KR101032438B1 - 액정표시패널의 제조장치 - Google Patents

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KR101032438B1 KR1020040038886A KR20040038886A KR101032438B1 KR 101032438 B1 KR101032438 B1 KR 101032438B1 KR 1020040038886 A KR1020040038886 A KR 1020040038886A KR 20040038886 A KR20040038886 A KR 20040038886A KR 101032438 B1 KR101032438 B1 KR 101032438B1
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Abstract

본 발명은 액정표시패널의 제조장치에 관한 것으로, 액정표시소자의 제조공정 중 어느 한 공정이 진행되는 프로세스챔버; 외부로부터 스퍼터링공정 대상의 기판을 인수받고 상기 프로세스챔버에 직접 연결되는 로드락챔버; 상기 로드락챔버 내의 기판을 상기 프로세스챔버 내로 이송하기 위한 이송수단; 상기 프로세스챔버의 제1 측에 배치되며 상기 기판에 대향 가능한 제1 타겟, 제1 음극 및 제1 자석; 및 상기 프로세스챔버 내에서 상기 기판을 사이에 두고 상기 제1 측과 반대측의 제2 측에 배치되며 상기 기판에 대향 가능한 제2 타겟, 제2 음극 및 제2 자석을 포함한다.

Description

액정표시패널의 제조장치{Apparatus For Fabricating Liquid Crystal Display Pane}
도 1은 종래의 액정표시패널을 나타내는 도면이다.
도 2는 스퍼터링 공정을 수행하기 위한 액정표시패널의 제조장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3a 내지 도 3e는 트랜스 챔버에서 프로세서챔버로의 기판 이송 및 스퍼터링을 설명하기 위한 도면이다.
도 4은 본 발명에 따른 액정표시패널의 제조장치를 나타내는 도면이다.
도 5는 도 4에 도시된 LM 가이드를 나타내는 도면이다.
도 6a 내지 도 6e는 본 발명에 따른 액정표시패널의 제조장치의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
4,104 : 로드락챔버 8,108 : 프로세스챔버
30,130 : 기판 40 : 스퍼터링장치
150,160,190 : LM 가이드 170,180 : 이송유닛
본 발명은 액정표시패널의 제조장치에 관한 것으로, 특히 부피가 소형화됨과 아울러 액정표시패널의 공정시간을 단축할 수 있는 액정표시패널의 제조장치에 관한 것이다.
도 1은 일반적인 액정표시패널을 나타내는 사시도이다.
도 1에 도시된 액정표시패널은 액정(86)을 사이에 두고 합착된 컬러필터 기판(81)과 TFT 기판(91)을 구비한다.
액정(86)은 자신에게 인가된 전계에 응답하여 회전됨으로써 TFT 기판(91)을 경유하여 입사되는 빛의 투과량을 조절하게 된다.
컬러필터 기판(81)은 상부기판(80a)의 배면 상에 형성되는 컬러필터(82) 및 공통전극(84)을 구비한다. 컬러필터(82)는 적(R), 녹(G) 및 청(B) 색의 컬러필터층이 스트라이프(Stripe) 형태로 배치되어 특정 파장대역의 빛을 투과시킴으로써 컬러표시를 가능하게 한다. 인접한 색의 컬러필터(82)들 사이에는 도시하지 않은 블랙 매트릭스(Black Matrix)(도시하지 않음)가 형성되어 인접한 셀로부터 입사되는 빛을 흡수함으로써 콘트라스트의 저하를 방지하게 된다.
TFT 기판(91)은 하부기판(80b)의 전면에 데이터라인(99)과 게이트라인(94)이 상호 교차되도록 형성되며, 그 교차부에 TFT(90)가 형성된다. TFT(90)는 게이트라 인(94)에 접속된 게이트전극, 데이터라인(99)에 접속된 소스전극, 채널을 사이에 두고 소스전극과 마주보는 드레인전극으로 이루어진다. 이 TFT(90)는 드레인전극을 관통하는 접촉홀을 통해 화소전극(92)과 접속된다. 이러한 TFT(90)는 게이트라인(94)으로부터의 게이트신호에 응답하여 데이터라인(99)으로부터의 데이터신호를 선택적으로 화소전극(92)에 공급한다.
화소전극(92)은 데이터라인(99)과 게이트라인(94)에 의해 분할된 셀 영역에 위치하며 광투과율이 높은 투명전도성물질로 이루어진다. 이 화소전극(99)은 드레인전극을 경유하여 공급되는 데이터신호에 의해 상부기판(80a)에 형성되는 공통전극(84)과 전위차를 발생시키게 된다. 이 전위차에 의해 하부기판(80b)과 상부기판(80a) 사이에 위치하는 액정(86)은 유전율이방성에 의해 회전하게 된다. 이에 따라, 광원으로부터 화소전극(92)을 경유하여 공급되는 광이 상부기판(80a) 쪽으로 투과된다.
이와 같은 구성을 갖는 액정표시패널의 반도체층, 절연층, 다수의 게이트 전극 및 데이터 라인 등의 신호라인들 등 무기물을 증착하는 경우 스퍼터링(Sputtering) 장치가 이용된다. 스퍼터링 장치는 플라즈마에 의해 이온을 가속시켜 이온을 타겟에 충돌하게 하여 기판에 타겟물질을 성막하는 장치이다. 이 스퍼터링장치를 이용한 스퍼터링공정은 고온에서 진행되는 화학증착장치에 비해 기판을 약 400℃의 저온으로 유지하면서 박막을 형성할 수 있는 장점이 있다.
도 2는 종래의 스퍼터링 장치를 포함하는 액정표시패널의 제조장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2에 도시된 액정표시패널의 제조장치는 중앙에 배치된 트랜스 챔버(2), 트랜스 챔버(2)의 주위에 방사형으로 배치되는 로드락(4) 챔버, 언로드락(6)챔버, 제1 내지 제4 프로세스 챔버(8,9,10,11) 등으로 이루어지며, 로드락챔버(4)와 트랜스챔버(2)가 연결되는 영역에 위치하는 제1 도어(16), 언로드락챔버(6)와 트랜스챔버(2)가 연결되는 영역에 위치하는 제2 도어(17)가 배치되고, 트랜스챔버(2)와 제1 내지 제4 프로세스 챔버(8,9,10,11)를 연결하는 영역에는 제3 도어(12)들이 배치된다.
트랜스퍼 챔버(2) 내에는 이송 기구로서 기판(10)을 자동 이송할수 있는 제1 로봇이 설치되어 로드락 챔버(4)에 로딩된 기판을 프로세스 챔버 예를 들어 제1 프로세스 챔버(8)로 이송시킨다.
로드락 챔버(4)에는 제2 로봇에 의해 기판이 로딩된다.
제1 내지 제4 프로세스 챔버(8,9,10,11)내에는 스퍼터링 장치가 위치함으로써 실제로 스퍼터링공정이 실시된다.
제1 도어(16)는 로드락챔버(4)와 트랜지 챔버(2)의 환경을 각각 분리하는 역할을 하고, 제2 도어(17)는 언로드락챔버(6)와 트랜지 챔버(2)의 환경을 각각 분리하는 역할을 한다. 제3 도어(12)들은 트랜스 챔버(2)와 프로세스 챔버(8,9,10,11)의 환경을 분리함과 아울러 프로세스 챔버(8,9,10,11)의 고진공을 유지할 수 있게 하는 역할을 한다.
이러한 스퍼터링 장비의 작동을 설명하면, 기판이 기판카세트에 소정의 개수(25매 정도)가 수용되고, 제2 로봇에 의해 로드락챔버(4) 내에 배치된다. 그리고, 트랜스챔버(2)의 제1 로봇이 로드락챔버(4) 내의 기판을 한 매씩 꺼내어 각 프로세스 챔버(8,9,10,11)에 순차적으로 이송하고, 스퍼터링을 포함하는 각종 공정을 행한 후에, 언로드락 챔버(6)로 되돌아가도록 되어 있다. 언로드락챔버(6)에는 마찬가지로 기판카세트가 배치되어 있으며, 처리가 끝난 기판을 소정의 개수까지 수용 가능하게 되어 있다.
도 3a 내지 도 3e는 종래의 트랜스 챔버(2)내에 배치된 제1 로봇에 의해 기판이 프로세스 챔버내로 이송되는 과정과 스퍼터링을 설명하기 위한 도면이다.
먼저, 트랜스챔버(2)내로 이송된 기판(30)은 도 3a에 도시된 바와 같이 트랜스챔버(2)의 제1 로봇(32)이 프로세스챔버 예를 들어, 제1 프로세스 챔버(8)의 스퍼티링 장치(40)로 이동한다. 제1 로봇의 암(34)에는 기판(30)이 로딩되어 있고 로봇암(34)이 도 3b에 도시된 바와 같이 스퍼터링 장치(40)로 이동하고 도 3c에 도시된 바와 같이 서셉터(36) 상에 위치하는 리프트 핀(38)상에 기판(30)이 안착되고, 제1 로봇(32)이 프로세스챔버(8) 외부로 후퇴하게 된다. 이에 따라, 도 3d에 도시된 바와 같이 스퍼터링 장치(40)에 기판(30)이 로딩된다. 이후, 도 3e에 도시된 바와 같이 서셉터의 회전부(42)가 회전함으로써 기판(30)과 타겟부(TP)가 나란하게 된다. 타겟부(TP)는 자석(50), 후면판(48) 및 타겟(46)으로 이루어진다. 자석(50)은 플라즈마에서 발생하는 전자가 스퍼터링 장치의 다른 부분으로 이탈하는 것을 방지하기 위해 자기장을 인가하게 된다. 후면판(48)은 스퍼터링에 의해 기판(30)에 형성되는 증착물질인 타겟(46)을 고정하게 된다.
이와 같이 기판과 타켓(46)이 정위치 되면 타겟(46)과 상기 기판(30)이 위치 한 서셉터(36)를 각각 전원의 음극단과 양극단에 연결하고 고주파를 발생시키면서 직류전원을 인가하면 전기장의 작용으로 타겟(46)에서 전자가 발생하고 이 전자들은 양극단으로 가속된다. 여기서, 가속 전자들이 챔버에 공급된 불활성가스와 충돌하여 불활성가스가 이온화되는 플라즈마가 발생된다. 이에 따라, 불활성 가스의 양이온은 전기장의 작용으로 음극단에 연결된 타겟(46)과 충돌하여 타겟(46) 표면에서 타겟(46) 원자들이 이탈되는 스퍼터링 현상이 발생되고 불활성 가스의 전자는 양극단으로 가속된다. 이렇게 이탈된 타겟(46) 원자들은 기판(30)에 형성됨으로써 게이트 전극 등의 무기물이 형성된다.
한편, 이와 같은 종래의 액정표시패널의 제조장치는 제1 로봇을 포함하는 트랜스 챔버(2)를 구비함으로써 제조장치 전체의 부피가 증가하는 하는 문제가 있고, 로드락 챔버(4)에 로딩된 기판(30)을 트랜스 챔버(2)를 거쳐 프로세스 챔버(8)로 이송됨으로써 공정시간이 증가되는 문제가 있다.
본 발명은 트랜스 챔버를 제거함으로써 부피가 소형화됨과 아울러 액정표시패널의 공정시간을 단축할 수 있는 액정표시패널의 제조장치를 제공한다.
본 발명의 액정표시패널의 제조장치는 액정표시소자의 제조공정 중 어느 한 공정이 진행되는 프로세스챔버; 외부로부터 스퍼터링공정 대상의 기판을 인수받고 상기 프로세스챔버에 직접 연결되는 로드락챔버; 상기 로드락챔버 내의 기판을 상기 프로세스챔버 내로 이송하기 위한 이송수단; 상기 프로세스챔버의 제1 측에 배치되며 상기 기판에 대향 가능한 제1 타겟, 제1 음극 및 제1 자석; 및 상기 프로세스챔버 내에서 상기 기판을 사이에 두고 상기 제1 측과 반대측의 제2 측에 배치되며 상기 기판에 대향 가능한 제2 타겟, 제2 음극 및 제2 자석을 포함한다.
상기 이송수단은 레일과 상기 레일을 따라 이동 가능한 이송체를 가지는 제1 LM 가이드; 상기 제1 LM 가이드 상에 설치되어 상기 외부로부터 상기 기판을 인수하는 제1 이송유닛; 상기 로드락챔버 내에서 레일과 상기 레일을 따라 이동 가능한 이송체를 가지며 상기 로드락챔버와 상기 프로세스챔버 사이의 이송로를 마련하는 제2 LM 가이드; 레일과 상기 레일을 따라 이동 가능한 이송체를 가지며 상기 제2 LM 가이드를 상기 제1 LM 가이드 쪽으로 전진시킴과 아울러 상기 제2 LM 가이드를 상기 제1 LM 가이드로부터 후퇴시키기 위한 경로를 마련하는 제3 LM 가이드; 상기 제1 LM 가이드의 이송체를 전후퇴시키기 위한 제1 구동원; 상기 제2 LM 가이드의 이송체를 전후퇴시키기 위한 제2 구동원; 및 상기 제3 LM 가이드의 이송체를 전후퇴시키기 위한 제3 구동원을 포함한다.
상기 제조장치는 상기 프로세서 챔버 내에서 상기 이송수단으로부터 상기 기판을 인수받고 상기 공정이 진행되는 기간 동안 상기 기판을 지지하는 제2 이송유닛; 레일과 상기 레일을 따라 이동 가능한 이송체를 가지며 직선 상에서 상기 제2 LM 가이드와 나란하게 상기 프로세서 챔버 내에 배치되어 상기 제2 이송유닛의 직선운동을 안내하는 제4 LM 가이드; 및 상기 제4 LM 가이드의 이송체를 전후퇴시키기 위한 제4 구동원을 더 포함한다.
상기 제조장치는 상기 제4 LM 가이드를 아래에서 지지하고 회전 가능한 원판; 및 상기 원판을 회전시키기 위한 제5 구동원을 더 포함한다.
상기 제조장치는 상기 제4 LM 가이드 상에서 상기 제2 유송유닛을 회전시키기 위한 회전 가동부; 및 상기 회전 가동부를 회전시키기 위한 제6 구동원을 더 포함한다.
상기 제조장치는 상기 제2 이송유닛 내에서 상기 기판과 대면하는 음극을 더 포함한다.
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상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.
이하, 도 4 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하기로 한다.
도 4는 본 발명에 따른 스퍼터링 장치를 포함하는 액정표시패널의 제조장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 4에 도시된 액정표시패널의 제조장치는 액정표시패널의 제조공정 중 어느 한 공정이 진행될 수 있는 스퍼터링 장치를 포함하는 적어도 하나의 프로세스챔버(108), 스퍼터링공정 대상의 기판을 인수받고 프로세스챔버(108)에 바로 연결되는 로드락챔버(104), 로드락챔버(104) 내의 기판을 프로세스챔버(108)내로 이송하기 위한 다수의 이송수단 예를 들어, 도 5와 같은 LM 가이드(155)를 포함할 수 있다.
도 5에서 LM 가이드(155) 각각은 공지 기술의 이송수단으로써 도 5에 도시된 바와 같이 레일(164)과 상기 레일(164)을 따라 이동 가능한 이송체(162)를 구비하고 실린더, 모터 및 에어압 중 적어도 어느하나를 이용한 구동부에 의해 구동하게 된다. 여기서 레일(164)과 이송체(162) 사이에는 베어링(166) 등이 삽입될 수 있다.
제1 LM 가이드(150) 상에는 외부로 부터 기판을 인수받기 위한 제1 이송유닛(170)을 구비하여 외부와 로드락챔버(104) 사이의 이송로를 마련한다. 제1 이송유닛(170)은 제1 LM 가이드(150)의 이송체(162) 상에 고정되는 고정부(172), 고정부(172)와 연결됨과 아울러 리프트 핀(174)이 위치하는 지지부(176)를 구비한다. 여기서, 제1 이송유닛(170)에 기판이 용이하게 안착될 수 있도록 지지부(176)와 고정부(172)는 서로 70도~87도 정도의 경사각을 이룬다.
제2 LM 가이드(160)는 로드락챔버(104)와 프로세스챔버(108) 사이에 이송로를 마련함과 아울러 제1 이송유닛(170)으로 부터 기판을 인수받는 제2 이송유닛(180)을 구비한다. 제2 이송유닛(180)은 기판이 안착되는 지지부(182), 지지부(182)와 제2 LM 가이드(160) 사이에 위치하여 지지부(182)가 소정각도로 회전할 수 있도록 함과 아울러 제2 LM 가이드(160)에 지지부(182)를 고정시키는 회전부(184), 지지부(182)와 접속되어 기판을 지지부에 고정시키기 위한 보조지지부(183)를 구비한다.
한편, 제2 LM 가이드(160)를 제1 LM 가이드(150)쪽으로 전진 및 후퇴시키기 위한 경로를 마련하는 제3 LM 가이드(미도시)를 더 구비할 수 있다.
제4 LM 가이드(190)는 프로세스챔버(108) 내에서 제2 LM 가이드(160)와 일직선상에 나란하게 배치되어 제2 LM 가이드(160) 상에 설치되는 제2 이송유닛(180)의 직선운성을 안내하는 역할을 하게 된다.
제4 LM 가이드(190) 아래에는 제4 LM 가이드(190)를 지지함과 아울러 회전가능한 원판(195)이 위치하게 된다. 이 원판(195) 또한 실런더, 모터 및 에어압 등에 의해 구동하게 된다. 한편, 제2 LM 가이드(160)의 레일(164)이 제1 도어(120)에서만 분리되고 프로세서챔버(108)까지 연결되도록 배치되는 경우 제2 LM 가이드(160)의 이송체(162)가 프로세서챔버(108)로 직접 이동할 수 도 있다.
로드락챔버(104)와 프로세스챔버(108)가 연결되는 영역에 위치하는 제1 도어(120)는 로드락챔버(104)와 프로세스 챔버(108)의 환경을 각각 분리하는 역할을 한다.
이와 같은 액정표시패널의 제조장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.
기판(130)이 기판 카세트에 소정의 개수(25매 정도)가 수용되고, 도 6a 에 도시된 바와 같이 로봇(미도시)에 의해 제1 LM 가이드(150)에 의해 고정된 제1 이송유닛(170)에 기판(130)이 로딩된다.
제1 LM 가이드(150)의 제1 구동부(미도시)가 구동함에 따라 제1 LM 가이드(150)의 이송체(162)가 로드락 챔버(104)로 이동함으로써 제1 이송유닛(170) 및 기판(130)이 로드락 챔버(104)에 위치하게 된다. 이후, 도 6b에 도시된 바와 같이 로드락 챔버(104)에 위치하는 제2 LM 가이드(160)의 이송체(162) 상에서 회동 가능하게 설치된 제2 이송유닛(180)이 제3 LM 가이드(미도시)에 의해 제1 이송유닛(170) 쪽으로 접근하게 된다. 여기서, 제3 LM 가이드(미도시)는 도 5와 같이 레일 및 이송체를 포함하여 제2 LM 가이드(160)이 이송 방향을 안내할 수 있다. 이어서, 제2 이송유닛(180)의 회전부(184)가 회전함으로써 제2 이송유닛(180)의 지지부(182)가 기판(130)에 나란하게 정렬된 후 진공흡착에 의해 도 6c에 도시된 바와 같이 제2 이송유닛(180)의 지지부(182)가 기판(130)을 인수받게 된다.
이어서, 제3 LM 가이드(미도시)가 후퇴하게 되고 제2 이송유닛(180)은 제2 LM 가이드(160)에 의해 프로세스챔버(108)로 진입하게 된다. 이때, 제1 도어(120)가 열리고 프로세스챔버(104)에 배치되는 제4 LM 가이드(190) 또한 제2 LM 가이드(160) 쪽으로 이동하여 제2 이송유닛(180)이 제4 LM 가이드(190)로 이송된 후 제1 도어(120)가 닫혀짐으로써 프로세스챔버(108)는 고진공을 유지하게 된다.
이어서, 도 6d에 도시된 바와 같이 스퍼터링 장치는 프로세스챔버(108)의 1 측에 배치되며 기판(130)과 대향하는 제1 타겟(246), 제1 자석(250), 제1 후면판(248)이 위치하고 상기 프로세스챔버(108)의 1 측의 반대측에 위치하는 제2 타겟(346), 제2 자석(350), 제2 후면판(348)이 위치한다.
제1 및 제2 자석(250,350)은 플라즈마에서 발생하는 전자가 스퍼터링 장치의 다른 부분으로 이탈하는 것을 방지하기 위해 자기장을 인가하게 된다. 제1 및 제2 후면판(248,348)은 스퍼터링에 의해 기판(130)에 형성되는 증착물질인 타겟(246,346)을 고정하게 된다.
기판(130)과 제1 타켓(246)이 정위치 되면 제1 타겟(246)과 상기 기판(130)이 위치한 지지부(182)를 각각 전원의 음극단과 양극단에 연결하고 고주파를 발생 시키면서 직류전원을 인가하면 전기장의 작용으로 제1 타겟(246)에서 전자가 발생하고 이 전자들은 양극단으로 가속된다. 여기서, 가속 전자들이 챔버에 공급된 불활성가스와 충돌하여 불활성가스가 이온화되는 플라즈마가 발생된다. 이에 따라, 불활성 가스의 양이온은 전기장의 작용으로 음극단에 연결된 제1 타겟(246)과 충돌하여 제1 타겟(246) 표면에서 제1 타겟(246) 원자들이 이탈되는 스퍼터링 현상이 발생되고 불활성 가스의 전자는 양극단으로 가속된다. 이렇게 이탈된 제1 타겟(246) 원자들은 기판(130)에 형성됨으로써 액정표시패널의 게이트 전극 등의 무기물층이 증착된다.
제1 타겟부에서 스퍼터링 공정이 수행된 후 제4 LM 가이드(190)를 지지하는 원판(195)이 회전함으로써 도 6e에 도시된 바와 같이 제2 타겟(346)에 기판(130)이 대향하게 되어 스퍼터링 공정이 바로 진행될 수 있게 된다.
스퍼터링을 포함하는 각종 공정을 행한 후에 제2 이송유닛(180)이 프로세스챔버(180)로 이송된 과정과 동일한 과정에 의해 제4 및 제2 LM 가이드(190,160)를 이용하여 프로세스챔버(108)를 빠져나가고 제1 LM 가이드(150)에 위치하는 제1 이송유닛(170)에 기판(130)이 다시 로딩된 후 제1 LM 가이드(150)가 로드락 챔버(104)를 빠져나가게 된다. 이후, 제1 이송유닛(170)에 로딩된 기판(130)이 로봇에 의해 카세트에 다시 배치되게 된다. 한편, 로드락 챔버(104) 및 프로세스챔버(108) 내에는 각각의 LM 가이드의 진입, 정지 등을 제어하기 위한 제어부를 각각 구비하게 된다.
이와 같이 본 발명에 따른 액정표시패널의 제조장치는 종래 대비 트랜스 챔 버가 제거되고 로드락 챔버에서 직접 프로세스챔버에 기판을 이송하게 된다. 이에 따라, 제조장치의 부피가 간소화 및 소형화된다. 또한, 로더락 챔버와 프로세스챔버간에 LM 가이드 및 이송유닛에 의해 라인형태로 이송함으로써 제조공정이 단순화된다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시패널의 제조장치는 트랜스 챔버가 제거되고 LM 가이드를 이용하여 로드락 챔버에서 직접 프로세스챔버로 이동하게 됨으로써 부피를 간소화 및 소형화함과 아울러 액정표시패널의 제조공정이 단순화된다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.

Claims (7)

  1. 액정표시소자의 제조공정 중 어느 한 공정이 진행되는 프로세스챔버;
    외부로부터 스퍼터링 공정 대상의 기판을 인수받고 상기 프로세스챔버에 직접 연결되는 로드락챔버;
    상기 로드락챔버 내의 기판을 상기 프로세스챔버 내로 이송하기 위한 이송수단;
    상기 프로세스챔버의 제1 측에 배치되며 상기 기판에 대향 가능한 제1 타겟, 제1 음극 및 제1 자석; 및
    상기 프로세스챔버 내에서 상기 기판을 사이에 두고 상기 제1 측과 반대측의 제2 측에 배치되며 상기 기판에 대향 가능한 제2 타겟, 제2 음극 및 제2 자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 이송수단은,
    레일과 상기 레일을 따라 이동 가능한 이송체를 가지는 제1 LM 가이드;
    상기 제1 LM 가이드 상에 설치되어 상기 외부로부터 상기 기판을 인수하는 제1 이송유닛;
    상기 로드락챔버 내에서 레일과 상기 레일을 따라 이동 가능한 이송체를 가지며 상기 로드락챔버와 상기 프로세스챔버 사이의 이송로를 마련하는 제2 LM 가이드;
    레일과 상기 레일을 따라 이동 가능한 이송체를 가지며 상기 제2 LM 가이드를 상기 제1 LM 가이드 쪽으로 전진시킴과 아울러 상기 제2 LM 가이드를 상기 제1 LM 가이드로부터 후퇴시키기 위한 경로를 마련하는 제3 LM 가이드;
    상기 제1 LM 가이드의 이송체를 전후퇴시키기 위한 제1 구동원;
    상기 제2 LM 가이드의 이송체를 전후퇴시키기 위한 제2 구동원; 및
    상기 제3 LM 가이드의 이송체를 전후퇴시키기 위한 제3 구동원을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 프로세서 챔버 내에서 상기 이송수단으로부터 상기 기판을 인수받고 상기 공정이 진행되는 기간 동안 상기 기판을 지지하는 제2 이송유닛;
    레일과 상기 레일을 따라 이동 가능한 이송체를 가지며 직선 상에서 상기 제2 LM 가이드와 나란하게 상기 프로세서 챔버 내에 배치되어 상기 제2 이송유닛의 직선운동을 안내하는 제4 LM 가이드; 및
    상기 제4 LM 가이드의 이송체를 전후퇴시키기 위한 제4 구동원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제4 LM 가이드를 아래에서 지지하고 회전 가능한 원판; 및
    상기 원판을 회전시키기 위한 제5 구동원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조장치.
  5. 삭제
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 제4 LM 가이드 상에서 상기 제2 유송유닛을 회전시키기 위한 회전 가동부; 및
    상기 회전 가동부를 회전시키기 위한 제6 구동원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조장치.
  7. 제 3 항에 있어서,
    상기 제2 이송유닛 내에서 상기 기판과 대면하는 음극을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조장치.
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