JP6283943B2 - 撮像素子の位置計測方法及び当該方法に用いる投光装置 - Google Patents
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Description
(数1)
Z1/(f+Z1)=2fθ/d
ただし、fは測定対象レンズの焦点距離であり、θは測定用光(発散光)の測定対象レンズへの入射角であり、dは測定対象レンズの有効口径(入射瞳)である。
(数2)
d・Z1=2fθ(f+Z1)
上記数2から、下記数3が得られる。
(数3)
Z1=2f2θ/(d−2fθ)
本発明では、測定用光(発散光)が近軸光線であるため、θを(d/2)/Lで近似した上で、上記数3を整理すると、下記数4が得られる。
(数4)
Z1=f2/(L−f)
このように、本発明では、Lもfも既知であるため、上記数4に基づいて、測定対象レンズの発散光側集光距離のずれ量Z1を算出することができる。
(数5)
(f+Z1−Z)/(f+Z1)=d’/d
ただし、Zは測定対象レンズから撮像素子までの距離であり、d’は測定対象レンズから撮像素子までの距離Zでの撮像素子上の発散光による集光スポット径である。
(数6)
Z=−((f+Z1)/d)d’+(f+Z1)
上記数6から分かるように、距離Z(距離ZA)は、撮像素子上の発散光による集光スポット径d’と一次式で表される。
(数7)
Z2/(f−Z2)=2fθ/d
ただし、fは測定対象レンズの焦点距離であり、θは測定用光(収束光)の測定対象レンズへの入射角であり、dは測定対象レンズの有効口径(入射瞳)である。
(数8)
d・Z2=2fθ(f−Z2)
上記数8から、下記数9が得られる。
(数9)
Z2=2f2θ/(d+2fθ)
本発明では、測定用光(収束光)が近軸光線であるため、θを(d/2)/Lで近似した上で、上記数9を整理すると、下記数10が得られる。
(数10)
Z2=f2/(L+f)
このように、本発明では、Lもfも既知であるため、上記数10に基づいて、測定対象レンズの収束光側集光距離のずれ量Z2を算出することができる。
(数11)
Z−(f−Z2)/(f−Z2)=d’’/d
ただし、Zは測定対象レンズから撮像素子までの距離であり、d’’は測定対象レンズから撮像素子までの距離Zでの撮像素子上の収束光による集光スポット径である。
(数12)
Z=((f−Z2)/d)d’’+(f−Z2)
上記数12から分かるように、距離Z(距離ZA)は、撮像素子上の収束光による集光スポット径d’’と一次式で表される。
(数13)
d’=(−Z+(f+Z1))/((f+Z1)/d)
また、上記数12より撮像素子上の収束光による集光スポット径d’’の式に変形すると、下記数14が得られる。
(数14)
d’’=(Z−(f−Z2))/((f−Z2)/d)
このように、数13は本発明の投光部Aにおいて、発散光入射による集光スポット径d’を表しており、また、数14は本発明の投光部Aにおいて、収束光入射による集光スポット径d’’を表している。
(数15)
γ=arctan(dz1/2fα)
ただし、dz1はZBとZCの距離差分である。
(数16)
δ=arctan(dz2/2fα)
ただし、dz2はZDとZEの距離差分である。
110,A,B,C,D,E 投光部
111 投光素子(光源)
112 投光レンズ(コリメータレンズ)
113 集光レンズ
114 シリンドリカルレンズ
200 カメラモジュール
210 撮影レンズ(測定対象レンズ)
220 撮像素子
230 収束光による集光スポット
240 発散光による集光スポット
A’,B’,C’,D’,E’ 集光パターン
Claims (4)
- 測定対象レンズとなる撮影レンズから撮像素子までの距離及び前記撮像素子の傾きを、同じ構成を有する第1投光部、第2投光部、第3投光部、第4投光部及び第5投光部で構成されている投光装置を用いて測定するための撮像素子の位置計測方法であって、
前記第1投光部から出射される測定用光は、前記測定対象レンズに垂直に入射するようになっており、
前記第2投光部、前記第3投光部、前記第4投光部及び前記第5投光部から出射される測定用光は、いずれも前記投光装置の光軸に対して所定の入射角で、前記測定対象レンズに入射するようになっており、
前記各投光部から出射される前記各測定用光は、それぞれ発散光と収束光で構成されており、
前記第1投光部から出射される前記測定用光による第1集光パターンを測定することにより、撮影レンズから撮像素子までの距離を求め、
前記第2投光部から出射される前記測定用光による第2集光パターン、及び、前記第3投光部から出射される前記測定用光による第3集光パターンを測定することにより、前記
撮像素子Y軸方向の傾き角を求め、
前記第4投光部から出射される前記測定用光による第4集光パターン、及び、前記第5投光部から出射される前記測定用光による第5集光パターンを測定することにより、前記
撮像素子X軸方向の傾き角を求めることを特徴とする撮像素子の位置計測方法。 - 前記各集光パターンは、前記各収束光による集光スポット及び前記各発散光による集光スポットで形成され、
前記各収束光による集光スポット径及び前記各発散光による集光スポット径を測定することにより、前記各集光パターンを測定するようにしている請求項1に記載の撮像素子の位置計測方法。 - 前記各投光部は光源となる投光素子と、前記投光素子から出射された発散光を平行光にする投光レンズと、前記投光レンズから出射された平行光を入射する集光レンズと、前記集光レンズによる集光後の発散光を入射するシリンドリカルレンズとを具備している請求項1又は請求項2に記載の撮像素子の位置計測方法に用いる投光装置。
- 前記シリンドリカルレンズは、片面がシリンドリカル面で、もう片面は平面である、平凸シリンドリカルレンズであり、前記投光レンズは、コリメータレンズである請求項3に記載の投光装置。
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