KR101050632B1 - 도어 래칭 및 기판 클램핑 매커니즘들을 갖는 기판 캐리어 - Google Patents

도어 래칭 및 기판 클램핑 매커니즘들을 갖는 기판 캐리어 Download PDF

Info

Publication number
KR101050632B1
KR101050632B1 KR1020057003430A KR20057003430A KR101050632B1 KR 101050632 B1 KR101050632 B1 KR 101050632B1 KR 1020057003430 A KR1020057003430 A KR 1020057003430A KR 20057003430 A KR20057003430 A KR 20057003430A KR 101050632 B1 KR101050632 B1 KR 101050632B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
substrate carrier
platform
door
opening
Prior art date
Application number
KR1020057003430A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050057020A (ko
Inventor
미첼 알. 라이스
마틴 알. 엘리오트
로버트 비. 로랑스
제프리 씨. 휴젠스
에릭 에이. 잉글허트
Original Assignee
어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 filed Critical 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
Publication of KR20050057020A publication Critical patent/KR20050057020A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101050632B1 publication Critical patent/KR101050632B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67769—Storage means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67775—Docking arrangements

Abstract

제 1 측면에서, 자동 도어 개방기는 (1) 기판 캐리어를 지지하기 위하여 제공된 플랫폼; (2) 기판 캐리어가 플랫폼에 의해 지지되는 동안 기판 캐리어의 도어를 개방하기 위하여 제공된 도어 개방 메커니즘; 및 (3) 터널을 포함하도록 제공된다. 터널은 클린 룸 벽의 개구부로부터 플랫폼쪽으로 연장하고 적어도 부분적으로 플랫폼을 둘러싸도록 제공된다. 터널은 추가로 클린 룸 벽으로부터 플랫폼쪽으로 그리고 터널 외부로 공기 흐름을 지향시키기 위하여 추가로 제공된다. 다수의 다른 측면들은 제공된다.

Description

도어 래칭 및 기판 클램핑 매커니즘들을 갖는 기판 캐리어 {SUBSTRATE CARRIER HAVING DOOR LATCHING AND SUBSTRATE CLAMPING MECHANISMS}
본 출원은 전체적으로 여기에 참조로써 통합된 2002년 8월 31일 출원된 미국 가출원 60/407,340을 우선권 주장한다.
본 발명은 일반적으로 기판 처리에 관한 것으로, 더욱 특정하게는 기판 캐리어들, 및 처리 툴에 기판 처리를 인터페이스시키기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.
본 출원은 공동 양도되고 계류 중인 다음의 미국 특허 출원들과 관련되고, 그것들의 각각은 본 명세서에서 참조로써 그 전체가 병합된다:
2002년 8월 31일 출원된 "웨이퍼 캐리어들을 전달하기 위한 시스템(System For Transporting Wafer Carriers)"이라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/407,451, 위임 도킷 번호 6900/L );
2002년 8월 31일 출원된 "웨이퍼 캐리어 도어 개폐를 작동시키기 위해 웨이퍼 캐리어를 사용하기 위한 방법 및 장치(Method and Apparatus for Using Wafer Carrier Movement to Actuate Wafer Carrier Door Opening/Closing)"라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/407,339, 위임 도킷 번호 6976/L );
2002년 8월 31일 출원된 "웨이퍼 캐리어 전달 시스템들로부터 웨이퍼 캐리 어들을 언로딩하기 위한 방법 및 장치(Method and Apparatus for Unloading Wafer Carrier from Wafer Carrier Transport Systems)"라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/407,474, 위임 도킷 번호 7024/L );
2002년 8월 31일 출원된 "웨이퍼들을 처리 툴에 제공하기 위한 방법 및 장치(Method and Apparatus for Supplying Wafers to a Processing Tool)"라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/407,336, 위임 도킷 번호 7096/L );
2002년 8월 31일 출원된 "수직 및 수평 회전들 사이에서 웨이퍼 캐리어를 재회전시키기 위한 장치를 갖는 단부 이펙터(End Effector Having Mechanism For Reorienting A Wafer Carrier Between Vertical And Horizontal Orientations)"라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/407,452, 위임 도킷 번호 7097/L );
2002년 8월 31일 출원된 "도킹 스테이션들에서 도킹 그립퍼들을 갖는 웨이퍼 로딩 스테이션(Wafer Loading Station with Docking Grippers at Docking Stations)"이라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/407,337, 위임 도킷 번호 7099/L );
2003년 1월 27일 출원된 "웨이퍼 캐리어들을 전달하는 방법 및 장치(Method and Apparatus for Transporting Wafer Carriers)"라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/443,087, 위임 도킷 번호 7163/L );
2002년 8월 31일 출원된 "이동 컨베이어로부터 웨이퍼 캐리어들을 직접 언로딩하는 웨이퍼 캐리어 조정기(Wafer Carrier Handler That Unloads Wafer Carriers Directly From a Moving Conveyor)"라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/407,463, 위임 도킷 번호 7676/L1);
2003년 1월 27일 출원된 "이동 컨베이어로부터 웨이퍼 캐리어들을 직접 언로딩하는 웨이퍼 캐리어 조정기(Wafer Carrier Handler That Unloads Wafer Carriers Directly From a Moving Conveyor)"라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/443,004, 위임 도킷 번호 7676/L2);
2003년 1월 27일 출원된 "웨이퍼 캐리어를 서스펜딩하기 위한 오버헤드 전달 플랜지 및 지지체(Overhead Transfer Flange and Support for Suspending Wafer Carrier)"라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/443,153, 위임 도킷 번호 8092/L);
2003년 1월 27일 출원된 "처리 툴들 사이에서 웨이퍼 캐리어들을 전달하는 시스템 및 방법(Systems and Methods for Transferring Wafer Carriers Between Processing Tools)"이라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/443,001, 위임 도킷 번호 8201/L);
2003년 1월 27일 출원된 "웨이퍼 캐리어를 저장하고 로딩하기 위한 장치 및 방법(Apparatus and Method for Storing and Loading Wafer Carriers)"이라는 제목의 미국 가 특허 출원(출원 번호 60/443,115, 위임 도킷 번호 8202/L);
반도체 장치들은 실리콘 기판들, 유리 판들 또는 그와 같은 것, 대개 웨이퍼로 지칭되는 것과 같은 기판들 상에 컴퓨터 및 모니터 등에서 사용하기 위해 형성된다. 이러한 장치들은 얇은 막 증착, 산화, 에칭, 폴리싱 및 열처리 및 리소그래픽 처리와 같은 순차적 제조 단계들에 의해 형성된다. 다수의 제조 단계들이 종종 단일 처리 툴에 의해 수행될 수 있을지라도, 기판들은 전형적으로 장치 제조를 위해 필요한 제조 단계들의 적어도 몇몇 단계들 동안 상이한 처리 툴들 사이에서 전달되어야 한다.
기판들은 일반적으로 처리 툴들과 다른 위치들 사이의 전달을 위해 캐리어에 저장된다. 다수의 경우에 있어서, 기판 캐리어들은 기판들의 먼지 오염을 감소시키기 위해, 공기 또는 다른 가스들의 고정 용량(stationary volume)으로 그 안에 포함된 기판 또는 기판들을 완전히 둘러싼다. 종래의 기판 캐리어는 일반적으로 도어를 가지며, 도어는 기판 캐리어가 처리 툴과 접속될 때 기판 캐리어로부터 기판 추출이 허용되도록 개방 및/또는 제거되어야 한다.
도어가 폐쇄되고자 할때(예를 들어 전달 동안) 때때로 캐리어의 도어가 폐쇄된 채로 남아있도록 보장하기 위해, 기판 캐리어를 위한 래칭 메커니즘을 제공하는 것이 바람직할 수 있다. 캐리어가 처리 툴에서 또는 처리 툴에 수용되고 있는 동안에 각각의 기판이 캐리어 하우징 내에 고정되도록 보장하기 위해 기판 캐리어에 클램핑 메커니즘을 제공하는 것이 또한 바람직할 수 있다. 그러한 래칭 및 클램핑 메커니즘들은 전형적으로 다수의 작동기들, 및 기판 캐리어들의 비용 및 복잡도를 증가시키는 특별히 설계된 키들의 사용을 필요로 한다. 좀 더 단순하고, 경제적인 기판 캐리어가 바람직하다.
본 발명의 제 1 실시예에서, (1) 기판 캐리어를 지지하도록 제공된 플랫폼; (2) 기판 캐리어가 플랫폼에 의해 지지되는 동안 기판 캐리어의 도어를 개방하도록 제공된 도어 개방 메커니즘; 및 (3) 터널을 포함하는 자동 도어 개방기가 제공된다. 터널은 클린 룸 벽의 개구부에서 플랫폼 쪽으로 연장되며 상기 플랫폼을 적어도 부분적으로 둘러싸도록 제공된다. 터널은 추가로 공기 흐름을 클린 룸 벽으로부터 상기 플랫폼 쪽으로 그리고 터널 밖으로 지향되도록 제공된다.
본 발명의 제 2 실시예에서, 기판을 처리 툴에 로딩하는 방법이 제공된다. 상기 방법은 (1) 플랫폼을 처리 툴과 분리시키는 클린 룸 벽과 인접하여 배치된 플랫폼 상에 기판 캐리어를 로딩하는 단계; (2) 상기 클린 룸 벽의 개구부로부터 상기 플랫폼 쪽으로 연장되는 터널로 기판 캐리어를 적어도 부분적으로 둘러싸는 단계; (3) 기판 캐리어가 상기 플랫폼에 의해 지지되는 동안 기판 캐리어의 도어를 개방하는 단계; 및 (4) 공기 흐름을 상기 클린 룸 벽에서 상기 플랫폼 쪽으로 그리고 터널 밖으로 보내는 단계를 포함한다.
본 발명의 제 3 실시예에서, 기판 캐리어를 언래칭하는 장치가 제공된다. 장치는 (1) 기판 캐리어를 지지하도록 제공된 지지 구조물을 포함하는 기판 전달 위치; 및 (2) 상기 지지 구조물에 대해 배치되는 작동기 메커니즘을 포함한다. 상기 작동기 메커니즘은 상기 지지 구조물에 의해 지지되는 기판 캐리어의 래칭 메커니즘과 상호 작용하도록 제공되고, 이는 기판 캐리어의 언래칭을 작동시키기 위해 기판 캐리어의 이동을 이용하기 위함이다.
본 발명의 제 4 실시예에서, 기판 캐리어의 기판 클램핑 메커니즘을 방출시키기 위한 장치가 제공된다. 장치는 (1) 기판 캐리어를 지지하도록 제공되는 지지 구조물을 포함하는 기판 전달 위치, 및 (2) 지지 구조물과 관련하여 배치되는 작동기 메커니즘을 포함한다. 작동기 메커니즘은 지지 구조물에 의해 홀딩되는 기판 캐리어의 기판 클램핑 메커니즘과 상호 작용하도록 제공되어, 기판 클램핑 메커니즘의 방출을 작동시키기 위해 기판 캐리어의 이동을 이용할 수 있다.
본 발명의 제 5 실시예에서, 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예들의 양쪽 특성들을 이용함으로써 기판 캐리어를 언래칭하고 기판 캐리어의 기판 클램핑 메커니즘을 방출시키기 위한 장치가 제공된다. 다른 다수의 실시예들이 제공되고, 이를 수행하기 위한 시스템들 및 방법들이 제공된다.
본 명세서 및 청구항에서 사용된 바와 같은 "래칭 메커니즘"이라는 용어는 폐쇄된 위치에 도어를 홀딩하기 위해 기판 캐리어의 도어에 힘을 가하는 장치를 의미한다는 것을 이해할 수 있을 것이다. "래칭"은 기판 캐리어의 도어를 폐쇄된 위치에 홀딩하는 것으로 인식된다. "언래칭"은 기판 캐리어의 도어가 개방되도록 허용하는 것으로 인식된다(도어가 실제로 개방되었는지와는 상관없음).
본 발명의 장치와 방법에 의해, 도어를 개방시키고자 하는 중력 또는 다른 함에도 불구하고 기판 캐리어의 도어는 안정적으로 폐쇄된다. 본 발명에 따라 또한, 기판 캐리어에 포함되는 기판 클램핑 메커니즘은, 기판이 기판 캐리어의 전달 동안에 기판 캐리어 내에서 안정적 위치에 유지되도록 하는 것을 보장할 수 있다. 이러한 상태는 기판 및 기판 캐리어의 내부 사이의 의도하지 않은 접촉을 방지할 수 있고, 이에 의해 기판의 먼지 오염 또는 손상 가능성을 감소시켜준다. 본 발명의 하나 이상의 실시예에서, 이러한 특성들에는 더 적은 갯수의 작동기 또는 다수의 기존의 기판 캐리어들에서 사용되는 특별히 설계된 키들의 사용을 들 수 있다.
본 발명의 다른 특성들 및 이점들은 다음의 상세한 설명, 청구항 및 첨부된 도면들로부터 좀 더 완전히 자명해질 것이다.
도 1은 본 발명에 따라 제공되는 기판 전달 위치를 도시하는 개략적인 측면 상부도.
도 2A 및 도 2B는 각각 폐쇄된 상태 및 개방 상태에서 본 발명의 기판 캐리어를 도시하는, 본 발명에 따라 제공되는 기판 캐리어의 등가도.
도 2C는 도 2B의 기판 캐리어의 측면도.
도 3은 본 발명의 기판 캐리어가 폐쇄되고 래칭된 상태에 있을때 도 2A 및 도 2B의 본 발명의 기판 캐리어의 구성요소들 중 몇몇을 도시하는 확대된 부분적 측면도.
도 4A는 도 1의 기판 전달 위치의 일부로써, 본 발명에 따라 제공되는 캐리어 개방 메커니즘의 등가도.
도 4B는 도 4A의 일부를 도시하는 확대된 등가도.
도 4C는 배치되는 도 2A 내지 도 2C의 기판 캐리어들을 갖는, 도 4A의 캐리어 개방 메커니즘의 정면도.
도 5A는 도 2A 및 도 2B의 기판 캐리어에 포함되고 본 발명에 따라 제공되는 클램핑 메커니즘을 도시하는 개략적인 등가도.
도 5B는 도 5A의 일부를 도시하는 확대된 개략적 등가도.
도 5C는 기판 캐리어의 리드(lid)가 제거되고 클램핑 부재등이 기판을 클램핑되는, 도 2A 및 도 2B의 기판 캐리어의 실시예의 등가도.
도 5D는 도 5C의 일부를 자세히 도시하는 확대된 등가도.
도 6A는 기판과 클램핑 접촉하는, 도 5A 및 도 5B의 클램핑 메커니즘의 클램핑 부재를 도시하는 부분적 측면도.
도 6B는 대체 클램핑 부재 구성이 이용될 때 도 5C의 기판 캐리어의 횡단면도.
도 6C는 도 6B의 일부분을 자세하게 도시하는 확대된 등가도.
도 7A 및 도 7B는 각각 도 5A 및 도 5B와 유사하고, 방출된 상태의 본 발명의 기판 클램핑 메커니즘을 도시하는 도면.
도 7C는 철회된(retracted) 클램핑 부재들을 가지는, 도 6B와 유사한 횡단면도.도 7D는 도 7C의 일부분을 자세하게 도시하는 확대된 등가도.
삭제
도 7E는 기판 캐리어의 리드가 제거되고 클램핑 부재들이 기판으로부터 철회되는, 기판 캐리어의 실시예의 등가도.
도 8은 본 발명에서 이용될 수 있는 기판 캐리어 조정기를 포함하는 기판 로딩 스테이션의 대체 실시예의 등가도.
본 발명에 따라, 기판 캐리어의 도어 래칭 메커니즘은 (예를 들어, 반도체 장치 제조 동안에 사용될 수 있는 처리 툴의) 기판 전달 위치에서 래칭 메커니즘의 작동기 메커니즘과의 상호 작용에 의해 자동적으로 언래칭된다. 동일한 작동기 메커니즘은 기판 캐리어(예를 들어, 전달 동안 기판 캐리어에 의해 저장된 기판을 보호함)의 일부일 수 있는 기판 클램핑 메커니즘을 또한 해제할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따라 제공되는 기판 전달 위치를 포함하는 처리 툴 및 관련된 팩토리(factory) 인터페이스를 도시하는 개략적인 측면 상부도이다. 도 1에서, 참조 번호 100은 처리 툴의 개략적 표시를 나타낸다.
당업자에게는 친숙한 바와 같이, 처리 툴(100)은 하나 이상의 로드 록들, 하나 이상의 전달 챔버들, 및/또는 하나 이상의 전달 챔버들과 관련되는 하나 이상의 처리 챔버들을 포함할 수 있다. 이러한 특성들은 개별적으로 도시되지 않는다. 처리 챔버들에서, 하나 이상의 반도체 장치 제조 처리들은 처리 툴(100)로 로딩되는 기판에 응용될 수 있다.
팩토리 인터페이스(FI)(102)는 처리 툴(100)로 로딩되도록 기판들을 포함하는 하나 이상의 캐리어들 및 처리 툴(100) 사이에 인터페이스를 제공하기 위해 처리 툴(100)에 결합된다. 팩토리 인터페이스(102)는 클린 룸 주변부(105)로부터 팩토리 인터페이스의 내부를 분리시키는 클린 룸 벽(103)을 포함한다. 팩토리 인터페이스(102)는 그것을 통해 하나 이상의 기판들이 팩토리 인터페이스(102)로 전달될 수 있는 포트(104)를 포함한다. 하나 이상의 포트(104)가 사용될 수도 있다. 선택적 도어(106)는 팩토리 인터페이스(102)의 포트(104)를 선택적으로 폐쇄할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서, 도 1에 도시되는 도어(106)는 없어도 무방하고, 팩토리 인터페이스(102)는 양의 내부 압력을 가질 수 있는데 이는 일정한 기체 흐름이 포트(104)를 통해 팩토리 인터페이스(102)를 빠져나가도록 하기 위함이다. 이에 의해 팩토리 인터페이스(102)의 양의 내부 압력은 먼지/오염물들이 팩토리 인터페이스(102)에 유입되는 것을 방지하도록 작용한다. 양의 압력은 HEPA, ULPA 또는 해당 분야에 공지된 유사한 클린 룸 등급 필터들을 사용하고, (예를 들어, 팩토리 인터페이스의 상부에서 하부로) 팩토리 인터페이스를 통하는 필터링된 공기 흐름을 통해 팩토리 인터페이스(102)에서 유지될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서, 팩토리 인터페이스(102)의 내부 및 외부 사이의 0.005 인치 내지 0.2 인치의 수압차가 이용될 수 있다(예를 들어, 재순환되고 필터링되는 주변 공기를 사용함).
기판 전달 위치(108)는 본 발명에 따라 팩토리 인터페이스(102)의 외부에 제공된다(예를 들어, 도어(106) 및 포트(104)의 외부 측에 제공됨). 기판 전달 위치(108)는 그 위에 본 발명의 기판 캐리어(112)(아래에서 더 설명됨)가 지지될 수 있는 지지체 플랫폼(110)과 같은 기판 캐리어 지지 구조물을 포함한다.
모터 스테이지 또는 뉴우머틱(pneumatic) 실린더과 같은 캐리어 이동 장치(114)는 지지체 플랫폼(110)과 관련되고, 장치는 기판 캐리어(112)를 팩토리 인터페이스(102) 쪽으로 팩토리 인터페이스와 떨어지도록 이동시키기 위해 제공된다. 대안으로써 기판 캐리어는 예를 들어 기판 캐리어를 서스펜딩되도록 기판 캐리어의 오버헤드 전달 플랜지(미도시됨)를 통해 기판 캐리어를 그립하는 그립퍼(미도시됨)에 의해 지지될 수 있다. 그립퍼 또는 지지체(110)는 기판 캐리어 배치를 위해 하나 이상의 운동성 피쳐들(예를 들어, 운동성 핀, 마운트 등)을 포함할 수 있다.
도 1에서, 참조 번호 116은 도어 또는 기판 캐리어(112)의 개방 가능한 부분을 나타낸다. 기판 전달 위치(108)에 포함되는 작동기 메커니즘(아래에서 설명됨), 및 기판 캐리어(112) 상에 제공되는 래칭 메커니즘(아래에서 설명됨)은 도 1에서 분리되어 도시되지 않는다. 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 따라, 기판 캐리어(112)의 운동은 기판 캐리어(112)의 개방 가능한 부분(116)을 언래칭시키기 위해 기판 전달 위치(108)의 작동기 메커니즘의로 하여금 기판 캐리어(112)의 래칭 메커니즘과 상호 작용하도록 한다. 기판 전달 위치(108)의 작동기 메커니즘 및 기판 캐리어(112)의 래칭 메커니즘의 상호작용은 기판 캐리어(112)의 기판 클램핑 메커니즘(도 1에 미도시됨)을 방출시키는 역할을 할 수 있다. 기판 전달 위치(108)의 작동기 메커니즘, 및 기판 캐리어(112)의 기판 클램핑 메커니즘은 도 2A 내지 도 7E를 참조하여 아래에서 더 설명될 것이다.
또한 팩토리 인터페이스(102)는 기판 캐리어(112)와 처리 툴(100) 사이에서 기판들을 전달하도록 도시되지는 않은 기판 조작 로봇을 포함할 수 있다.
도 1의 실시예에서, 제어기(118)는 팩토리 인터페이스(102)의 도어(106) 및 캐리어 이동 장치(114)의 동작 제어를 위해 그것들과 결합된다.
참조 번호 120은 기판 전달 위치(108)와 연관되어 장착될 수 있는 (하나 이상의 기판 캐리어들을 저장하기 위한) 하나 이상의 기판 캐리어 저장 선반들을 나타낸다. 예를 들어, 하나 이상의 기판 캐리어 저장 선반들(120)은 도시된 바와 같이 기판 전달 위치(108)의 상부에 위치될 수 있다.
도 2A는 폐쇄된 상태의, 도 1의 본 발명의 기판 캐리어(112)의 등가도이고, 도 2B는 개방된 상태의 본 발명의 기판 캐리어(112)를 도시하는, 도 2A와 유사한 도면이다. 본 발명의 기판 캐리어(112)는 기판(202)(도 2B)이 포함될 수 있는 캐리어 하우징(200)을 포함한다. 캐리어 하우징(200)은 캐리어 하우징(200)에 피벗(pivot) 장착되는 도어(206)를 포함하는 개방 가능한 부분(204)을 포함한다. 도어(206)는 도 2A에 도시되는 폐쇄된 배치 및 도 2B에 도시되는 개방된 배치 사이에서 피벗팅된다.
본 발명에 따라서, 본 발명의 기판 캐리어(112)는 래칭 메커니즘(208)을 포함한다. 적어도 하나의 실시예에서, 본 발명의 래칭 메커니즘(208)은 캐리어 하우징(200)의 측벽(214)을 따라, 바람직하게는 (비록 다른 위치들이 이용될지라도) 하우징의 하부 에지(212)를 따라 배열되는 연장된, 관-형태의 엔클로저(210)를 포함할 수 있다. 엔클로저(210)는 예를 들어 직사각형 또는 사각형의 단면을 가진다. 다른 형태들이 이용될 수 있다. 엔클로저(210)는 예를 들어 캐리어 하우징(200)과 일체식으로 형성되거나 또는 개별적으로 형성될 수 있다.
도 2C의 측면도에 도시된 바와 같이, 캐리어 하우징(200)의 개방 가능한 부분(204)은 각을 이루는 면(216)(예를 들어, 45°다른 몇몇 가능한 각도)을 가질 수 있고, 도어(206)는 여각을 이루는 면(218)을 가질 수 있어, 도어(206)가 폐쇄되어 있을 때 캐리어 하우징의 개방 가능한 부분(204)에 대한 스크러빙 작업(scrubbing action)을 하지 않게 된다. 결과적으로, 도어(206)를 폐쇄할 때 먼지 발생 같은 것을 감소시킬 수 있다. 각을 이루는 면들(216 및 218) 중 하나 또는 모두는 그 사이의 밀봉을 위해 실리콘과 같은 탄성 물질로 커버될 수 있다.
도 3은 본 발명의 래칭 메커니즘(208)의 예시적 실시예를 자세히 도시하는, 본 발명의 기판 캐리어(112)의 부분적 측면 입면도이다. 래칭 메커니즘(208)의 래칭 동작은 도어(206)의 우측(301)(도 2B)에서 바깥쪽으로 연장되는 탭(300) 및 엔클로저(210) 내부에서 슬라이드 가능한 래치 부재(302) 사이의 상호 작용에 의해 제공된다. 도시된 예시에서, 탭(300)은 도어(206)의 하부 에지(304)(도 3) 상부쪽에 배치된다. 래치 부재(302)는 엔클로저(210)의 마우쓰(mout)(308)로부터 외부로 연장되는 외부 단부(306)를 가진다. 래치 부재(302)는 래치 부재(302)의 외부 단부(306)에서 바깥쪽으로 연장되는 핑거(finger)(310)를 포함한다. 핑거(310)는, 하기에서 보다 더 설명되고 도 3에 도시된 바와 같이 래칭 부재(208)가 래칭 상태일 때, 도어(206)가 폐쇄되고(도 2A 및 도 3) 래치 부재(302)의 핑거가 탭(300)의 아래에 놓여지도록 구성된다. 이러한 배치에서, 핑거(310)는 캐리어 하우징(200)에 대해 탭(300)(및 그로 인한 도어(206))이 피벗 포인트 P로 피벗팅하는 것을 (예를 들어, 도어(206)를 폐쇄된 배치로 유지하기 위핸 탭(300) 상에 상향 힘을 가함으로써)방지한다. 특정하게, 핑거(310)의 부분(310a)은 도 3에 도시된 바와 같이 탭(300)의 부분(300a)에 접촉한다.
본 발명의 적어도 하나의 실시예에서, 탭(300)의 부분(300a) 및 핑거(310)의 부분(310a)은 수직 평면에 대해 경사진다(비록 다른 각도가 이용되거나 각도가 이용되지 않을지라도 예를 들어 약 10 내지 15°로 경사짐). 핑거(310)의 부분(310a)의 경사짐은 기판 캐리어(112)의 폐쇄에 도움이 될 수 있는 수직 성분을 제공한다. 탭(300)의 부분(300a)의 경사짐은 탭(300) 및 핑거(310)의 표면에 대해 마찰 접촉을 좀 더 균등하게 분포시킴으로써 탭(300) 및/또는 핑거(310)의 먼지 발생 및/또는 마멸을 감소시킬 수 있다. 낮은 마찰 코팅 또는 접촉 표면(미도시됨)이 또한 탭(300) 및/또는 핑거(310)에 부가될 수 있는데, 이는 기판 캐리어(112)의 개방 및/또는 폐쇄 동안에 탭(300) 및 핑거(310) 사이의 마찰적 상호 작용을 감소시키기 위함이다. 그러한 낮은 마찰 코팅/접촉 표면의 예들은 폴리테트라플루오르에틸렌(PTFE) 또는 테프론
Figure 112008054671410-pct00022
, PTFE-형 물질, 다른 낮은 마찰 및/또는 낮은 입자 생성 물질들 등을 포함한다.
래칭 메커니즘(208)은 또한 스프링(312)과 같은 바이어싱 장치를 포함한다. 스프링(312)은 엔클로저(210)의 내부 단부(313)(예를 들어, 엔클로저(210)의 마운쓰(308)와 마주보는 단부)에 유지된다. 스프링(312)은 도어(206)의 탭(300) 쪽으로(예를 들어 도 3에 도시되는 래칭 배치 쪽으로) 래치 부재(302)를 바깥쪽을 향하도록 바이어싱 하기 위해 래치 부재(302)의 내부 단부(314)에 대해 푸시한다. 다른 적합한 바이어싱 장치들이 유사하게 이용될 수 있다.
스텝(318)이 핑거(310)가 외부 단부(306)에서 나타나는 지점에서 래치 부재(302)의 외부 단부(306) 상에 형성된다. 래칭 메커니즘(208)이 도 3에 도시되는 래칭 배치에 있을 때, 래치 부재(302)의 바깥쪽으로 향하는 움직임을 제한하기 위해 래치 부재(302)의 스텝(318)은 탭(300)의 측면(320)과 접한다.
도 2A 및 도 2B를 참조하면, 캐리어 하우징(200)의 측벽(214)과 연관되는 하나의 래칭 메커니즘(208)만이 도면에 도시되었을지라도, 도어(206)의 좌측(322)을 래칭시키기 위해 제 2 래칭 메커니즘이 캐리어 하우징(200)의 반대측벽과 연관되어 제공될 수 있다.
도 4A는 본 발명에 따라 구성되는 캐리어 개방 메커니즘(400)의 예시적 일 실시예의 등가도이다. 예시적 실시예에서, 캐리어 개방 메커니즘(400)은 팩토리 인터페이스(102)의 포트(104)의 근처, 또는 그 내부에 배치될 수 있다. 일반적으로, 캐리어 개방 메커니즘(400)은 기판 캐리어(112)의 기판(202)으로의 접근을 원하는 임의의 위치에서 이용될 수 있다.
도 4A를 참조하면, 캐리어 개방 메커니즘(400)는, 포트(104)를 통해 기판 전달 위치(108)를 향해 팩토리 인터페이스(102)(도 1)의 내부로부터 바깥쪽으로 보여지는 것으로 도시된다. 도 4B는 캐리어 개방 메커니즘(400)의 부분(401)(도 4A)을 자세하게 도시하는 확대된 등가도이다. 도 4A 및 도 4B에서 도시된 바와 같이, 캐리어 개방 메커니즘(400)는, 일반적으로 기판 캐리어(112)의 프로파일과 매칭되고 아래에서 더 설명되는 바와 같이 예를 들어 직사각형 터널(402)에 의해 기판 캐리어(112) 주위에 청정 공기 흐름을 위한 작은 틈을 제공하는 형태이다. 다른 구성들이 이용될 수 있다. 예를 들어, 캐리어 개방 메커니즘(400)는 포트(104)와 인접 결합되는 작동 장치(아래에서 자세하게 더 설명됨)를 갖는 두 개의 측면부들을 포함할 수 있다.
도 4B를 참조하여, 캠 슬롯(404)이 터널(402)의 측벽(406)에 형성된다. 본 명세서에 미리 병합된, 2002년 8월 31일 출원된 "웨이퍼 캐리어 도어 개폐를 작동시키기 위해 웨이퍼 캐리어를 사용하기 위한 방법 및 장치"라는 제목의 미국 특허 출원(출원 번호 60/407,339, 위임 도킷 번호 6976/L )에서 좀 더 완전히 설명되는 바와 같이, 기판 캐리어(112)의 도어(206)에는 도 2B 및 도 2C에 도시되는 개방된 배치로 도어(206)를 안내하기 위해 캐리어 개방 메커니즘(400)의 캠 슬롯(404)과 협력하는 캠 팔로워(cam follower)(408)에 제공된다.
위에서 언급된 번호의 계류 특허 출원에서 설명되는 바와 같이, 도어(206)의 개구부는 포트(104)에 대해 기판 캐리어(112)의 도킹 움직임에 의해 발생할 수 있다. 본 명세서에서 "도킹(docking)" 또는 도킹 움직임이라는 용어는 클린 룸 벽의 포트와 같이 기판들이 교환되는 포트 쪽을 향해 기판 캐리어의 내부 쪽을 향하는 운동을 의미한다. 유사하게, "언도킹(undocking)" 또는 언도킹 이동은 클린 룸 벽의 포트와 같이 기판들이 교환되는 포트와 떨어져서 기판 캐리어의 바깥쪽을 향하는 운동을 언급한다. 도 4B에서 화살표(410)는 개략적으로 그러한 도킹 움직임을 나타낸다.
도 4B에서 도시된 바와 같이, 정지부(412)는 측벽(406), 및 상기 측벽(406)의 절삭부(carved-out region)(413)에서 터널(402)의 캠 슬롯(404)에 인접하여 배치된다. 절삭부(413)는 래칭 메커니즘(208)을 수용하도록 구성된다(래칭 메커니즘은 도 2A 내지 도 2C에서 도시되는 바와 같이 캐리어 하우징(200)의 측벽들로부터 나타난다). 도 4A 및 도 4B에서는, 캐리어 개방 메커니즘(400)과 나란히 위치하는 캐리어 이동 장치(114)(예를 들어, 슬레드), 및 기판 캐리어(112)를 캐리어 이동 장치(114) 상에서 정확한 배치로 안내하기 위해 기판 캐리어(112)의 하부면 상에서(도 1) 정렬 피처(미도시됨)와 상호 작용하기 위해 캐리어 이동 장치(114) 상에 제공되는 운동성 핀(414)이 또한 도시된다. 전형적으로 다수의 피처들(예를 들어, 세 개 또는 그 이상)이 캐리어 이동 장치(114)에 대해 기판 캐리어(112)의 배치를 돕기 위해 이용될 수 있다. 스텝(416)이 캐리어 개방 메커니즘(400)의 정지부(412)에 인접하여 제공되는데, 이는 구조물을 정지부(412)에 제공하고 기판 캐리어(112) 및/또는 캐리어 이동 장치(114) 주변의 공기 흐름을 제어하기(아래에서 더 설명됨) 위함이다. 캐리어 개방 메커니즘(400)의 반대 측벽(예를 들어, 측벽(418))이 캠 슬롯, 도 2A 내지 도 2C에서 측(214)과 마주보는 기판 캐리어(112) 측 상에 제공되는 래칭 메커니즘을 수용하도록 구성된 절삭부, 정지부 및/또는 스텝으로 유사하게 구성된다.
정지부(412)는 기판 캐리어(112)의 래칭 메커니즘(208)과 상호작용하기 위한 작동 메커니즘으로서 기능한다(도 3). (도면들에 도시되지 않으며, 터널 402의 측벽 418(도 4A)에 제공된 부가적인 포트 정지부는 기판 캐리어 112의 제 2 래칭 메커니즘(도시되지 않음)과 작동할 수 있다.) 특히, 기판 캐리어(112)의 도킹 이동의 결과로서, 래칭 부재(302)의 핑거(310)(도 3)는 정지부(412)와 접촉하게 된다. 기판 캐리어(112)는 도킹 동안 스텝(416)과 접촉하거나 접촉하지 않을 수 있다. 기판 캐리어(112)가 화살표(410)에 의해 표시된 방향으로 이동하기 시작할 때(도 4B), 상기 방향으로 래치 부재(302)의 이동은 정지부(412)에 의해 정지되어, 래치 부재(302)가 스프링(312)의 바이어싱 힘에 대향하여 밀봉부(210)로 밀려지게 한다. 결과적으로, 탭(300)은 래치 부재(302)의 핑거(310)로부터 방출되어, 도어(206)는 (포인트 P(도 3)을 중심으로) 피봇하고 캠 슬롯(404)(도 4B) 및 캠 팔로워(follower)(도 3)의 상호작용에 의해 개방된다.
도 4C는 그 내부에 배치된 기판 캐리어(112)를 가진 도 4A의 캐리어 개방 메커니즘(400)의 전면 평면도이다. 도 4C에 도시된 바와 같이, 스텝(416)은 캐리어 개방 메커니즘(400) 및 기판 캐리어(112) 및 캐리어 이동 메커니즘(114) 사이에 제어되는 공기 갭(G)을 제공함으로써 팩토리 인터페이스(102)(도 1)로부터 포트(104) 및 캐리어 개구부 개방 메커니즘(400)을 통하여 과도한 공기 흐름을 감소시키는데 도움을 줄 수 있다(예를 들어, 수평 층류를 형성함). 수평 층류는 예를 들어 약 0.05 내지 0.150 인치 사이의 공기 갭(G)을 제공함으로써 생성될 수 있다. 다른 공기 갭 간격들은 사용될 수 있다.
상기된 바와 같이, 양의 정적 압력은 팩토리 인터페이스(예를 들어, 팩토리인터페이스의 상부에서 팩토리 인터페이스의 하부로)를 통과하는 여과된 공기의 흐름을 통해 팩토리 인터페이스(102)내에서 유지될 수 있고 HEPA, ULPA 또는 유사한 클린 룸 등급의 필터들의 사용은 종래 기술에 공지된다. 본 발명의 일실시예에서, 팩토리 인터페이스(102)의 내부 및 외부 사이의 0.005-0.2 인치의 수압차는 사용될 수 있다(예를 들어, 재순환되고, 여과된 순환 공기 사용).
본 발명의 하나 이상의 다른 측면들에서, "포트 도어"라 불리는 도어(106)(도 1)는 여기에 전체적으로 참조로써 통합되고, 발명의 명칭이 "Wafer Cassette Load Station"인 미국특허 제 6,082,951 호에 기술된 바와 같이 기판 캐리어(112)의 도어(116)를 언로킹하고, 수용하고 지지하기 위한 키들(도시되지 않음) 또는 다른 언로킹 및/또는 도어 개방 메커니즘들을 포함할 수 있다. 도어(106)는 플랫폼(110)으로부터 뒤쪽으로 멀리 이동한 다음 낮추어지고, 일반적으로 공지된 바와 같이 기판 캐리어(112)의 도어(116)를 지탱한다 ; 선택적으로 도어(106)는 임의의 x 축 이동이 부족할 수 있고 플랫폼(106)은 포트(104)(또는 클린 룸 벽(103)의 다른 유사한 개구부)로부터 멀리 기판 캐리어(112)를 이동시켜서 도어(106)는 상기 미국특허 제 6,082,951 호에 기술된 바와 같이 기판 캐리어(112)를 접촉없이 낮출 수 있다(기판 캐리어 112의 도어 116를 지지함). 그 다음 플랫폼(110)은 기판 캐리어(112)를 다시 포트(104)로 이동하게 할 수 있다(예를 들어, 기판이 도어에서 제거되게 함). 어느 경우나, 본 발명에 따라, 기판 캐리어(112)는 터널(402)내에 유지되고 상기된 바와 같이 팩토리 인터페이스(102)로부터의 공기의 흐름, 예를 들어 수평 층류를 수용한다.
공기의 수평 층류는 기판이 처리 툴에 전달될 기판 캐리어(112)로부터 철회되는 궤적에 입자가 도달되는 것을 방지하는 경향이 있다. 수평 층류 및/또는 양의 압력 팩토리 인터페이스 장치는 기판 캐리어 이동이 기판 캐리어 도어를 개방하고 및/또는 폐쇄하기 위하여 사용되든 아니든, 임의의 기판 캐리어(예를 들어, 단일 기판 캐리어, 다중 기판 캐리어, 전면 개구부 기판 캐리어, 전면 개구부 단일 포드 등), 및 임의의 기판 기판 캐리어 도어 장치에 사용된다. 예를 들어, 본 발명은 처리 툴측으로부터 개방 기판 캐리어를 지나(예를 들어, 터널 402의밖으로) 박편 공기 흐름을 생성하기 위하여, 기판들이 개방 기판 캐리어 및 처리 툴 사이에 전달되는 개구부를 둘러싸도록 사용될 수 있다.
본 발명의 기판 캐리어(112)에 포함될 수 있는 기판 클램핑 메커니즘은 도 5A-7E를 참조하여 기술될 것이다.
도 5A는 본 발명에 따라 제공된 예시적인 기판 클램핑 메커니즘(500)의 개략적인 동일 도면이다. 도 5B는 도 5A의 일부(502)를 상세히 도시하는 확대된 동일 도면이다.
본 발명의 기판 클램핑 메커니즘(500)은 래칭 메커니즘(208)과 대해 상기된 종류의 래치 부재들(302)과 크램핑 부재들(504)의 상호작용에 의해 동작한다(도 3). 본 발명의 일실시예에서, 도 5A에 도시된 바와 같이, 두쌍의 클램핑 부재들(504)을 포함하는 4개의 클램핑 부재들(504)은 제공되고, 각각의 클램핑 부재들(504)의 쌍은 각각의 래치 부재(302)와 연관된다. 클램핑 부재들의 다른 부재들은 사용될 수 있다.
도 5B를 참조하여, 본 발명의 일실시예에서 각각의 클램핑 부재(504)는 수평 레그(506) 및 비교적 짧은 수직 레그(508)를 가진 일반적으로 L 모양이다. 다른 모양들/구성들은 사용될 수 있다. 도 5B에서, 캐리어 하우징(200)의 측벽(도 2A-2C)은 점선(214)에 의해 개략적으로 표현된다. 각각의 클램핑 부재(504)는 캐리어 하우징(200) 측벽(214)의 각각의 구멍(511)(도 2C 및 도 5C가 하기에 기술됨)에 슬라이딩 가능하게 장착될 수 있다.
도 5A, 5B에 도시된 바와 같이, 기판 클램핑 메커니즘(500)이 클램핑 조건내에 있을때, 래치 부재(302)의 내부 측면(512)은 클램핑 부재(504)의 수직 레그(508)와 접촉하고 클램핑 부재(504) 수평 레그(506)의 단부(514)가 기판(202)의 에지(516)와 접촉하도록 클램핑 부재(505)를 홀딩한다. 기판(202)과 모두 4개의 클램핑 부재들(504)의 동시 접촉은 기판(202)을 클램프하기 위하여 사용한다(예를 들어, 기판 캐리어 112의 전달 동안 기판(202)을 정지되게 홀딩하기 위하여).
도 5C는 기판 캐리어(112)의 실시예의 등가도이고, 기판 캐리어(112)의 리드(도시되지 않음)는 제거된다. 도 5D는 도 5C 부분(517)의 상세한 것들을 도시하는 확대 등가도이다. 도 5C 및 5D의 실시예에서, 기판 캐리어(112)는 각을 이루는 측면 벽 부분(522) 및 각을 이루지 않는 측면 벽 부분(524)을 가진 중공 영역(520)을 포함한다(도 5D). 각을 이루지 않는 측면 벽 부분(524)은 기판(202)과 거의 동일한 직경을 가지며(예를 들어 비록 다른 크기들이 사용될 수 있지만 일실시예에서 기판 202보다 약 0.004 내지 0.005 인치 큼), 각을 이루는 측면 벽 부분(522)은 기판(202)이 기판 캐리어(112)의 각을 이루지 않는 측면 벽 부분(524)으로 낮추어질때 기판(202)의 정확한 배치를 보장하도록 각이 형성된다. 적어도 하나의 실시예에서, 각을 이루는 측면 벽 부분(522)은 비록 다른 각도들이 사용될 수 있지만, 기판(202)의 평면으로부터 약 45°의 각을 가진다.
도 5C 및 5D에서, 클램핑 부재들(504)은 클램핑 부분에 도시되고; 래치 부재(302)는 상기된 바와같은(도 5C에 도시된 바와같은) 폐쇄 위치에 도어(206)를 홀딩하기 위하여 도어(206)의 탭(300) 아래로 연장된다. 도 5C에 추가로 도시된 바와 같이, 클램핑 위치에서, 래치 부재(302)는 구멍들(511)을 통하여 기판(202)과 접촉하게 각각의 클램핑 부재(504)를 압축하기 위하여 각각의 클램핑 부재(504)의 수직 레그(508)에 대해 가압한다.
도 6A는 클램핑 부재들(504)중 하나와 기판(202) 사이의 접촉을 도시하는 부분 측면도이다. 도 6A에 도시된 바와 같이, 기판(202)과의 접촉은 클램핑 부재(504)의 수평 레그(506) 단부(514)에 형성된 V 모양 그루브(526)를 통해 이루어질 수 있다. V 모양 그루브와 다른 구성들은 기판(202)와 접촉하도록 사용될 수 있다. 예를 들어, 도 6B는 도 5C의 기판 캐리어(112)의 단면도이고, 도 6C는 도 6B의 부분(525)을 상세히 도시하는 확대 등가도이고, 여기서 클램핑 부재들(504)은 수평 레그(506)의 단부(514)에 편평한 그루브(528)를 가진다. 상기된 바와 같이, 다른 구성들은 기판(202)의 효과적인 클램핑을 제공하기 위하여 사용될 수 있다. 도 6B 및 도 6C에 추가로 도시된 바와 같이, 각각의 클램핑 부재(504)의 수직 레그(508)는 래치 부재(302)쪽으로 바이어스된다(예를 들어, 스프링 530 또는 다른 적당한 바이어싱 메커니즘을 통해).
래칭 메커니즘(208)에 의해 생성된 오염 및 또는 기판(202)과 클램핑 부재들(504) 사이의 접촉으로 인한 손상으로부터 기판(202)을 보호하기 위하여 (1) 박막(예를 들어, 도 6C의 격판 같은 가요성 박막 532)은 기판(202)이 배치되는(도 6B 및 6C에 도시된 바와 같이) 기판 캐리어(112)의 세척 기판 영역(533)으로부터 래칭 메커니즘(208)을 격리하기 위하여 사용될 수 있고; 및/또는 (2) 각각의 클램핑 부재(504)의 단부(514)는 기판(202)(도 6A에 도시된 바와 같이)과 접촉하기 위해 "부드러운 면"(534)이 제공될 수 있다. 예를 들어, 가요성 박막(532)은 입자들을 생성할 수 있는 래칭 메커니즘(208)(예를 들어, 래치 부재 302, 클램핑 부재들 504, 스프링들 530 등)의 이동부들 모두로부터 기판(202)을 격리할 수 있다. 가요성 박막(532) 및/또는 부드러운 면(534)은 예를 들어 우레탄, 실리콘 등을 포함할 수 있다.
도 5B를 다시 참조하여, 노치(536)는 래치 부재(302)의 측면(512)에 형성된다. 기판 클램핑 메커니즘(500)이 도 5B에 도시된 바와 같이 클램핑 위치에 있을때, 노치(536)는 클램핑 부재(504)(추가로 이하에 기술되는 바와 같이)에 관련하여 순방향으로 소정 거리 배치된다. 도시되지 않은 유사한 노치는 도 5B의 래치 부재(302)와 연결된 다른 클램핑 부재(504)에 관련하여 유사하게 배치된다. 게다가, 유사한 노치들(도시되지 않음)은 다른 래치 부재(302)(도 5A 및 도 6B)에 제공되고, 유사하게 다른 래치 부재(302)와 연관된 클램핑 부재들(504)에 관련하여 유사하게 배치된다.
도 7A 및 7B는 도 5A 및 5B와 각각 유사한 도면들이지만, 방출(비클램핑) 조건에서 기판 클램핑 메커니즘(500)을 도시한다. 도 7B는 도 7A의 일부를 상세히 도시하는 확대도이다.
도 5A 및 도 5B 및 도 7A 및 7B를 참조하여, 클램핑 메커니즘(500)의 방출은 다음과 같이 발생한다. 기판 캐리어(112)의 도킹 이동은 포트(104)(도 1)에 관련하여 수행된다. 즉, 캐리어 하우징(200)(도 5B 및 7B에서 측벽(214)에 의해 표현됨), 래치 부재들(302), 클램핑 부재들(504) 및 기판(202)은 도 5B(도 4B의 화살표 410)의 화살표(702)에 의해 표히된 방향으로 함께 이동된다. 도 5B를 참조하여, 도킹 이동 동안, 래치 부재(302)의 핑커(310)는 캐리어 개방 메커니즘(400)(도 4B)의 장지부(412)와 접촉하게 된다. 따라서, 화살표(702)에 의해 표현된 방향으로 래치 부재(302)의 이동은 중단된다. 클램핑 부재(504)는 그것이 노치(536)에 도달할때 까지 래치 부재(302)를 따라 전진한다. 도 6B 및 6C의 스프링(530) 같은 바이어싱 장치는 클램핑 부재(504)가 기판(202)으로부터 멀리 접촉을 해제하도록 클램핑 부재(504)가 노치(536)에 진입하도록 하게 하기 위해 사용된다. 모두 4개의 클램핑 부재들(504)(도 5A)은 실질적으로 유사한 방식으로 기판(202)와 동시에 접촉을 해제하게 이동하여, 기판(202)을 클램핑으로부터 벗어나게 할 수 있다. (상기된 바이어싱 장치에 대한 대안으로서, 클램핑 부재(504), 및 특히 상기 클램핑 부재의 수직 레그(508)는 그루브 장치의 텅(tongue) 또는 다른 유사한 캐밍(caming) 장치에 의해 래치 부재(302)에 결합되어, 클램핑 부재(504)는 노치(536)로 당겨지고 기판 (202)으로부터 멀어진다.)
도 7C는 도 6B와 유사한 단면도이지만, 클램핑 부재들(504)은 각각의 노치 부재(302)의 노치들(536)쪽으로 후퇴되고; 도 7D는 도 7C의 부분(704)을 상세하게 도시하는 확대 등가도이고; 도 7E는 기판 캐리어(112)의 실시예의 등가도이고, 기판 캐리어(112)의 뚜껑(lid)(706)은 제거된다. 도 7C-7E에 도시된 바와 같이, 기판 캐리어(112)가 각각의 래치 부재(302)에 관련하여 앞으로 이동할때, 스프링(530)은 래치(302)쪽으로 각각의 클램핑 부재(504)를 바이어스하여, 각각의 클램핑 부재(504)는 구멍(511)을 통하여 기판(202)으로부터 멀리 후퇴함으로써 그 각각의 노치(536)에 진입한다. 그후 기판(202)은 하기된 바와 같이 기판 캐리어(112)로부터 추출된다.
도 1-7E를 참조하여, 동작시, 처리 툴(100)에서 처리될 기판(202)을 포함하는 기판 캐리어(112)는 예를 들어 팩토리 인터페이스(102)와 연결된 캐리어 조정기 로보트(도시되지 않음)에 의해 기판 전달 위치(108)의 지지 플랫폼(110)상에 배치된다. 제어기(118)는 도어(106)(만약 제공되면)가 개방되게 하고, 캐리어 이동 메커니즘(114)이 포트(104)를 가진 기판 캐리어(112)를 도킹하게 하게 한다. 기판 캐리어(112)의 도킹 이동은 래치 부재들(302)의 핑거들(310)(도 3)이 터널(402)의 정지부들(412)(단지 하나가 도 4B에 도시됨)과 접촉되게 한다. 기판 캐리어(112)가 계속 전진할때, 래치 부재들(302)은 탭들(300)(단지 하나가 도 3에 도시됨)로부터 맞물림이 해제되고 엔클로저(210)쪽으로 밀려진다. 한편, 캠 부재들(408)(도 3에 단지 하나가 도시됨)은 터널(402)의 캠 슬롯들(404)(도 4B에 단지 하나만 도시됨)에 진입하고 기판 캐리어(112)의 도어(206)를 아래쪽으로 피봇하도록 아래쪽으로 인도된다(도 2B, 2C 및 7E에 도시된 바와 같이). 동시에, 클램핑 부재들(504)은 래치 부재들(302)의 노치들(536)(도 5B, 7B 및 7D)쪽으로 이동한다. 클램핑 부재들(504)은 노치들(536)에 진입하여 기판(202)으로부터 멀리 이동하고 기판(202)을 클램핑으로부터 벗어나게 한다. 적어도 하나의 실시예에서, 각각의 래치 부재(302)의 노치들(536)은 캠 부재(408)가 캠 슬롯(404)의 바닥에 있고 및/또는 도어(206)가 완전히 개방될때 클램핑 부재들(504)이 노치들(536)내에 배치되도록 배치된다.
도어(206)(만약 제공되면)가 언래치되고 개방되고, 기판(202)이 언클램핑되기 때문에, 기판(202)은 기판 캐리어(112)로부터 추출을 위하여 이용할 수 있다. 팩토리 인터페이스(102)의 기판 조정 로보트(도시되지 않음)는 기판(202)을 기판 캐리어(112)로부터 추출하고 기판(202)을 처리 툴(100)쪽으로 로딩한다. 예를 들어, 기판 조정기의 블레이드(도시되지 않음)는 기판(202) 아래로 연장하여(예를 들어, 기판 캐리어 112(도 7C)의 영역 533에서) 중공 밖의 영역(520)을 지나 기판 캐리어(112)(도 7B)의 영역으로 기판(202)을 들어올린다. 그 다음 기판(202)은 처리 툴(100)쪽으로 로딩될 수 있다. 기판(202)은 처리 툴(100)에서 처리된다. 기판(202)의 처리가 완료된후, 기판 조정 로보트는 기판(202)을 기판 캐리어(112)쪽으로 리턴한다.
캐리어 이동 메커니즘(114)은 그 다음 포트(104)로부터 기판 캐리어(112)를 언도킹한다. 기판 캐리어(112)의 언도킹 이동은 캠 팔로워들(408)이 도어(206)에 밀접하게 캠 슬롯들(404)의 위쪽으로 가이드되게 한다. 캐리어 하우징(200)이 캐리어 개구부 메커니즘(400)의 정지부들(412)로부터 멀리 이동될때, 스프링들(312)의 바이어싱 힘은 래치 부재들(302)이 엔클로저(210)로부터 외부로 이동되게 하여, 도어(206)상 탭들(300)과 핑거들(310)이 맞물리게 한다. 따라서 도어(206)는 폐쇄 위치에서 다시 래칭된다.
래치 부재들(302)의 동일한 이동에 의해, 래치 부재들(302)의 노치들(536)(도 5B, 7B)은 클램핑 부재들(504)로부터 멀리 이동된다. 이에 응답하여, 래치 부 재들(302)의 측면들(512)은 클램핑 부재들(504)이 기판(202)과 접촉하게 하여, 기판(202)을 클램핑한다. 기판(202)이 클램프된 래치된 기판 캐리어(112)는 기판 전달 위치(108)로부터 멀리 이동될 준비가되고 추가 처리를 위하여 다른 처리 툴로 이동되거나 제조 설비의 다른 위치에 이동될 수 있다.
본 발명은 기판 캐리어 도어의 안전 래칭, 및 기판 캐리어내의 기판의 안전한 클램핑을 위하여 제공한다. 결과적으로, 기판에 대한 거친 조정 또는 손상 및/또는 기판의 입자 오염은 피해질 수 있다.
상기 기술은 본 발명의 예시적인 실시예들만을 개시하고; 본 발명의 범위내에 속하는 상기된 장치의 변형들은 당업자에게 명백하게 될 것이다. 예를 들어, 비록 본 발명이 단일 기판 캐리어들에 관련하여 도시되었지만, 본 발명이 하나 이상의 기판을 홀딩하는 기판 캐리어들에 적용할 수 있다는 것이 또한 생각된다. "단일 기판 캐리어"는 한번에 단지 하나의 가판을 포함하도록 형성되고 크기인 기판 캐리어를 의미하는 것으로 이해될 것이다.
여기에 도시된 바와 같이, 본 발명의 기판 캐리어는 본 발명의 래칭 메커니즘 및 본 발명의 기판 클램핑 메커니즘 모두를 포함한다. 그러나, 또한 본 발명에 따라 기판 클램핑 메커니즘없이 래칭 메커니즘을 포함하는 기판 캐리어를 제공하거나, 래칭 메커니즘없이 기판 클램핑 메커니즘을 가진 기판 캐리어를 제공하는 것이 생각된다. 선택적으로 또는 부가적으로, 클램핑 부재들(504)은 기판(202)으로부터 멀리 회전하도록 구성될 수 있다.
본 발명은 하나 이상의 다음을 수행하는 바와 같은 임의의 처리 툴과 관련하 여 사용될 수 있다 : 증착, 산화, 에칭, 열처리, 포토리소그래피 등. 팩토리 인터페이스에 본 발명의 기판 전달 위치를 사용하는 대신, 본 발명의 기판 전달 위치는 처리 툴의 로드 록 또는 임의의 다른 적당한 위치에 직접적으로 사용될 수 있다.
본 발명은 처리 툴에 기판 캐리어를 인터페이싱하는 것과 관련하여 도시되었다. 그러나, 본 발명은 기판 캐리어를 측정 위치, 화학/기계적 폴리싱(CMP) 장치, 또는 기판이 기판 캐리어에 전달될 수 있는 임의의 다른 위치 또는 장치에 인터페이싱하는 것에 똑같이 적용할 수 있다.
여기에 도시된 지지 플랫폼(110) 및 캐리어 이동 메커니즘(114) 대신, 기판 전달 위치(108)는 기판 캐리어 지지 구조로서 기능하고, 기판 캐리어(112)를 그립하고(예를 들어, 기판 캐리어의 상부 플랜지들에 의해) 및 발명의 명칭이 "Wafer Loading Station with Docking Grippers at Docking Stations"인 2002년 8월 31일 출원된(위임 도킷 번호 7099) 이전에 통합된 U.S. 특허 출원번호 60/407,337에 개시된 바와같은 포트(104)쪽으로 및 포트로부터 멀리 기판 캐리어(112)를 이동시키기 위하여 제공되는 그립퍼(gripper)(도시되지 않음)를 가질 수 있다. 예를 들어, 도 8은 본 발명에 사용될 수 있는 기판 캐리어 조정기를 포함할 수 있는 기판 로딩 스케이션의 다른 실시예의 등가도이다. 도 8에서, 참조 번호(801)는 다른 기판 로딩 스테이션을 가리킨다. 참조 번호(803)는 다른 기판 캐리어 조정기를 가리킨다. 도 8의 기판 로딩 스테이션(801)은 일반적으로 발명의 명칭이 "Wafer Loading Station with Docking Grippers at Docking Stations"(위임 도킷 번호 7099)이고 2002년 8월 31일에 출원된 상기와 공동 계류중인 미국특허출원번호 60/407,337에 개시된 로딩 스테이션의 실시예와 일반적으로 유사할 수 있다.
도 8의 기판 캐리어 조정기(803)는 수직 가이드들(805, 807)상에서 수직 이동을 위하여 장착된 한쌍의 수직 가이드들(805, 807) 및 수평 가이드(809)를 포함한다. 지지부(811)는 수평 가이드(809)를 따라 수평 이동을 위하여 수평 가이드(809)상에 장착된다. 단부 이펙터(813)는 지지부(811)상에 장착된다. 단부 이펙터(813)는 발명의 명칭이 "End Effector Having Mechanism For Reorienting A Wafer Carrier Between Vertical And Horizontal Orientations"(위임 도킷 7097)이고 2002년 8월 31일 출원된 이전에 통합된 미국특허출원 번호 60/407,452에 기술된 바와 같이 수직에서 수평으로 그리고 그 반대로 기판 캐리어의 방향을 변화시킬 수 있는 단부 이펙터를 포함할 수 있다. 임의의 다른 적당한 단부 이펙터는 또한 기판 캐리어의 오버헤드 전달 플랜지를 통하여 기판 캐리어를 그립하는 단부 이펙터 처럼 사용될 수 있다.
기판 로딩 스테이션(801)이 비록 보다 적은 도킹 스테이션들의 컬럼들이 사용될 수 있을지라도 도킹 스테이션들(815)의 두개의 컬럼들을 가진다는 것이 관찰될 것이다. 각각의 도킹 스테이션(815)은 다수의 도킹 그립퍼들(817)을 포함한다. 각각의 도킹 그립퍼(817)는 그 오버헤드 전달 플랜지를 통하여 기판 캐리어를 지지하고, 기판 캐리어(이전에 기술된 바와 같이)를 도킹하고 언도킹하기 위하여 제공된다. 선택적으로, 도킹 그립퍼들은 기판 캐리어(예를 들어, 기판 캐리어의 바닥 표면을 통해)를 지지하고 도킹 플랫폼이 장착되는 클린 룸 벽(또는 팩토리 인터페이스 챔버 같은 챔버의 전면 벽)쪽으로 이동하고 그리고 상기 벽으로부터 멀리 이동하는 도킹 플랫폼들로 대체될 수 있다.
바람직하게, 기판 로딩 스테이션(801)은 수직 및 수평 가이드들(805, 807 및 809)이 결합되는 프레임(F)을 포함한다. 이런 방식에서, 바람직한 기판 로딩 스테이션(801)은 모듈 방식이고 빠르게 설치되고 캘리브레이트될 수 있다. 기판 로딩 스테이션(801)이 하나 이상의 저장 쉘브들(shelve)(S)(플랫폼에 도시됨)을 포함하는 경우, 저장 선반(S)은 또한 프레임(F)상에 장착될 수 있다. 기판 캐리어 조정기 및 저장 선반 또는 선반들 모두를 이 프레임에 장착함으로써, 기판 캐리어 조정기 및 저장 선반들은 서로에 관련하여 소정 위치를 가진다. 이것은 추가로 설치 및 캘리브레이션을 용이하게 하고, 모듈식 기판 로딩 스테이션을 사용하는 것의 다른 장점이다. 유사하게, 오버헤드 팩토리 전달 시스템으로부터 기판 캐리어들을 로딩 및/또는 언로딩하기 위한 전용 메커니즘들 같은 다른 메커니즘은 예를 들어 발명의 명칭이 "Systemp For Transporting Wafer Carriers"(위임 도킷 번호 6900)이고 2002년 8월 31일 출원된 이전에 통합된 미국특허출원 60/407,451에 기술된 바와같은 프레임(F)에 바람직하게 장착될 수 있다.
일측면에서, 프레임(F)은 클린 룸 벽, 또는 챔버(예를 들어, 팩토리 인터페이스 챔버)의 전면 벽상 소정 장착 위치들(예를 들어, 사전드릴 처리된 볼트 홀들 등)에 장착될 수 있다. 바람직하게, 벽은 또한 도킹 그립퍼들 또는 도킹 플랫폼들이 장착되는 소정 장착 위치들을 가진다. 부가적으로, 상기 벽은 기판 캐리어 개방 메커니즘(400)이 장착될 수 있는 소정 장착 위치들을 가질 수 있다. 프레임(F), 도킹 메커니즘들 및 기판 캐리어 개방 메커니즘이 각각 동일한 표면상 소정 위치들에 장착될 때, 각각의 상대적 위치들을 미리 결정되고, 기판 로딩 스테이션(801)의 설치 및 캘리브레이션은 용이해진다.
본 발명이 그 에시적인 실시예들과 관련하여 개시되었지만, 다른 실시예들은 다음 청구항들에 의해 한정된 바와 같이, 본 발명의 사상 및 범위내에 속할 수 있다는 것이 이해되어야 한다.

Claims (26)

  1. 자동 도어 개방기로서,
    기판 캐리어를 지지하도록 적응된 플랫폼;
    상기 기판 캐리어가 상기 플랫폼에 의해 지지되는 동안 상기 기판 캐리어의 도어를 개방하도록 적응된 도어 개방 메커니즘; 및
    터널
    을 포함하고, 상기 터널은,
    클린 룸 벽의 개구부로부터 상기 플랫폼을 향해 연장되고 부분적으로 또는 전체적으로 상기 플랫폼을 둘러싸며,
    상기 클린 룸 벽의 개구부와 상기 플랫폼 사이에 유지된 압력 차에 응답하여 상기 클린 룸 벽의 개구부로부터 상기 플랫폼으로의 공기 흐름을 허용함으로써 상기 클린 룸 벽으로부터 상기 플랫폼을 향해 그리고 상기 터널의 외부로 공기 흐름을 지향시키도록
    적응되는,
    자동 도어 개방기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 캐리어는 전면 개방 기판 캐리어를 포함하는, 자동 도어 개방기.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 캐리어는 단일 기판 캐리어를 포함하는, 자동 도어 개방기.
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 캐리어는 전면 개방 일체화 포드를 포함하는, 자동 도어 개방기.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 도어 개방 메커니즘은 상기 터널내에 배치되는, 자동 도어 개방기.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 공기 흐름은 상기 기판 캐리어를 부분적으로 또는 전체적으로 둘러싸는 층류(laminar air flow)를 포함하는, 자동 도어 개방기.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 클린 룸 벽은 처리 툴의 팩토리 인터페이스 벽을 포함하는, 자동 도어 개방기.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 도어 개방 메커니즘은 상기 기판 캐리어의 도어를 언로킹하고, 수용하고 지지한 다음 기판이 상기 기판 캐리어로부터 제거되도록 하강되도록 적응되는 포트 도어를 포함하는, 자동 도어 개방기.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 포트 도어는 상기 기판 캐리어로부터 이격되어 이동된 다음 하강하도록 적응되는, 자동 도어 개방기.
  13. 제 11 항에 있어서, 상기 플랫폼은,
    상기 포트 도어가 하강되도록 상기 포트 도어로부터 상기 기판 캐리어를 이격하여 이동시키고,
    그 다음, 상기 클린 룸 벽의 개구부쪽으로 상기 기판 캐리어를 다시 이동시키도록
    적응되는, 자동 도어 개방기.
  14. 기판을 처리 툴내에 로딩하는 방법으로서,
    플랫폼을 상기 처리 툴과 분리시키는 클린 룸 벽과 인접하게 위치되는 상기 플랫폼 상에 기판 캐리어를 로딩하는 단계;
    상기 클린 룸 벽의 개구부로부터 상기 플랫폼을 향해 연장되는 터널로 상기 기판 캐리어를 부분적으로 또는 전체적으로 둘러싸는 단계;
    상기 기판 캐리어가 상기 플랫폼에 의해 지지되는 동안 상기 기판 캐리어의 도어를 개방하는 단계; 및
    상기 클린 룸 벽으로부터 상기 플랫폼을 향해 그리고 상기 터널의 외부로 공기 흐름을 지향시키는 단계
    를 포함하고,
    상기 공기 흐름을 지향시키는 단계는:
    상기 클린 룸 벽의 개구부 및 상기 플랫폼 사이의 압력차를 생성하는 단계; 및
    상기 클린 룸 벽의 개구부 및 상기 플랫폼 사이에 유지되는 압력차에 응답하여 상기 클린 룸 벽의 개구로부터 상기 플랫폼으로의 공기 흐름을 허용하는 단계
    포함하는,
    기판 로딩 방법.
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 삭제
  19. 삭제
  20. 제 14 항에 있어서,
    상기 기판 캐리어의 도어를 개방하는 단계는 상기 기판 캐리어의 도어를 개방하기 위한 도킹 이동을 사용하도록 적응된 도어 개방 메커니즘을 사용하는 단계를 포함하는, 기판 로딩 방법.
  21. 삭제
  22. 삭제
  23. 제 14 항에 있어서,
    상기 클린 룸 벽의 개구부 및 상기 플랫폼 사이의 상기 압력 차를 생성하는 단계는 상기 처리 툴과 연관된 팩토리 인터페이스에 여과된 공기를 흘려보내는 단계를 포함하는, 기판 로딩 방법.
  24. 제 14 항에 있어서,
    상기 클린 룸 벽의 개구부 및 상기 플랫폼 사이의 상기 압력 차를 생성하는 단계는 상기 클린 룸 벽의 개구부 및 상기 플랫폼 사이에 0.0005 내지 0.2 인치 사이의 수압 차를 유지하는 단계를 포함하는, 기판 로딩 방법.
  25. 삭제
  26. 제 14 항에 있어서,
    상기 클린 룸 벽으로부터 상기 플랫폼을 향해 그리고 상기 터널의 외부로 공기 흐름을 지향시키는 단계는 상기 클린 룸 벽으로부터 상기 플랫폼으로 그리고 상기 터널의 외부로 층류를 지향시키는 단계를 포함하는, 기판 로딩 방법.
KR1020057003430A 2002-08-31 2003-08-28 도어 래칭 및 기판 클램핑 매커니즘들을 갖는 기판 캐리어 KR101050632B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US40734002P 2002-08-31 2002-08-31
US60/407,340 2002-08-31
PCT/US2003/026985 WO2004021413A1 (en) 2002-08-31 2003-08-28 Substrate carrier having door latching and substrate clamping mechanisms

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050057020A KR20050057020A (ko) 2005-06-16
KR101050632B1 true KR101050632B1 (ko) 2011-07-19

Family

ID=31978463

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020057003430A KR101050632B1 (ko) 2002-08-31 2003-08-28 도어 래칭 및 기판 클램핑 매커니즘들을 갖는 기판 캐리어

Country Status (5)

Country Link
KR (1) KR101050632B1 (ko)
CN (1) CN1689141B (ko)
AU (1) AU2003273251A1 (ko)
TW (1) TWI310229B (ko)
WO (1) WO2004021413A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI393231B (zh) * 2008-05-21 2013-04-11 Unimicron Technology Corp 嵌埋半導體晶片之封裝基板及其製法
KR200473415Y1 (ko) * 2012-05-10 2014-07-04 신형철 폴리셔용 이중 도어 시스템
US10738381B2 (en) * 2015-08-13 2020-08-11 Asm Ip Holding B.V. Thin film deposition apparatus

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970006725B1 (ko) * 1992-08-04 1997-04-29 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 가압식 밀봉 운반가능한 컨테이너, 가압식 인터페이스 장치, 가스 공급 분배 시스템을 갖는 운송장치, 및 자동화 및 컴퓨터화된 컨베이어 베이스 제조라인 구조
KR100221983B1 (ko) * 1993-04-13 1999-09-15 히가시 데쓰로 처리장치

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5261935A (en) * 1990-09-26 1993-11-16 Tokyo Electron Sagami Limited Clean air apparatus
ES2078718T3 (es) * 1992-08-04 1995-12-16 Ibm Estructuras de cadenas de fabricacion a base de transportadores totalmente automatizados e informatizados adaptados a recipientes transportables estancos a presion.
US5565034A (en) * 1993-10-29 1996-10-15 Tokyo Electron Limited Apparatus for processing substrates having a film formed on a surface of the substrate
US5827118A (en) * 1996-08-28 1998-10-27 Seh America, Inc. Clean storage unit air flow system
US6244812B1 (en) * 1998-07-10 2001-06-12 H-Square Corporation Low profile automated pod door removal system

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970006725B1 (ko) * 1992-08-04 1997-04-29 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 가압식 밀봉 운반가능한 컨테이너, 가압식 인터페이스 장치, 가스 공급 분배 시스템을 갖는 운송장치, 및 자동화 및 컴퓨터화된 컨베이어 베이스 제조라인 구조
KR100221983B1 (ko) * 1993-04-13 1999-09-15 히가시 데쓰로 처리장치

Also Published As

Publication number Publication date
TWI310229B (en) 2009-05-21
AU2003273251A1 (en) 2004-03-19
CN1689141A (zh) 2005-10-26
CN1689141B (zh) 2012-07-18
KR20050057020A (ko) 2005-06-16
TW200409273A (en) 2004-06-01
WO2004021413A1 (en) 2004-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7299831B2 (en) Substrate carrier having door latching and substrate clamping mechanisms
US7258520B2 (en) Methods and apparatus for using substrate carrier movement to actuate substrate carrier door opening/closing
US11378337B2 (en) Door opener and substrate processing apparatus provided therewith
JP7413428B2 (ja) 側方収納ポッド、機器フロントエンドモジュール、及び、基板を処理する方法
TWI823166B (zh) 電子設備製造裝置、系統及方法中的裝載端口操作
KR100575549B1 (ko) 포오트 도어의 유지 및 배출 시스템
US4995430A (en) Sealable transportable container having improved latch mechanism
KR100516863B1 (ko) 기판 처리 장치의 로드 포트 시스템 및 기판의 처리 방법
US5788458A (en) Method and apparatus for vertical transfer of a semiconductor wafer cassette
JP3391623B2 (ja) 半導体加工装置のためのローディング及びアンローディング用ステーション
US20050111935A1 (en) Apparatus and method for improved wafer transport ambient
KR19990082011A (ko) 진공 일체형 표준 메카니컬 인터페이스 시스템
US11501987B2 (en) Loadlock module and semiconductor manufacturing apparatus including the same
US10278501B2 (en) Load lock door assembly, load lock apparatus, electronic device processing systems, and methods
US6318953B1 (en) SMIF-compatible open cassette enclosure
JP4306798B2 (ja) 基板キャリアおよびロードロック用ドア駆動装置
JP2022551815A (ja) 基板処理装置
TW201917076A (zh) 運輸容器
KR101050632B1 (ko) 도어 래칭 및 기판 클램핑 매커니즘들을 갖는 기판 캐리어
WO2007078406A2 (en) Methods and apparatus for opening and closing substrate carriers
US20230415936A1 (en) Load port and method for opening/closing storage container

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140627

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160629

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180912

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190711

Year of fee payment: 9