KR101014192B1 - 니트 디자인 방법과 그 장치 및 프로그램 - Google Patents

Abstract

플레어 스커트 등과 같이 웨일 방향으로 연속한 가늘고 긴 편성포의 부분으로 이루어지는 고어를 이용하고, 고어를 복수 코스 방향으로 접속한 편성포를 디자인한다. 복수의 고어에 걸쳐지는 패턴을 디자인 하는 경우에, 고어를 합체한 편성포의 외형 화상에 대하여 패턴을 디자인하고, 디자인을 고어로 분할한다. 패턴을 고어에 할당할 때에, 패턴 내에 내로윙 코스가 존재할 것인가 아닌가를 체크하고, 내로윙 코스가 존재하면, 내로윙 코스의 상측에서 패턴의 좌우의 경계를 편성포의 중앙 등으로부터의 내로윙 스티치의 수만큼 편성포 중앙측으로 시프트 시킨다.

Description

니트 디자인 방법과 그 장치 및 프로그램{METHOD AND DEVICE FOR KNIT DESIGN AND PROGRAM}

본 발명은 횡편기용(橫編機用)의 편성포(編成布)의 디자인에 관한 것으로서, 특히 복수의 고어(gore)나 몸통과 소매 등에 걸쳐지는 패턴의 디자인을 쉽게 하는 것에 관한 것이다.

일본 특허문헌1은 횡편기로 편성하는 편성포의 디자인에 대해서 개시하고 있다. 편성포의 디자인은 컴퓨터 상에서 이루어지고, 편성포의 외형을 화상(畵像)으로 입력하고, 각 스티치의 종류 등을 컬러 코드(color code) 등으로 입력한다. 내로윙 스티치(narrowing stitch)나 와이드닝 스티치(widening stitch) 혹은 캐스트 오브 스티치(cast off stitch) 등의 정형적이지만 번잡한 처리는, 그 서브루틴(subroutine)이 기억되어 라이브러리(library)로부터 서브루틴을 불러내서 이용한다. 그리고 이렇게 하여 작성된 디자인 데이터는 횡편기에서 사용하는 편성 데이터로 자동으로 변환할 수 있다.

그런데 플레어 스커트(flared skirt)(도14)나 패러슈트(parachute) 패턴의 스웨터 등과 같이, 편성폭이 서서히 변화되는 편성포가 있다. 이러한 편성포의 디자인은 고어(gore)를 단위로 하여 이루어지는데(도15), 고어는 웨일(wale) 방향으로 연속한 가늘고 긴 가상적인 편성포로서, 고어를 코스 방향으로 복수 접속한 것이 편성포가 되도록 디자인한다. 그리고 내로윙(오버래핑 스티치(overlapping stitch)에 의하여 코스 당 스티치의 수를 감소시키는 것)이나 와이드닝 스티치는 고어와 고어의 경계에서 이루어진다. 도15의 디자인 화상에는, 하측에서부터 상측으로 내로윙에 의하여 서서히 폭이 감소하는 블록(block)과, 그 양측의 가는 끈 모양의 블록이 있다.

고어 등을 이용한 디자인에서는 1개의 고어 내에 들어가는 패턴을 디자인하는 것은 간단하다. 그러나 복수의 고어에 걸쳐지는 패턴을 디자인하는 경우에, 패턴 내를 내로윙 코스(narrowing course)나 와이드닝 코스(widening course)가 통과하면 디자인은 지극히 어렵게 된다. 이러한 예를 도1에 나타낸다. 도면의 4∼8은 편성포의 블록이고, 10은 편성포의 중심선이다. 그리고 도1의 상하에서는 편성포를 고어로 분할해서 표시하고, 중앙에서는 블록4∼8을 합체한 합체 화상(合體 畵像)2를 표시하고 있다. 고어의 정의에 대하여 설명하면, 내로윙 스티치12를 수반하는 블록4, 6, 8 등에 그 좌우의 내로윙 스티치가 없는 직사각형 모양의 블록5, 7을 부가한 것이 1개의 고어이다. 예를 들면 블록4, 5가 편성포의 가장 좌측의 고어이다. 도1의 상측에서는 고어를 블록으로 분할해서 표시하고 있지만, 관습적 으로 이러한 표시를 고어로 표시한다고 한다. 또 14는 내로윙 코스이다.

패턴16을 입력하는 즉 묘화(描畵)하는 경우에 도1 중단(中段)의 합체 화상2에 대하여 입력하면 편리하다. 별개의 고어에 대하여, 패턴16이 어떻게 할당될 것인지를 상상하고 고어 단위로 각각 패턴16을 입력하는 것은 극히 어렵다. 패턴16을 입력한 후에, 패턴16을 개개의 고어로 할당하는 단계에서 문제가 발생한다. 개개의 고어가 웨일 방향으로 연속하도록 합체 화상2를 분할하고, 합체 화상2에서의 입력위치에 따라서 패턴16을 개개의 고어로 분배하면(할당하는 것과 동의(同義)), 패턴16은 도1의 하단과 같이 변형되어 버린다. 또 도1 하단의 2스티치나 4스티치는, 내로윙 코스14의 상하에서 불균등한 내로윙 스티치의 수이다. 이 스티치 수만큼 즉 내로윙 코스14의 상하에서 불균등한 내로윙 스티치의 수만큼 패턴16이 편성포의 외측으로 시프트(shift)한 것처럼 보인다. 또 도1에 관한 설명은 공지(公知)가 아니다.

일본 특허문헌1 특허 제2631946호 공보(USP5,557,527)

본 발명의 과제는, 복수의 고어에 걸쳐지는 디자인이나 소매와 몸통에 걸쳐지는 디자인, 라운드 패턴(round pattern)의 디자인 등을 용이하게 하는 것에 있다.

본 발명의 니트 디자인 방법은, 편성포를 복수의 파트(parts)로 분할해서 디자인하는 방법에 있어서,

복수의 파트에 걸쳐지는 패턴을, 상기 복수의 파트를 합체한 화상 상에서, 내로윙 코스(narrowing course)나 와이드닝 코스(widening course)의 상하에 걸쳐지도록 디자인한 후에,

상기 내로윙 코스나 와이드닝 코스의 상하에서의 불균등한 내로윙 스티치 혹은 와이드닝 스티치의 수를 구하고,

내로윙 코스의 상측의 패턴의 부분을, 코스의 하측의 부분에 대하여 상기 내로윙 스티치의 스티치 수만큼 편성포의 좌우방향 중앙측으로 상대적으로 시프트 시키고, 또는,

와이드닝 코스의 상측의 패턴의 부분을, 코스의 하측의 부분에 대하여 와이드닝 스티치의 스티치 수만큼 편성포의 좌우방향 외측으로 상대적으로 시프트 시킴으로써, 복수의 파트에 할당하는 것을 특징으로 한다.

바람직하게는, 상기 복수의 파트가 복수의 고어 혹은 몸통과 소매이다.

시프트의 구체적인 예로서는 예를 들면 상기 내로윙 스티치나 와이드닝 스티치의 불균등한 스티치 수를 패턴의 좌우의 경계에 대하여 각각 구하고, 내로윙 코스나 와이드닝 코스의 상측 패턴의 각각의 좌우의 경계를, 하측의 경계에 대하여, 구한 불균등한 스티치 수만큼 상대적으로 시프트 시킨다.

시프트와 할당의 순서는 예를 들면 상측의 패턴의 좌우의 경계를, 하측의 경계에 대하여, 구한 불균등한 스티치 수만큼 시프트 시킨 후에, 패턴을 복수의 파트에 할당하도록 한다.

시프트는 바람직하게는, 상기의 패턴을 복수의 파트에 가상적으로 할당한 후에, 패턴의 각 파트의 부분을, 상기 불균등한 내로윙 스티치 혹은 와이드닝 스티치의 스티치 수만큼 상기의 방향으로 시프트 시키고

또한 상기 시프트에 의하여 스티치가 없는 가상적인 웨일(wale)에 할당된 패턴의 데이터를 삭제하고, 또는 상기 시프트에 의하여 패턴의 데이터가 할당되지 않은 웨일이 발생했을 때에 주위의 부분의 패턴의 데이터를 할당하도록 한다.

바람직하게는, 패턴의 하단의 높이에서 이미 내로윙 스티치에 의하여 스티치가 없는 영역을 카운트 금지 영역으로 하고, 패턴의 하단보다 높은 위치에서 내로윙 스티치에 의하여 스티치가 없어지는 영역을 내로윙 영역으로서 등록하고, 상기 카운트 금지 영역을 건너 뛰도록 패턴의 데이터를 할당하고, 상기 내로윙 영역에 할당된 패턴의 데이터를 삭제한다. 이렇게 하면, 편성폭을 서서히 줄여서 내로윙 스티치를 할 때에 패턴의 어느 데이터를 삭제할지를 간단하게 결정할 수 있고, 또 좌우방향으로 중첩되어 패턴이 삭제되는 것을 방지하고, 삭제되는 패턴을 패턴 내에 균등하게 분산시킬 수 있다.

특히 바람직하게는, 편성포 전체에서 패턴을 복수의 레이어(layer)로 분해하고, 레이어마다 처리를 하고, 또한 레이어 간에 상대적 이동을 하도록 한다. 또 편성포는 실시예와 같이 무봉제 의류의 통 모양 편성포가 바람직하지만, 앞쪽 몸통만 있는 것 등의 편성포에서도 좋다. 레이어를 사용함으로써, 상하 방향으로 큰 패턴이 내로윙 스티치에 의하여 현저하게 변형되는 것을 방지할 수 있다.

또 레이어 간의 상대적 이동이나 레이어 마다의 수정에 의하여 내로윙 스티치의 영향을 적게 할 수 있다.

바람직하게는, 복수의 파트를 합체한 화상(畵像) 상에서, 패턴의 하단의 높이로부터 상측으로 연장되는 선과 편성포 단부(端部)의 사이의 패턴의 데이터를 보충용의 데이터로 하여 편성폭 내로 시프트 시킨다. 부분을 서서히 가늘게 하고 전체로서의 편성포의 편성폭을 서서히 감소시킴에 따라, 패턴을 편성폭의 중심측으로 시프트 시키면, 편성폭의 단부 부근의 패턴이 없는 영역이 발생한다. 이에 대하여 보충용의 데이터를 편성폭 내로 시프트 시키면, 편성포의 단부 부근에 패턴을 보충할 수 있다.

또한 바람직하게는, 상기 편성포가 통 모양의 편성포이고, 복수의 파트를 합체한 화상 상에서 상기 보충용의 데이터의 외측의 데이터를 반대측의 편성포로 연장시킨다. 이에 따라 편성포의 단부를 넘어서 연장되는 디자인이 가능하게 된다.

더 바람직하게는, 상기 편성포가 통 모양의 편성포이고, 라운드 패턴의 유닛이 되는 기본패턴의 기점 위치와, 그 기점 위치 부근에서의 통 모양 편성포 1라운드 분(分)의 스티치 수와, 기본패턴의 스티치 수로부터 기본패턴의 배열을 결정한다. 이에 따라 플레어 스커트나 패러슈트(parachute) 패턴의 스웨터 등에 라운드 패턴을 용이하게 디자인할 수 있다.

본 발명의 니트 디자인 장치에서는, 화상입력수단과, 화상입력수단에 의하여 입력된 편성포의 디자인 화상을 복수의 파트로 분할하기 위한 수단과, 그 디자인 화상을 복수의 파트를 합체한 합체 화상과, 복수의 파트로 분할한 화상과의 사이에서 변환하기 위한 수단과, 얻어진 디자인 화상에 의거하여 편성기용의 편성 데이터로 변환하기 위한 수단을 갖춘 니트 디자인 장치에 있어서, 상기 합체 화상 상에서 입력된 편성포의 패턴이, 복수의 파트에 걸쳐지고, 또한 내로윙 코스나 와이드닝 코스의 상하에 걸쳐져 있는 것을 검출하기 위한 수단과, 상기 내로윙 코스나 와이드닝 코스의 상하에서의, 불균등한 내로윙 스티치 혹은 와이드닝 스티치의 수를 구하기 위한 수단과, 내로윙 코스의 상측의 패턴의 부분을, 코스의 하측의 부분에 대하여 상대적으로 상기 내로윙 스티치의 스티치 수 만큼 편성포의 좌우방향 중앙측으로 시프트 시키고, 또는 와이드닝 코스 위측의 패턴의 부분을 코스의 하측의 부분에 대하여 상대적으로, 와이드닝 스티치의 스티치 수 만큼 편성포의 좌우방향 외측으로 시프트 시키도록 복수의 파트에 할당하기 위한 수단을 설치한 것을 특징으로 한다.

바람직하게는, 상기 복수의 부분이, 복수의 고어 혹은 몸통과 소매이다.

또한 바람직하게는, 상기의 패턴을 복수의 파트에 가상적으로 할당하기 위한 수단과, 패턴의 각 파트의 부분을 상기 불균등한 내로윙 스티치 혹은 와이드닝 스티치의 스티치 수만큼 상기의 방향으로 시프트 시키고, 또한 그 시프트에 의하여 스티치가 없는 가상적인 웨일에 할당된 패턴의 데이터를 삭제하고, 또는 상기 시프트에 의하여 패턴의 데이터가 할당되지 않은 웨일이 발생했을 때에 주위의 부분의 패턴의 데이터를 할당하기 위한 수단을 설치한다.

본 발명의 니트 디자인 프로그램에서는, 편성포의 디자인 화상을 복수의 파트에 분할하기 위한 명령과, 그 디자인 화상을 복수의 파트를 합체한 합체 화상과 복수의 파트에 분할한 화상의 사이에서 변환하기 위한 명령과, 얻어진 디자인 화상을 편성 데이터로 변환하기 위한 명령을 구비한 니트 디자인 프로그램에 있어서,

상기 합체 화상상의 편성포의 패턴이, 복수의 파트에 걸쳐지고 또한 내로윙 코스나 와이드닝 코스의 상하에 걸쳐 있는 것을 검출하기 명령과, 상기 내로윙 코스나 와이드닝 코스의 상하에서의 불균등한 내로윙 스티치 혹은 와이드닝 스티치의 수를 구하기 위한 명령과, 내로윙 코스의 상측의 패턴의 부분을 코스의 하측의 부분에 대하여 상대적으로 상기 내로윙 스티치의 스티치 수 만큼 편성포의 좌우방향 중앙측으로 시프트 시키고, 또는 와이드닝 코스의 상측의 패턴의 부분을 코스의 하측의 부분에 대하여 상대적으로 와이드닝 스티치의 스티치 수 만큼 편성포의 좌우방향 외측으로 시프트 시키도록, 복수의 파트에 할당하기 위한 명령을 구비한다. 또 니트 디자인 방법이나 니트 디자인 장치에 관한 기재는 그대로 니트 디자인 프로그램에도 적합하다.

실시예에서는, 편성포의 하측에서부터 상측으로 패턴의 보정 등의 처리를 하지만, 패턴을 입력한 후에 상측에서부터 하측으로 처리할 수도 있다. 내로윙 스티치의 경우에 밑에서부터 위로 처리하면 내로윙 스티치의 상부에서 예를 들면 1웨일이 해소되고, 디자인 상으로는 내로윙 스티치로 해소된 가상적인 웨일이 된다. 또 와이드닝 스티치로 밑에서부터 위로 처리하면 와이드닝 스티치의 상부에서 추가의 예를 들면 1웨일이 발생한다. 그러나 위로부터 밑으로 처리하면 내로윙 스티치는 마치 와이드닝 스티치와 같아 보이고, 와이드닝 스티치는 마치 내로윙 스티치와 같아 보인다. 시프트는, 예를 들면 내로윙 코스나 와이드닝 코스의 상측의 부분을 하측에 대하여 이동시키지만, 상측의 부분을 고정하고 하측을 시프트 시키더라도 좋다.

도1은 고어를 이용한 디자인(종래의 예)에서의, 디자인상의 문제를 모식적으로 나타내는 도면이다.

도2는 실시예에서의 니트 디자인 방법으로서, 고어를 이용해 플레어 스커트(flared skirt) 등을 디자인하는 과정에서, 복수의 고어에 걸쳐지는 패턴을 디자인했을 때의 고어로의 패턴의 할당 방법을 나타내는 도면이다.

도3은 실시예의 니트 디자인 장치의 블럭도이다.

도4는 실시예에서의 고어를 이용한 디자인에서의 보정 알고리즘을 나타내는 플로우 차트이다.

도5는 실시예에서의 복수의 고어를 합체한 외형 데이터와, 데이터를 슬라이드 시키는 알고리즘을 나타내는 플로우 차트이다.

도6은 실시예에서의 슬라이드를 해제해서 합체한 외형 데이터를 고어로 되돌리는 알고리즘을 나타내는 플로우 차트이다.

도7은 실시예에서의 패턴을 고어에 매핑(mapping)하는 알고리즘을 나타내는 플로우 차트이다.

도8은 제2의 실시예의 니트 디자인 방법에서의 패턴의 고어로의 할당을 나타내는 도면이다.

도9는 제2의 실시예에서 내로윙 코스의 위치와 내로윙 스티치의 수를 구하는 알고리즘을 나타내는 플로우 차트이다.

도10은 제2의 실시예에서 패턴의 좌우의 엣지(edge)를 구하는 알고리즘을 나타내는 플로우 차트이다.

도11은 제2의 실시예에서 패턴의 각 블록마다의 시프트 수(shift 數)를 구하는 알고리즘을 나타내는 플로우 차트다.

도12는 제2의 실시예에서의 패턴의 보정 알고리즘을 나타내는 플로우 차트이다.

도13은 소매와 몸통에 걸치는 패턴에 제1의 실시예를 적용한 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.

도14는 플레어 스커트를 나타내는 도면이다.

도15는 도14의 플레어 스커트의 고어를 이용한 디자인 화상을 나타내는 도면이다.

도16은 최적 실시예의 니트 디자인 장치의 블럭도이다.

도17은 최적 실시예에서의 언슬라이드(unslide) 보정을 모식적으로 나타내는 도면이다.

도18은 최적 실시예에서의 복수의 고어를 슬라이드하여 합체한 이미지를 이용하여 언슬라이드 보정을 모식적으로 나타내는 도면이다.

도19는 최적 실시예에서의 라운드 패턴의 처리를 모식적으로 나타내는 도면이다.

도20은 최적 실시예에서의 언슬라이드 보정에 의한 내로윙 스티치를 템플릿(template)을 이용해서 변경한 처리를 모식적으로 나타내는 도면이다.

도21은 최적 실시예의 각 요소 간의 관련을 모식적으로 나타내는 도면이다.

도22는 최적 실시예의 언슬라이드 보정의 알고리즘을 나타내는 플로우 차트이다.

도23은 최적 실시예의 라운드 패턴의 작성 알고리즘을 나타내는 플로우 차트이다.

도24는 최적 실시예의 표리 대칭 패턴(front-back symmetrical pattern) 의 작성 알고리즘을 나타내는 플로우 차트이다.

도25는 최적 실시예를 위한 니트 디자인 프로그램의 블럭도이다.

이하에 본 발명을 실시하기 위한 실시예 및 최적 실시예를 나타낸다.

실시예

도2∼도13에 실시예와 그 변형을 나타낸다. 편성포의 디자인은 도1과 동일한 부호를 사용하여 설명하는데, 부호2∼16은 도1과 각 실시예에도 공통이다. 도2에 제1의 실시예의 니트 디자인 방법의 개요를 나타낸다. 편성포의 합체 화상2에 있어서 인타샤(intarsia)나 자카드(Jacquard) 혹은 조직(tissue) 등의 패턴16을 입력하는데, 패턴16은 편성포의 중심선10의 예를 들면 좌측에 있다. 또한 도면에는 나타내지 않았지만, 편성포의 종류는 입체적인 실루엣을 얻기 쉬운 무봉제(無縫製)의 통 모양 편성포가 바람직하다. 패턴16은 3개 블록4, 5, 6에 걸쳐지고, 패턴16을 내로윙 코스14가 통과하고, 중심선10에서 보아 패턴16의 우측에 2개의 내로윙 스티치12a, 12b가 있고, 패턴16의 내부에 또한 2개의 내로윙 스티치12c, 12d가 있다. 이 때문에 코스14보다 상측의 부분에서는, 블록6에서는 코스14의 상하에서 불균등한 내로윙 스티치의 수는 2스티치이고, 블록5에서는 상하에서 불균등한 내로윙 스티치의 수는 3스티치이며, 블록4에서는 상하에서 불균등한 내로윙 스티치의 수는 4스티치이다.

도2의 상단과 같이 합체 화상2 상에서 패턴16을 묘화하면, 합체 화상2를 개개의 블록4∼8로 분할하고, 이것에 따라 가상적으로 패턴16을 개개의 블록4∼6에 할당한다. 또 여기에서 가상적이라고 한 것은, 실제로 개개의 블록4∼6의 화상 데이터에 패턴16의 블록A∼C등을 할당해도 좋고, 혹은 패턴16의 블록A∼C를 편성포의 블록4∼6의 데이터에 할당하여 버퍼(buffer) 등에 기억 시키더라도 좋기 때문이다. 이렇게 도2의 중단(中段)의 시점에서는 패턴16과 편성포의 블록4∼6의 할당 관계는 확정적인 것은 아니다. 또 니트 디자인의 원칙에 따라, 본 실시예에서는 편성포의 데이터는 하측에서부터 상측으로의 순서로 처리한다.

패턴16 중에 내로윙 코스14보다 하측의 블록D의 부분은, 내로윙 코스의 영향을 받지 않고 있으므로, 보정(시프트)할 필요가 없다. 이에 대하여 블록A는 내로윙 스티치12a, 12b 때문에 상하에서 2스티치만큼 내로윙 스티치의 스티치 수가 불균등하므로, 블록A를 편성포의 중앙측(여기에서는 우측)으로 2스티치 정도 시프트(shift) 시킨다. 블록B의 부분은 내로윙 스티치12a, 12b, 12c의 3스티치의 영향을 받고 있어, 내로윙 스티치의 수는 최대한 3스티치 불균등하다. 그래서 블록B를 편성포의 중앙으로 3스티치 시프트 시킨다.

블록B의 우측의 2웨일(wale)로 이루어지는 블록B-1은, 블록A의 오른쪽 시프트에 의하여 블록6에 발생한 에리어(area)에 배치할 수 있다. 블록B-2 의 부분을 우측으로 3스티치 시프트 시키면, 내로윙 스티치12c의 상부의 가상적인 웨일에 겹치게 된다. 본 명세서에서, 가상적인 웨일은 내로윙 스티치에 의하여 해소(解消)된 웨일을 의미한다. 여기서 블록B-2의 데이터를 삭제한다. 블록C는 내로윙 스티치12a∼12d의 영향을 받고, 상하에서 4스티치 정도 내로윙 스티치의 수가 불균등하다. 그래서 블록C를 4스티치 오른쪽으로 시프트한다. 이 중에 3웨일 정도의 블록C-1은 블록B가 존재했던 편성포의 블록5에 수용할 수 있다. 블록C의 가장 좌측의 웨일로 이루어지는 블록C-2는 4스티치 시프트에 의하여 내로윙 스티치12d 상의 가상적인 웨일에 겹쳐져서, 데이터로서는 삭제된다. 이 결과, 도2의 가장 하측 단부의 디자인이 얻어진다. 또 시프트 시키는 스티치 수는 상하에서 불균등한 내로윙 스티치나 와이드닝 스티치의 스티치 수와 대략 동일하면 좋다.

이상의 설명에서는, 블록A∼C의 시프트를 내로윙 코스14의 상하에서 불균등한 내로윙 스티치의 수라고 하는 개념으로 설명했다. 블록A의 시프트는 이 개념으로 설명하는 것이 가장 간단하지만, 블록B, C의 시프트는 다른 설명도 가능하다. 블록A를 내로윙 스티치12a, 12b를 따라 2스티치 정도, 즉 2웨일 정도 오른쪽으로 시프트 시킨다. 이것에 의하여 발생한 공간 에리어를 채우도록 블록B를 오른쪽으로 시프트 시킨다. 그리고 내로윙 스티치12c 상의 가상적인 웨일에 시프트되는 블록B-2의 데이터를 삭제한다. 블록C의 데이터를 블록B가 원래 차지하고 있었던 웨일로 오른쪽으로 시프트 시킨다. 이에 따라 가상적인 웨일에 시프트된 블록C-2의 데이터를 삭제한다.

또 여기에서 내로윙 스티치12c, 12d 상의 웨일을 가상적인 웨일로 하고, 가상적인 웨일에 시프트되는 데이터를 삭제했지만, 가상적인 웨일의 해석은 이 외의 것도 가능하다. 예를 들면 도2의 최하단에서, 웨일17을 내로윙 스티치12c에 대응하는 가상적인 웨일로 간주하고 블록C-1의 가장 좌측의 웨일의 데이터를 삭제하여도 좋다. 혹은 또한 도2의 최하단에서 웨일18을 가상적인 웨일로 간주해도 좋다.

도3에 실시예의 니트 디자인 장치30의 구성을 나타낸다. 31은 수동 입력장치로서, 스타일러스나 마우스, 트랙 볼 등으로 편성포의 외형이나 패턴 등의 데이터를 입력한다. 32는 표시장치로서 액정 표시기 등을 이용하고 편성포의 디자인 화상 등을 표시한다. 33은 프린터로서 편성포의 디자인 화상 등을 출력하고, 스캐너34는 편성포의 외형이나 컬러 혹은 자카드 등의 데이터를 읽어들인다. 디스크 드라이브35는 광자기 디스크나 플로피 디스크(floppy disk) 혹은 하드 디스크 등을 드라이브 하고, 편성포의 디자인 데이터나 니트 디자인 프로그램의 입출력을 한다. LAN 인터페이스36은 도면에 나타나 있지 않은 LAN을 통하여, 편성포의 디자인 데이터의 입출력이나 디자인 데이터를 횡편기 등의 편성기의 편성 데이터로 변환한 것을 입출력한다.

프로세서40은 일반적인 화상의 입출력 등의 처리 이외에, 고어를 이용해서 디자인하는 편성포나 소매와 몸통의 쌍방에 걸쳐지는 편성포 특유의 처리를 한다. 슬라이드 처리부41은 복수의 고어 혹은 복수의 블록 등 을 합체하여 합체 화상2를 형성한다. 언슬라이드 처리부42는 합체 화상2를 복수의 고어나 복수의 블록으로 분할한다. 고어 처리부43은, 플레어 스커트나 패러슈트 패턴의 스웨터 등의 고어를 이용해서 디자인하는 편성포를 디자인할 때에, 편성포의 외형을 고어나 블록으로 분할한다.

내로윙/와이드닝 처리부44는, 소정의 코스 수 마다 혹은 수동입력장치31 등으로 지정된 위치에 대하여, 내로윙 코스나 와이드닝 코스를 삽입한다. 도1, 도2에 나타낸 내로윙 코스14는 이렇게 하여 삽입된 내로윙 코스의 예이고, 원칙적으로 각 고어의 양측에 내로윙 스티치12, 12가 존재하고, 직사각형 형상의 편성포의 블록5, 7에는 내로윙 스티치는 존재하지 않는다. 보정부(補正部)45는, 복수의 고어에 걸쳐지고 또 내로윙 스티치 코스나 와이드닝 스티치 코스의 상하에 걸쳐지는 패턴에 대하여, 내로윙 스티치나 와이드닝 스티치를 따라 패턴의 부분을 편성포의 중앙측에 혹은 편성포의 양쪽 외측에 시프트 시킨다. 화상 메모리50은 무봉제 의류의 디자인 데이터 등의 화상을 기억하고, 버퍼51은 중간적인 데이터(temporal data)를 기억하고, 범용 메모리52는 범용의 데이터(general purpose data)를 기억하고, 자동변환부53은 무봉제 의류 등의 디자인 데이터를 횡편기로 편성 가능한 편성 데이터로 변환한다.

도4∼도7에 실시예의 알고리즘을 나타낸다. 도4에 알고리즘의 개요를 나타내면, 편성포의 중심선에 대하여 예를 들면 좌측에 패턴이 존재하고 이 패턴을 처리한다. 중심선보다 우측에 패턴이 존재하는 경우에, 패턴 보정시에 오른쪽 시프트가 아니라 왼쪽 시프트 시키면 좋다. 또 최초에 디자인 데이터는 복수의 고어, 바꿔 말하면 복수의 블록으로 분할되어 있다.

고어나 블록 등으로 분할된 화상과 파라미터(parameter)를 백업(back up)한다. 실시예에서는 컬러 코드(color code)로 디자인 데이터를 지정하는 것으로 하고, 예를 들면 파라미터로서는 블록과 블록의 사이의 스티치가 없는 영역에 대한 제외색(除外色; excluded color) 등이 있다. 블록마다 분할된 화상을 슬라이드 하여 합체 화상으로 한다. 이어서 합체 화상 상에서 적당한 패턴을 묘화하고, 백업한 화상과 파라미터를 로드(load)하고, 합체 화상을 분할하여 원래의 블록으로 되돌린다. 그리고 묘화한 패턴을 각 블록에 할당하고, 이 때 패턴의 각 부분을 좌우방향으로 시프트 시킨다.

도5에 슬라이드에 의한 변형 처리의 개요를 나타낸다. 슬라이드 시키는 대상 에리어나 슬라이드의 방향을 지정하고, 스티치가 없는 에리어를 나타내는 제외색을 등록한다. 제외색이 있는 부분은 편성 데이터로서는 예를 들면 블록과 블록 사이의 간격의 영역이 된다. 다음에 처리 결과를 저장하는 라인 버퍼(line buffer)의 에리어를 확보하고, 슬라이드 에리어(slide area)의 보텀 좌표(bottom 座標) 즉 슬라이드 에리어의 상하방향을 y방향, 좌우방향을 x방향으로 하여, 슬라이드 에리어의 가장 하측의 y좌표를 변수 y에 대입한다.

슬라이드 전의 원래 화상의 y좌표가 y인 데이터를 라인 버퍼에 슬라 이드 에리어만큼 카피한다. 다음에 버퍼로부터 읽어 내는 화소의 번호 Rn의 초기치를 0, 라인 버퍼에 써 넣는 화소의 번호 Wn의 초기치를 0으로 한다. 슬라이드 해서 시프트 방향의 단부(端部)로부터 역방향을 향하여 Rn개째의 화소의 데이터를 읽고, 읽은 화소가 슬라이드 대상 컬러인가 아닌가 바꿔 말하면 제외색이 아닐 것인가를 체크하고, 슬라이드 대상의 컬러이면 읽어 낸 데이터를 라인 버퍼의 슬라이드 방향의 최단으로부터 역방향을 향하여 Wn개째에 써 넣는다. 써 넣은 경우에, 변수 Wn을 1 플러스 한다. 계속하여 변수 Rn을 1 플러스 하고, Rn이 슬라이드 에리어의 폭 이상에 도달할 때까지 상기한 처리를 반복하고, 슬라이드 에리어 분의 처리가 끝나면 라인 버퍼의 Wn의 위치로부터 남아 있는 데이터(도5에서는 좌측)를 0으로 클리어(clear)하고 y좌표를 1 증가 시킨다. 이상의 루프(loop)를 y좌표가 슬라이드 에리어의 톱 좌표(top 座標)(y의 값이 최대)에 도달할 때까지 반복하고, 슬라이드 변형을 종료한다.

도5의 우측 최상열에, 2개 블록을 1코스 정도 슬라이드 시키는 예를 모식적으로 나타낸다. 제1의 블록은 블록 사이즈(block size)가 2스티치이고 디자인 데이터 상에서는 예를 들면 폭이 2픽셀이며, 제1의 블록과 제2의 블록 사이에는 3픽셀 분의 제외색의 에리어가 있다. 그리고 제2의 블록은 폭이 3픽셀 정도이다. 최초에 가장 우측의 제외색의 화소를 제거하고, 제1의 블록의 최초의 화소를 라인 버퍼의 가장 우측에 카피한다. 카피한 화소의 수 즉 Wn의 값은 1로 증가한다. 이렇게 하여 제1의 블록 및 제2 의 블록을 처리하면, 제1블록과 제2블록의 간격을 좁힐 수 있고 변수 Wn의 최종값은 5가 된다. 또 원래의 블록의 위치나 블록간의 제외색의 화소 수 등은 백업 완료 되어 있다.

도6에 합체 화상을 개개의 블록의 화상으로 분할하는 처리를 나타낸다. 처리 결과를 저장하는, 에리어 폭 만큼의 라인 버퍼 영역을 확보하고, 라인 버퍼를 클리어(clear)하고 y방향의 슬라이드 에리어의 보텀 좌표를 y의 값으로서 대입한다.

1코스 만큼씩 백업한 파라미터(parameter)와 화상으로부터 슬라이드 대상의 블록의 총수 N과, 각 블록의 슬라이드 방향의 엣지(edge)로부터의 거리 및 블록의 사이즈를 조사하고, 도6의 우측의 블록 리스트와 같이 등록한다. 슬라이드 화상을 원래 상태로 되돌리는 방향의 엣지의 좌표x를 얻는다. 다음에 변수 Rn의 값을 N-1로 하여 이 블록의 사이즈를 얻고, 엣지로부터 이 블록의 사이즈 만큼의 화상을 합체 화상으로부터 카피하고 라인 버퍼에 카피한다. 카피 위치는 엣지 좌표x로부터 시작하고 블록 폭 만큼의 에리어로 한다.

엣지 좌표x의 값에 처리된 블록의 사이즈의 값을 가산하고, 변수 Rn을 1 감산한다. Rn이 마이너스가 아니면 다음 블록의 정보를 얻는다. 이들의 처리를 계속하고 모든 블록의 처리를 끝내면, y좌표를 1 증가시켜서 톱 좌표까지 처리를 반복한다. 또 1라인씩의 처리가 끝날 때마다 라인 버퍼의 화상을 화상 메모리에 써 넣는다. 이 때문에 합체 화상 상에서 패턴 이 입력된 편성 데이터가 화상 메모리에 개개의 블록으로 분할되어 다시 쓰여진다.

도7에 도6 처리 이후의 처리를 나타내고, 도7에서는 패턴의 블록을 시프트 시킨다. 에리어 폭 만큼의 처리 결과를 저장하는 라인 버퍼의 영역을 확보하고, 이 폭은 편성포의 중앙으로부터 좌우의 각 단부까지의 폭 혹은 1개 패턴의 최대 폭 등으로 한다. 확보한 라인 버퍼의 영역을 클리어하고, 패턴의 보텀 좌표를 y에 대입한다.

각 코스에 대해서, 백업한 파라미터(parameter)와 백업한 화상을 사용하여 슬라이드 대상이 되는 블록의 총수 N을 구한다. 또 각 블록에 대하여 슬라이드 방향의 엣지로부터의 거리와 사이즈를 구한다. 도2의 경우에 예를 들면 내로윙 코스14의 상측에서는, 블록A에 대해서 내로윙 스티치의 수는 2스티치, 블록C에 대해서 내로윙 스티치의 수는 4스티치이고, 이들 수로 시프트 길이가 정해진다. 엣지 좌표 x를 얻고 변수 Rn의 초기값을 0으로, 변수 copy narrow의 초기값을 0으로 한다.

1블록 분의 데이터를 얻고, 취득 블록의 사이즈의 화상으로부터 copy narrow 분을 제거하고, 라인 버퍼의 백업 화상에 해당하는 위치 +narrow의 위치에 카피하고, 편성포의 중앙방향으로 좌표 narrow 분만 시프트 시킨다. 도2의 블록A의 경우에 narrow의 값은 2이다. 다음 블록, 도2의 경우에 예를 들면 블록B의 데이터를 읽어 내고, 2 스티치 만큼의 부족분 화상을 블록A의 시프트에 의하여 발생한 위치에 카피한다. 계속하여 narrow의 값을 변수 copy narrow에 입력하고, 변수 x의 값을 취득 블록 사이즈 만큼 증가시키고, 변수 Rn을 1 플러스 하고 다음의 블록 처리로 옮긴다. 다음 블록의 데이터를 취득하고, 예를 들면 도2의 블록B의 경우에, 블록A의 처리로서 2 스티치 만큼을 블록A측으로 시프트 하였으므로, 이 부분을 copy narrow 부분으로서 제외하고 남은 1 스티치 만큼의 데이터를 취득한다. 이 1 스티치를 백업 화상에 해당하는 위치 +narrow의 좌표에 카피하면, narrow의 값이 블록B에서는 3스티치이고 내로윙 스티치12c의 상측의 가상적인 웨일이 되므로, 블록B-2의 데이터는 클리어 된다. 계속하여 narrow의 값 3을 copy narrow의 새로운 값에 대입하고 엣지 좌표x를 변경하고 다음 블록을 처리한다. 이들의 처리를 슬라이드 에리어의 톱 좌표까지 처리하면 패턴의 처리가 완료된다.

도8∼도12에 제2의 실시예를 나타낸다. 제1의 실시예는 제2의 실시예에 비하여, 내로윙 스티치에 관한 보정을 한 후의 패턴이 시각적으로 합체 화상으로 입력한 패턴에 가깝다.

도8에 제2의 실시예에서의 처리의 개요를 나타내면 도1, 도2와 동일한 부호는 같은 것을 나타내어, 도1이나 도2와 마찬가지로 패턴16이 입력된 것으로 한다. 20은 패턴16 중에서 내로윙 코스14보다 하측 부분의 경계선이다. 21은 패턴16 중에서 코스14보다 상측에 있는 부분을, 내로윙 스티치12a, 12b의 2 스티치를 고려하여 2 스티치 오른쪽으로 시프트한 경계선이다. 22는 패턴16 중에서 코스14보다 상측에 있는 부분을, 내로윙 스티치 12a∼12d를 고려하여 4스티치 오른쪽으로 시프트한 경계선이다. 경계선21, 22의 공통 부분을 블록23으로 한다. 또 코스14보다 하측에 있는 부분을 블록24로 한다.

합체 화상을 각 블록으로 분할하기 전에 패턴16을 보정한다. 이 결과를 도8의 중단에 나타내면 블록24는 그대로이고, 블록23은 좌우의 경계선이 경계선21, 22가 된다. 여기에서 슬라이드를 해제하면, 도8의 하단의 화상이 얻어지고, 블록23의 최상부의 디자인이 약간 어긋난 점이 최초의 실시예에 비해서 바람직하지 못한 점이다.

최초의 실시예와 마찬가지로 하여, 블록으로 분할한 화상의 합체(슬라이드)나 합체 화상으로부터 블록으로의 분할(언슬라이드(unslide)) 등을 한다. 도9에 내로윙 코스의 수와 그 y좌표를 구하는 처리를 나타낸다. 내로윙 코스의 총수를 나타내는 변수나 내로윙 코스의 리스트를 준비해서 이것들을 초기화하고, 패턴이 존재하는 범위의 y방향에 대한 톱 좌표와 보텀 좌표를 구하고, 슬라이드 에리어의 폭 만큼의 라인 버퍼 영역을 확보한다. 다음에 y좌표에 대해서 보텀 좌표로부터 1코스씩 상측으로 시프트 하면서 톱 좌표까지 처리를 반복한다. 보텀 좌표와 톱 좌표의 사이에서 블록의 엣지의 위치가 다른 것부터 내로윙 코스를 검출하고, 그 y좌표를 코스 리스트에 등록하고, 내로윙 코스의 수에 1 더한다. 또 1개의 내로윙 코스에서의 내로윙 스티치의 총수는 고어의 매수×2이다. 따라서 어느 고어일지를 알게 되면, 편성포의 중앙으로부터 거기까지 몇 번째 내로윙 스티치가 이루 어졌는지 알 수 있다.

도10에 패턴의 좌우의 엣지를 구하는 처리를 나타낸다. 이 처리에서의 출력은 엣지가 존재하는 블록의 번호이다. 내로윙 코스 Yde1의 슬라이드 대상이 되는 블록의 총수 N과, 각 블록의 슬라이드 방향의 엣지로부터의 거리 및 블록의 사이즈를 서치하고 리스트에 등록한다. 또 내로윙 코스 Ydel에 있어서의 패턴의 좌우의 엣지의 위치를 구한다. 다음에 최초의 블록으로부터 시작하여 블록의 양단의 좌표를 구하고, 패턴의 좌측 엣지가 블록의 양단의 사이에 끼워져 있으면 좌측 엣지가 이 블록에 존재하는 것으로 하고, 좌측 엣지가 존재하는 블록 번호를 기억한다. 또 우측 엣지가 블록의 양단의 사이에 끼워져 있으면 우측 엣지가 이 블록에 존재하는 것으로 하고, 우측 엣지가 존재하는 블록 번호를 기억한다. 이렇게 하여 슬라이드 방향의 엣지에서 즉 편성포의 중앙측에서 1블록씩 편성포의 단부 측의 엣지로 처리를 이동하고, 패턴의 좌우의 엣지가 존재하는 블록의 번호를 구한다.

도10의 결합자(結合子; connector)A로부터 도11의 처리로 옮기고, 패턴의 각 블록에 대해서 시프트 수를 구한다. 내로윙 코스에 착안하여 내로윙 코스에 대하여 그 1코스 상측의 코스와의 사이에서의 각 블록의 화소수의 차이를 변수 dnum로 하고, 이것을 슬라이드 방향 엣지의 블록으로부터 순차적으로 합한 것을 변수 delnum으로 한다. 그리고 이 변수를 각 블록마다 기억시키고, 모든 블록에 대해서 변수 delnum을 구한다.

도11의 결합자B로부터 도12의 처리로 옮기고, 내로윙 코스와 그 1코스 상의 코스에서 패턴이 연속하고 있을 것인가 아닌가를 체크한다. 패턴이 연속하고 있을 경우에, 즉 내로윙 코스의 상하에 걸쳐지는 패턴이 존재하는 경우에 워크 버퍼(work buffer)의 영역을 확보해서 초기화하고, 엣지 라이트 블록(edge right block)의 리스트로부터 변수 delnum을 얻어서 오른쪽 내로윙 수 delnum right라고 한다. 슬라이드 화상 중의 처리 대상 패턴을 인식시키고, 내로윙 코스 Yde1보다 위의 코스(Ydel + 1 이상의 코스)에서 처리 대상 패턴의 화상을 오른쪽 내로윙 수만큼 오른쪽으로 시프트해서 워크에 카피한다. 다음에 예를 들면 워크 중의 처리 대상 패턴의 화상을 슬라이드 화상으로 되돌린다. 이에 따라 슬라이드 화상 중의 처리 대상 패턴이 내로윙 코스보다 위의 코스에서 오른쪽 내로윙 수만큼 오른쪽으로 시프트 된다. 다음에 엣지 레프트 블록(edge left block)의 리스트로부터 왼쪽 내로윙 수를 얻어 변수 delnum left라고 한다. 그리고 내로윙 코스 위의 코스의 코스 번호 Yde1 + 1을 변수 y에 대입한다. 이하에서는 내로윙 코스보다 위의 각 코스에 대하여, 패턴의 좌측의 엣지의 y좌표가 패턴의 톱 좌표의 y좌표보다 커지게 될 때까지, 왼쪽 내로윙 수와 오른쪽 내로윙 수의 차이 만큼만 시프트된 화상의 좌측 엣지의 부근을 클리어한다. 또 1개의 패턴 내에 복수의 내로윙 코스가 존재하는 경우에, 새로운 내로윙 코스마다 도12의 최초의 스텝으로 되돌아가면 좋다.

도8로 되돌아가서, 이상의 처리는, 내로윙 코스14의 상측에서 패턴을 나타내는 화상의 우측의 엣지를 오른쪽 내로윙 수의 2스티치 만큼 오른쪽으로 시프트 함으로써 화상(패턴)을 2스티치 만큼 오른쪽으로 시프트하고, 또한 왼쪽 내로윙 수와 오른쪽 내로윙 수의 차이(패턴 내의 내로윙 스티치의 수)의 2스티치 만큼 내로윙 코스의 상측에서 시프트된 화상의 좌측 엣지의 부근을 클리어하여 이루어진다고 할 수 있다. 또 시프트나 클리어의 처리의 대상은 내로윙 코스의 상측의 화상이지만, 간단하게 하기 위하여 이 단락에서는 내로윙 코스의 상측에 있다는 것을 특별히 언급하지 않는 경우가 있다. 상기한 처리와 유사한 처리로서, 내로윙 코스의 상측에서 화상의 좌측의 엣지를 왼쪽 내로윙 수 만큼만 오른쪽으로 시프트해서 화상을 오른쪽으로 시프트하고, 뒤이어서 왼쪽 내로윙 수와 오른쪽 내로윙 수의 차이 만큼만 시프트된 화상의 우측 엣지의 부근을 클리어해도 좋다. 혹은 또 내로윙 코스의 상측에서 좌측 엣지의 왼쪽 내로윙 수 만큼만 화상을 오른쪽으로 시프트하고, 또한 우측 엣지의 오른쪽 내로윙 수 만큼만 화상을 오른쪽으로 시프트하고, 이들의 앤드 화상(AND image)을 이용해도 좋다.

상기한 3개의 처리는 패턴이 한 컬러일 경우는 같은 결과가 되지만, 패턴의 내부에 모양이 있는 경우에는 패턴의 어느 부분이 삭제될지에 따라 다른 결과가 된다. 최초의 처리에서는 내로윙 코스의 상측에서 패턴 내의 좌측의 엣지 부근의 모양이 삭제되고, 제2의 처리에서는 우측 엣지 부근의 모양이 삭제되고, 제3의 처리는 예를 들면 패턴 내의 중앙 부근의 모양이 삭제된다. 여기에서 상기한 3개의 처리를 사용자가 선택하도록 하 는 것이 바람직하다.

실시예는 소매와 몸통의 쌍방에 걸쳐진 패턴의 디자인에도 적용할 수 있다. 이러한 예를 도13에 나타내면, 60은 몸통이고 61은 소매이며, 코스 방향은 몸통60, 소매61 모두 도면의 좌우방향이다. 62는 합체 화상 상에서 입력한 패턴이고, 이 중에 몸통 상의 패턴의 블록63은 보정할 필요가 없다. 몸통60을 편성포 중심 측의 고어, 소매61을 그 외측의 고어로 간주하면, 실시예1, 2와 동일한 처리를 할 수 있고 소매61 상의 패턴을 블록64와 같이 보정한다.

실시예에서는 내로윙 코스에 대해서 설명했지만, 와이드닝 코스 에 관해서도 같다. 이 경우에 와이드닝 코스의 상하에서 불균등하게 되는 와이드닝 스티치의 수 만큼만 와이드닝 코스의 상측의 패턴의 각 블록을 편성포의 외측으로 시프트 시키면 좋다. 그리고 와이드닝 코스의 상측의 새로운 웨일에 대하여는, 패턴 내의 좌우의 웨일의 데이터 등을 카피해 두면 좋다. 혹은 또 와이드닝 코스의 상하에서 불균등한 와이드닝 스티치의 수만큼 와이드닝 코스의 상측의 패턴의 좌우의 경계를 각각 좌측으로 시프트 시키면 좋다.

최적 실시예

도16∼도25에 최적 실시예를 나타내고, 도2∼도13과 동일한 부호는 동일한 것을 나타내고, 도2∼도13의 각 실시예에서의 설명은 특히 언급하 지 않는 한 도16∼도24의 최적 실시예(이하 간단하게 최적 실시예)에도 적합하다. P1 ∼ P3, S1 ∼ S3 등의 위치나 영역의 부호는, 실제의 위치나 영역이 다르게 되어도 같은 종류의 위치나 영역에 있으면 동일한 부호를 이용한다.

최적 실시예에서는,

(1)언슬라이드 보정에 대해서, 내로윙 스티치를 따라 패턴을 삭제하는 부분 혹은 와이드닝 스티치를 따라 패턴을 추가하는 부분을 패턴 내에 되도록이면 균등하게 분배하고, 패턴의 일부가 중첩되어 삭제되거나 패턴의 일부에 중첩되어서 패턴이 보간(補間; interpolation) 되거나 하는 것을 방지한다. 또 이하에서 고어에서는 와이드닝 스티치가 아니라 내로윙 스티치가 이루어지는 것으로 하지만, 와이드닝 스티치를 하는 경우에도 마찬가지로 실시할　수　있다.

(2)또 언슬라이드 보정에 의하여 편성폭의 단부에 패턴이 없는 영역이 발생한다. 이것을 그 외측의 패턴을 편성폭 안으로 이동시킴으로써 보충한다. 보충 영역의 외측에도 패턴이 있을 경우에 반대측의 편성포, 예를 들면 앞쪽 몸통에 대한 뒤쪽 몸통으로 외측의 편성포를 연장한다. 이에 따라 편성포의 단부 부근에서의 디자인이 용이하게 된다. 편성폭의 단부에도 패턴을 디자인하기 쉬워지고 또한 단부를 넘어서 반대측의 편성포에까지 걸쳐지는 디자인이 용이하게 된다.

(3)패턴의 디자인에 레이어(layer)를 도입한다. 고어를 이용한 디자인 에서 큰 패턴을 디자인하면, 패턴의 상부와 하부에 내로윙 스티치의 수가 크게 달라지기 때문에 패턴이 현저하게 변형되는 경우가 있다. 이에 대하여 패턴을 파트(parts) 등의 단위로 복수의 레이어로 분해해서 디자인하면 파트의 변형을 억제할 수 있다. 그리고 파트 간의 상대적인 이동도 용이하게 되고, 전체로서는 큰 패턴을 디자인해도 패턴의 변형을 적게 할 수 있고 큰 패턴의 디자인이 용이하게 된다.

(4)라운드 패턴(round pattern)이나, 표리(表裏)의 편성포(전후의 편성포)에서 같은 위치에 패턴이 오는 디자인 등을 쉽게 한다. 상기의 보충처리나 연장처리에 의하여 편성포의 단부(엣지)에서의 처리가 용이하게 되고, 또 레이어를 사용함으로써 예를 들면 상하의 라운드 패턴의 상대 위치를 조정하거나 상측의 라운드 패턴의 언슬라이드 보정에 의한 변형을 적게 할 수 있다.

도16에 있어서, 70은 새로운 니트 디자인 장치이고, 72는 보정부로서 고어를 합체시킨 상태에서 디자인한 패턴을 고어에 할당할 때에 내로윙 스티치에 대응하여 패턴의 일부를 삭제한다. 또 이 외에, 외관상 편성폭의 외부에 있는 패턴을 편성폭 내로 이동시키는 보충처리나, 보충처리로 이동되는 영역의 외측의 영역의 패턴을 반대측의 편성포로 연장시키는 연장 등도 처리한다. 또한 원하는 바와 같은 템플릿(template) 등의 패턴의 제거에 관한 룰(rule)을 기억하는 수단을 형성하고, 디자인상 중요한 위치가 삭제되지 않도록 한다. 이러한 경우에 그 주위의 위치를 삭제한다. 또한 어느 위치를 디자인상 중요하다고 하고, 어느 위치를 중요하지 않다고 할지의 판별 룰이 템플릿이다. 74는 레이어 처리부로서 레이어의 작성 및 그 처리를 하고, 레이어의 데이터는 적당하게 화상 메모리50 등에 기억시킨다. 레이어 자체는 공지로서 편성포의 같은 스티치에 대하여 레이어 마다 다른 데이터를 가지는 것을 허용하고, 데이터를 확정할 때에 복수의 레이어의 데이터가 중복되고, 소정의 룰에 따라 레이어 간의 우선도(優先度)를 정하여 디자인을 확정한다.

76은 라운드 패턴 작성부로서, 레이어 단위로 패턴을 편성포의 표리(表裏)에 주회(周回)시키고, 표리 대칭 패턴 작성부(front-back symmetrical pattern generation unit)78은 미러 반전(mirror inversion)이 있게 혹은 미러 반전이 없게 일방의 편성포의 패턴을 반대측의 편성포에 카피한다. 피치표(pitch表)80은 라운드 패턴이나 표리 대칭 패턴의 기본 유닛이 되는 기본패턴의 배열 개수 및 배열 피치 등을 기억한다. 배열 피치로부터 기본패턴의 좌우방향의 스티치 수를 제외한 것이 기본패턴과 기본패턴 사이의 간격이고, 배열 피치는 되도록이면 균등하게 하고, 기본패턴과 기본패턴의 간격(틈)이 불균등해지는 경우에는 예를 들면 뒤쪽 몸통의 중앙부나 전후의 몸통의 경계부 혹은 소매의 경우에, 소매의 내측에서 몸통과 마주 향하는 부분 등의 눈에 잘 띄지 않는 소정의 위치에 간격이 불균등해지는 부분을 할당한다. 이 위치의 할당은 예를 들면 디폴트 룰(default rule)을 따라서 하지만, 그 때마다 유저가 변경할 수 있는 것으로 한다. 라운드 패턴이나 표리 대칭 패턴 등에서는 기본패턴의 기점이 디자인상 중요하고, 복수 개의 기본패턴이 어떤 피치로 어떻게 배열될지는 기본패턴의 기점을 지정한 것만으로는 상상하기 어려우므로, 기점 변경은 자유롭게 한다. 언두 처리부(UNDO processing unit)82는 디자인 장치70에서의 처리의 경과 등을 기억하고, 이 때부터 유저가 지정하는 상태까지 처리를 되돌리기 위해서 이용한다.

도17에 언슬라이드 하여 개개의 고어로 분해한 상태에서의 디자인을 나타내고, 편성폭의 중심으로부터 편성포의 일단측(도면의 좌측)까지를 중심에 나타내고, 타단측은 편성포의 단부까지는 나타내지 않는다. 또한 다른 디자인에 관해서, 도18에 슬라이드 해서 합체한 상태에서의 디자인을 나타낸다. 레이어에서의 패턴 하단의 높이를 P1이라고 하면, 내로윙 스티치에 따른 이 높이에서 이미 스티치가 없는 영역이 카운트 금지 영역(count prohibition area)S1이다. 높이P1보다 상부에서 내로윙 스티치에 의해 발생하는 스티치가 없는 영역이 내로윙 영역D1이다. 높이P1에서 편성폭의 양단이 되는 위치가 단부위치P2, P3이다. 경계선L1은 단부위치P2, P3으로부터 위를 향해 연장되는 선이고, 경계선L1에서 편성포로 (내측)의 영역이 보충 영역S2이고, 편성포의 반대측(외측)의 영역이 연장 영역S3이다.

내로윙에 따른 보정에서는 예를 들면 각 고어에 패턴의 데이터를 할당해서 언슬라이드하고, 패턴 내에서 상하 불균등한 내로윙 스티치가 있는 위치를 좌우로 연결하도록 하여 내로윙 코스L2를 검출한다. 편성폭 중심선 으로부터 내로윙 코스L2의 상하에서의 불균등한 내로윙 스티치의 수를 카운트 하고, 내로윙 코스L2의 상측에서 패턴을, 카운트한 불균등한 내로윙 스티치의 수만큼 편성폭의 중앙부로 시프트 시킨다. 여기까지는 도2∼도13의 각 실시예와 같다. 패턴을 편성폭의 중앙부로 시프트 시킬 때에, 카운트 금지 영역S1은 건너 뛰고, 고어가 있는 부분과 내로윙 영역D1은 건너 뛰지 않고 카운트 하고(패턴을 구성하는 스티치를 할당하여) 시프트 시킨다. 그리고 내로윙 영역Dl에 할당된 부분의 패턴을 삭제한다. 도17과 같이 패턴 내에서 상하로 내로윙 코스L2가 3개 있으면, 패턴의 최상부에서는 3스티치에 해당하는 부분의 패턴이 중첩되어서 삭제된다. 레이어에서의 높이방향의 패턴의 사이즈가 내로윙 코스L2가 1개 포함되는 정도라면, 중첩되어서 삭제되는 패턴의 사이즈는 1 스티치 만큼이고, 1스티치씩의 세로1열에서 패턴이 삭제되고, 스티치가 좌우방향으로 연속해서 삭제되는 것이 적기 때문에 내로윙 스티치에 따른 패턴의 변형을 적게 할 수 있다.

예를 들면 도18에 나타나 있는 바와 같이 큰 패턴84(쇄선의 범위)가 존재한다고 가정한다. 이것 전체를 1레이어로서 처리하면, 보정에 의하여 패턴은 도면의 실선의 범위(해치 범위; hatched area)로 축소되고 패턴의 상부에서 변형이 현저하다. 이에 대하여 패턴을 파트 등의 단위로 예를 들면 2개의 레이어85, 86으로 분할하면, 보정 후의 패턴(도면의 실선의 범위에서 해치 범위)의 변형이 적다. 또 파트 단위 등으로 복수의 레이어로 분해되어 있으면, 레이어 간의 상대적 이동으로 인한 내로윙 스티치에 의한 보정이 디자인에 미치는 영향을 적게 할 수 있다. 특히 패턴의 중요한 부분이 보정으로 삭제되어도, 레이어를 시프트 시켜서 중요한 부분을 남길 수 있다. 이 때문에 큰 패턴을 복수의 고어 상에서 디자인하는 것이 용이하게 된다.

도18의 좌측 위와 같이, 상하의 끈 모양의 보정 전의 디자인87이 존재한다고 가정한다. 이것을 보정하면 보정 후의 디자인88이 된다. 이에 따라, 편성포의 단부에 패턴이 없는 영역(디자인87 내의 해칭(hatching)이 없는 영역)이 발생한다. 여기에 보충 영역S2로부터 패턴을 이동시키면, 편성폭의 단부까지 패턴을 디자인할 수 있다. 보충 영역S2는 선L1보다 편성포 근처의 편성 폭의 외측의 영역이다. 도18의 오른쪽 위에서는 보충 영역S2의 외측에도 디자인이 있고, 이것이 연장 영역S3이 된다. 연장 영역S3의 데이터는 선L1에 대하여 되돌림으로써 반대측의 편성포에 맞도록 하고, 반대측의 편성포에 해당하는 위치에 이미 패턴이 존재하는 경우에, 어느 쪽을 우선할지는 유저가 판단하게 하거나 혹은 연장 영역S3의 데이터를 삭제하는 등의 디폴트 룰을 따른다.

도19는 상하 2개의 라운드 패턴90, 91의 디자인을 모식적으로 나타내고, 이것은 별개의 레이어에 디자인되어 있는 것으로 한다. 도면의 P4는 라운드 패턴의 기점(基点)이고, 이 때 둘레방향은 예를 들면 도19에서의 오른쪽으로 회전하는 방향이고, 기본패턴92의 좌우방향의 스티치 수를 예를 들면 n이라고 한다.

기본패턴92가 대략 정사각형의 패턴(쇄선)이라고 하면, 언슬라이드 보정에 의하여 디자인은 실선과 같이 변형되고, 기점P4는 디자인이 확정되기까지 변경이 가능하여, 레이어의 상대 위치도 디자인이 확정되기까지 변경이 가능하다. 라운드 패턴90의 경우에, 라운드 패턴90의 하단에서의 전후의 편성포의 합계 스티치 수를 N이라고 하면,

N÷n=m 나머지 r

에 의하여 m이 기본패턴92의 최대 배열 개수, r이 나머지 스티치 수이고, r/m이 최대 배열 개수에서의 기본패턴과 기본패턴의 평균 간격이고, r/m이 정수가 안 될 경우에 뒤쪽 몸통의 중앙부나 전후의 몸통의 경계 등에서 기본패턴 간의 간격을 다른 위치와는 바꾸어서 조정한다. 기점P4와 n에 기본패턴 간의 간격을 더한 것(다음의 기본패턴의 스타트 위치)의 리스트를 피치표라고 한다.

도20은 템플릿을 이용한 예를 나타내고, 예를 들면 패턴의 정점은 삭제하지 않는다는 룰을 템플릿에 기억하고 있는 것으로 한다. 도20의 상측에서는, 도7에 의한 내로윙 스티치의 위치를 구하면, 패턴의 정점에 내로윙 스티치94가 나타난다. 템플릿은 내로윙 스티치의 위치 등에 관한 룰을 기억하고 있고, 구한 내로윙 스티치의 위치가 패턴의 어느 부분인가를 디자인 데이터 등을 이용해서 체크한다. 도20의 상측에서의 패턴의 오른쪽 위 모퉁이의 내로윙 스티치94는 템플릿에 기억시킨 룰에 반한다. 템플릿은 내로윙 스티치의 위치 등이 룰에 반할 때의 처리를 기억하고 있고, 여기 에서는 패턴 내에서 인접하는 웨일에서 내로윙 스티치를 하고, 또 원래의 내로윙 스티치(여기에서는 내로윙 스티치94)가 패턴의 정점에서 1스티치로 이루어지는 경우에, 패턴에 1스티치로 이루어지는 정점이 남도록 새로운 내로윙 스티치의 위치를 정한다. 그래서 예를 들면 정점94의 이웃의 2스티치를 삭제하도록 보정 위치를 변경하고, 디자인의 중요한 부분을 남기도록 한다.

도21에 최적 실시예에서의 각 요소간의 관계를 나타낸다. 고어를 이용해서 디자인하는 것의 문제점은, 내로윙 스티치가 발생하기 때문에 슬라이드 화상에서의 디자인으로부터 변형되는 것이다. 이에 대하여 도17 등의 언슬라이드 보정을 하고, 여기에서 내로윙 스티치가 되도록이면 패턴 내에 균등하게 분포되도록 카운트 금지 영역S1을 이용한다. 또 패턴의 중요부분이 삭제되지 않도록 템플릿을 이용한다.

높이방향으로 크게 걸쳐지는 패턴을 디자인하면, 패턴의 상부에서 언슬라이드 보정에 의한 변형이 현저해진다. 그래서 패턴의 파트 등을 단위로 하는 레이어에서의 디자인을 이용하고, 높이방향의 폭이 작은 레이어 내에서는 패턴의 변형이 적은 것을 이용하여 패턴의 변형을 적게 한다. 또 레이어의 상대 이동에 의하여 패턴 전체의 이미지가 유지되고 또한 패턴의 중요부분이 삭제되지 않도록 한다.

언슬라이드 보정에 의하여 편성폭의 단부에 패턴이 없는 영역이 발생한다. 그래서 보충처리로 이 영역을 보충하고, 그 외측의 연장 영역의 패턴을 반대측의 편성포에 할당함으로써 편성폭의 단부를 넘어서 반대측의 편성포로 걸쳐지는 디자인을 가능하게 한다.

라운드 패턴이나 표리 대칭 패턴의 디자인에서는, 예를 들면 상하 2열의 패턴에 대하여 상하 별개의 레이어로 처리함으로써 상측의 라운드 패턴의 변형을 적게 하고, 또 라운드 패턴 간의 상대 이동 등을 가능하게 한다. 또 상하 별개의 레이어로 처리함으로써 일방이 라운드 패턴이고 타방이 표리 대칭 패턴 등인 디자인을 가능하게 한다. 보충과 연장의 처리에 의하여 편성폭의 단부의 처리를 쉽게 하고, 언슬라이드 보정으로 이동한 패턴을 보충처리로 보충하고, 보충 영역보다 외측의 패턴을 반대측의 편성포로 연장시킨다.

도22에 언슬라이드 보정의 알고리즘을 나타낸다. 처리는 레이어마다 하고, 레이어에서의 패턴 하단의 높이P1을 검출하고, 높이P1에서 이미 스티치가 없는 영역(그것보다 하측에서 이미 내로윙 스티치의 대상이 된 영역)을 카운트 금지 영역S1로 하여 그 좌우방향의 범위를 등록한다. 또 높이P1보다 상부에서 내로윙 코스에 의하여 스티치가 없어지는 영역을 내로윙 영역D1로서 등록한다. 또 도22∼24의 설명은 도17∼도19의 부호를 사용하여 설명한다.

실시예에서는, 고어의 언슬라이드와 함께 패턴을 이동시키고, 패턴을 일단 언슬라이드해서 고어에 할당하고, 계속하여 편성폭의 중심으로부터의 내로윙 코스L2의 상하에서의 비대칭인 내로윙 스티치 만큼만 내로윙 코스L2의 상측의 패턴을 편성폭의 중심방향으로 이동시킨다. 이 때에 카운트 금지 영역S1은 이동한 스티치 수로 카운트 하지 않고, 이동 목적지가 내로윙 영역D1에 포함되는 부분의 패턴의 데이터를 삭제한다.

변형예에서는, 고어의 언슬라이드 시에 패턴을 이동시키지 않고, 언슬라이드 화상 즉 카운트 금지 영역S1이나 내로윙 영역D1의 고어 단위에서의 편성포 외형의 화상에 패턴의 데이터를 할당한다. 또 편성포 외형의 데이터에는 언슬라이드 화상과 슬라이드 화상의 예를 들면 2종류가 있고, 이들은 가장 기본적인 데이터이다. 패턴의 데이터의 할당은 편성폭의 중심으로부터 좌우를 향해서 하고, 카운트 금지 영역에는 패턴의 레이어의 데이터(패턴의 데이터)를 할당하지 않고, 내로윙 영역D1에 할당된 패턴의 데이터를 삭제한다. 실시예와 변형예는 같은 처리를 실행의 순서를 바꾸어서 표현한 것이다.

상기와는 별도로, 슬라이드 화상의 높이P1에서의 편성폭의 단부P2, P3을 구하고, 거기에서부터 상측으로 선L1을 연장시키고, 편성폭의 단부와 선L1의 사이를 보충 영역S2라고 하고, 선L1보다 외측에 패턴이 존재하면 연장 영역S3에 할당해서 포함시킨다.

모든 레이어의 처리가 종료한 후에 혹은 1레이어 분의 처리가 종료한 후에, 처리 결과를 언슬라이드 화상과 슬라이드 화상의 쌍방 등으로 유저에게 표시하고, 유저가 승인하면 다음의 처리를 진행하고, 변경하는 경우에 유저가 지정한 스텝까지 되돌아간다. 이에 따라 레이어 간의 상대 적 이동, 삭제되는 스티치를 매뉴얼 등에서 변경하는 것 등이 가능하다.

도23에 라운드 패턴의 처리를 나타낸다. 라운드 패턴의 기점P4를 지정하고, 패턴의 하단의 위치에서의 편성포 1라운드 만큼의 스티치 수(전후의 편성포의 합계의 스티치 수)를 기본패턴의 스티치 수로 나누고, 배치되는 기본패턴의 개수와 배열 피치 및 기점P4의 위치를 피치표에 기억시킨다. 배열 피치는 기점P4로부터 몇 번째의 기본패턴인가에 의하여 다르게 되어도 좋은 것으로 하고, 피치가 불균일한 부분은 뒤쪽 몸통의 중앙이나 편성폭의 단부(전후의 몸통의 경계) 등에 디폴트로 할당하고, 피치가 불균일한 부분을 할당하는 장소는 유저가 변경할 수 있다.

앞쪽 몸통 등의 앞쪽 편성포에서 기본패턴92를 디자인 하거나 혹은 불러내고, 기점P4를 지정하고, 피치표를 작성한다. 다음에 이 라운드 패턴에 대한 뒤쪽 편성포용의 레이어를 작성하고, 기본패턴을 피치표에 따라 전후의 편성포를 주회(周回)하도록 전개한다. 기점의 변경이나 배열 개수의 변경 등의 수정이 유저로부터 입력되면, 그것에 따른 스텝으로 되돌아가서 수정한다. 또 피치표에는 당초에 배열 개수(기본패턴의 개수)가 배열 가능한 최대값으로 기억되므로, 배열 개수를 유저가 수정할 수 있다. 마찬가지로 배열 피치 등을 유저가 수정할 수 있게 하더라도 좋다. 그리고 수정이 없으면 언슬라이드 보정을 실행하여 1레이어 만큼의 라운드 패턴의 디자인을 완료한다.

도24에 표리 대칭 패턴의 디자인 알고리즘을 나타낸다. 도24의 알고리 즘은 도23과 유사하므로 다른 점만을 설명하고, 그 외는 같다고 한다. 패턴의 종류에는, 미러 카피(mirror copy)와 다이렉트 카피(direct copy)가 있고, 미러 카피에서는 예를 들면 앞쪽 편성포의 왼쪽의 패턴을 편성폭의 좌우방향의 중심선에 대해서 대칭으로 뒤쪽 편성포의 우측에 복사한다. 다이렉트 카피에서는 예를 들면 앞쪽 편성포의 왼쪽의 패턴을 뒤쪽 편성포의 좌측에 복사하고, 편성폭의 좌우방향의 중심선에 관한 대칭이동은 하지 않는다. 또 처리의 단위는 레이어 마다 이다.

피치표의 작성에서는, 예를 들면 반대측의 편성포에 패턴이 걸쳐지지 않는 범위(예를 들면 보충 영역S2까지의 범위)에서 기본패턴을 전개하고, 전후의 편성포에 걸쳐지는 디자인은 원칙적으로 하지 않지만, 전후의 편성포에 걸쳐지는 패턴의 디자인을 인정해도 좋다. 라운드 패턴과 마찬가지로 뒤쪽 편성포측 등에 새로운 레이어를 작성하고, 앞쪽 편성포측의 패턴의 데이터를 미러 카피 또는 다이렉트 카피로 카피하고, 패턴의 기점위치의 이동 등의 수정의 유무를 확인하고, OK이면 언슬라이드 보정을 실행한다.

도25에 최적 실시예에서의 니트 디자인 프로그램을 나타내면, 이들의 명령은 상기의 프로세서40 등으로 처리된다. 슬라이드 명령101은 복수의 고어 혹은 복수의 블록 등을 합체해서 합체 화상을 형성하는 명령이며, 언슬라이드 명령102는 합체 화상2를 복수의 고어나 복수의 블록으로 분할하는 명령이다. 고어 명령103은 플레어 스커트나 패러슈트 패턴의 스웨터 등처럼 고어를 이용해서 디자인하는 편성포를 디자인할 때에, 편성포의 외형을 고 어나 블록으로 분할하는 명령이다.

내로윙/와이드닝 명령104는 소정의 코스 수마다 혹은 수동 입력 등으로 입력된 위치에 대하여, 내로윙 코스나 와이드닝 코스를 삽입한다. 보정 명령105는, 복수의 고어에 걸쳐서, 또 내로윙 스티치 코스나 와이드닝 스티치 코스의 상하로 걸쳐지는 패턴에 대하여 내로윙 스티치나 와이드닝 스티치를 따라, 패턴의 부분을 편성포의 중앙측으로 혹은 편성포의 양쪽 외측으로 시프트 시킨다.

보정 명령112는 고어를 합체시킨 상태에서 디자인한 패턴을 고어로 할당할 때에, 내로윙 스티치에 대응하여 패턴의 일부를 삭제한다. 또 이외에, 외관상 편성폭의 외부에 있는 패턴을 편성폭 내로 이동시키는 보충처리나, 보충처리로 이동시키는 영역보다 외측의 영역의 패턴을 반대측의 편성포로 연장시키는 연장처리 등을 한다. 또한 상기의 템플릿 등을 기억시키고, 디자인상 중요한 위치가 삭제되지 않도록 한다. 레이어 명령114는 레이어의 작성 및 그 처리를 한다.

라운드 패턴 작성 명령116에서는 레이어 단위로 패턴을 편성포의 표리에 주회시키고, 표리 대칭 패턴 작성 명령118은 미러 반전(mirror inversion) 있게 혹은 미러 반전 없게 일방의 편성포의 패턴을 반대측의 편성포에 카피한다. 피치표 기억 명령120은 상기의 피치표를 기억시킨다. 언두 명령(UNDO command)122는 디자인 장치에서의 처리의 경과 등을 기억하여, 유저가 지정하는 상태까지 처리를 되돌리기 위해서 이용한다.

본 발명의 니트 디자인 방법이나 장치, 프로그램에서는 복수의 파트에 걸쳐지는 패턴을, 부분을 합체한 화상 상에서 디자인 할 수 있기 때문에 패턴의 디자인이 용이하다. 또 합체한 화상을 파트로 분할할 때에, 패턴을 각 파트에 적절하게 할당할 수 있다. 이 때문에 플레어 스커트(flared skirt)나 패러슈트(parachute) 패턴의 스웨터 등에서, 1개의 고어 내에 들어가는 패턴 밖에 디자인하기 어렵다는 제한을 해소하고, 또는 몸통과 소매의 쌍방에 걸쳐지는 패턴의 디자인이 용이하게 된다.

불균등한 내로윙 스티치나 와이드닝 스티치에 대한 보정을 패턴의 시프트로 하면, 예를 들면 상측이나 하측의 일방의 좌우의 경계를 불균등한 내로윙 스티치나 와이드닝 스티치의 스티치 수에 따라 시프트 시키면, 특히 시프트에 의하여 패턴이 축소되는 경우에 시프트 시킨 좌우의 경계의 공통 부분을 패턴의 에리어로 하면 좋다. 그리고 이 처리는 예를 들면 합체한 디자인 화상을 복수의 파트로 분할하기 전에 하면 좋다.

여기에서 시프트는 바람직하게는 패턴을 복수의 파트로 가상적으로 할당한 후에, 패턴의 각 파트의 부분을 불균등한 내로윙 스티치 혹은 와이드닝 스티치의 스티치 수만큼 시프트 시키도록 하고, 또한 시프트에 의하여, 스티치가 없는 가상적인 웨일로 할당된 패턴의 데이터를 삭제하고, 혹은 시프트에 의하여 패턴의 데이터가 할당되지 않은 웨일이 발생했을 때에, 주위의 부분의 패턴의 데이터를 할당하도록 한다. 그러면 합체 화상에서 디자인한 이미지에 비교적 가깝게 패턴을 시프트 할 수 있다.

카운트 금지 영역과 내로윙 영역을 이용하면, 패턴의 어느 데이터를 삭제할지를 용이하게 결정할 수 있고 또한 좌우방향으로 중첩되어서 데이터가 삭제되는 것을 방지할 수 있다.

높이방향으로 크게 걸쳐지는 패턴을 디자인하면, 내로윙 스티치에 따른 보정에 의한 변형이 패턴의 상부에서 현저해진다. 그래서 패턴의 파트 등을 단위로 하는 레이어에서의 디자인을 이용하고, 높이방향의 폭이 작은 레이어 내에서는 패턴의 변형이 적은 것을 이용하여 패턴의 변형을 적게 한다. 또 레이어의 상대적 이동에 의하여 패턴 전체의 이미지가 유지되고, 또한 패턴의 중요부분이 삭제되지 않도록 한다.

내로윙 스티치에 따른 보정에 의하여 편성폭의 단부에 패턴이 없는 영역이 발생한다. 그래서 보충처리로 이 영역을 보충하고, 그 외측의 연장 영역의 패턴을 반대측의 편성포에 할당함으로써 편성폭의 단부를 넘어서 반대측의 편성포로 연장되는 디자인을 가능하게 한다.

라운드 패턴이나 표리 대칭 패턴의 디자인에서는, 예를 들면 상하 2열의 패턴에 대하여 상하 별개의 레이어로 처리함으로써, 상측의 라운드 패턴의 변형을 적게 하고 또 라운드 패턴 간의 상대적 이동 등을 가능하게 한다. 또한 일방이 라운드 패턴이고 타방이 표리 대칭 위치 패턴 등인 디자인을 가능하게 한다. 보충과 연장의 처리에 의하여 편성폭의 단부의 처리 를 쉽게 하고, 언슬라이드 보정으로 이동한 패턴을 보충처리로 보충하고, 보충 영역보다 외측의 패턴을 반대측의 편성포로 연장시킨다.

Claims (14)

1. 편성포를 복수의 파트(parts)로 분할해서 디자인하는 방법에 있어서,

   복수의 파트에 걸쳐지는 패턴을, 상기 복수의 파트를 합체한 화상 상에서 내로윙 코스(narrowing course)나 와이드닝 코스(widening course)의 상하에 걸쳐지도록 디자인하고, 여기에서 내로윙 코스와 와이드닝 코스에서는 파트간의 경계에서 각각 내로윙 스티치(narrowing stitch)와 와이드닝 스티치를 하고,

   다음에 상기 내로윙 코스 혹은 와이드닝 코스의 상하간에서의 불균등한 내로윙 스티치 혹은 와이드닝 스티치의 수를, 편성포의 좌우방향 중앙부 측에서부터 좌우방향 외측으로 구하고,

   내로윙 코스의 상측에서 복수의 부분에 걸쳐지는 패턴의 부분을, 상기 코스의 하측 패턴의 부분에 대하여, 상기 불균등한 내로윙 스티치의 스티치 수만큼 편성포의 좌우방향 중앙측으로 상대적으로 시프트(shift) 시키고, 또는 와이드닝 코스의 상측에서 복수의 파트에 걸쳐지는 패턴의 부분을, 상기 코스의 하측 패턴의 부분에 대하여, 상기 불균등한 와이드닝 스티치의 스티치 수만큼 편성포의 좌우방향 외측으로 상대적으로 시프트 시키고,

   여기에서 상기 내로윙 코스와 와이드닝 코스의 상측 부분의 편성포의 좌우방향에 따른 중앙측과 외측을, 각각 이들간의 상기 불균등한 내로윙 스티치나 와이드닝 스티치 수의 차이에 대응하여 불균등하게 편성포의 좌우방향으로 시프트 시키고,

   상기 시프트된 패턴의 부분을 복수의 파트에 할당하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
2. 제1항에 있어서,

   상기 복수의 파트가, 복수의 고어(gore) 혹은 몸통과 소매인 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
3. 제1항에 있어서,

   상기 내로윙 스티치나 와이드닝 스티치의 불균등한 스티치 수를 패턴의 좌우의 경계에 대하여 각각 구하고, 내로윙 코스나 와이드닝 코스의 상측 패턴의 좌우의 각각의 경계를, 하측의 경계에 대하여, 구한 불균등한 스티치 수만큼 상대적으로 시프트(shift) 시키는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
4. 제3항에 있어서,

   상측의 패턴의 좌우의 경계를, 하측의 경계에 대하여, 구한 불균등한 스티치 수만큼 시프트 시킨 후에, 패턴을 복수의 파트에 할당하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
5. 제1항에 있어서,

   상기의 패턴을 복수의 파트에 가상적으로 할당한 후에, 패턴의 각 파트의 부분을, 상기 불균등한 내로윙 스티치 혹은 와이드닝 스티치의 스티치 수만큼 상기의 방향으로 시프트 시키고

   또한 상기 시프트에 의하여 스티치가 없는 가상적인 웨일(wale)에 할당된 패턴의 데이터를 삭제하고, 또는 상기 시프트에 의하여 패턴의 데이터가 할당되지 않은 웨일이 발생했을 때에, 주위의 부분의 패턴의 데이터를 할당하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
6. 제1항에 있어서,

   패턴의 하단의 높이에서 이미 내로윙 스티치에 의하여 스티치가 없는 영역을 카운트 금지 영역으로 하고, 패턴의 하단보다 높은 위치에서 내로윙 스티치에 의하여 스티치가 없어지는 영역을 내로윙 영역으로서 등록하고, 상기 카운트 금지 영역을 건너 뛰도록 패턴의 데이터를 파트와 내로윙 영역에 할당하고, 상기 내로윙 영역에 할당된 패턴의 데이터를 삭제하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
7. 제1항에 있어서,

   편성포 전체에서 패턴을 복수의 레이어(layer)로 분해하고, 레이어마다 처리를 하고, 또한 레이어 간에 상대적 이동을 하도록 하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
8. 제1항에 있어서,

   복수의 파트를 합체한 화상(畵像) 상에서, 패턴의 하단의 높이로부터 상측으로 연장되는 선과 편성포 단부(端部)의 사이의 패턴의 데이터를 보충용의 데이터로 하고, 편성폭 내로 시프트 시키고, 패턴의 시프트에 의하여 편성포의 단부 부근에 발생하는 패턴이 없는 영역을 보충하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
9. 제8항에 있어서,

   상기 편성포가 통 모양의 편성포이고, 복수의 파트를 합체한 화상 상에서 상기 보충용의 데이터의 외측의 데이터를 반대측의 편성포로 연장시키는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
10. 제1항에 있어서,

    상기 편성포가 통 모양의 편성포이고, 라운드 패턴의 유닛이 되는 기본패턴의 기점 위치와, 그 기점 위치 부근에서의 통 모양 편성포 1라운드 분(分)의 스티치 수와, 기본패턴의 스티치 수로부터 기본패턴의 배열을 결정하는 것을 특징으로 하는 니트 디자인 방법.
11. 화상입력수단(畵像入力手段)과, 화상입력수단에 의하여 입력된 편성포의 디자인 화상을 복수의 파트로 분할하기 위한 수단과, 그 디자인 화상을 복수의 파트를 합체한 합체 화상(合體 畵像)과 복수의 파트로 분할된 화상의 사이에서 변환하기 위한 수단과, 얻어진 디자인 화상에 의거하여 편성기용의 편성 데이터로 변환하기 위한 수단을 구비하는 니트 디자인 장치에 있어서,

    상기 합체 화상 상에서 입력된 편성포의 패턴이, 복수의 파트에 걸쳐지고 또한 내로윙 코스나 와이드닝 코스의 상하에 걸쳐져 있는 것을 검출하기 위한 수단과,

    여기에서 상기 내로윙 코스와 와이드닝 코스에서는, 파트간의 경계에서 각각 내로윙 스티치와 와이드닝 스티치가 되어 있고,

    상기 내로윙 코스 혹은 와이드닝 코스의 상하간에서의 불균등한 내로윙 스티치 혹은 와이드닝 스티치의 수를 편성포의 좌우방향 중앙부측에서 좌우방향 외측으로 구하기 위한 수단과,

    내로윙 코스의 상측에서 복수의 파트에 걸쳐지는 패턴의 부분을 그 코스의 하측의 패턴의 부분에 대하여 상기 불균등한 내로윙 스티치의 스티치 수만큼 편성포의 좌우방향 중앙측에 상대적으로 시프트 시키고, 또는 와이드닝 코스의 상측에서 복수의 파트에 걸쳐지는 패턴의 부분을 그 코스의 하측의 패턴의 부분에 대하여 상기 불균등한 와이드닝 스티치의 스티치 수만큼 편성포의 좌우방향 외측으로 상대적으로 시프트 시키기 위한 수단과,

    여기에서 상기 내로윙 코스와 와이드닝 코스의 상측 부분의 편성포의 좌우방향에 따른 중앙측과 외측을 각각 이들간의 상기 불균등한 내로윙 스티치나 와이드닝 스티치 수의 차이에 대응하여 불균등하게 편성포의 좌우방향으로 시프트 시키고,

    상기 시프트된 패턴의 부분을 복수의 파트에 할당하기 위한 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 니트 디자인 장치.
12. 제11항에 있어서,

    상기 복수의 파트가, 복수의 고어 혹은 몸통과 소매인 것을 특징으로 하는 니트 디자인 장치.
13. 제11항에 있어서,

    상기의 패턴을 복수의 파트에 가상적으로 할당하기 위한 수단과, 패턴의 각 파트의 부분을 상기 불균등한 내로윙 스티치 혹은 와이드닝 스티치의 스티치 수만큼 상기의 방향으로 시프트 시키고, 또한 그 시프트에 의하여 스티치가 없는 가상적인 웨일에 할당된 패턴의 데이터를 삭제하고, 또는 상기 시프트에 의하여 패턴의 데이터가 할당되지 않은 웨일이 발생했을 때에 주위의 부분의 패턴의 데이터를 할당하기 위한 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 니트 디자인 장치.
14. 편성포의 디자인 화상을 복수의 파트로 분할하기 위한 명령과, 복수의 파트를 합체한 합체 화상과 복수의 파트로 분할된 화상의 사이에서 상기 디자인 화상을 변환하기 위한 명령과, 얻어진 디자인 화상을 편성 데이터로 변환하기 위한 명령을 구비하는 니트 디자인 프로그램에 있어서,

    상기 합체 화상상의 편성포의 패턴이 복수의 파트에 걸쳐지고 또한 내로윙 코스나 와이드닝 코스의 상하에 걸쳐져 있는 것을 검출하기 위한 명령과,

    여기에서 상기 내로윙 코스와 와이드닝 코스에서는 파트간의 경계에서 각각 내로윙 스티치와 와이드닝 스티치가 되어 있고,

    상기 내로윙 코스 혹은 와이드닝 코스의 상하간에서의 불균등한 내로윙 스티치 혹은 와이드닝 스티치의 수를 편성포의 좌우방향 중앙부측에서 좌우방향 외측으로 구하기 위한 명령과,

    내로윙 코스의 상측에서 복수의 파트에 걸쳐지는 패턴의 부분을 상기 코스의 하측의 패턴의 부분에 대하여 상기 불균등한 내로윙 스티치의 스티치 수만큼 편성포의 좌우방향 중앙측으로 상대적으로 시프트 시키고, 또는 와이드닝 코스의 상측에서 복수의 파트에 걸쳐지는 패턴의 부분을 상기 코스의 하측의 패턴의 부분에 대하여 상기 불균등한 와이드닝 스티치의 스티치 수만큼 편성포의 좌우방향 외측으로 상대적으로 시프트 시키기 위한 명령과,

    여기에서 상기 내로윙 코스와 와이드닝 코스의 상측의 부분의 편성포의 좌우방향에 따른 중앙측과 외측을 각각 이들간의 상기 불균등한 내로윙 스티치나 와이드닝 스티치 수의 차이에 대응하여 불균등하게 편성포의 좌우방향으로 시프트 시키고,

    상기 시프트된 패턴의 부분을 복수의 파트에 할당하기 위한 명령을 구비한 것을 특징으로 하는 니트 디자인 프로그램.

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