KR101021545B1 - Unit and Apparatus for and Method of supplying chemical - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따르면, 약액을 저장하는 약액저장실린더; 상기 약액저장실린더로 약액을 공급하는 약액공급관; 상기 약액공급관을 개폐하는 약액밸브; 상기 약액저장실린더로 가스를 공급하는 가스공급관; 상기 가스공급관을 개폐하는 가스밸브; 상기 약액저장실린더의 약액을 배출 위치로 이송하는 이송관; 및 상기 이송관을 개폐하는 이송밸브를 포함하는 약액 공급 유닛, 장치 및 방법이 제공된다.

이와 같은 본 발명에 따르면, 약액 준비 단계가 간단하며, 약액 준비 시간이 길지 않은 효과가 있다.

Figure R1020080105858

약액, 공급, 레벨센서

According to the present invention, a chemical liquid storage cylinder for storing a chemical liquid; A chemical solution supply pipe supplying the chemical solution to the chemical storage cylinder; A chemical liquid valve for opening and closing the chemical liquid supply pipe; A gas supply pipe supplying gas to the chemical storage cylinder; A gas valve for opening and closing the gas supply pipe; A transfer tube for transferring the chemical liquid of the chemical storage cylinder to a discharge position; And it is provided with a chemical liquid supply unit, apparatus and method comprising a transfer valve for opening and closing the transfer pipe.

According to the present invention as described above, the chemical liquid preparation step is simple, there is an effect that the chemical liquid preparation time is not long.

Figure R1020080105858

Chemical, Supply, Level Sensor

Description

약액 공급 유닛, 장치 및 방법 {Unit and Apparatus for and Method of supplying chemical} Unit and Apparatus for and Method of supplying chemical

본 발명은 기판 제조에 사용되는 약액 공급 장치 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 소량의 약액을 안정적으로 공급할 수 있는 약액 공급 유닛, 장치 및 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a chemical liquid supply apparatus and method for use in the manufacture of a substrate, and more particularly to a chemical liquid supply unit, apparatus and method capable of stably supplying a small amount of chemical liquid.

반도체 소자는 금속 배선의 재료로 알루미늄 및 구리 등을 사용한다. 따라서, 반도체 제조 공정에는 금속 배선의 제조를 위해 웨이퍼 상에 금속 박막을 형성하는 공정 및 형성된 금속 박막 중 불필요한 부분을 제거하는 건식 식각(dry etching) 공정이 수행된다. 이때, 건식 식각 공정을 마친 웨이퍼 상에는 금속 배선의 형성시 발생되는 반응 부산물로서 폴리머(polymer)가 잔류한다.The semiconductor element uses aluminum, copper, etc. as a material of a metal wiring. Accordingly, in the semiconductor manufacturing process, a process of forming a metal thin film on a wafer and a dry etching process of removing an unnecessary portion of the formed metal thin film are performed to manufacture a metal wiring. In this case, a polymer remains on the wafer after the dry etching process as a reaction by-product generated when the metal wiring is formed.

이러한 폴리머는 보통 솔벤트(solvent) 계열의 화학약품이나 소위 디에스피(DSP)와 같은 식각액에 의해 제거된다. 이중 디에스피는 황산(H2SO4), 과산화수소(H2O2), 그리고 불산(HF)을 적정 비율로 혼합한 식각액(etchant)이다.These polymers are usually removed by solvent-based chemicals or by etching solutions such as so-called DSP. DS is an etchant that contains sulfuric acid (H2SO4), hydrogen peroxide (H2O2), and hydrofluoric acid (HF) in an appropriate ratio.

디에스피는 약액 혼합 장치(chemical mixing apparatus)에 의해 제조된다. 일반적인 디에스피 제조를 위한 약액 혼합 장치는 혼합 용기, 순환 부재, 그리고 처리액 공급부재를 구비한다. 혼합 용기는 처리액 공급 부재로부터 황산, 과산화수소, 불산 그리고 초순수를 공급받는다. 순환 부재는 혼합 용기 내 처리액들을 순환시켜 기설정된 농도 및 온도 조건을 만족하는 디에스피를 생성한다.DS is manufactured by a chemical mixing apparatus. The chemical liquid mixing apparatus for manufacturing a general DS includes a mixing vessel, a circulation member, and a treatment liquid supply member. The mixing vessel receives sulfuric acid, hydrogen peroxide, hydrofluoric acid and ultrapure water from the treatment liquid supply member. The circulation member circulates the treatment liquids in the mixing vessel to produce a die that satisfies the predetermined concentration and temperature conditions.

또한, 공정에 따라 소량의 약액만을 공급하는 장치도 별도로 필요한 경우가 있다. 특히 소량의 불산(HF)을 디에스피 혼합 탱크로 공급하기 위한 장치의 구성이 도 1에 도시되어 있다. 도 1은 종래의 소량 약액 공급 장치를 나타낸 개념도이다.In addition, an apparatus for supplying only a small amount of chemical liquid may be separately required depending on the process. In particular, the arrangement of a device for feeding a small amount of hydrofluoric acid (HF) to a DS mixing tank is shown in FIG. 1. 1 is a conceptual diagram showing a conventional small amount chemical supply device.

도 1에 도시된 것처럼, 이러한 소량의 불산(HF)을 디에스피 혼합 탱크로 공급하기 위해서 약액 공급 장치는 불산 공급 탱크(10), DHF 공급 탱크(40), 정량 펌프(Metering pump; 21, 51), DSP 혼합 탱크(60)를 구비한다.As shown in FIG. 1, in order to supply such a small amount of hydrofluoric acid (HF) to the DS mixing tank, the chemical liquid supply apparatus includes a hydrofluoric acid supply tank 10, a DHF supply tank 40, and a metering pump 21, 51. And a DSP mixing tank 60.

불산 공급 탱크(10)에 저장된 불산은 정량 펌프(21)의 개방에 의해 배관(20)을 통해 DHF 공급 탱크(40)에 공급된다. DHF 공급 탱크(40)에서는 공급된 불산과 별도의 배관(30)을 통해 공급된 DIW(Deionized Water; 초순수)가 혼합되어 DHF(Deluted HF)를 저장한다. 또한, DHF는 요구되는 양 만큼 정량 펌프(51)의 개방에 의해 배관(50)를 통해 DSP 혼합 탱크(60)로 공급된다.The hydrofluoric acid stored in the hydrofluoric acid supply tank 10 is supplied to the DHF supply tank 40 through the pipe 20 by the opening of the metering pump 21. In the DHF supply tank 40, DIW (Deionized Water) supplied through hydrofluoric acid and a separate pipe 30 is mixed to store DHF (Deluted HF). In addition, the DHF is supplied to the DSP mixing tank 60 through the pipe 50 by opening the metering pump 51 by the required amount.

예를 들어, 불산 공급 탱크(10)에 50% 농도의 HF가 저장되어 있고, DHF 공급 탱크(40)는 675㎖의 DIW가 저장되어 있다고 가정하면, 5% 농도의 DHF를 만들기 위해서는 75㎖의 50% 농도 HF를 DHF 공급 탱크(60)에 공급한다. 그리고, 20ℓ 용량의 DSP 혼합 탱크(60) 내에서는 89ppm의 HF(즉, 1.78㎖의 HF)가 필요한 경우라면, 0.05% 농도의 DHF 35.6㎖를 DSP 혼합 탱크(60)에 공급하면 된다.For example, assuming that 50% HF is stored in the hydrofluoric acid supply tank 10 and 675 mL of DIW is stored in the DHF supply tank 40, 75 mL of HF is required to produce a 5% concentration of DHF. 50% concentration HF is supplied to the DHF supply tank 60. In the 20-liter DSP mixing tank 60, if 89 ppm HF (that is, 1.78 ml HF) is required, 35.6 ml of 0.05% DHF may be supplied to the DSP mixing tank 60.

즉, 이렇게 불산 공급 탱크(10), DHF 공급 탱크(40)를 별도로 구비하여 필요 한 농도를 가진 소량의 HF를 DSP 혼합 탱크(60)에 공급하는 것이 일반적이다.That is, it is common to provide the hydrofluoric acid supply tank 10 and the DHF supply tank 40 separately to supply the DSP mixing tank 60 with a small amount of HF having a required concentration.

하지만, 이러한 소량의 약액 공급 장치는 불산 공급 탱크(10)와 DHF 공급 탱크(40)를 별도로 구비하기 때문에, 약액 준비 단계가 복잡하며 준비 시간이 오래 걸린다. 또한, 원하는 농도와 차이가 날 수 있고, 장치 구성이 복잡할 뿐만 아니라, 액을 교환할 때에도 시간이 많이 소비되는 문제점이 있다.However, since the small amount of chemical liquid supply device is provided with the hydrofluoric acid supply tank 10 and the DHF supply tank 40 separately, the chemical liquid preparation step is complicated and takes a long time to prepare. In addition, there can be a difference between the desired concentration, the device configuration is complicated, and there is a problem that a lot of time is also used when the liquid exchange.

본 발명은 약액 준비 단계가 간단하며, 약액 준비 시간이 길지 않은 약액 공급 유닛, 장치 및 방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention aims to provide a chemical liquid supply unit, an apparatus and a method in which the chemical liquid preparation step is simple and the chemical liquid preparation time is not long.

또한, 본 발명은 농도의 변화가 없고, 장치 구성이 간단하며, 약액을 교환할 필요가 없는 약액 공급 장치 및 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.It is also an object of the present invention to provide a chemical liquid supplying apparatus and method, in which there is no change in concentration, the device configuration is simple, and chemical liquids need not be replaced.

본 발명에 따른 약액 공급 유닛은 약액을 저장하는 약액저장실린더; 상기 약액저장실린더로 약액을 공급하는 약액공급관; 상기 약액공급관을 개폐하는 약액밸브; 상기 약액저장실린더로 가스를 공급하는 가스공급관; 상기 가스공급관을 개폐하는 가스밸브; 상기 약액저장실린더의 약액을 배출 위치로 이송하는 이송관; 및 상기 이송관을 개폐하는 이송밸브를 포함한다.Chemical liquid supply unit according to the present invention comprises a chemical liquid storage cylinder for storing the chemical liquid; A chemical liquid supply pipe for supplying a chemical liquid to the chemical liquid storage cylinder; A chemical liquid valve for opening and closing the chemical liquid supply pipe; A gas supply pipe supplying gas to the chemical storage cylinder; A gas valve for opening and closing the gas supply pipe; A transfer tube for transferring the chemical liquid of the chemical storage cylinder to a discharge position; And a transfer valve for opening and closing the transfer tube.

여기서, 상기 약액저장실린더는 배관의 형태로 구비될 수 있다.Here, the chemical storage cylinder may be provided in the form of a pipe.

아울러, 상기 약액저장실린더는, 약액의 충전 위치와 배출 위치를 구비하고, 상기 충전 위치와 배출 위치에는 저장된 약액의 레벨을 감지하는 레벨센서를 더 포 함할 수 있다.In addition, the chemical storage cylinder may include a filling position and a discharge position of the chemical liquid, and the filling position and the discharge position may further include a level sensor for detecting the level of the stored chemical liquid.

게다가, 상기 가스공급관은, 상기 약액저장실린더와 상기 가스밸브 사이에 상기 가스를 배기하는 배기관과, 상기 배기관을 개폐하는 배기밸브를 더 포함할 수 있다.In addition, the gas supply pipe may further include an exhaust pipe for exhausting the gas between the chemical liquid storage cylinder and the gas valve, and an exhaust valve for opening and closing the exhaust pipe.

더욱이, 상기 약액공급관은 상기 약액저장실린더의 출구측에 연결되고, 상기 가스공급관은 상기 약액저장실린더의 입구측에 연결될 수 있다.Further, the chemical liquid supply pipe may be connected to the outlet side of the chemical liquid storage cylinder, and the gas supply tube may be connected to the inlet side of the chemical liquid storage cylinder.

또한, 본 발명에 따른 약액 공급장치는 약액을 공급하는 약액 공급 유닛; 상기 약액 공급 유닛으로부터 공급된 약액을 초순수와 혼합하여 희석시켜 공급하는 희석 탱크; 상기 희석 탱크에서 희석된 약액이 제공되는 혼합 탱크; 및 상기 혼합 탱크에 저장된 약액을 배출 위치로 이송하는 배출관을 포함하되, 상기 약액 공급 유닛은, 약액을 저장하는 약액저장실린더; 상기 약액저장실린더로 약액을 공급하는 약액공급관; 상기 약액공급관을 개폐하는 약액밸브; 상기 약액저장실린더로 가스를 공급하는 가스공급관; 상기 가스공급관을 개폐하는 가스밸브; 상기 약액저장실린더의 약액을 상기 희석 탱크로 이송하는 이송관; 및 상기 이송관을 개폐하는 이송밸브를 포함한다.In addition, the chemical liquid supply apparatus according to the present invention comprises a chemical liquid supply unit for supplying a chemical liquid; A dilution tank for mixing and diluting the chemical liquid supplied from the chemical liquid supply unit with ultrapure water; A mixing tank provided with a chemical liquid diluted in the dilution tank; And a discharge pipe for transferring the chemical liquid stored in the mixing tank to a discharge position, wherein the chemical liquid supply unit includes a chemical liquid storage cylinder for storing the chemical liquid; A chemical liquid supply pipe for supplying a chemical liquid to the chemical liquid storage cylinder; A chemical liquid valve for opening and closing the chemical liquid supply pipe; A gas supply pipe supplying gas to the chemical storage cylinder; A gas valve for opening and closing the gas supply pipe; A transfer tube for transferring the chemical liquid of the chemical liquid storage cylinder to the dilution tank; And a transfer valve for opening and closing the transfer tube.

여기서, 상기 약액저장실린더는 배관의 형태로 구비될 수 있다.Here, the chemical storage cylinder may be provided in the form of a pipe.

아울러, 상기 약액저장실린더는, 약액의 충전 위치와 배출 위치를 구비하고, 상기 충전 위치와 배출 위치에는 저장된 약액의 레벨을 감지하는 레벨센서를 더 포함할 수 있다.In addition, the chemical storage cylinder, the filling position and the discharge position of the chemical liquid, the filling position and the discharge position may further include a level sensor for detecting the level of the stored chemical liquid.

게다가, 상기 가스공급관은, 상기 약액저장실린더와 상기 가스밸브 사이에 상기 가스를 배기하는 배기관과, 상기 배기관을 개폐하는 배기밸브를 더 포함할 수 있다.In addition, the gas supply pipe may further include an exhaust pipe for exhausting the gas between the chemical liquid storage cylinder and the gas valve, and an exhaust valve for opening and closing the exhaust pipe.

더욱이, 상기 약액공급관은 상기 약액저장실린더의 출구측에 연결되고, 상기 가스공급관은 상기 약액저장실린더의 입구측에 연결될 수 있다.Further, the chemical liquid supply pipe may be connected to the outlet side of the chemical liquid storage cylinder, and the gas supply tube may be connected to the inlet side of the chemical liquid storage cylinder.

또한, 본 발명에 따른 약액 공급방법은 약액공급관에 연결된 약액밸브를 개방하여 약액저장실린더로 약액을 공급하는 단계; 상기 약액저장실린더에 구비된 레벨센서에 의해 약액을 선택된 위치까지 상기 약액저장탱크에 약액을 채우고, 상기 약액밸브를 닫는 단계; 및 가스공급관에 연결된 가스밸브를 개방하여 가스압에 의해 상기 약액저장탱크에 저장된 약액을 배출 위치로 이송하는 단계를 포함한다.In addition, the chemical liquid supply method according to the present invention comprises the steps of supplying the chemical liquid to the chemical liquid storage cylinder by opening the chemical liquid valve connected to the chemical liquid supply pipe; Filling the chemical liquid into the chemical liquid storage tank to a selected position by the level sensor provided in the chemical liquid storage cylinder, and closing the chemical liquid valve; And opening the gas valve connected to the gas supply pipe to transfer the chemical liquid stored in the chemical storage tank to the discharge position by the gas pressure.

여기서, 상기 약액저장실린더는 배관의 형태로 구비되어 약액을 공급할 수 있다.Here, the chemical storage cylinder may be provided in the form of a pipe to supply the chemical liquid.

나아가, 상기 약액을 공급하는 단계는, 상기 약액저장실린더에 구비된 약액의 충전 위치와 배출 위치에 의해, 충전 위치에서 배출 위치 사이의 약액을 공급할 수 있다.Further, in the supplying of the chemical liquid, the chemical liquid between the filling position and the discharge position may be supplied by the filling position and the discharge position of the chemical liquid provided in the chemical storage cylinder.

아울러, 상기 약액을 공급하는 단계 이전에, 상기 약액저장탱크와 상기 가스밸브 사이에 위치하여, 가스를 배기하는 배기관에 연결된 배기밸브를 개방하는 단계와; 상기 약액밸브를 닫는 단계 이후에, 상기 배기밸브를 닫는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, before the step of supplying the chemical liquid, the step of opening between the chemical storage tank and the gas valve, the exhaust valve connected to the exhaust pipe for exhausting gas; After closing the chemical liquid valve, the method may further include closing the exhaust valve.

상술한 본 발명에 따르면, According to the present invention described above,

첫째, 약액 공급 유닛에 의해 약액 준비 단계가 간단하며, 약액 준비 시간이 길지 않은 장점이 있다.First, the chemical liquid preparation step is simple by the chemical liquid supply unit, and the chemical liquid preparation time is not long.

또한, 가스에 의해 정량적으로 소량의 약액을 공급할 수 있으므로, 농도의 변화가 없고, 장치 구성이 간단하며, 약액을 교환할 필요가 없는 효과가 있다.In addition, since a small amount of chemical liquid can be supplied by gas, there is no change in concentration, the device configuration is simple, and the chemical liquid does not need to be replaced.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면 도 2 내지 도 3e를 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 2 to 3E. The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. The shape of the elements in the figures has been exaggerated to highlight more clearly.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 약액 공급 장치를 나타낸 개념도이다.2 is a conceptual diagram showing a chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention.

약액 공급 장치는 약액 공급 유닛, 희석 탱크(800), 혼합 탱크(900) 및 배출관(920) 등을 포함한다.The chemical liquid supply device includes a chemical liquid supply unit, a dilution tank 800, a mixing tank 900, a discharge pipe 920, and the like.

희석 탱크(800)에서는 약액 공급 유닛에 의해 공급된 소량의 약액을 초순수공급관(810)에 의해 공급된 초순수(DIW)와 혼합하여 희석시킨다. 예를 들어, 약액이 HF인 경우, 희석 탱크(800)에서 초순수(DIW)와 혼합된 약액은 DHF(Deluted HF)가 된다. 그리고, DHF는 DHF 공급관(820)에 의해 혼합 탱크(900)로 공급된다. 혼합 탱크(900)에는 필요에 따라 별도의 약액공급관(910)을 구비할 수도 있다.In the dilution tank 800, a small amount of the chemical liquid supplied by the chemical liquid supply unit is mixed with the ultrapure water (DIW) supplied by the ultrapure water supply pipe 810 and diluted. For example, when the chemical liquid is HF, the chemical liquid mixed with ultrapure water (DIW) in the dilution tank 800 becomes DHF (Deluted HF). The DHF is supplied to the mixing tank 900 by the DHF supply pipe 820. The mixing tank 900 may be provided with a separate chemical liquid supply pipe 910 as necessary.

이렇게, 혼합 탱크(900)에서 최종적으로 혼합된 약액은 배출관(920)에 의해 배출 위치, 예를 들어 기판을 처리하는 장치에 약액을 공급하게 된다.Thus, the chemical liquid finally mixed in the mixing tank 900 is supplied by the discharge pipe 920 to the discharge position, for example, the apparatus for processing the substrate.

더욱 상세하게는, 소량 약액 공급 유닛은 약액저장실린더(100), 약액공급 관(200), 약액밸브(210), 가스공급관(300), 가스밸브(310), 이송관(400) 및 이송밸브(410)를 포함한다.More specifically, the small amount of chemical liquid supply unit is a chemical liquid storage cylinder 100, chemical liquid supply pipe 200, chemical liquid valve 210, gas supply pipe 300, gas valve 310, transfer pipe 400 and transfer valve 410.

약액저장실린더(100)는 소량의 약액을 저장한다. 본 실시예에서는 약액저장실린더(100)가 별도의 실린더로 구비된 것을 예시하였지만, 약액저장실린더(100)는 배관의 형태로 배관과 일체로 구비될 수도 있다. 여기서, 소량이란, 수 cc 내지 수십 cc 정도의 극소량을 의미한다. 약액저장실린더(100)는 다양한 약액을 저장할 수 있으며, 본 실시예에서는 HF를 저장한다. 약액공급관(200)은 약액저장실린더(100)로 약액을 공급하며, 약액밸브(210)는 약액공급관(200)의 관로에 위치하여 약액공급관(200)을 개폐함으로써 약액의 공급을 조절한다.The chemical liquid storage cylinder 100 stores a small amount of chemical liquid. In the present exemplary embodiment, the chemical liquid storage cylinder 100 is illustrated as a separate cylinder, but the chemical liquid storage cylinder 100 may be provided integrally with the pipe in the form of a pipe. Here, the small amount means a very small amount of several cc to several tens cc. The chemical liquid storage cylinder 100 may store various chemical liquids, and in this embodiment, stores HF. The chemical liquid supply pipe 200 supplies the chemical liquid to the chemical liquid storage cylinder 100, and the chemical liquid valve 210 is positioned in the pipeline of the chemical liquid supply pipe 200 to control the supply of the chemical liquid by opening and closing the chemical liquid supply pipe 200.

또한, 가스공급관(300)은 약액저장실린더(100)로 가스를 공급한다. 가스는 다양한 가스가 사용될 수 있으며, 본 실시예에서는 N2 가스를 예로 들었다. 가스밸브(310)는 가스공급관(300)의 관로에 위치하여 가스공급관(300)을 개폐함으로써 가스의 공급을 조절한다. In addition, the gas supply pipe 300 supplies a gas to the chemical liquid storage cylinder (100). Various gases may be used as the gas, and N 2 gas is exemplified in this embodiment. The gas valve 310 is positioned in the pipeline of the gas supply pipe 300 to control the supply of gas by opening and closing the gas supply pipe 300.

이송관(400)은 약액저장실린더(100)의 약액을 원하는 위치(예를 들면, DHF 희석 탱크)로 이송하며, 이송밸브(410)는 이송관(400)의 관로에 위치하여 이송관(400)을 개폐함으로써 약액의 공급을 조절하게 된다.The transfer pipe 400 transfers the chemical liquid of the chemical liquid storage cylinder 100 to a desired position (for example, a DHF dilution tank), and the transfer valve 410 is located in the pipeline of the transfer tube 400 to transfer the tube 400. The opening and closing the control of the chemical liquid is controlled.

한편, 약액저장실린더(100)는 저장된 약액의 레벨을 감지하는 레벨센서(110)를 더 포함할 수 있다. 도 2에 도시된 것처럼, 레벨센서는 그 약액의 높이에 따라 HH, H, L, LL 등을 감지할 수 있도록 구비되며, 원하는 약액의 양만큼을 감지할 수 있다. 예를 들면, 이송관(400)에 의해 공급되어야 할 약액의 양을 H와 L 사이에 저장된 양으로 지정해 놓은 경우, 먼저 레벨센서(110)에 의해 레벨 H까지 약액을 채운후, 이송밸브(410)를 개방하되 레벨센서(110)에 의해 레벨 L까지만 정량적으로 이송하도록 조절할 수 있다. H는 충전 위치, L은 배출 위치라고 불리어 질 수 있고, HH, LL은 알람 위치로 설정해 놓을 수 있다. 이러한 모든 작동은 수동 혹은 별도의 제어부에 의해 자동으로 제어될 수 있다.On the other hand, the chemical storage cylinder 100 may further include a level sensor 110 for detecting the level of the stored chemical liquid. As shown in Figure 2, the level sensor is provided to detect the HH, H, L, LL, etc. in accordance with the height of the chemical, it can detect the amount of the chemical. For example, when the amount of chemical liquid to be supplied by the transfer pipe 400 is designated as the amount stored between H and L, the chemical liquid is first filled to the level H by the level sensor 110, and then the transfer valve 410 ) Can be adjusted to be quantitatively transported only up to the level L by the level sensor 110. H can be called the charging position, L can be called the discharge position, and HH and LL can be set to the alarm position. All these operations can be controlled manually or automatically by a separate control.

그리고, 가스공급관(300)은 약액저장실린더(100)와 가스밸브(310) 사이에 가스를 배기하는 배기관(500)과, 배기관(500)을 개폐하는 배기밸브(510)를 더 포함한다. 이러한 배기관(500)과 배기밸브(510)는 약액공급관(200)에 의해 약액을 공급할 때 2차측의 압력을 제거할 필요가 있을 때, 혹은 별도로 가스를 배기할 필요가 있을 때에 사용된다.The gas supply pipe 300 further includes an exhaust pipe 500 for exhausting the gas between the chemical liquid storage cylinder 100 and the gas valve 310, and an exhaust valve 510 for opening and closing the exhaust pipe 500. The exhaust pipe 500 and the exhaust valve 510 are used when it is necessary to remove the pressure on the secondary side when supplying the chemical liquid by the chemical liquid supply pipe 200 or when it is necessary to exhaust the gas separately.

또한, 이송관(400)은 약액저장실린더(100)와 이송밸브(410) 사이에 약액을 드레인하는 드레인관(600)과, 드레인관(600)을 개폐하는 드레인밸브(610)를 더 포함한다. 드레인관(600)과 드레인밸브(610)에 의해 불필요한 약액이나 사용이 불가능한 약액을 드레인시킬 수 있다.In addition, the transfer pipe 400 further includes a drain pipe 600 for draining the chemical liquid between the chemical liquid storage cylinder 100 and the transfer valve 410, and a drain valve 610 for opening and closing the drain pipe 600. . The drain pipe 600 and the drain valve 610 can drain unnecessary chemicals or chemicals that cannot be used.

다음으로, 도면을 통해 본 발명의 약액 공급 방법에 대해 설명한다.Next, the chemical liquid supply method of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 실시예에 따른 약액 공급 방법을 나타낸 개념도이다.3A to 3E are conceptual views illustrating a method of supplying a chemical liquid according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 3a에 도시된 것처럼, 소량의 약액을 공급하기 위한 약액 공급 방법 은 약액공급관(200)에 연결된 약액밸브(210)를 개방하여 약액저장실린더(100)로 약액을 공급한다. (도면에서 각 밸브들의 개방은 흰색, 폐쇄는 검은색으로 표시하였다.)First, as shown in Figure 3a, the chemical liquid supply method for supplying a small amount of the chemical liquid by supplying the chemical liquid to the chemical liquid storage cylinder 100 by opening the chemical liquid valve 210 connected to the chemical liquid supply pipe 200. (In the drawing, the openings of the valves are indicated in white and the closures in black.)

여기서, 약액을 공급하기 전에 약액저장실린더(100)와 가스밸브(310) 사이에 위치한 배기관(500)에 연결된 배기밸브(510)를 개방함으로써, 약액이 약액저장실린더(100)로 공급되는 데 불필요한 압력을 제거할 수 있다.Here, by opening the exhaust valve 510 connected to the exhaust pipe 500 located between the chemical liquid storage cylinder 100 and the gas valve 310 before supplying the chemical liquid, it is unnecessary for the chemical liquid to be supplied to the chemical liquid storage cylinder 100. The pressure can be removed.

그러고 나서, 약액저장실린더(100)에 구비된 레벨센서(110)에 의해 약액을 선택된 위치까지 약액저장실린더(100)에 약액을 채우고, 약액밸브(210)를 닫는다. 약액밸브(210)를 닫은 이후에, 배기밸브(510)를 닫는다. 도 3b는 원하는 레벨인 H의 위치(충전 위치)까지 약액이 약액저장실린더(100)까지 저장된 상태를 나타낸 도면이다.Then, the chemical liquid is filled in the chemical liquid storage cylinder 100 to the selected position by the level sensor 110 provided in the chemical liquid storage cylinder 100, and the chemical liquid valve 210 is closed. After the chemical liquid valve 210 is closed, the exhaust valve 510 is closed. 3B is a view showing a state where the chemical liquid is stored up to the chemical liquid storage cylinder 100 up to the position (filling position) of H, which is a desired level.

그후, 약액을 원하는 위치까지 이송해야 하는 경우, 도 3c에 도시된 것처럼 가스공급관(300)에 연결된 가스밸브(310)를 개방하여 가스압에 의해 약액저장실린더(100)에 저장된 약액을 이송관(400)에 의해 원하는 위치로 순간적으로 이송하게 된다. 본 실시예에서 상기 가스는 N2 가스이며, N2 가스에 의해 저장된 약액인 HF를 원하는 위치인 DHF 희석 탱크로 정량만큼 이송하게 된다. 도 3d는 원하는 양의 약액(즉, 레벨 H에서 레벨 L의 사이에 해당하는 약액, 또는 충전 위치에서 배출 위치 사이에 해당하는 약액)을 이송한 뒤 약액 공급이 중단된 상태를 나타낸 도면이다.Then, when it is necessary to transfer the chemical liquid to the desired position, as shown in Figure 3c by opening the gas valve 310 connected to the gas supply pipe 300 to transfer the chemical liquid stored in the chemical liquid storage cylinder 100 by the gas pressure transfer pipe 400 ) Is instantaneously transferred to the desired position. In the present embodiment, the gas is N 2 gas, and HF, which is a chemical liquid stored by the N 2 gas, is transferred to the DHF dilution tank, which is a desired position, by a fixed amount. FIG. 3D is a diagram illustrating a state in which the chemical liquid supply is stopped after transferring a desired amount of the chemical liquid (that is, the chemical liquid corresponding to the level L to the level L, or the chemical liquid corresponding to the discharge position from the filling position).

그리고, 도 3e에 도시된 것처럼, 배기관(500)과 배기밸브(510)는 별도로 가 스를 배기할 필요가 있는 경우에 개방되어 가스를 제거하고, 드레인관(600)과 드레인밸브(610)에 의해 불필요한 약액이나 사용이 불가능한 약액을 드레인시키게 된다.And, as shown in Figure 3e, the exhaust pipe 500 and the exhaust valve 510 is opened when it is necessary to exhaust the gas separately to remove the gas, to the drain pipe 600 and the drain valve 610 This can drain unnecessary chemicals or chemicals that cannot be used.

이렇게 본 발명에 따르면 장치 구성이 간단하여 약액 준비 단계가 간단하며, 약액 준비 시간이 길지 않은 장점이 있고, 일정한 농도의 약액을 소량으로 안정적으로 공급할 수 있다.Thus, according to the present invention, the device configuration is simple, the chemical liquid preparation step is simple, there is an advantage that the chemical liquid preparation time is not long, it is possible to stably supply a small amount of chemical liquid of a constant concentration.

이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described with reference to the embodiments above, those skilled in the art will understand that the present invention can be variously modified and changed without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. Could be.

도 1은 종래의 소량 약액 공급 장치를 나타낸 개념도,1 is a conceptual diagram showing a conventional small amount chemical solution supply device,

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 약액 공급 장치를 나타낸 개념도,2 is a conceptual diagram showing a chemical liquid supply device according to an embodiment of the present invention,

도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 실시예에 따른 약액 공급 방법을 나타낸 개념도이다.3A to 3E are conceptual views illustrating a method of supplying a chemical liquid according to an embodiment of the present invention.

<도면의 간단한 설명><Brief Description of Drawings>

100...약액저장탱크 200...약액공급관100.Chemical liquid storage tank 200 ... Chemical liquid supply pipe

300...가스공급관 400...이송관300 gas supply pipe 400 transport pipe

500...배기관 600...드레인관500 Exhaust Pipe 600 Drain Pipe

Claims (14)

약액을 저장하는 약액저장실린더;Chemical liquid storage cylinder for storing the chemical liquid; 상기 약액저장실린더로 약액을 공급하는 약액공급관;A chemical liquid supply pipe for supplying a chemical liquid to the chemical liquid storage cylinder; 상기 약액공급관을 개폐하는 약액밸브;A chemical liquid valve for opening and closing the chemical liquid supply pipe; 상기 약액저장실린더로 가스를 공급하는 가스공급관;A gas supply pipe supplying gas to the chemical storage cylinder; 상기 가스공급관을 개폐하는 가스밸브;A gas valve for opening and closing the gas supply pipe; 상기 약액저장실린더의 약액을 배출 위치로 이송하는 이송관; 및A transfer tube for transferring the chemical liquid of the chemical storage cylinder to a discharge position; And 상기 이송관을 개폐하는 이송밸브를 포함하되,Including a transfer valve for opening and closing the transfer pipe, 상기 약액저장실린더는 The chemical storage cylinder 배관의 형태로 이루어지며,Is in the form of a pipe, 약액의 충전 위치와 배출 위치를 구비하고, Having a filling position and a discharging position of the chemical liquid, 상기 충전 위치와 상기 배출 위치 사이의 용량이 약액의 1회 공급량이며,The capacity between the filling position and the discharging position is a one-time supply amount of the chemical liquid, 상기 충전 위치와 상기 배출 위치에는 저장된 약액의 레벨을 감비하는 레벨센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 유닛.The filling position and the discharge position further comprises a level sensor for reducing the level of the stored chemical liquid. 삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스공급관은,The gas supply pipe, 상기 약액저장실린더와 상기 가스밸브 사이에 상기 가스를 배기하는 배기관과, 상기 배기관을 개폐하는 배기밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 유닛.And an exhaust pipe for exhausting the gas between the chemical liquid storage cylinder and the gas valve, and an exhaust valve for opening and closing the exhaust pipe. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 약액공급관은 상기 약액저장실린더의 출구측에 연결되고, 상기 가스공급관은 상기 약액저장실린더의 입구측에 연결된 것을 특징으로 하는 약액 공급 유닛.The chemical liquid supply pipe is connected to the outlet side of the chemical liquid storage cylinder, the gas supply pipe is a chemical liquid supply unit, characterized in that connected to the inlet side of the chemical liquid storage cylinder. 약액을 공급하는 약액 공급 유닛;A chemical liquid supply unit for supplying a chemical liquid; 상기 약액 공급 유닛으로부터 공급된 약액을 초순수와 혼합하여 희석시켜 공급하는 희석 탱크;A dilution tank for mixing and diluting the chemical liquid supplied from the chemical liquid supply unit with ultrapure water; 상기 희석 탱크에서 희석된 약액이 제공되는 혼합 탱크; 및A mixing tank provided with a chemical liquid diluted in the dilution tank; And 상기 혼합 탱크에 저장된 약액을 배출 위치로 이송하는 배출관을 포함하되,Including a discharge pipe for transferring the chemical liquid stored in the mixing tank to the discharge position, 상기 약액 공급 유닛은,The chemical liquid supply unit, 약액을 저장하는 약액저장실린더;Chemical liquid storage cylinder for storing the chemical liquid; 상기 약액저장실린더로 약액을 공급하는 약액공급관;A chemical liquid supply pipe for supplying a chemical liquid to the chemical liquid storage cylinder; 상기 약액공급관을 개폐하는 약액밸브;A chemical liquid valve for opening and closing the chemical liquid supply pipe; 상기 약액저장실린더로 가스를 공급하는 가스공급관;A gas supply pipe supplying gas to the chemical storage cylinder; 상기 가스공급관을 개폐하는 가스밸브;A gas valve for opening and closing the gas supply pipe; 상기 약액저장실린더의 약액을 상기 희석 탱크로 이송하는 이송관; 및A transfer tube for transferring the chemical liquid of the chemical liquid storage cylinder to the dilution tank; And 상기 이송관을 개폐하는 이송밸브를 포함하는 것으로,To include a transfer valve for opening and closing the transfer pipe, 상기 약액저장실린더는 The chemical storage cylinder 배관의 형태로 이루어지며,Is in the form of a pipe, 약액의 충전 위치와 배출 위치를 구비하고, Having a filling position and a discharging position of the chemical liquid, 상기 충전 위치와 상기 배출 위치 사이의 용량이 약액의 1회 공급량이며,The capacity between the filling position and the discharging position is a one-time supply amount of the chemical liquid, 상기 충전 위치와 상기 배출 위치에는 저장된 약액의 레벨을 감비하는 레벨센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급장치.And a level sensor for reducing the level of the stored chemical liquid in the filling position and the discharge position. 삭제delete 삭제delete 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 가스공급관은,The gas supply pipe, 상기 약액저장실린더와 상기 가스밸브 사이에 상기 가스를 배기하는 배기관과, 상기 배기관을 개폐하는 배기밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공 급 장치.And a exhaust pipe for exhausting the gas between the chemical storage cylinder and the gas valve, and an exhaust valve for opening and closing the exhaust pipe. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 약액공급관은 상기 약액저장실린더의 출구측에 연결되고, 상기 가스공급관은 상기 약액저장실린더의 입구측에 연결된 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The chemical liquid supply pipe is connected to the outlet side of the chemical liquid storage cylinder, the gas supply pipe is a chemical liquid supply device, characterized in that connected to the inlet side of the chemical liquid storage cylinder. 약액공급관에 연결된 약액밸브를 개방하여 약액을 약액저장실린더로 약액을 공급하는 단계;Supplying the chemical liquid to the chemical liquid storage cylinder by opening the chemical liquid valve connected to the chemical liquid supply pipe; 상기 약액저장실린더에 약액의 1회 공급량을 충전 위치까지 약액을 채우고 상기 밸브를 닫는 단계; 및Filling the chemical solution to the chemical liquid storage cylinder with a one-time supply amount of the chemical liquid to a filling position and closing the valve; And 가스공급관에 연결된 가스밸브를 개방하여 가스압에 의해 상기 약액저장탱크에 저장된 약액을 배출 위치로 이송하는 단계를 포함하는 약액 공급 방법.And opening a gas valve connected to a gas supply pipe to transfer the chemical liquid stored in the chemical storage tank to a discharge position by gas pressure. 삭제delete 삭제delete 제 11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 약액을 공급하는 단계 이전에,Before the step of supplying the chemical liquid, 상기 약액저장탱크와 상기 가스밸브 사이에 위치하여, 가스를 배기하는 배기관에 연결된 배기밸브를 개방하는 단계와;Opening an exhaust valve located between the chemical storage tank and the gas valve and connected to an exhaust pipe for exhausting gas; 상기 약액밸브를 닫는 단계 이후에,After closing the chemical liquid valve, 상기 배기밸브를 닫는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 방법.The chemical liquid supply method further comprises the step of closing the exhaust valve.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101517033B1 (en) * 2013-12-20 2015-05-04 주식회사 케이씨텍 Chamical supply

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980085779A (en) * 1997-05-30 1998-12-05 문정환 Automatic cleaning device for semiconductor wafer coater and its method
KR20020022636A (en) * 2001-12-11 2002-03-27 오순봉 A chemicals mixed liquid supply apparatus for etching or cleaning semiconductor wafer
KR20060129880A (en) * 2005-06-13 2006-12-18 삼성전자주식회사 Manufacturing equipment for semiconductor
KR20070058067A (en) * 2005-12-01 2007-06-07 세메스 주식회사 Apparatus and method for providing chemical liquid

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980085779A (en) * 1997-05-30 1998-12-05 문정환 Automatic cleaning device for semiconductor wafer coater and its method
KR20020022636A (en) * 2001-12-11 2002-03-27 오순봉 A chemicals mixed liquid supply apparatus for etching or cleaning semiconductor wafer
KR20060129880A (en) * 2005-06-13 2006-12-18 삼성전자주식회사 Manufacturing equipment for semiconductor
KR20070058067A (en) * 2005-12-01 2007-06-07 세메스 주식회사 Apparatus and method for providing chemical liquid

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101517033B1 (en) * 2013-12-20 2015-05-04 주식회사 케이씨텍 Chamical supply

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