KR101517033B1 - Chamical supply - Google Patents

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KR101517033B1
KR101517033B1 KR1020130160412A KR20130160412A KR101517033B1 KR 101517033 B1 KR101517033 B1 KR 101517033B1 KR 1020130160412 A KR1020130160412 A KR 1020130160412A KR 20130160412 A KR20130160412 A KR 20130160412A KR 101517033 B1 KR101517033 B1 KR 101517033B1
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chemical
tank
carrier gas
supply
supply pipe
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KR1020130160412A
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Korean (ko)
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봉은상
정근준
김정완
이영태
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주식회사 케이씨텍
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    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
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Abstract

The present invention relates to a chemical supply device. The chemical supply device includes: a chemical supply pipe which supplies a chemical to a tank; a carrier gas supply pipe which supplies carrier gas to the tank to supply the chemical stored in the tank to a main supply pipe; an exhaust pipe which exhausts the carrier gas in the tank when the chemical of the tank is used up; and a damper part which prevents the inflow of overflowed chemical to an exhaust duct and detects the overflow of the chemical when the carrier gas exhausted though the exhaust pipe is connected to the exhaust duct and chemical supplied from the chemical supply pipe is overflowed through the exhaust pipe. A carrier gas exhausted for controlling the pressure of the tank is separated from a chemical remaining in the tank to collect the chemical. Thereby, the leakage of the chemical from the exhaust duct to other equipment can be prevented. The generation of process error can be prevented. The generation of a safety accident due to the leakage of the chemical to the bottom of a room can be prevented.

Description

케미컬 공급장치{Chamical supply}[0001] CHEMICAL SUPPLY [0002]

본 발명은 케미컬 공급장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 케미컬 공급장치의 압력을 조절할 때 탱크 내에 잔존하는 케미컬이 외부로 유출됨을 검출하여 처리할 수 있는 케미컬 공급장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a chemical feeder, and more particularly, to a chemical feeder capable of detecting and treating chemicals remaining in a tank when the pressure of the chemical feeder is adjusted.

일반적으로 케미컬 공급장치는, 반도체나 평판 디스플레이 장치를 제조하는 제조설비에 케미컬을 정량 정압으로 공급하기 위한 장치이다. 케미컬 공급장치의 일반적인 구성은 외부에서 공급되는 액상의 케미컬을 저장하고, 캐리어 가스 또는 푸쉬 가스라고 하는 가스를 공급받아 저장된 액상의 케미컬에 압력을 가하여 액상의 케미컬을 상기 제조설비를 공급하는 구성을 갖는다.Generally, a chemical supply device is a device for supplying a chemical at a constant pressure to a manufacturing facility for manufacturing semiconductor or flat panel display devices. A typical configuration of the chemical feeder is such that a liquid chemical supplied from the outside is stored, a gas such as a carrier gas or a push gas is supplied, and a liquid chemical is supplied to the manufacturing facility by applying pressure to the stored liquid chemical .

또한 통상의 케미컬 공급장치는 한 쌍의 케미컬 저장탱크를 구비하여, 일측 저장탱크에 저장된 케미컬을 모두 공급한 후 다른 저장탱크의 케미컬을 제조설비로 공급하며, 이때 케미컬이 소진된 저장탱크에 잔류하는 캐리어 가스를 외부로 배기하여 압력을 낮춤과 아울러 외부로부터 케미컬을 공급받아 저장하는 동작을 하게 된다.
In addition, the conventional chemical feeder includes a pair of chemical storage tanks to supply all of the chemicals stored in one storage tank and then supply the chemicals of the other storage tank to the manufacturing facility, where the chemical remains in the spent storage tank The carrier gas is exhausted to the outside to lower the pressure, and the chemical is supplied from the outside and stored.

이와 같은 구성의 종래 케미컬 공급장치의 구성과 작용을 아래에서 상세히 설명한다.
The construction and operation of the conventional chemical feeder having such a structure will be described in detail below.

도 1은 종래 케미컬 공급장치의 구성도이다.1 is a configuration diagram of a conventional chemical feeder.

도 1을 참조하면 종래 케미컬 공급장치는, 케미컬을 저장하는 제1탱크(110) 및 제2탱크(120)와, 상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120)에 저장된 케미컬을 선택적으로 제조설비로 공급하는 메인공급관(130)과, 외부에서 상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120) 각각에 액상의 케미컬을 공급하는 제1케미컬공급관(111) 및 제2케미컬공급관(121)과, 상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120) 각각에 캐리어 가스를 공급하여 캐리어 가스의 공급압력에 의해 상기 제1탱크(110) 또는 제2탱크(120)에 저장된 액상의 케미컬이 상기 메인공급관(130)을 통해 제조설비로 공급되도록 하는 제1캐리어가스공급관(112) 및 제2캐리어가스공급관(122)과, 상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120)의 압력 조절을 위하여 배기덕트(140)에 연결되는 제1배기관(113) 및 제2배기관(123)을 포함하여 구성된다.
Referring to FIG. 1, the conventional chemical supply apparatus includes a first tank 110 and a second tank 120 for storing chemicals, and a second tank 120 for selectively storing the chemicals stored in the first tank 110 and the second tank 120 A first chemical supply pipe 111 and a second chemical supply pipe 121 for supplying a liquid chemical to the first and second tanks 110 and 120 from the outside, A first tank 110 and a second tank 120. The carrier gas is supplied to the first tank 110 and the second tank 120 to supply the carrier gas to the first tank 110 or the second tank 120, A first carrier gas supply pipe 112 and a second carrier gas supply pipe 122 for supplying the first carrier gas and the second carrier gas to the manufacturing facility through the main supply pipe 130, And a first exhaust pipe 113 and a second exhaust pipe 123 connected to the exhaust duct 140 for controlling the exhaust pipe 140.

이하, 상기와 같이 구성되는 종래 케미컬 공급장치의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the structure and operation of the conventional chemical feeder configured as described above will be described in more detail.

먼저, 제1탱크(110)와 제2탱크(120)는 반도체 제조설비 등에 케미컬을 안정적으로 공급하기 위하여 복수로 마련된 것이며, 제1탱크(110)에 저장된 케미컬이 소진되면 제2탱크(120)의 케미컬을 제조설비로 공급하게 되며, 설명의 편의를 위하여 제1탱크(110)와 제2탱크(120) 모두에 액상의 케미컬이 공급된 상태를 시작으로 설명한다.The first tank 110 and the second tank 120 are provided in plural to stably supply the chemical to the semiconductor manufacturing facility and the like. When the chemical stored in the first tank 110 is exhausted, And the liquid chemical is supplied to both the first tank 110 and the second tank 120 for convenience of explanation.

상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120)에 액상의 케미컬이 저장된 상태에서 밸브(V14)가 열려 메인공급관(130)을 통해 액상의 케미컬이 제조설비로 공급된다. 이때 상기 제1탱크(110)에는 제1캐리어가스공급관(112)을 통해 불활성 가스가 공급되어 제1탱크(110) 내의 케미컬을 가압하여 공급되도록 한다.
The valve V14 is opened in the state where the liquid chemical is stored in the first tank 110 and the second tank 120 and the liquid chemical is supplied to the manufacturing facility through the main supply pipe 130. [ At this time, an inert gas is supplied to the first tank 110 through the first carrier gas supply pipe 112 to pressurize and supply the chemical in the first tank 110.

이와 같은 상태가 유지되면 제1탱크(110) 내부는 액상의 케미컬의 공급량에 비례하는 불활성 가스가 주입되며, 내부의 압력이 일정한 수준으로 유지된다. 제1탱크(110)의 케미컬의 공급이 지속되어 제1탱크(110)의 케미컬이 소진되는 경우 상기 밸브(V14)를 닫고 밸브(24)를 열어 제2탱크(120)에 저장된 케미컬을 메인공급관(130)을 통해 제조설비에 공급하게 된다.When this state is maintained, an inert gas proportional to the supply amount of the liquid chemical is injected into the first tank 110, and the internal pressure is maintained at a constant level. When the supply of the chemical of the first tank 110 is continued and the chemical of the first tank 110 is exhausted, the valve V14 is closed and the valve 24 is opened to supply the chemical stored in the second tank 120 to the main supply pipe (130) to the manufacturing facility.

이때 상기 제2캐리어가스공급관(122)에 마련된 밸브(V22)가 열려 불활성 가스인 캐리어가스가 제2탱크(120)로 공급되도록 하여 제2탱크(120)에 저장된 케미컬의 정압, 정량으로 공급하게 된다.
At this time, a valve V22 provided in the second carrier gas supply pipe 122 is opened to supply a carrier gas, which is an inert gas, to the second tank 120 and supply the chemical gas stored in the second tank 120 at a constant pressure, do.

이와 같은 상태에서 다음의 케미컬 공급을 준비하기 위하여 제1탱크(110)에 연결된 제1케미컬공급관(111)을 통해 외부의 케미컬을 공급받아 저장해야 하는데 앞서 설명한 바와 같이 제1탱크(110)의 내부에는 캐리어가스가 공급된 상태로 압력이 높은 상태이며, 외부의 케미컬을 공급받아 저장할 수 없게 된다.In this state, in order to prepare the next chemical supply, the external chemical should be supplied through the first chemical supply pipe 111 connected to the first tank 110 and stored therein. As described above, the inside of the first tank 110 The pressure is high in the state where the carrier gas is supplied, and the external chemical can not be supplied and stored.

따라서 제1배기관(113)의 밸브(V13)를 열어 상기 제1탱크(110)에 공급된 캐리어가스를 배기덕트(140)로 배출하면서, 제1케미컬공급관(111)의 밸브(V11)를 열어 액상의 케미컬을 공급받아 저장하게 된다. 이와 마찬가지로 제2탱크(120)의 케미컬이 소진되면, 제1탱크(110)의 케미컬을 메인공급관(130)을 통해 제조설비로 공급하게 되며, 제2탱크(120) 내부의 캐리어가스를 배기덕트(140)로 배기하면서 외부의 케미컬을 공급받아 제2탱크(120)에 저장하도록 동작한다.
The valve V11 of the first chemical feed pipe 111 is opened while the valve V13 of the first exhaust pipe 113 is opened and the carrier gas supplied to the first tank 110 is discharged to the exhaust duct 140 The liquid chemical is supplied and stored. Similarly, when the chemical of the second tank 120 is exhausted, the chemical of the first tank 110 is supplied to the manufacturing facility through the main supply pipe 130, and the carrier gas in the second tank 120 is supplied to the exhaust duct (140), and is supplied with an external chemical and stored in the second tank (120).

상기 배기덕트(140)는 제조설비, 제조설비가 위치하는 실내 공간을 배기하도록 배기팬(141)이 부착된 것이며, 상기 배기덕트(140)를 통해 배기되는 제1탱크(110) 및 제2탱크(120)의 캐리어 가스도 배기 된다. 이때 상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120)에는 외부의 케미컬이 제1케미컬공급관(111)과 제2케미컬공급관(121)을 통해 공급되는 상태이며, 상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120)에 각각 마련된 수위센서들(도면 미도시)이 공급된 케미컬이 하이레벨(hi level)일 때 제1케미컬공급관(111)의 밸브(V11) 또는 제2케미컬공급관(121)의 밸브(V21)를 닫아 케미컬의 공급을 중단시키게 된다.The exhaust duct 140 is equipped with an exhaust fan 141 for exhausting an indoor space in which manufacturing facilities and manufacturing facilities are located. The exhaust duct 141 is connected to a first tank 110 and a second tank 110, which are exhausted through the exhaust duct 140. And the carrier gas of the fuel cell 120 is also exhausted. At this time, the external chemical is supplied to the first tank 110 and the second tank 120 through the first chemical supply pipe 111 and the second chemical supply pipe 121, The valve V11 of the first chemical supply pipe 111 or the second chemical supply pipe 121 of the first chemical supply pipe 111 when the chemical supplied to the level sensors (not shown) provided in the second tank 120 is at a high level, The valve V21 is closed to stop the supply of the chemical.

그러나 상기 수위센서들에 오류가 발생한 경우 상기 케미컬의 중단시기를 알 수 없어, 케미컬이 계속 공급되고, 공급된 케미컬이 오버플로우(overflow)되어 상기 제1배기관(113) 또는 제2배기관(123)을 통해 상기 배기덕트(140) 측으로 유출된다.
However, when an error occurs in the water level sensors, it is impossible to know the stopping time of the chemical, so that the chemical is continuously supplied and the supplied chemical overflows and the first exhaust pipe 113 or the second exhaust pipe 123, To the exhaust duct 140 side.

이때 액상의 케미컬은 배기덕트(140)를 통해 외부로 배출되지 않고, 배기덕트(140)에 마련된 흡기구(142)를 통해 실내의 바닥이나 다른 설비의 내부로 유출될 수 있다. 미량의 케미컬이 실내로 유입되거나 다른 설비로 유입되는 경우 안전사고의 발생 또는 공정불량의 위험성이 있는 문제점이 있었다.At this time, the liquid chemical may not be discharged to the outside through the exhaust duct 140 but may be discharged to the floor of the room or the inside of another facility through the intake port 142 provided in the exhaust duct 140. There is a risk that a safety accident occurs or a process failure occurs when a trace amount of chemical flows into the room or flows into another facility.

종래에는 이처럼 액상의 케미컬이 오버플로우되는 것을 검출하기 위하여 실내의 바닥면(150)에 다수의 센서(151)를 두어 케미컬의 유출 여부를 확인하고, 유출된 케미컬이 있는 경우 알람발생부(151)를 통해 알람을 발생하게 되며, 상기 제1케미컬공급관(111)과 제2케미컬공급관(121) 각각의 밸브(V11)와 밸브(V21)를 닫아 케미컬의 공급을 중단하게 된다.
Conventionally, in order to detect that the liquid chemical overflows, a plurality of sensors 151 are placed on the floor surface 150 of the room to check the leakage of the chemicals, and when there is a leaked chemical, And the valves V11 and V21 of the first chemical supply pipe 111 and the second chemical supply pipe 121 are closed to stop the supply of the chemical.

그러나 이와 같은 종래의 방식은 소량이라도 이미 케미컬이 오버플로우되어 배기덕트(140)로 유출되고, 바닥으로 오버플로우된 상태가 되어야 케미컬의 공급을 중단하기 때문에 안전사고의 발생 위험과 공정 불량의 발생 위험이 있는 문제점이 있었다.
However, in such a conventional system, even if only a small amount of chemical is overflowed, the exhaust gas flows out to the exhaust duct 140, and when the chemical is overflowed, the supply of the chemical is stopped. There was a problem with this.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 케미컬 공급장치의 탱크에 마련된 수위센서에 이상이 발생하여, 케미컬의 공급이 계속되는 경우에도, 케미컬이 배기덕트로 오버플로우 되기 전에 검출할 수 있는 케미컬 공급장치를 제공함에 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide an apparatus and a method for detecting an abnormality in a water level sensor provided in a tank of a chemical supply apparatus, And to provide a chemical feed that can be used.

상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명 케미컬 공급장치는, 탱크에 케미컬을 공급하는 케미컬공급관과, 상기 탱크에 저장된 케미컬을 메인공급관으로 공급하기 위하여 상기 탱크로 캐리어가스를 공급하는 캐리어가스 공급관과, 상기 탱크의 케미컬이 소진되었을 때, 상기 탱크 내의 캐리어가스를 배기하는 배기관과, 상기 배기관을 통해 상기 배기되는 캐리어가스를 배기덕트로 연결함과 아울러 상기 케미컬공급관으로부터 공급된 케미컬이 상기 배기관을 통해 오버플로우 되는 경우, 오버플로우된 케미컬이 배기덕트로 유입되는 것을 방지하며, 케미컬이 오버플로우 됨을 검출하는 댐퍼부를 포함한다.
According to an aspect of the present invention, there is provided a chemical supply apparatus including a chemical supply pipe for supplying a chemical to a tank, a carrier gas supply pipe for supplying a carrier gas to the tank to supply the chemical stored in the tank to the main supply pipe, An exhaust pipe for exhausting the carrier gas in the tank when the chemical of the tank is exhausted, and a carrier gas exhausted through the exhaust pipe through an exhaust duct, and a chemical supplied from the chemical supply pipe is over- And a damper unit for preventing the overflowed chemical from flowing into the exhaust duct when it flows, and detecting that the chemical is overflowed.

본 발명 케미컬 공급장치는, 탱크에 마련된 수위센서들에 이상이 발생한 경우, 배기덕트로 오버플로우되는 케미컬을 수집하여 검출하도록 함으로써, 케미컬이 배기덕트를 통해 다른 장비나 실내 바닥으로 유출되는 것을 방지하여, 공정 불량 및 안전사고의 발생을 방지할 수 있는 효과가 있다.The chemical feeder of the present invention collects and detects a chemical overflowed by the exhaust duct when an abnormality occurs in the water level sensors provided in the tank, thereby preventing the chemical from flowing out to other equipment or the room floor through the exhaust duct , It is possible to prevent the occurrence of process defects and safety accidents.

또한 본 발명은 케미컬을 별도로 수집하고, 수집된 케미컬의 양이 일정 수준에 도달하면 별도로 폐기 처리할 수 있도록 하여, 케미컬에 의한 실내 오염의 발생을 방지하고, 안전성을 확보할 수 있는 효과가 있다.
Further, according to the present invention, the chemical is separately collected, and when the amount of the collected chemical reaches a certain level, it can be disposed of separately, thereby preventing occurrence of indoor pollution by chemicals and securing safety.

도 1은 종래 케미컬 공급장치의 구성도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 케미컬 공급장치의 구성도이다.
도 3은 도 2에 적용된 댐퍼부의 일실시 구성도이다.
도 4는 도 2에 적용된 댐퍼부의 다른 실시 구성도이다.1 is a configuration diagram of a conventional chemical feeder.
2 is a configuration diagram of a chemical supply apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
Fig. 3 is a schematic view of a damper unit applied to Fig. 2. Fig.
Fig. 4 is another embodiment of the damper unit applied to Fig. 2. Fig.

이하, 본 발명 케미컬 공급장치에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
Hereinafter, the chemical supply apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 케미컬 공급장치의 구성도이다.2 is a configuration diagram of a chemical supply apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

도 2를 각각 참조하면 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 케미컬 공급장치는, 케미컬을 저장하는 제1탱크(110) 및 제2탱크(120)와, 상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120)에 저장된 케미컬을 선택적으로 제조설비로 공급하는 메인공급관(130)과, 외부에서 상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120) 각각에 액상의 케미컬을 공급하는 제1케미컬공급관(111) 및 제2케미컬공급관(121)과, 상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120) 각각에 캐리어 가스를 공급하여 캐리어 가스의 공급압력에 의해 상기 제1탱크(110) 또는 제2탱크(120)에 저장된 액상의 케미컬이 상기 메인공급관(130)을 통해 제조설비로 공급되도록 하는 제1캐리어가스공급관(112) 및 제2캐리어가스공급관(122)과, 외부 배기를 위한 배기덕트(140)와, 상기 배기덕트(140)의 전단에 마련되어 배기덕트(140)로 오버플로우되는 케미컬을 검출하고, 저장하는 댐퍼부(160)와, 상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120)의 압력 조절을 위하여 상기 댐퍼부(160)를 통해 사이 배기덕트(140)로 캐리어가스를 배기하는 제1배기관(113) 및 제2배기관(123)을 포함하여 구성된다.
Referring to FIG. 2, the chemical supply apparatus according to the preferred embodiment of the present invention includes a first tank 110 and a second tank 120 for storing a chemical, a first tank 110 and a second tank 120, A first chemical supply pipe 111 for supplying a liquid chemical to the first and second tanks 110 and 120 from the outside, a main supply pipe 130 for selectively supplying the chemical stored in the first tank 110 and the second tank 120, And a second chemical supply pipe 121. The carrier gas is supplied to each of the first and second tanks 110 and 120 to supply the carrier gas to the first tank 110 or the second tank 120, A first carrier gas supply pipe 112 and a second carrier gas supply pipe 122 for supplying a liquid chemical stored in the first supply pipe 120 to the manufacturing facility through the main supply pipe 130 and an exhaust duct 140 And a chemical disposed at the front end of the exhaust duct 140 to overflow the exhaust duct 140 A damper unit 160 for storing a carrier gas in the first and second tanks 110 and 120 and a damper unit 160 for controlling the pressure in the first tank 110 and the second tank 120, 1 exhaust pipe 113 and a second exhaust pipe 123.

이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 케미컬 공급장치의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the structure and operation of the chemical supply apparatus according to the preferred embodiment of the present invention will be described in detail.

먼저, 상기 제1탱크(110)와 제2탱크(120)에 액상의 케미컬이 저장된 상태에서 밸브(V14)가 열려 메인공급관(130)을 통해 액상의 케미컬이 제조설비로 공급된다. 이때 상기 제1탱크(110)에는 제1캐리어가스공급관(112)을 통해 불활성 가스가 공급되어 제1탱크(110) 내의 케미컬을 가압하여 공급되도록 한다.
First, in a state where a liquid chemical is stored in the first tank 110 and the second tank 120, the valve V14 is opened and a liquid chemical is supplied to the manufacturing facility through the main supply pipe 130. At this time, an inert gas is supplied to the first tank 110 through the first carrier gas supply pipe 112 to pressurize and supply the chemical in the first tank 110.

이와 같은 상태가 유지되면 제1탱크(110) 내부는 액상의 케미컬의 공급량에 비례하는 불활성 가스가 주입되며, 내부의 압력이 일정한 수준으로 유지된다. 제1탱크(110)의 케미컬의 공급이 지속되어 제1탱크(110)의 케미컬이 소진되는 경우 상기 밸브(V14)를 닫고 밸브(24)를 열어 제2탱크(120)에 저장된 케미컬을 메인공급관(130)을 통해 제조설비에 공급하게 된다.When this state is maintained, an inert gas proportional to the supply amount of the liquid chemical is injected into the first tank 110, and the internal pressure is maintained at a constant level. When the supply of the chemical of the first tank 110 is continued and the chemical of the first tank 110 is exhausted, the valve V14 is closed and the valve 24 is opened to supply the chemical stored in the second tank 120 to the main supply pipe (130) to the manufacturing facility.

이때 상기 제2캐리어가스공급관(122)에 마련된 밸브(V22)가 열려 불활성 가스인 캐리어가스가 제2탱크(120)로 공급되도록 하여 제2탱크(120)에 저장된 케미컬의 정압, 정량으로 공급하게 된다.
At this time, a valve V22 provided in the second carrier gas supply pipe 122 is opened to supply a carrier gas, which is an inert gas, to the second tank 120 and supply the chemical gas stored in the second tank 120 at a constant pressure, do.

이와 같은 상태에서 다음의 케미컬 공급을 준비하기 위하여 제1탱크(110)에 연결된 제1케미컬공급관(111)을 통해 외부의 케미컬을 공급받아 저장해야 하는데 앞서 설명한 바와 같이 제1탱크(110)의 내부에는 캐리어가스가 공급된 상태로 압력이 높은 상태이며, 외부의 케미컬을 공급받아 저장할 수 없게 된다.In this state, in order to prepare the next chemical supply, the external chemical should be supplied through the first chemical supply pipe 111 connected to the first tank 110 and stored therein. As described above, the inside of the first tank 110 The pressure is high in the state where the carrier gas is supplied, and the external chemical can not be supplied and stored.

따라서 먼저 제1배기관(113)의 밸브(V13)를 열어 상기 제1탱크(110)에 공급된 캐리어가스를 댐퍼부(160)로 배출함과 아울러 제1케미컬공급관(111)의 밸브(V11)를 열어 액상의 케미컬을 공급받아 저장하게 된다.The valve V13 of the first exhaust pipe 113 is opened to discharge the carrier gas supplied to the first tank 110 to the damper unit 160 and the valve V11 of the first chemical supply pipe 111, And the liquid chemical is supplied and stored.

이때 상기 제1탱크(110)에는 다수의 수위센서(도면 미도시)를 포함하고 있어, 상기 제1탱크(110) 내에 공급된 케미컬의 수위를 검출하여 하이레벨이면 상기 밸브(V11)를 닫아 제1탱크(110)로 공급되는 케미컬을 차단하게 된다. 그러나 그 수위센서들에 이상이 발생한 경우에는 제1탱크(110)로 케미컬이 계속 유입될 수 있으며, 제1탱크(110)에 공급된 케미컬이 상기 제1배기관(113)을 통해 오버플로우 된다.In this case, the first tank 110 includes a plurality of water level sensors (not shown) to detect the level of the chemical supplied to the first tank 110, close the valve V11 if the level is high, 1 tank 110. [0064] As shown in FIG. However, when an abnormality occurs in the water level sensors, the chemical may be continuously introduced into the first tank 110, and the chemical supplied to the first tank 110 may overflow through the first exhaust pipe 113.

이 오버플로우된 케미컬은 댐퍼부(160)로 유입된다.
The overflowed chemical flows into the damper unit 160.

상기 댐퍼부(160)는 상기 배기덕트(140)와 제1배기관(113) 사이에 공간을 제공하는 댐퍼(161)와, 상기 댐퍼(161)의 저면에서 지면방향으로 길게 위치하여 오버플오우 된 케미컬을 수용하는 튜브(162)와, 상기 튜브(162)에 수용된 케미컬의 수위를 검출하는 수위센서(163)를 포함하여 구성된다.
The damper unit 160 includes a damper 161 for providing a space between the exhaust duct 140 and the first exhaust pipe 113 and a damper 161 disposed at the bottom of the damper 161, And a water level sensor 163 for detecting the level of the chemical contained in the tube 162.

상기 댐퍼부(160)의 댐퍼(161)는 단순히 공간을 공간을 제공하는 것일 수 있으며, 기액 분리가 가능한 필터를 구비하거나, 캐리어가스와 케미컬이 지나는 경로의 길이를 길게 설계하여 케미컬이 배기덕트(140)로 유출되기 어려운 구조를 가질 수 있다.The damper 161 of the damper unit 160 may simply provide a space or may be provided with a filter capable of gas-liquid separation or may be designed so that the length of the path through which the carrier gas and the chemical pass is long, 140). ≪ / RTI >

상기 댐퍼(161)로 오버플로우 된 케미컬은 댐퍼(161)의 저면으로부터 지면방향으로 연장되어 마련된 튜브(162)에 수용되며, 케미컬을 튜브(162)에 수용함으로써 케미컬이 상기 배기덕트(140)로 오버플로우 되어 바닥면(150)이나 다른 설비로 유출되는 것을 방지할 수 있게 된다.
The chemical overflowed by the damper 161 is accommodated in a tube 162 extending from the bottom surface of the damper 161 in the direction of the paper surface and the chemical is accommodated in the tube 162, It is possible to prevent the overflow from flowing out to the floor 150 or other facility.

상기 댐퍼(161)에는 상기 제1배기관(113) 뿐만 아니라 제2배기관(123)도 연결되어 상기 설명한 동작이 제2탱크(120)에 케미컬을 공급할 때에도 동일하게 작용될 수 있다.
The damper 161 may be connected to the second exhaust pipe 123 as well as the first exhaust pipe 113 so that the operation described above may be applied to the second tank 120 when the chemical is supplied.

상기와 같이 튜브(162)에 케미컬이 수용되면 상기 튜브(162)에서 케미컬의 여부를 검출하는 센서(163)를 통해 즉시 알 수 있으며, 상기 센서(163)에서 케미컬이 검출되면 알람발생부(152)를 통해 알람을 발생하고, 상기 제1탱크(110) 또는 제2탱크(120)로 케미컬을 공급하는 제1케미컬공급관(111) 또는 제2케미컬공급관(121)의 밸브(V11,V21)를 닫아 케미컬이 더 이상 공급되지 않도록 차단한다.
When the chemical is received in the tube 162 as described above, the chemical is immediately detected through the sensor 163 that detects the presence of the chemical in the tube 162. When the chemical is detected by the sensor 163, And the valves V11 and V21 of the first chemical supply pipe 111 or the second chemical supply pipe 121 for supplying the chemical to the first tank 110 or the second tank 120, Close to prevent further chemical supply.

도 3과 도 4는 각각 상기 댐퍼부(60)의 일실시 구성도이다.3 and 4 are diagrams showing a configuration of the damper unit 60, respectively.

도 3과 도 4에 각각 도시된 댐퍼부(60)는 센서(163)의 연결방식에 약간의 차이가 있는 것이나 실질적으로 동일한 구성을 가지는 것으로, 앞서 설명한 댐퍼(161)와 튜브(162)가 마련되어 있다.The damper portion 60 shown in FIGS. 3 and 4 has substantially the same configuration as that of the sensor 163 but has the damper 161 and the tube 162 described above have.

상기 튜브(162)의 끝단에는 수용된 케미컬을 배출할 수 있는 배출밸브(164)가 부가되어 있으며, 상기 센서(163)는 튜브(162)와 댐퍼(161)의 사이 정전용량의 변화를 검출하거나(도 3), 튜브(162) 내에서 정전용량의 변화를 검출하는(도 4) 정전용량센서일 수 있다. 이와는 다르게 상기 튜브(162)를 투명한 것으로 하고, 광센서를 이용하여 튜브에 케미컬이 수용됨을 검출할 수 있다.
A discharge valve 164 is provided at an end of the tube 162 to discharge a contained chemical and the sensor 163 detects a change in capacitance between the tube 162 and the damper 161 3), and a capacitance sensor that detects a change in capacitance in the tube 162 (FIG. 4). Alternatively, the tube 162 may be made transparent so that it can be detected that the chemical is received in the tube using an optical sensor.

이처럼 본 발명은 탱크 내부의 케미컬 수위를 검출하는 수위센서들에 이상이 발생하여 케미컬이 오버플로우 되는 경우에도, 오버플로우 된 케미컬이 배기덕트로 유입되기 전에 오버플로우가 발생함을 검출할 수 있어, 안전사고의 발생 및 공정불량의 발생을 방지할 수 있게 된다.
As described above, according to the present invention, it is possible to detect that an overflow occurs before the overflowed chemical flows into the exhaust duct even when an abnormality occurs in the water level sensors for detecting the chemical level in the tank, Occurrence of a safety accident and occurrence of a process failure can be prevented.

또한 본 발명은 오버플로우가 발생한 즉시 이를 검출할 수 있기 때문에 다수의 탱크 각각에 다수의 수위센서를 마련하지 않고도, 공급의 종점을 확인할 수 있어, 경우에 따라 탱크에 수위센서를 사용하지 않을 수 있어, 비용을 절감할 수 있다.
Further, since the present invention can detect the overflow immediately, it is possible to confirm the end point of the supply without providing a plurality of water level sensors in each of the plurality of tanks, and in some cases, the water level sensor may not be used in the tank , The cost can be reduced.

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 아니하는 범위 내에서 다양하게 수정, 변형되어 실시될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명한 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention will be.

110:제1탱크 111:제1케미컬공급관
112:제1캐리어가스 공급관 113:제1배기관
120:제2탱크 121:제2케미컬공급관
122:제2캐리어가스 공급관 123:제2배기관
130:메인공급관 140:배기덕트
141:배기팬 142:흡기구
150:바닥면 152:알람발생부
160:댐퍼부 161:댐퍼
162:튜브 163:센서
164:배출밸브110: first tank 111: first chemical supply pipe
112: first carrier gas supply pipe 113: first exhaust pipe
120: second tank 121: second chemical supply pipe
122: second carrier gas supply pipe 123: second exhaust pipe
130: main supply pipe 140: exhaust duct
141: exhaust fan 142: intake port
150: bottom surface 152: alarm generating unit
160: damper part 161: damper
162: tube 163: sensor
164: Discharge valve

Claims (5)

탱크에 케미컬을 공급하는 케미컬공급관;
상기 탱크에 저장된 케미컬을 메인공급관으로 공급하기 위하여 상기 탱크로 캐리어가스를 공급하는 캐리어가스 공급관;
상기 탱크의 케미컬이 소진되었을 때, 상기 탱크 내의 캐리어가스를 배기하는 배기관; 및
상기 배기관을 통해 배기되는 상기 캐리어가스를 배기덕트로 연결함과 아울러 상기 케미컬공급관으로부터 공급된 케미컬이 상기 배기관을 통해 오버플로우 되는 경우, 오버플로우된 케미컬이 배기덕트로 유입되는 것을 방지하며, 케미컬이 오버플로우 됨을 검출하는 댐퍼부를 포함하되,
상기 댐퍼부는,
상기 배기관과 상기 배기덕트 사이에 공간을 제공하는 댐퍼와, 상기 댐퍼의 저면으로부터 지면방향으로 연장되어, 상기 오버플로우 된 케미컬을 저장하는 튜브와, 상기 튜브에 저장되는 케미컬을 검출하여, 상기 케미컬공급관을 통해 상기 탱크에 공급되는 케미컬을 차단하는 센서를 구비하고,
상기 댐퍼는,
기체와 액체를 분리하는 필터를 포함하거나, 긴 유로를 포함하여 케미컬이 상기 배기덕트로 유출되지 않도록 하는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치.
A chemical supply line supplying the chemical to the tank;
A carrier gas supply pipe for supplying a carrier gas to the tank to supply the chemical stored in the tank to the main supply pipe;
An exhaust pipe for exhausting the carrier gas in the tank when the chemical of the tank is exhausted; And
The carrier gas exhausted through the exhaust pipe is connected to the exhaust duct and the overflowed chemical is prevented from flowing into the exhaust duct when the chemical supplied from the chemical supply pipe is overflowed through the exhaust pipe, And a damper unit for detecting that the overflow occurs,
In the damper portion,
A damper for providing a space between the exhaust pipe and the exhaust duct; a tube extending from the bottom surface of the damper in the direction of the paper surface for storing the overflowed chemical; and a chemical stored in the tube, And a sensor for shutting off the chemical supplied to the tank through the sensor,
The damper includes:
And a filter for separating the gas and the liquid from each other or preventing the chemical, including the long channel, from flowing out to the exhaust duct.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 튜브는,
하부 끝단에 배출밸브가 마련된 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치.
The method according to claim 1,
The tube may comprise:
And a discharge valve is provided at the lower end.
제1항에 있어서,
상기 센서는,
정전용량센서 또는 광센서인 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치.
The method according to claim 1,
The sensor includes:
Wherein the sensor is a capacitive sensor or an optical sensor.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100506492B1 (en) * 2003-04-17 2005-08-08 주식회사 제일 Chemical supply system and method semiconductor fabrication
KR20060011433A (en) * 2004-07-30 2006-02-03 삼성전자주식회사 Chemical measuring supply apparatus for fabricating semiconductor device
KR101021545B1 (en) * 2008-10-28 2011-03-16 세메스 주식회사 Unit and Apparatus for and Method of supplying chemical
KR101100274B1 (en) * 2008-10-28 2011-12-30 세메스 주식회사 Apparatus for and Method of supplying chemical

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100506492B1 (en) * 2003-04-17 2005-08-08 주식회사 제일 Chemical supply system and method semiconductor fabrication
KR20060011433A (en) * 2004-07-30 2006-02-03 삼성전자주식회사 Chemical measuring supply apparatus for fabricating semiconductor device
KR101021545B1 (en) * 2008-10-28 2011-03-16 세메스 주식회사 Unit and Apparatus for and Method of supplying chemical
KR101100274B1 (en) * 2008-10-28 2011-12-30 세메스 주식회사 Apparatus for and Method of supplying chemical

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9989855B2 (en) 2016-02-18 2018-06-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Chemical supply unit capable of automatically replacing a canister and a substrate treatment apparatus having the same

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