상기 타겟물체(20)의 이미지를 촬상한다.

본 실시예에서, 상기 결상렌즈(200) 및 상기 카메라부(300)는 상기 베이스 기판(10)의 일면의 법선 방향(12)과 평행하게 상기 타겟물체(20)의 중심을 지나는 중심축(22)을 기준으로 일측에 배치된다. 반면, 상기 조명유닛(100)은 상기 중심축(22)을 기준으로 상기 일측에 반대인 타측에 배치된다. 그로 인해, 상기 조명유닛(100)에서 발생되어 상기 타겟물체(20)에서 반사된 반사광이 상기 결상렌즈(200)를 투사하여 상기 카메라(300)로 인가될 수 있다.

상기 결상렌즈(200)는 상기 베이스 기판(10)의 일면의 법선 방향(12)과 평행한 결상광축(210)을 갖는다. 즉, 상기 결상렌즈(200)의 결상 수직축(220)이 상기 결상광축(210)과 직교한다고 할 때, 상기 결상렌즈(200)는 상기 결상 수직축(220)이 상기 베이스 기판(10)의 일면과 평행하게 배치된다.

본 실시예에서, 상기 타겟물체(20)는 상기 결상광축(210)을 기준으로 일측에 배치되고, 상기 카메라(300)는 상기 결상광축(210)을 기준으로 상기 일측에 반대인 타측에 배치된다.

한편, 상기 카메라(300)는 상기 결상렌즈(210)를 투과한 상기 반사광을 인가받아 상기 타겟물체(20)의 이미지를 촬상하는 촬상소자(310)를 포함한다. 예를 들 어, 상기 결상렌즈(210)를 투과한 상기 반사광은 상기 촬상소자(310)로 인가되어 상기 촬상소자(310) 상에 상기 타겟물체(20)의 평면형상의 이미지를 형성시키고, 상기 촬상소자(310)는 상기 타겟물체(20)의 평면형상의 이미지를 촬상하여 상기 카메라(300) 내의 메모리(미도시)에 저장시킨다.

상기 촬상소자(310)의 수평축은 상기 베이스 기판(10)의 일면의 법선 방향(12)에 대하여 수직한 것이 바람직하다. 즉, 상기 촬상소자(310)의 수평축은 상기 결상렌즈(200)의 결상 수직축(220)과 실질적으로 평행할 수 있다.

도 2는 도 1의 결상 광학 시스템에서 타겟물체와 촬상소자 사이의 관계를 도시한 단면도이다.

도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 타겟물체(20), 상기 결상렌즈(200) 및 상기 촬상소자(310) 사이의 관계는 아래와 같은 특징으로 가질 수 있다.

상기 타겟물체(20)의 중심, 상기 결상렌즈(200)의 중심 및 상기 촬상소자(310)의 중심을 연결하는 중심선(CL)은 상기 중심축(22) 또는 상기 결상광축(210)에 대하여 소정의 각도로 기울어져 있다. 이때, 상기 중심선(CL)과 상기 결상광축(210) 사이의 각도를 중심각(θ)이라고 정의한다.

상기 결상렌즈(200)와 상기 타겟물체(20) 사이의 수직거리를 제1 수직거리(S1)라고 하고, 상기 결상렌즈(200)와 상기 촬상소자(310) 사이의 수직거리를 제2 수직거리(S2)라고 하며, 상기 타겟물체(20)의 중심과 상기 결상광축(210) 사이의 수평거리를 제1 수평거리(a)라 하고, 상기 촬상소자(310)의 중심과 상기 결상광축(210) 사이의 수평거리를 제2 수평거리(b)라고 정의한다.

한편, 상기 결상렌즈(200)의 초점거리를 f라고 할 때, 상기 제1 및 제2 수직거리들(S1, S2) 사이의 관계는 수식(1)을 만족한다.

수식(1): 1/S1 + 1/S2 = 1/f

또한, 상기 제1 및 제2 수평거리들(a, b)과 상기 중심각(θ) 사이의 관계는 수식(2)을 만족한다.

수식(2): a = S1 tanθ, b = S2 tanθ

즉, 본 실시예에서는 상기 수식(1) 및 상기 수식(2)이 만족하도록 상기 타겟물체(20), 상기 결상렌즈(200) 및 상기 촬상소자(310)를 배치시킨다.

한편, 상기 타겟물체(20)는 상기 결상렌즈(200)의 최대 시야각 범위 내에 배치되어야 한다. 이때, 상기 결상렌즈(200)의 최대 시야각은 상기 타겟물체(20)에서 반사된 상기 반사광이 상기 결상렌즈(200)로 이동하여 상기 촬상소자(310)에 이미지가 형성될 수 있는 상기 결상광축(210)에 대한 최대 각도를 의미한다. 이때, 상기 결상렌즈(200)의 최대 시야각이 예를 들어, 약 35도 일 수 있다.

따라서, 상기 결상광축(210)로부터의 상기 타겟물체(20)의 끝단과 상기 결상렌즈(200)의 중심을 연결하는 선을 상기 타겟물체(20)의 최대 외곽선이라고 할 때, 상기 결상광축(210)과 상기 최대 외곽선 사이의 각도(AV)는 상기 결상렌즈(200)의 최대 시야각보다 작아야 한다.

이와 같이 본 실시예에 따르면, 상기 결상광축(210)이 상기 타겟물체(20)를 지지하는 상기 베이스 기판(10)의 일면의 법선 방향(12)에 평행하도록 상기 결상렌즈(200)를 배치시키고, 상기 촬상소자(310)의 수평축이 상기 베이스 기판(10)의 일 면에 평행하도록 상기 촬상소자(310)를 배치시킨다. 또한, 상기 타겟물체(20)와 상기 촬상소자(310)를 상기 결상광축(210)의 양측에 각각 배치시킨다.

그로 인해, 상기 타겟물체(20)에서 반사된 상기 반사광이 상기 결상렌즈(200)를 투과하여 상기 촬상소자(310)에 인가되어 상기 타겟물체(20)의 평면형상의 이미지를 형성할 때, 상기 타겟물체(20)의 평면형상의 이미지는 상기 타겟물체(20)의 실제 평면형상과 실질적으로 동일해질 수 있다.

<실시예 2>

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 의한 결상 광학 시스템을 도시한 단면도이다.

본 실시예에 의한 결상 광학 시스템은 투사렌즈(400), 격자유닛(500) 및 격자 이송유닛(600)을 더 포함하는 것을 제외하면, 도 1 및 도 2를 통해 설명한 제1 실시예에 의한 결상 광학 시스템과 실질적으로 동일하므로, 상기 구성요소들을 제외한 다른 구성요소에 대한 자세한 설명은 생략하기로 하고, 상기 제1 실시예에와 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하겠다.

도 3을 참조하면, 본 실시예에 의한 결상 광학 시스템은 투사렌즈(400), 격자유닛(500) 및 격자 이송유닛(600)을 더 포함한다.

상기 투사렌즈(400)는 상기 타겟물체(20) 및 상기 조명유닛(100) 사이에 배치되어, 상기 조명유닛(100)에서 발생된 광을 상기 타겟물체(400)로 투사한다.

상기 투사렌즈(400)의 투사광축(410)은 상기 베이스 기판(10)의 일면의 법선 방향(12)과 평행할 수 있다. 즉, 상기 투사광축(410)과 수직한 상기 투사렌즈(400)의 투사 수직축(420)이 상기 베이스 기판(10)의 일면과 평행하도록 상기 투사렌즈(400)가 배치될 수 있다. 본 실시예에서, 상기 결상렌즈(200) 및 상기 투사렌즈(400)는 상기 중심축(22)을 기준으로 서로 대칭이 되는 위치에 배치되는 것이 바람직하다.

상기 격자유닛(500)은 상기 투사렌즈(400) 및 상기 조명유닛(100) 사이에 배치되어, 상기 조명유닛(100)에서 발생된 광을 격자 이미지광으로 변경하여 상기 투사렌즈(400)로 제공하고, 상기 격자 이미지광은 상기 투사렌즈(400)를 투과하여 상기 타겟물체(20)로 조사된다. 여기서, 상기 격자유닛(500)은 다양한 형태로 형성될 수 있는데, 예를 들어 유리기판 위에 차단부 및 투과부를 갖는 격자무늬를 패터닝하여 형성되거나, 액정표시패널 등을 이용하여 형성될 수도 있다.

본 실시예에서, 상기 촬상소자(310) 및 상기 격자유닛(500)은 상기 중심축(22)을 기준으로 서로 대칭이 되는 위치에 배치될 수 있다.

상기 격자 이송유닛(600)은 상기 격자유닛(500)과 결합하여 상기 격자유닛(500)을 이동시킬 수 있다. 이때, 상기 격자 이송유닛(600)은 상기 격자유닛(500)을 상기 베이스 기판(10)의 일면에 평행한 방향으로 일정 간격씩 이동시킬 수 있다. 상기 격자 이송유닛(600)은 상기 격자유닛(500)을 미세 이동시키기 위한 엑추에이터를 포함할 수 있다.

한편, 상기 조명유닛(100)이 소정 간격씩 이동되는 상기 격자유닛(500)으로 광을 제공할 경우, 복수의 격자 이미지광들을 발생시킬 수 있다. 상기 격자 이미 지광들이 상기 투사렌즈(400)를 통해 상기 타겟물체(20)로 조사되어 반사되어, 상기 카메라(300)에서 촬상될 경우, 상기 카메라(300)는 상기 격자 이미지광들을 이용하여 상기 타겟물체(20)의 3차원 형상을 측정할 수 있다.

이와 같이 본 실시예에 따르면, 상기 결상 광학 시스템이 상기 투사렌즈(400), 상기 격자유닛(500) 및 상기 격자 이송유닛(600)을 더 포함함에 따라, 상기 타겟물체(20)의 실제 형상과 거의 유사하게 상기 타겟물체(20)의 3차원 형상을 촬상할 수 있다.

앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이다. 따라서, 전술한 설명 및 아래의 도면은 본 발명의 기술사상을 한정하는 것이 아닌 본 발명을 예시하는 것으로 해석되어져야 한다.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 의한 결상 광학 시스템을 도시한 단면도이다.

도 2는 도 1의 결상 광학 시스템에서 타겟물체와 촬상소자 사이의 관계를 도시한 단면도이다.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 의한 결상 광학 시스템을 도시한 단면도이다.

<주요 도면번호에 대한 간단한 설명>

10 : 베이스 기판 20 : 타겟물체

22 : 중심축 100 : 조명유닛

200 : 결상렌즈 210 : 결상광축

220 : 결상 수직축 300 : 카메라

310 : 촬상소자 400 : 투사렌즈

410 : 투사광축 420 : 투사 수직축

500 : 격자유닛 600 : 격자 이송유닛

Claims (14)

1. 삭제
2. 삭제
3. 기판의 일면 상에 배치된 타겟물체의 이미지를 촬상하는 결상 광학 시스템에 있어서,

   상기 타겟물체로 광을 제공하는 조명유닛;

   상기 기판의 일면의 법선 방향과 평행한 결상광축을 갖는 결상렌즈; 및

   상기 타겟물체로부터 반사된 반사광을 상기 결상렌즈를 통해 인가받아 상기 타겟물체의 이미지를 촬상하는 카메라를 포함하고,

   상기 타겟물체는 상기 결상광축을 기준으로 일측에 배치되고, 상기 카메라는 상기 결상광축을 기준으로 상기 일측에 반대인 타측에 배치되며,

   상기 카메라는 상기 결상렌즈를 투과한 상기 반사광을 인가받아 상기 타겟물체의 평면형상의 이미지를 촬상하는 촬상소자를 포함하고, 상기 촬상소자의 수평축은 상기 기판의 일면의 법선 방향에 대하여 수직하며,

   상기 결상렌즈 및 상기 카메라는 상기 기판의 일면의 법선 방향과 평행하게 상기 타겟물체의 중심을 지나는 중심축을 기준으로 일측에 배치되고,

   상기 조명유닛은 상기 중심축을 기준으로 상기 일측의 반대인 타측에 배치된 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.
4. 제3항에 있어서, 상기 타겟물체 및 상기 조명유닛 사이에 배치되어, 상기 조명유닛에서 발생된 광을 상기 타겟물체로 투사하는 투사렌즈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.
5. 제4항에 있어서, 상기 투사렌즈의 투사광축은

   상기 기판의 일면의 법선 방향과 평행한 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.
6. 제5항에 있어서, 상기 결상렌즈 및 상기 투사렌즈는

   상기 중심축을 기준으로 서로 대칭이 되는 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.
7. 제4항에 있어서, 상기 투사렌즈 및 상기 조명유닛 사이에 배치되어, 상기 조명유닛에서 발생된 광을 격자 이미지광으로 변경하여 상기 투사렌즈로 제공하는 격자유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.
8. 제7항에 있어서, 상기 촬상소자 및 상기 격자유닛은

   상기 중심축을 기준으로 서로 대칭이 되는 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.
9. 제7항에 있어서, 상기 격자유닛과 결합하여 상기 격자유닛을 이동시키는 격자 이송유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.
10. 기판의 일면 상에 배치된 타겟물체의 이미지를 촬상하는 결상 광학 시스템에 있어서,

    상기 타겟물체로 광을 제공하는 조명유닛;

    상기 기판의 일면의 법선 방향과 평행한 결상광축을 갖는 결상렌즈; 및

    상기 타겟물체로부터 반사된 반사광을 상기 결상렌즈를 통해 인가받아 상기 타겟물체의 이미지를 촬상하는 카메라를 포함하고,

    상기 타겟물체는 상기 결상광축을 기준으로 일측에 배치되고, 상기 카메라는 상기 결상광축을 기준으로 상기 일측에 반대인 타측에 배치되며,

    상기 타겟물체는 상기 기판의 일면 상에 장착된 표면 실장 소자(surface-mount device, SMD)인 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.
11. 기판의 일면 상에 배치된 타겟물체의 이미지를 촬상하는 결상 광학 시스템에 있어서,

    광을 발생시키는 조명유닛;

    상기 조명유닛에서 발생된 광을 격자 이미지광으로 변경하여 상기 타겟물체로 제공하는 격자유닛;

    상기 기판의 일면의 법선 방향과 평행한 결상광축을 갖는 결상렌즈; 및

    상기 타겟물체로부터 반사된 반사광을 상기 결상렌즈를 통해 인가받아 상기 타겟물체의 이미지를 촬상하는 카메라를 포함하고,

    상기 타겟물체는 상기 결상광축을 기준으로 일측에 배치되고, 상기 카메라는 상기 결상광축을 기준으로 상기 일측에 반대인 타측에 배치된 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.
12. 제11항에 있어서, 상기 격자유닛 및 상기 타겟물체 사이에 배치되어, 상기 격자유닛에서 출사된 격자 이미지광을 상기 타겟물체로 투사하는 투사렌즈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.
13. 제12항에 있어서, 상기 투사렌즈의 투사광축은,

    상기 기판의 일면의 법선 방향과 평행한 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.
14. 제12항에 있어서, 상기 결상렌즈 및 상기 투사렌즈는

    상기 기판의 일면의 법선 방향과 평행하게 상기 타겟물체의 중심을 지나는 중심축을 기준으로 서로 대칭이 되는 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 결상 광학 시스템.

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