KR101052888B1 - Sealant Curing Device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 실런트 경화장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액정표시장치를 형성하는 두 패널의 합착을 위하여 도포된 실런트를 경화하기 위한 실런트 경화장치에 관한 것으로, 본 발명에 의할 경우 상측에 위치하는 램프, 상기 램프의 하측에서 마스크를 흡착하는 복수개의 흡착유닛, 상기 흡착유닛을 지지하며, 각각의 흡착유닛의 위치를 조절할 수 있도록 수평방향으로 이동가능하게 설치되는 브라켓을 포함하는 실런트 경화장치를 제공한다.The present invention relates to a sealant curing device, and more particularly, to a sealant curing device for curing a sealant applied for bonding two panels forming a liquid crystal display device. Provides a sealant curing apparatus including a lamp, a plurality of adsorption units for adsorbing a mask from the lower side of the lamp, and a bracket for supporting the adsorption unit, the bracket being installed to be movable in a horizontal direction to adjust the position of each adsorption unit. do.

본 발명에 의할 경우, 위치 조절이 가능한 브라켓을 이용하여 실런트 경화장치 설치 후에도 마스크 흡착유닛의 위치를 조절할 수 있는 바, 초기 설치에 발생되는 위치 오차를 쉽게 보정할 수 있다. 본 발명에 의한 실런트 경화장치는 마스크 흡착유닛의 위치를 조절하여 다양한 크기의 기판에 대한 적용성을 개선할 수 있다.According to the present invention, the position of the mask adsorption unit can be adjusted even after the sealant curing apparatus is installed by using the position adjustable bracket, thereby easily correcting the position error generated in the initial installation. Sealant curing apparatus according to the present invention can improve the applicability to the substrate of various sizes by adjusting the position of the mask adsorption unit.

Description

실런트 경화장치{Sealant curing apparatus}Sealant curing apparatus {Sealant curing apparatus}

본 발명은 실런트 경화장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액정표시장치(LCD:Liquid Crystal Display)를 형성하는 두 패널의 합착을 위하여 도포된 실런트를 경화하기 위한 실런트 경화장치에 관한 것이다.The present invention relates to a sealant curing apparatus, and more particularly, to a sealant curing apparatus for curing a sealant applied for bonding two panels forming a liquid crystal display (LCD).

일반적으로 액정표시장치(LCD:liquid crystal display)는 전공정에서 제조된 TFT 기판과 컬러필터 기판을 합착시킨 후 액정을 두 기판 사이로 주입함으로써 제조된다. 이때 두 기판의 합착을 위하여 사용되는 실런트는 기판의 가장자리를 따라 도포되어 합착된 기판 내의 액정이 외부로 누출되지 않도록 기판을 밀봉시키는 역할을 한다. In general, a liquid crystal display (LCD) is manufactured by bonding a TFT substrate and a color filter substrate manufactured in a previous process, and then injecting a liquid crystal between the two substrates. At this time, the sealant used for bonding the two substrates is applied along the edge of the substrate to seal the substrate so that the liquid crystal in the bonded substrate does not leak to the outside.

한편, 기판에 도포된 실런트는 두 기판의 합착 후에 실런트 경화장치에 의하여 경화된다. 그런데 기판의 가장자리에 도포된 실런트 외에 액정에 자외선이 입사되면 액정을 열화시켜 액정의 수명을 단축시킨다. 따라서 경화시 실런트가 도포된 영역에만 선택적으로 자외선이 입사되도록 하기 위하여 실런트 경화시 마스크가 사용된다. On the other hand, the sealant applied to the substrate is cured by the sealant curing apparatus after the bonding of the two substrates. However, when ultraviolet rays are incident on the liquid crystal in addition to the sealant applied to the edge of the substrate, the liquid crystal is degraded to shorten the life of the liquid crystal. Therefore, a mask is used during curing of the sealant to selectively allow ultraviolet rays to be incident only on the area where the sealant is applied upon curing.

다만, 종래의 경우 상기 마스크의 고정부재는 상기 실런트 경화장치의 내측 에 고정 설치되는 바, 초기 설치시 위치가 잘못 설정되는 경우 챔버를 분해한 후 재조립 수행하여야 하는 문제점이 발생하였다.However, in the conventional case, the fixing member of the mask is fixed to the inner side of the sealant curing apparatus. If the position is incorrectly set at the time of initial installation, a problem arises in that the assembly is performed after disassembling the chamber.

또한, 최근 들어 액정표시장치의 사용 범위가 확대되면서, 처리되는 기판의 크기도 다양해지게 되었다. 다만, 종래의 실런트 경화장치는 처리할 수 있는 기판의 크기가 제한되는 바, 기판의 크기에 따라 실런트 경화장치를 복수개로 구비해야하는 문제점이 발생하였다.In addition, as the use range of the liquid crystal display device has recently been expanded, the size of the substrate to be processed has also increased. However, in the conventional sealant curing apparatus, the size of the substrate that can be processed is limited, and thus a problem of having a plurality of sealant curing apparatuses provided in accordance with the size of the substrate occurs.

본 발명은 상기한 문제점을 해결할 수 있도록, 마스크 흡착유닛의 설치 오류를 보정할 수 있으면서, 기판의 크기에 대한 대응성을 개선할 수 있는 실런트 경화장치를 제공하기 위함이다. The present invention is to provide a sealant curing apparatus that can correct the installation error of the mask adsorption unit, while improving the responsiveness to the size of the substrate to solve the above problems.

상기한 본 발명의 목적은, 상측에 위치하는 램프, 상기 램프의 하측에서 마스크를 흡착하는 복수개의 흡착유닛, 상기 흡착유닛을 지지하며, 각각의 흡착유닛의 위치를 조절할 수 있도록 수평방향으로 이동가능하게 설치되는 브라켓을 포함하는 실런트 경화장치에 의해 달성될 수 있다.An object of the present invention described above, a lamp located on the upper side, a plurality of adsorption units for adsorbing the mask from the lower side of the lamp, the adsorption unit is supported, and can be moved in the horizontal direction to adjust the position of each adsorption unit It can be achieved by a sealant curing apparatus including a bracket to be installed.

이때, 상기 브라켓은 상기 흡착유닛을 지지하는 지지부 및 상기 지지부의 이동경로를 형성하는 경로부를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.At this time, the bracket is preferably configured to include a support for supporting the adsorption unit and a path portion for forming the movement path of the support.

여기서, 상기 복수개의 흡착유닛은 나란하게 배치되는 복수개의 막대형 부재로 구성될 수 있다. 그리고, 상기 브라켓은 상기 각각의 흡착유닛 양측에 설치되어 상기 흡착유닛을 지지하도록 구성될 수 있다.Here, the plurality of adsorption units may be composed of a plurality of rod-shaped members arranged side by side. The bracket may be installed on both sides of each of the adsorption units to support the adsorption unit.

이때, 상기 경로부는 상기 흡착유닛의 길이 방향 또는 상기 흡착유닛의 길이방향과 수직으로 형성될 수 있다.At this time, the path portion may be formed perpendicular to the longitudinal direction of the adsorption unit or the longitudinal direction of the adsorption unit.

또는, 상기 경로부는 상기 지지부가 제1 방향으로 이동 가능하게 설치되는 제1 경로부와, 상기 지지부 및 제1 경로부가 제2 방향으로 이동 가능하게 설치되는 제2 경로부로 설치되는 것도 가능하다.Alternatively, the path part may be provided as a first path part in which the support part is movable in the first direction, and a second path part in which the support part and the first path part are movable in the second direction.

이때, 상기 제1, 2 경로부는 각각 상기 흡착유닛의 길이 방향 및 상기 흡착유닛의 길이 방향과 수직으로 형성될 수 있다.In this case, the first and second path portions may be formed perpendicular to the longitudinal direction of the adsorption unit and the longitudinal direction of the adsorption unit, respectively.

여기서, 상기 경로부는 상기 지지부와 연결되는 LM 가이드를 포함하여 구성될 수 있다. 또는, 상기 경로부는 상기 지지부와 연결되는 레일을 포함하여 구성되는 것도 가능하다.Here, the path portion may be configured to include an LM guide connected to the support. Alternatively, the path portion may be configured to include a rail connected to the support portion.

나아가, 상기 브라켓은 상기 흡착유닛의 수평도를 조절하기 위한 수직위치조절부재를 더 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.Furthermore, it is preferable that the bracket further comprises a vertical position adjusting member for adjusting the horizontal degree of the adsorption unit.

여기서, 상기 수직위치조절부재는 상기 흡착유닛과 상기 지지부 사이에 적층되는 복수개의 심(shim)부재로 이루어질 수 있다.Here, the vertical position adjusting member may be composed of a plurality of shim members stacked between the suction unit and the support.

한편, 상기 각각의 흡착유닛의 하면에는 상기 마스크를 흡착하기 위한 복수개의 흡착공이 형성되고, 상기 흡착공은 상기 흡착유닛의 내부를 관통하는 흡착유로와 연결되도록 형성되는 것이 가능하다.On the other hand, a plurality of adsorption holes for adsorbing the mask is formed on the lower surface of each adsorption unit, the adsorption holes may be formed to be connected to the adsorption flow passage penetrating the inside of the adsorption unit.

여기서, 상기 흡착유닛의 양측에는 진공압을 제공하는 공기흡입유닛과 연결되기 위한 통공이 형성되고, 상기 통공의 주변에는 상기 공기흡입유닛과 연결되는 부분의 기밀 상태를 유지하기 위한 기밀부재가 더 구비되는 것이 바람직하다.Here, a through hole is formed on both sides of the adsorption unit to be connected to the air suction unit for providing a vacuum pressure, and the airtight member for maintaining the airtight state of the part connected to the air suction unit is further provided around the through hole. It is desirable to be.

본 발명에 의한 실런트 경화장치는, 위치 조절이 가능한 브라켓을 이용하여 실런트 경화장치 설치 후에도 마스크 흡착유닛의 위치를 조절할 수 있는 바, 초기 설치에 발생되는 위치 오차를 쉽게 보정할 수 있다.The sealant curing apparatus according to the present invention can adjust the position of the mask adsorption unit even after the sealant curing apparatus is installed by using the bracket that can adjust the position, thereby easily correcting the position error generated in the initial installation.

또한, 본 발명에 의한 실런트 경화장치는 마스크 흡착유닛의 위치를 조절하 여 다양한 크기의 기판에 대한 적용성을 개선할 수 있다.In addition, the sealant curing apparatus according to the present invention may improve the applicability to substrates of various sizes by adjusting the position of the mask adsorption unit.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 실런트 경화장치에 대해 설명하도록 한다. Hereinafter, a sealant curing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 실시예에 따른 실런트 경화장치의 내부를 도시한 단면도이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 실런트 경화장치는 챔버(10)를 구비한다. 상기 챔버(10)는 실런트 경화를 수행하기 위한 공간을 형성하며, 상기 챔버(10)의 상측에는 자외선을 챔버 내부로 조사하는 복수개의 램프(21)가 설치된 램프 하우징(20)이 설치된다.1 is a cross-sectional view showing the interior of the sealant curing apparatus according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the sealant curing apparatus according to the present embodiment includes a chamber 10. The chamber 10 forms a space for performing sealant curing, and a lamp housing 20 provided with a plurality of lamps 21 for irradiating ultraviolet rays into the chamber is installed above the chamber 10.

챔버(10) 내부에는 기판(S)이 안착되는 기판 스테이지(30)가 설치된다. 기판 스테이지(30) 상에는 다수개의 기판 지지포트(50)가 구비된다. 기판 지지포트(50)는 내측에 형성된 유로(미도시)를 통하여 흡기 및 배기가 선택적으로 이루어지도록 구성될 수 있다. 따라서, 상기 기판 지지포트(50)의 상측에 안착되는 마스크(M) 또는 기판(S)을 진공 흡착하여 고정시킬 수도 있고, 마스크(M) 또는 기판(S)을 상기 기판 지지포트로부터 탈거하고자 하는 경우 공기를 배출하여 소정 높이로 부유 상태를 조성할 수 도 있다.The substrate stage 30 on which the substrate S is mounted is installed in the chamber 10. A plurality of substrate support ports 50 are provided on the substrate stage 30. The substrate support port 50 may be configured to selectively allow intake and exhaust through a flow path (not shown) formed therein. Accordingly, the mask M or the substrate S mounted on the upper side of the substrate support port 50 may be vacuum-adsorbed and fixed, and the mask M or the substrate S may be removed from the substrate support port. In this case, air may be discharged to form a floating state at a predetermined height.

여기서, 기판 지지포트(50)는 기판 스테이지(30) 상에서 승강 가능하도록 설치되는 것이 바람직하다. 따라서, 마스크(M)를 마스크 흡착유닛(200)에 흡착시키는 공정을 수행하거나, 기판(S)을 노광 공정을 수행하는 경우, 기판 지지포트(50) 상측에 위치하는 마스크(M) 또는 기판(S)의 수직 위치를 제어할 수 있다.Here, it is preferable that the substrate support port 50 is provided to be elevated on the substrate stage 30. Therefore, when performing the process of adsorbing the mask M to the mask adsorption unit 200, or performing the exposure process of the substrate (S), the mask (M) or the substrate (located above the substrate support port 50) The vertical position of S) can be controlled.

기판 스테이지(30)의 가장자리 부분에는 복수개의 조명창(60)이 설치된다. 조명창(60)은 기판(S)과 마스크(M)의 얼라인을 위하여 사용되는 카메라(70)가 기판(S)과 마스크(M)에 형성된 얼라인 마크를 촬영할 수 있게 하기 위한 것이다.A plurality of illumination windows 60 are installed at the edge portion of the substrate stage 30. The illumination window 60 is for allowing the camera 70 used to align the substrate S and the mask M to photograph the alignment marks formed on the substrate S and the mask M. FIG.

기판 스테이지(30)의 하부에는 기판 스테이지(30)를 X축 이동, Y축 이동, 그리고 회전시키는 정렬 스테이지(40)가 구비된다. 그리고, 정렬 스테이지(40)의 테두리 부분에는 전술한 복수개의 카메라(70)가 위치할 수 있다.The lower stage of the substrate stage 30 is provided with an alignment stage 40 for moving the substrate stage 30 in X-axis movement, Y-axis movement, and rotation. In addition, the plurality of cameras 70 described above may be positioned at the edge portion of the alignment stage 40.

정렬 스테이지(40)의 하부에는 정렬 스테이지(40) 및 기판 스테이지(30)를 램프(21) 측으로 상승시키거나 또는 램프(21)로부터 이격되도록 하강시킬 수 있는 승강기(81)와 승강축(80)이 구비된다. Under the alignment stage 40, an elevator 81 and an elevator shaft 80 which can raise or lower the alignment stage 40 and the substrate stage 30 toward the lamp 21 or away from the lamp 21. Is provided.

승강기(81)는 정역회전모터를 이용하여 구성할 수 있고, 승강축(80)은 볼스크류를 이용하여 구성할 수 있다. 또는, 다른 실시예로 승강축(80)을 접철식 동작이 가능한 복수개의 링크 구조물로 실시하는 것도 가능하다.The elevator 81 may be configured using a forward and reverse rotation motor, and the elevator shaft 80 may be configured using a ball screw. Alternatively, in another embodiment, the lifting shaft 80 may be implemented as a plurality of link structures capable of folding operation.

한편, 챔버(10)의 내부에는 마스크(M)를 흡착하기 위한 마스크 흡착유닛(200)이 설치될 수 있다. 이때, 마스크 흡착유닛(200)은 램프(21)와 기판 스테이지(30)의 사이에 위치한다. 따라서, 램프(21)에서 자외선이 조사되면, 마스크 흡착유닛(200)에 부착된 마스크(M)의 패턴 형상에 따라 선택적으로 자외선이 통과하여 기판(S) 상에 조사된다.Meanwhile, a mask adsorption unit 200 for adsorbing the mask M may be installed in the chamber 10. In this case, the mask adsorption unit 200 is positioned between the lamp 21 and the substrate stage 30. Therefore, when the ultraviolet rays are irradiated from the lamp 21, ultraviolet rays selectively pass through the substrate S in accordance with the pattern shape of the mask M attached to the mask adsorption unit 200.

도 2는 도 1의 마스크 흡착유닛의 단면을 나타낸 단면도이다. 본 실시예에 따른 마스크 흡착유닛(200)은 막대 형상으로 구성되는 복수개의 흡착바를 이용하여 구성될 수 있다. 다만, 이는 일 실시예로서 본 발명이 마스크 흡착유닛의 형상에 한정되는 것은 아니다.2 is a cross-sectional view showing a cross section of the mask adsorption unit of FIG. The mask adsorption unit 200 according to the present embodiment may be configured by using a plurality of adsorption bars formed in a rod shape. However, this is not limited to the shape of the mask adsorption unit as an embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 상기 마스크 흡착유닛(200)은 하면에 마스크(M)를 흡착할 수 있는 복수개의 흡착공(210)을 구비한다. 각각의 흡착공(210)은 마스크 흡착유닛(200) 내측에 형성되는 흡착유로(220)와 연통하도록 형성된다. 상기 흡착유로(220)는 마스크 흡착유닛(200)의 양측에 형성된 통공으로부터 내측을 관통하도록 형성된다. As shown in FIG. 2, the mask adsorption unit 200 includes a plurality of adsorption holes 210 capable of adsorbing the mask M on a lower surface thereof. Each adsorption hole 210 is formed to communicate with the adsorption flow path 220 formed inside the mask adsorption unit 200. The adsorption flow path 220 is formed to penetrate the inside from through holes formed at both sides of the mask adsorption unit 200.

그리고, 외부의 진공펌프 등을 이용하여 진공압을 제공하는 공기흡입유닛(300)이 흡착유로(220)와 연결된다. 따라서, 공기흡입유닛(300)에 의해 공기가 흡입되어 진공압이 제공되면, 마스크 흡착유닛(200) 하면의 흡착공(210)은 마스크(M)를 흡착하여 고정시킬 수 있다.In addition, an air suction unit 300 providing a vacuum pressure by using an external vacuum pump or the like is connected to the adsorption flow path 220. Therefore, when the air is sucked by the air suction unit 300 to provide a vacuum pressure, the suction hole 210 of the lower surface of the mask suction unit 200 may suck and fix the mask M.

이때, 공기흡입유닛(300)은 상기 챔버의 내부 공간에 노출되도록 마스크 흡착유닛(200)에 직결되는 것이 바람직하다. 이 경우, 진공압을 제공하는 유로상에 이상이 발생되는 면 점검 및 교체 작업이 용이하게 진행될 수 있다.In this case, the air suction unit 300 is preferably directly connected to the mask adsorption unit 200 to be exposed to the internal space of the chamber. In this case, the surface inspection and replacement work in which an abnormality occurs on the flow path providing the vacuum pressure can be easily performed.

나아가, 흡착유로(220)와 공기흡입유닛(300)이 연결되는 부위에는 기밀 상태를 유지할 수 있도록 별도의 기밀부재를 추가적으로 설치하는 것이 바람직하다. 본 실시예에서는 도면에 도시된 바와 같이, 오링(231) 및 캡부재(230)를 이용하여 기밀부재를 구성하였다. 이때, 캡부재(230)는 연결부의 기밀 상태 유지에 기여할 뿐 아니라, 공기흡입유닛(300)이 흡착유로(220)와 안정적으로 연결될 수 있도록 고정시키는 역할을 수행할 수 있다.Further, it is preferable to additionally install a separate airtight member to maintain the airtight state in the portion where the adsorption flow path 220 and the air suction unit 300 is connected. In this embodiment, as shown in the figure, an airtight member is configured using the O-ring 231 and the cap member 230. In this case, the cap member 230 may not only contribute to maintaining the airtight state of the connection portion, but may also serve to fix the air suction unit 300 to be stably connected to the adsorption flow path 220.

한편, 마스크 흡착유닛(200)은 챔버(10) 내측에 구비되는 브라켓(100)에 의 해 램프의 하측에 설치된다. 이때, 상기 브라켓(100)은 이동가능하게 설치되어 마스크 흡착유닛(200)의 위치를 조절할 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.Meanwhile, the mask adsorption unit 200 is installed under the lamp by the bracket 100 provided inside the chamber 10. At this time, the bracket 100 is preferably configured to be movable to adjust the position of the mask adsorption unit 200.

일반적으로, 마스크 흡착유닛(200)은 실런트 경화장치의 초기 설치시, 챔버 내측의 고정부재에 의해 고정되어 위치 변경이 불가능하다. 따라서, 고정부재 또는 마스크 흡착유닛의 설치 오류에 의해 오차가 발생하는 경우, 이를 다시 분해하여 재조립을 수행해야 하는 문제점이 발생할 수 있다.In general, the mask adsorption unit 200 is fixed by the fixing member inside the chamber at the time of initial installation of the sealant curing apparatus, and thus the position change is impossible. Therefore, when an error occurs due to an installation error of the fixing member or the mask adsorption unit, a problem may arise in that the assembly is performed again by disassembling it again.

나아가, 액정표시장치의 사이즈가 다양해짐에 따라 하나의 실런트 경화장치를 이용하여 다양한 크기의 기판을 처리해야하는 필요성이 증가하고 있다. 다만, 마스크 흡착유닛의 위치가 고정되어 있는 경우, 처리할 수 있는 기판의 크기가 제한적일 수 밖에 없다.In addition, as the size of the liquid crystal display device varies, there is an increasing need to process substrates of various sizes using one sealant curing device. However, when the position of the mask adsorption unit is fixed, the size of the substrate that can be processed is inevitably limited.

따라서, 본 발명에서는 마스크 흡착유닛(200)을 지지하면서 위치를 조절할 수 있는 브라켓(100)을 포함하여 이러한 문제점을 개선할 수 있다.Therefore, the present invention can improve this problem, including the bracket 100 that can adjust the position while supporting the mask adsorption unit 200.

이하에서는 도 3 및 도 4를 참고하여 상기 브라켓에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the bracket will be described in detail with reference to FIGS. 3 and 4.

도 3은 도 1에서 브라켓 및 마스크 흡착유닛을 도시한 사시도이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 브라켓(100)은 복수개로 구성되어, 각각의 마스크 흡착유닛(200)의 양측을 지지하도록 구성하는 것이 바람직하다. 만약, 복수개의 마스크 흡착유닛(200)을 하나의 틀에 고정시키면, 설치시 발생되는 위치 오류가 전체의 마스크 흡착유닛(200)의 위치에 오차를 야기시킬 수 있고, 마스크 흡착유닛(200)의 교체/점검 또한 일괄적으로 이루어져야 하는 불편함이 있다. 따라서, 본 실시예와 같이 각각의 마스크 흡착유닛(200)의 양측에 각각의 브라켓(100)을 독립적으로 설치하여 설치 및 유지 보수를 개별적으로 수행할 수 있는 장점을 갖는다.3 is a perspective view of the bracket and the mask adsorption unit in FIG. As shown in Figure 3, the bracket 100 according to the present embodiment is composed of a plurality, it is preferable to be configured to support both sides of each mask adsorption unit 200. If the plurality of mask adsorption units 200 is fixed to one frame, a position error generated at the time of installation may cause an error in the position of the entire mask adsorption unit 200, Replacement / checking is also inconvenient to be done in a batch. Therefore, as shown in this embodiment, each bracket 100 is independently installed on both sides of each mask adsorption unit 200, which has an advantage of separately performing installation and maintenance.

한편, 브라켓(100)은 마스크 흡착유닛(200)을 지지하는 지지부(110) 및 상기 지지부(110)의 이동경로를 형성하는 경로부(120)를 포함하여 구성되는 것이 가능하다. 따라서, 마스크 흡착유닛(200)는 상기 지지부(110)에 안착된 상태에서, 상기 지지부(110)가 경로부(120)를 따라 이동하면서 위치가 조절될 수 있다.On the other hand, the bracket 100 may be configured to include a support portion 110 for supporting the mask adsorption unit 200 and the path portion 120 to form a movement path of the support portion 110. Therefore, the mask adsorption unit 200 may be adjusted in position while the support 110 moves along the path 120 in a state in which the mask adsorption unit 200 is seated on the support 110.

이때, 지지부(110)는 마스크 흡착유닛(200)의 양측을 지지하되, 양측 단부로부터 소정 간격 내측에 위치한 부분을 지지하도록 구성하는 것이 바람직하다. 전술한 바와 같이 마스크 흡착유닛(200)의 단부는 공기흡입유닛(300)이 직결되는 바, 상기 브라켓(100) 외측으로 노출된 마스크 흡착유닛(200)의 단부에서 공기흡입유닛(300)의 교체/점검 작업을 용이하게 수행할 수 있다.At this time, the support 110 is configured to support both sides of the mask adsorption unit 200, but to support a portion located inside the predetermined interval from both ends. As described above, the end of the mask adsorption unit 200 is directly connected to the air suction unit 300, and the air suction unit 300 is replaced at the end of the mask adsorption unit 200 exposed to the outside of the bracket 100. / The inspection work can be easily performed.

한편, 경로부(120)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 지지부(110)의 상측에 설치되는 LM 가이드로 구성될 수 있다. 따라서, LM 가이드의 홈이 형성된 방향으로 양측의 지지부(110)가 동시에 이동하면서, 마스크 흡착유닛(200)의 위치가 변경될 수 있다. 다만, 본 실시예에서는 상기 경로부(120)를 구성하기 위하여 LM 가이드를 이용하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 이동 방향으로 설치되는 레일 또는 볼 베어링 등을 이용하여 경로부를 형성할 수 있다. 이 이외에도, 지지부와 연동 가능하게 설치되는 엑추에이터 또는 실린더 등의 구성을 이용하여 경로부를 형성하는 것도 가능하다.Meanwhile, as illustrated in FIG. 3, the path part 120 may be configured as an LM guide installed above the support part 110. Therefore, while the support parts 110 on both sides are simultaneously moved in the direction in which the groove of the LM guide is formed, the position of the mask adsorption unit 200 may be changed. However, in the present embodiment, the LM guide is used to configure the path part 120. However, the present invention is not limited thereto, and the path part may be formed using a rail or a ball bearing installed in the moving direction. . In addition to this, it is also possible to form a path portion using a configuration such as an actuator or a cylinder which is installed to be interlocked with the support portion.

이때, 상기 경로부(120)는 마스크 흡착유닛(200)의 길이 방향으로 형성되는 것도 가능하고, 상기 길이 방향과 수직 방향으로 형성되는 것도 가능하다. At this time, the path portion 120 may be formed in the longitudinal direction of the mask adsorption unit 200, it may be formed in the vertical direction and the longitudinal direction.

상기 경로부(120)가 마스크 흡착유닛(200)의 길이방향으로 형성되는 경우, 마스크 흡착유닛(200)은 길이 방향으로 위치 조절이 가능할 수 있다. 이 경우, 마스크(M)가 부착되는 흡착공(210)의 위치를 조절하는 것이 가능하다. 따라서, 마스크(M)의 크기 및 형상에 대응하여 마스크(M)의 모서리와 인접 위치까지 흡착되도록 위치를 조절할 수 있다.When the path portion 120 is formed in the longitudinal direction of the mask adsorption unit 200, the mask adsorption unit 200 may be capable of position adjustment in the longitudinal direction. In this case, it is possible to adjust the position of the adsorption hole 210 to which the mask M is attached. Therefore, the position may be adjusted to be sucked to the edge and the adjacent position of the mask M in accordance with the size and shape of the mask M.

또한, 상기 경로부(120)가 마스크 흡착유닛(200)의 길이방향과 수직 방향으로 형성되는 경우, 마스크 흡착유닛(200)은 인접한 마스크 흡착유닛(200)과의 간격을 조절하는 것이 가능하다. 따라서, 마스크(M)의 크기에 대응되도록 마스크 흡착유닛(200) 사이의 간격을 조절하여, 마스크(M)의 처짐 등을 방지할 수 있다.In addition, when the path portion 120 is formed in the longitudinal direction and the vertical direction of the mask adsorption unit 200, the mask adsorption unit 200 can adjust the interval with the adjacent mask adsorption unit 200. Therefore, the gap between the mask adsorption units 200 may be adjusted to correspond to the size of the mask M, thereby preventing sagging of the mask M and the like.

본 실시예의 경로부(120)는 상기 지지부(110)가 수평 방향의 2개의 축으로 이동가능할 수 있도록 두 개의 경로를 형성하도록 구성될 수 있다. 구체적으로, 제1 경로부(121)는 마스크 흡착유닛(200)의 길이 방향과 수직방향으로 형성되는 홈을 구비하는 LM 가이드로 구성될 수 있다. 그리고, 제2 경로부(122)는 마스크 흡착유닛(200)의 길이 방향으로 형성되는 홈을 구비하는 LM가이드를 이용하여 구성될 수 있다.The path part 120 of the present embodiment may be configured to form two paths so that the support part 110 is movable in two axes in the horizontal direction. In detail, the first path part 121 may be configured as an LM guide having grooves formed in a direction perpendicular to the length direction of the mask adsorption unit 200. In addition, the second path part 122 may be configured using an LM guide having a groove formed in the length direction of the mask adsorption unit 200.

따라서, 마스크 흡착유닛(200)의 길이 방향과 수직으로 마스크 흡착유닛(200)의 위치를 조절하고자 하는 경우, 제1 경로부(121)의 홈을 따라 제2 경로부(122) 및 지지부(110)를 이동시킬 수 있다. 그리고, 마스크 흡착유닛(200)의 길이 방향으로 마스크 흡착유닛(200)의 위치를 조절하고자 하는 경우, 제2 경로 부(122)의 홈을 따라 지지부(110)를 이동시키는 것이 가능하다. 나아가, 양 축 방향으로 동시에 마스크 흡착유닛(200)의 위치를 조절하고자 하는 경우에는 제1, 제2 경로부(121, 122)의 홈을 따라 마스크 흡착유닛(200)의 위치를 이동시킬 수 있다.Therefore, when the position of the mask adsorption unit 200 is to be adjusted perpendicularly to the length direction of the mask adsorption unit 200, the second path portion 122 and the support portion 110 along the groove of the first path portion 121. ) Can be moved. In addition, when adjusting the position of the mask adsorption unit 200 in the longitudinal direction of the mask adsorption unit 200, it is possible to move the support 110 along the groove of the second path portion 122. Further, when the position of the mask adsorption unit 200 is to be adjusted simultaneously in both axial directions, the position of the mask adsorption unit 200 may be moved along the grooves of the first and second path portions 121 and 122. .

본 발명의 브라켓(100)은, 도면에 도시되지는 않았으나 별도의 구동부를 구비하여 상기 경로부(120)를 따라 선택적으로 마스크 흡착유닛(200)의 위치를 제어하도록 구성하는 것도 가능하다.Although not shown in the drawings, the bracket 100 of the present invention may be configured to include a separate driving unit to selectively control the position of the mask adsorption unit 200 along the path unit 120.

도 4는 본 발명에 따른 브라켓의 단면을 도시한 단면도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 마스크 흡착유닛(200)은 상기 지지부(110)의 내측으로 안착되어 상기 지지부(110)에 의해 지지된다. 이때, 마스크 흡착유닛(200)이 지지부(110)로부터 이탈하는 것을 방지할 수 있도록, 별도의 커버부재(130) 및 체결구(150)를 이용하여 마스크 흡착유닛(200)을 고정시킬 수 있다.Figure 4 is a cross-sectional view showing a cross section of the bracket according to the present invention. As shown in FIG. 4, the mask adsorption unit 200 is seated inside the support 110 to be supported by the support 110. In this case, the mask adsorption unit 200 may be fixed using the separate cover member 130 and the fastener 150 to prevent the mask adsorption unit 200 from being separated from the support 110.

한편, 본 발명에 따른 브라켓은 상기 마스크 흡착유닛 양측의 수직 위치를 조절하는 수직위치조절부재(140)를 추가적으로 구비하는 것이 바람직하다. On the other hand, the bracket according to the invention preferably further comprises a vertical position adjusting member 140 for adjusting the vertical position of both sides of the mask adsorption unit.

복수개의 마스크 흡착유닛은 각각의 마스크 흡착유닛 하면이 동일한 평면상에 나란히 위치한 경우에 마스크 상면과 평행한 상태로 일제히 흡착하는 것이 가능하다. 따라서, 각각의 마스크 흡착유닛의 하면이 동일한 평면상에 위치하기 위해서는 각각의 마스크 흡착유닛이 동일한 수평도를 유지하는 것이 요구될 뿐 아니라, 동일한 수직 위치에 설치되는 것이 요구된다.The plurality of mask adsorption units can be adsorbed simultaneously in a state parallel to the mask upper surface when the mask adsorption unit lower surfaces are located side by side on the same plane. Therefore, in order for the lower surface of each mask adsorption unit to be located on the same plane, it is required not only that each mask adsorption unit maintains the same horizontality but also to be installed in the same vertical position.

다만, 이와같은 마스크 흡착유닛은 상기 브라켓의 설치 상태에 따라, 일부 마스크 흡착유닛의 양단의 수직 위치가 상이하게 형성될 수 있다. 이 경우, 일부 마스크 흡착유닛이 경사를 이루게 되면서 복수개의 마스크 흡착유닛 중 일부만이 마스크의 상면을 흡착하여 마스크를 안정적으로 고정시킬 수 없다. However, in such a mask adsorption unit, the vertical positions of both ends of some mask adsorption units may be formed differently according to the installation state of the bracket. In this case, while some mask adsorption units are inclined, only some of the plurality of mask adsorption units cannot adsorb the upper surface of the mask to stably fix the mask.

따라서, 본 발명에서는 상기 브라켓의 설치 상태에 일정 오차가 있는 경우에도 마스크 흡착유닛 단부의 수직위치를 조절할 수 있도록 수직위치조절부재를 더 포함하여 구성된다. 그리고, 본 실시예의 수직위치조절부재는 상기 지지부(110)와 마스크 흡착유닛(200) 사이에 적층되는 복수개의 심(shim) 부재로 구성될 수 있다. 따라서, 상기 심 부재를 추가적으로 적층하거나 제거하여, 모든 마스크 흡착유닛의 하면이 상기 마스크와 평행하면서 동일한 평면상에 위치하도록, 각각의 마스크 흡착부재 단부의 수직위치를 조절하는 것이 가능하다.Therefore, in the present invention, even if there is a certain error in the installation state of the bracket is configured to further include a vertical position adjusting member to adjust the vertical position of the end of the mask adsorption unit. In addition, the vertical position adjusting member of the present embodiment may be composed of a plurality of shim members stacked between the support part 110 and the mask adsorption unit 200. Thus, by stacking or removing the shim members, it is possible to adjust the vertical position of the end portions of the respective mask absorbing members so that the lower surfaces of all the mask absorbing units are located on the same plane while being parallel to the mask.

본 실시예에서는 수직위치조절부재로서 복수개의 심 부재를 이용하여 구성하였으나, 이는 일 실시예에 불과하며 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 이 이외에도 수직방향으로 설치되는 엑추에이터를 이용하여 각각의 브라켓 또는 마스크 흡착부재의 단부를 승강시킬 수 있도록 구성하는 것도 가능하며, 이 이외에도 공지된 기타 수직방향조절부재를 이용하여 마스크 흡착부재 양단의 수직위치를 조절할 수 있다.In this embodiment, but configured using a plurality of shim member as the vertical position adjusting member, this is only one embodiment and the present invention is not limited thereto. In addition, it is also possible to configure the lifting end of each bracket or mask absorbing member by using an actuator installed in the vertical direction, and in addition to this, the vertical position of both ends of the mask absorbing member by using other known vertical direction adjusting member Can be adjusted.

이와 같이, 본 발명에 의할 경우, 마스크 흡착유닛(200)의 위치 조절이 가능한 브라켓(100)을 구비하여, 설치위치의 오차 보정 및 기판의 모델에 따른 적용성을 개선한 실런트 경화 장치를 제공할 수 있다.Thus, according to the present invention, by providing a bracket 100 that can adjust the position of the mask adsorption unit 200, to provide a sealant curing device that improves the error correction of the installation position and the applicability according to the model of the substrate can do.

본 발명에 대한 일 예로서, 본 실시예 LM 가이드를 이용하여 양축으로 수평 이동이 가능한 브라켓을 이용하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 필요에 의하여, 도 5에 도시된 바와 같이 마스크 흡착유닛 사이의 간격만을 조절할 수 있도록 일축 이동 가능한 LM 가이드를 이용하여 브라켓을 구성하는 것도 가능하며, LM 가이드 이외도 상응하는 역할을 수행할 수 있도록 다른 구성요소를 이용하여 구성할 수도 있음은 자명하다.As an example of the present invention, a bracket which can be horizontally moved on both axes using the LM guide of the present embodiment is used, but the present invention is not limited thereto. If necessary, as shown in Figure 5 it is also possible to configure the bracket using a uniaxially movable LM guide to adjust only the distance between the mask adsorption unit, other than the LM guide can perform a corresponding role It is obvious that it can also be configured using components.

도 1은 본 실시예에 따른 실런트 경화장치의 내부를 도시한 단면도,1 is a cross-sectional view showing the interior of the sealant curing apparatus according to the present embodiment,

도 2는 도 1의 마스크 흡착유닛의 단면을 나타낸 단면도,2 is a cross-sectional view showing a cross section of the mask adsorption unit of FIG.

도 3은 도 1에서 브라켓 및 마스크 흡착유닛을 도시한 사시도,Figure 3 is a perspective view of the bracket and the mask adsorption unit in Figure 1,

도 4는 본 발명에 따른 브라켓의 단면을 도시한 단면도, 그리고4 is a cross-sectional view showing a cross section of the bracket according to the present invention; and

도 5는 다른 실시예에 따른 브라켓 및 바스크 흡착유닛을 도시한 사시도이다.Figure 5 is a perspective view of the bracket and the basque adsorption unit according to another embodiment.

Claims (15)

상측에 위치하는 램프;A lamp located above; 상기 램프의 하측에 설치되며, 마스크를 흡착하는 복수개의 흡착유닛;A plurality of adsorption units installed under the lamp and adsorbing a mask; 상기 흡착유닛을 지지하며, 각각의 흡착유닛의 위치를 조절할 수 있도록 수평방향으로 이동가능하게 설치되는 브라켓;을 포함하고,And a bracket supporting the adsorption unit and installed to be movable in a horizontal direction to adjust the position of each adsorption unit. 상기 브라켓은 상기 흡착유닛을 지지하는 지지부 및 상기 지지부의 이동경로를 형성하는 경로부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.The bracket is a sealant curing apparatus characterized in that it comprises a support portion for supporting the adsorption unit and a path portion for forming a movement path of the support portion. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 복수개의 흡착유닛은 나란하게 배치되는 복수개의 막대형 부재로 구성되는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.The plurality of adsorption unit is a sealant curing apparatus, characterized in that composed of a plurality of rod-shaped members arranged side by side. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 브라켓은 상기 각각의 흡착유닛 양측에 설치되어 상기 흡착유닛을 지지하는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.The bracket is installed on both sides of each of the adsorption unit sealant curing apparatus, characterized in that for supporting the adsorption unit. 제4항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 경로부는 상기 흡착유닛의 길이 방향 또는 상기 흡착유닛의 길이방향과 수직으로 형성되는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.The path portion is a sealant curing apparatus, characterized in that formed in the longitudinal direction of the adsorption unit or perpendicular to the longitudinal direction of the adsorption unit. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 경로부는 상기 지지부가 제1 방향으로 이동 가능하게 설치되는 제1 경로부와, 상기 지지부 및 제1 경로부가 제2 방향으로 이동 가능하게 설치되는 제2 경로부로 구성되는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.The path part may include a first path part in which the support part is movable in a first direction, and a second path part in which the support part and the first path part are movable in a second direction. . 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제1, 제2 방향은 상기 흡착유닛의 길이 방향 및 상기 흡착유닛의 길이 방향과 수직 방향에 해당하는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.And said first and second directions correspond to a longitudinal direction of said adsorption unit and a longitudinal direction perpendicular to said longitudinal direction of said adsorption unit. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 경로부는 상기 지지부와 연결되는 LM 가이드를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.And the path part comprises an LM guide connected to the support part. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 경로부는 상기 지지부와 연결되는 레일을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.And the path part comprises a rail connected to the support part. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 경로부는 상기 지지부와 연결되는 액추에이터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.And the path part comprises an actuator connected to the support part. 제4항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 브라켓은 상기 흡착유닛 양측의 수직위치를 조절하기 위한 수직위치조절부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.The bracket further comprises a vertical position adjusting member for adjusting the vertical position of both sides of the adsorption unit. 제11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 수직위치조절부재는 상기 흡착유닛과 상기 지지부 사이에 적층되는 복수개의 심(shim)부재로 구성되는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.The vertical position adjusting member is a sealant curing apparatus, characterized in that consisting of a plurality of shim (shim) member laminated between the suction unit and the support. 제11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 수직위치조절부재는 수직 방향으로 승강 가능하게 설치되는 엑추에이터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.The vertical position adjusting member is a sealant curing apparatus characterized in that it comprises an actuator which is installed to be elevated in the vertical direction. 제4항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 각각의 흡착유닛의 하면에는 상기 마스크를 흡착하기 위한 복수개의 흡착공이 형성되고, 상기 복수개의 흡착공은 상기 흡착유닛의 내부를 관통하는 흡착유로와 연결되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.And a plurality of adsorption holes for adsorbing the mask on a lower surface of each of the adsorption units, wherein the plurality of adsorption holes are formed to be connected to an adsorption flow passage penetrating the inside of the adsorption unit. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 흡착유닛의 양측에는 진공압을 제공하는 공기흡입유닛과 연결되기 위한 통공이 형성되고, 상기 통공의 주변에는 상기 공기흡입유닛과 연결되는 부분의 기밀 상태를 유지하기 위한 기밀부재가 구비되는 것을 특징으로 하는 실런트 경화장치.Both sides of the adsorption unit is formed with a through-hole for connecting with the air intake unit to provide a vacuum pressure, characterized in that the airtight member for maintaining the airtight state of the portion connected to the air intake unit around the through-hole Sealant curing equipment.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR102026963B1 (en) * 2014-06-03 2019-09-30 주식회사 원익아이피에스 Substrate processing apparatus and substrate processing system including the same
KR102210656B1 (en) * 2014-08-31 2021-02-01 엘지디스플레이 주식회사 A display device hardening apparatus and methode of hardening adhesive material using the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050095925A (en) * 2004-03-29 2005-10-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Polarizing plate send equipment
KR20060050663A (en) * 2004-08-25 2006-05-19 엔이씨 엘씨디 테크놀로지스, 엘티디. Uv-ray-curing device for curing uv-heat-curable resin in a display panel
KR100704884B1 (en) * 2005-11-04 2007-04-09 에이엔 에스 주식회사 Apparatus for manufacturing colorfilter using vacuum deposition and method thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050095925A (en) * 2004-03-29 2005-10-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Polarizing plate send equipment
KR20060050663A (en) * 2004-08-25 2006-05-19 엔이씨 엘씨디 테크놀로지스, 엘티디. Uv-ray-curing device for curing uv-heat-curable resin in a display panel
KR100704884B1 (en) * 2005-11-04 2007-04-09 에이엔 에스 주식회사 Apparatus for manufacturing colorfilter using vacuum deposition and method thereof

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