KR100996982B1 - Multiple die integrated circuit package - Google Patents

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KR100996982B1
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Abstract

집적회로용 다중 다이 패키지가 개시되어 있다. 절연체가 제공되고, 하나 또는 그 이상의 바이어들이 절연체 내에 형성된다. 바이어가 없는 상태로 절연체가 준비된 후에, 추후에 바이어를 형성할 수 있다. 적어도 하나의 집적회로가 제공되고, 상기 절연체의 일 표면을 덮고 있는 제1 리드프레임의 적어도 하나의 리드에 전기적으로 연결된다. 상기 2개의 리드프레임과 제1 집적회로 및 제2 집적회로 사이의 전기적 연결은, 상기 제1 리드프레임과 제2 리드프레임의 적어도 하나의 리드들을 서로 연결함으로써 선택되는 위치에서 절연체를 관통해 형성된다. 제1 리드프레임과 제2 리드프레임의 리드들은 절연체 내의 바이어 내에서 용접에 의해 물리적으로 연결될 수 있다. 이동형 저장 카드 패키지가 또한 개시되어 있다.

Figure R1020087013254

집적회로용 다중 다이 패키지, 절연체, 바이어, 리드프레임

A multi die package for an integrated circuit is disclosed. An insulator is provided, and one or more vias are formed in the insulator. After the insulator is prepared without the vias, the vias can be formed later. At least one integrated circuit is provided and electrically connected to at least one lead of the first leadframe covering one surface of the insulator. The electrical connection between the two lead frames and the first integrated circuit and the second integrated circuit is formed through an insulator at a position selected by connecting at least one lead of the first lead frame and the second lead frame to each other. . Leads of the first leadframe and the second leadframe may be physically connected by welding in the via in the insulator. Removable storage card packages are also disclosed.

Figure R1020087013254

Multi-die packages, insulators, vias and leadframes for integrated circuits

Description

다중 다이 집적회로 패키지{MULTIPLE DIE INTEGRATED CIRCUIT PACKAGE}MULTIPLE DIE INTEGRATED CIRCUIT PACKAGE

본 출원은, 본 출원과 동일자로 출원된 발명의 명칭이 "다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법"(관리번호 SDK-0594.001)인 미국 특허 출원과 관련된 것이다.This application is related to a US patent application entitled "Multi-die Integrated Circuit Package Manufacturing Method" (management number SDK-0594.001) filed on the same day as this application.

본 발명과 본 명세서에 개시되어 있는 많은 실시예들은 일반적으로 하나 이상의 집적회로 소자를 포함하는 패키지형 반도체 소자의 제조에 관련된 것으로, 특히 다중 집적 소자를 구비하여 패키지 시스템, 메모리 또는 메모리 카드 저장 장치를 구성하는 패키지 제조에 관한 것이다.The present invention and many embodiments disclosed herein relate generally to the manufacture of a packaged semiconductor device comprising one or more integrated circuit devices, in particular having multiple integrated devices to provide a package system, memory or memory card storage device. It is related with manufacture of the package to comprise.

전자업계에서, 반도체 소자들은 집적회로를 보호하고 집적회로에 외부 접점을 제공하는 패키지 형태로 제공된다. 소자들의 집적과 기능 개선에 대한 요구에 따라, 때로는 칩 또는 다이로 호칭되는 다중 집적회로들이 단일 패키지로 제공되고 있다. 이러한 패키지는 다양한 방식과, 예비 성형된 플라스틱 또는 세라믹 또는 금속성 몸체, 기타 이와 유사한 재료와 예를 들어 "글럽탑"(glop top) 또는 에폭시 패키지인 열로 경화되는 수지 또는 열경화성 수지로 제조되는 몰딩 패키지를 포함하는 다양한 재료로 제조될 수 있다. 상기 재료들은 소형 및 경질의 반도체 집적회로 또는 "다이"를 물리적 손상과 어느 정도의 습도에 의한 손상을 방지하고, 일반적으로 금속성 또는 기타 도전 접점(conductive contact)인 집적회로의 외부 전기 접점인 외부 단자를 집적회로 위의 전도성 본드 패드에 연결하는 데에 사용되는 전도성 리드를 보호하기 위해 사용된다.In the electronics industry, semiconductor devices are provided in packages that protect the integrated circuit and provide external contacts to the integrated circuit. In response to the need to integrate devices and improve functionality, multiple integrated circuits, sometimes referred to as chips or dies, are being provided in a single package. Such packages may be modified in various ways and molded packages made of preformed plastic or ceramic or metallic bodies, other similar materials and heat-curable resins or thermosetting resins, eg, "glop top" or epoxy packages. It can be made of a variety of materials, including. The materials prevent small and rigid semiconductor integrated circuits or “dies” from physical damage and some humidity damage, and are external terminals that are external electrical contacts of an integrated circuit, generally metallic or other conductive contacts. Is used to protect the conductive leads used to connect the conductive bond pads on the integrated circuit.

반도체 패키징 업계에서, 기계적인 지지부를 제공하고, 집적회로와 패키지 소자의 리드 또는 외부 전기 접점 간에 전기 접속이 되도록 리드프레임이 종종 사용된다. 리드프레임은, 때로는 전도성과 땜납성(solderbility)을 향상시키기 위해 금, 루테늄, 팔라듐 및 이와 유사한 재료가 피복된 구리, 그리 합금 또는 Alloy 42 같은 철-니켈 합금인 전도성 재료로 구성되고, 접점의 땜납성과 제조성을 향상시키기 위해 추가적으로 도금층, 또는 니켈 합금, 구리 합금 또는 기타 다른 재료들이 사용될 수 있다. 리드프레임을 형성하는 데에 도전성 재료 위에 플라스틱 도금층이 사용될 수도 있다. 리드는 조립하기 전이나 완성된 패키지를 조립한 후에 납땜되거나 도금될 수 있다. 리드프레임은 일반적으로 집적화된 스트립 형태로 제공되고, 에칭되거나 스탬핑 아웃(stamp out)될 수 있고, 리드프레임 스트립들은 조립 및 제조가 용이하도록 스트립 형태로 연결되어 있는 다수 개의 리드프레임으로서 후속되는 제조 단계에서 복수 개로 분리된다.In the semiconductor packaging industry, leadframes are often used to provide mechanical support and to provide an electrical connection between the integrated circuit and the leads or external electrical contacts of the package element. The leadframe is sometimes made of a conductive material that is an iron-nickel alloy such as copper, grit alloy, or Alloy 42 coated with gold, ruthenium, palladium and similar materials to improve conductivity and solderbility, and the soldering of the contacts Additional plating layers or nickel alloys, copper alloys or other materials may be used to improve performance and manufacturability. A plastic plating layer may be used on the conductive material to form the leadframe. The leads can be soldered or plated prior to assembly or after assembling the finished package. The leadframe is generally provided in the form of an integrated strip, can be etched or stamped out, and the leadframe strips are subsequent manufacturing steps as a plurality of leadframes connected in strip form to facilitate assembly and fabrication. Are separated into a plurality.

일반적으로, 리드프레임은 원하는 완성된 패키지의 외부 경계가 되는 영역의 바깥쪽에서부터 집적회로를 수용하도록 배치되는 내부 영역까지 연장되어 있는 다수 개의 리드를 제공한다. 이때, 상기 리드는 일반적으로는 손가락 모양이지만, 그와는 다른 형상이 사용될 수도 있다. 선행 기술에서, 리드프레임 일 영역이 직사각형 또는 정사각형 반도체 다이를 수용하는, "다이 패드"로도 호칭되는 중앙 지지부를 제공하고, 리드 핑거(lead finger)가 상기 다이 패드의 하나 또는 그 이상의 측 면 위에서 집적회로 다이의 외부 가장자리 근방의 영역까지 연장되어 있는 구성을 사용하는 것이 공지되어 있다. 상기 리드프레임 핑거들은 상기 다이로부터 나와서 봉지된 패키지의 외부 경계를 관통하여 연장되어 위치하고 있다. 선행 기술의 다른 구성에서, 리드 핑거들은 리드들이 전기 통로뿐만 아니라 기계적 지지부를 제공하도록 다이 위에 걸쳐서 연장(리드 온 칩 또는 "LOC"형 리드프레임)되거나 다이 아래쪽에 연장(리드 언더 칩 또는 "LUC"형 리드프레임)될 수 있다.Generally, leadframes provide a number of leads that extend from the outside of the area that is the outer boundary of the desired finished package to an interior area disposed to receive the integrated circuit. In this case, the lead is generally a finger shape, but a different shape may be used. In the prior art, one area of the leadframe provides a central support, also referred to as a "die pad," which houses a rectangular or square semiconductor die, and a lead finger is integrated on one or more sides of the die pad. It is known to use a configuration that extends to an area near the outer edge of the circuit die. The leadframe fingers extend beyond the outer boundary of the encapsulated package out of the die. In another configuration of the prior art, the lead fingers extend over the die (lead on chip or "LOC" type leadframe) or extend below the die (lead under chip or "LUC") so that the leads provide mechanical support as well as an electrical passage. Type leadframe).

어셈블리 공정 중에 리드들을 서로 고정시키고 리드들이 그들의 위치를 유지하도록 하거나, 또는 다이를 리드에 고정시켜 리드들을 안정화시키기 위해 도금층 또는 테이프 형태의 절연체 접착제가 사용될 수 있다. 상기 다이들은 다이 부착 접착제를 사용하여 다이 패드에 접착될 수 있는데, 다이 부착 접착제는 전도성 또는 절연성 재료일 수 있고, 또한 수지 또는 열경화성 재료일 수도 있다.Insulator adhesive in the form of a plated layer or tape may be used to secure the leads to each other and to maintain their position during the assembly process, or to stabilize the leads by securing the die to the leads. The dies may be adhered to the die pad using a die attach adhesive, which may be a conductive or insulating material, and may also be a resin or a thermoset material.

사용되는 리드프레임의 유형에 관계없이, 집적회로를 리드프레임에 전기적으로 연결하는 연결 기구를 제공할 필요가 있다. 일반적으로, 본드 와이어가 사용된다. 이들 미세 와이어들은 와이어 본딩 공정에 의해 반도체 소자에 부착되고; 상기 와이어는 일반적으로 캐필러리(capillary)를 통해 분배되어 부착된다. 와이어 본딩 공정은 열과 압력을 사용하며, 때로는 초음파 에너지 같은 다른 에너지를 사용하여 와이어를 집적회로 본드 패드에 부착시킴으로써 접합부를 형성하고, 그런 다음, 본드 와이어는 집적회로 위쪽으로부터 나와 리드프레임의 리드 핑거의 단부 위 영역까지 연장되고, 캐필러리는 다시 열과 압력을 사용하여 본드 와이어의 리드프레임에 대한 제2 접점을 형성한다. 대안적으로, 상기 본드 와이어는 상기와 반대 방향, 즉 먼저 리드프레임 핑거에 부착된 후에 위쪽으로 연장되어서 집적회로 위에서 본드 패드에 부착되도록 형성될 수도 있다. 컷 와이어(cut wire)가 가열되어 본드 와이어의 단부 위에 볼을 형성하고, 그런 후에, 집적회로 다이에 그 다음의 접합을 위해 사용되고("볼" 본딩), 볼이 형성되어 있지 않은 리드프레임에 부착된 본드 와이어의 단부는 "스티치"(stitch)로 불리운다. 필요하다면, 필요하다면, 다수 개의 본드 와이어가 집적회로의 각기 다른 패드로부터 시작하여 리드프레임의 하나의 단일 리드(single lead)에까지 연장될 수 있으며, 예를 들어 이러한 방식으로 집적회로용의 전원 또는 접지 접점이 형성될 수 있다. 본드 와이어는 취급이 용이하고 원치 않게 파손되지 않으면서 볼 및 스티치 본딩 단계에서 사용하기에 충분한 연성과 가요성이 있는 금 또는 기타 공지의 도전성 재료일 수 있다. 와이어 본딩 공정은 고도로 자동화될 수 있고, 일반적으로 매우 빠른 속도로 수행된다.Regardless of the type of leadframe used, there is a need to provide a connection mechanism for electrically connecting the integrated circuit to the leadframe. Generally, bond wires are used. These fine wires are attached to the semiconductor element by a wire bonding process; The wire is generally distributed and attached through a capillary. The wire bonding process uses heat and pressure, and sometimes other energy, such as ultrasonic energy, to form the bond by attaching the wire to the integrated circuit bond pads, which then come out of the integrated circuit and form the lead finger of the lead frame in the leadframe. Extending to the area above the end, the capillary again uses heat and pressure to form a second contact to the leadframe of the bond wire. Alternatively, the bond wire may be formed so as to be attached to the bond pad above the integrated circuit, extending in the opposite direction, ie first attached to the leadframe finger and then upward. The cut wire is heated to form a ball over the end of the bond wire, which is then used for subsequent bonding to the integrated circuit die (" ball " bonding) and attached to the leadframe where the ball is not formed. The ends of the bonded bond wires are called "stitch". If desired, if necessary, multiple bond wires may extend from different pads of the integrated circuit to one single lead of the leadframe, for example in this way the power or ground for the integrated circuit. Contacts may be formed. The bond wires may be gold or other known conductive materials that are soft and flexible enough for use in ball and stitch bonding steps without easy breakage and unwanted breakage. The wire bonding process can be highly automated and is generally performed at very high speeds.

어셈블리 공정에서, 집적회로 다이가 리드프레임에 부착된 후에, 리드프레임과 다이는 예를 들어 트랜스퍼 몰딩 장치인 성형 장비 내에 위치하고, 상기 성형 장비 내에서 액상 또는 용융 성형 컴파운드 재료를 사용하여 리드프레임과 집적회로를 함께 봉지(encapsulate)하여 전술한 바와 같이 다이를 기계적으로 보호하고 또한 어느 정도의 내습성을 부여하게 된다. 사출 성형을 포함하는 다른 대안적인 실시는 집적회로 봉지재로 에폭시 및 "글럽 탑"(glob top) 재료 같은 수지와 기타 공지의 재료를 포함한다. 성형하는 대신에, 리드프레임과 다이 어셈블리를 세라믹, 금속 또는 플라스틱 본체 내에 놓은 후에, 리드(lid) 및 접착체 또는 기타 재료를 사용하여 봉지하여 밀봉할 수 있다. 리드프레임의 리드의 외부 단부는 그 자체가 DIP, QFP(quad flat pack), SOP, 또는 기타 리드형 패키지 같은 패키지형 소자의 외부 접점을 형성하거나, 또는 볼 그리드 어레이("BGA") 또는 핀 그리드 어레이("PGA") 패키지 및 이와 유사한 패키지 내에 추가의 접속 기술이 사용될 수도 있다. 리드프레임은 인쇄회로기판, 캡튼(Kapton), 유필렉스(Upilex), 마이러(Mylar) 및 그 외의 반도체 제조업체로부터 시판되는 필름 재료를 기초로 하는 필름 기반의 가요성 회로 같은 상호접속 인터포저(interposer)와 조합하여 사용되거나, 세라믹 기판이 사용될 수 있다. 선행 기술에서, 가능한 복잡한 기판 구성을 제조하기 위해, 외부 커넥터들을 집적회로에 연결된 금속층을 구비하는 다층 인터포저가 사용되었다. 예를 들어, 바닥면의 터미널은 기판 또는 인터포저 내의 바이어홀과 다층을 관통해서 인터포저의 상부 표면 위의 와이어 본딩 랜드 터미널 또는 리드프레임에 연결될 수 있다. 상기 인터포저 또는 기판들은 일반적으로 다양한 도전층 위에 절연체가 형성되어 있는 라미네이트 구조를 이루고 있다. 일단 어셈블리가 완료되면, 이들 라이네이트는 오버성형되어 밀봉된 패키지형 소자를 제공하거나, 상기 어셈블 리가 밀봉된 바디 내에 놓여질 수 있다.In the assembly process, after the integrated circuit die is attached to the leadframe, the leadframe and the die are placed in a molding equipment, for example a transfer molding device, and integrated with the leadframe using liquid or melt molding compound material in the molding equipment. Encapsulating the circuits together mechanically protects the die and imparts some moisture resistance as described above. Other alternative implementations, including injection molding, include resins such as epoxy and "glob top" materials and other known materials as integrated circuit encapsulants. Instead of molding, the leadframe and die assembly may be placed in a ceramic, metal or plastic body, and then encapsulated and sealed using lids and adhesives or other materials. The outer end of the lead of the leadframe itself forms the external contact of a packaged device such as a DIP, quad flat pack (SFP), SOP, or other leaded package, or a ball grid array ("BGA") or pin grid Additional connection techniques may be used in array ("PGA") packages and similar packages. Leadframes are interconnect interposers, such as film-based flexible circuits based on film materials available from printed circuit boards, Kapton, Upilex, Mylar and other semiconductor manufacturers. ) Or a ceramic substrate may be used. In the prior art, multilayer interposers with metal layers connecting external connectors to integrated circuits have been used to fabricate possible complex substrate configurations. For example, the bottom terminal may be connected to a wire bonding land terminal or leadframe on the top surface of the interposer through the multilayer and via hole in the substrate or interposer. The interposers or substrates generally have a laminate structure in which an insulator is formed on various conductive layers. Once assembly is complete, these linings may be overmolded to provide a sealed packaged element, or the assembly may be placed in a sealed body.

패키지형 소자에 대한 고집적화에 대한 요구가 늘어남에 따라, 관련 업계에서는 MCM, 또는 패키지형 소자 내에 하나 이상의 집적회로 다이가 제공되어 있는 다중 칩 모듈을 제공하는 것도 이미 공지되어 있다. 예를 들어, 메모리 소자 및 제어기가 함께 패키징되어 그러한 모듈을 형성할 수도 있다. 프로세서와 메모리가 또한 하나의 모듈을 형성할 수 있다. 이들 소자들은 선택적으로는, 예를 들어 commodity DRAM 또는 비휘발성 메모리 소자 같은 대형 메모리 집적회로를 형성하는 동일한 소자일 수 있고, 그러한 소자들의 공유 터미널들이 패키지의 외부 접점과 병렬로 연결되면서, 다수의 동일한 다이들이 하나의 패키지 내에 위치할 수 있다.As the demand for higher integration for packaged devices increases, it is already known in the art to provide MCMs or multi-chip modules in which one or more integrated circuit dies are provided within packaged devices. For example, the memory element and the controller may be packaged together to form such a module. The processor and the memory may also form one module. These devices may optionally be the same device that forms a large memory integrated circuit, such as, for example, a commodity DRAM or a nonvolatile memory device, and many of the same may be shared, with the shared terminals of those devices connected in parallel with the external contacts of the package. The dies may be located in one package.

다수의 집적회로들을 하나의 시스템 구성 내에 서로 결합하기 위해, 다양한 기법들이 사용된다. 가요성 기판의 일 측면 또는 양 측면에 형성되어 있는 금속 배선 패턴을 구비하고 있는 가요성 회로가 형성되고나서, 이들이 2개의 집적회로를 서로 연결하는 상호연결 레벨로 기능한다. FR-4 또는 BT 레진 카드 같은 라미네이트가 다수의 금속층과 상호레벨 바이어 기술로 제작될 수 있고, 이들 라미네이트 인터포저들이 다시 집적회로들을 서로 연결하는 소형 회로 기판으로 작용하여 터미널 같은 외부 연결을 위한 트레이스(trace)를 제공한다.Various techniques are used to combine multiple integrated circuits together in one system configuration. Flexible circuits are formed having metallization patterns formed on one or both sides of the flexible substrate, which then function as interconnect levels connecting the two integrated circuits to each other. Laminates, such as FR-4 or BT resin cards, can be fabricated with multiple metal layers and cross-level via technology, and these laminate interposers act as small circuit boards that connect the integrated circuits together, providing traces for external connections such as terminals. trace).

집적도를 높이기 위해, 예를 들어 DRAM 소자의 경우에서처럼 동일한 소자들이 서로 연결될 때에, 다이 스태킹(die stacking)이 사용될 수 있다. 본드 와이어는 리드프레임의 리드로부터 다수 개의 다이들까지 연장되어서, 예를 들면 DRAM 패키지의 어드레스 리드들이 적층되어 있는 다수 개의 DRAM 집적회로에 배선될 수 있다. 적층되어 있는 다이들 사이에 스페이서를 포함하여 와이어 본딩 장비가 적층되어 있는 개개의 집적 다이들의 다이 패드에 접근할 수 있다.To increase the degree of integration, die stacking may be used when the same devices are connected to each other, as in the case of DRAM devices, for example. The bond wire may extend from the lead of the leadframe to a plurality of dies, for example, to be wired to a plurality of DRAM integrated circuits in which address leads of the DRAM package are stacked. Including a spacer between the stacked dies allows access to the die pads of the individual integrated dies in which the wire bonding equipment is stacked.

집적도를 높이기 위해, 예를 들어 DRAM 소자의 경우에서처럼 동일한 소자들이 연결될 때에는 다이 스태킹이 채용될 수 있다. "페이스업" 구성으로 다수 개의 다이들을 제공하기 위해 다양한 방법들이 사용될 수 있고, 와이어 본딩은 다이들을 병렬로 연결하는 본드 와이어를 사용하여 각 다이를 공유의 리드프레임에 연결할 수 있다. 그러나, 공유의 본드 패드 풋프린트를 유지하기 위해 리드프레임 위에 ㅂ 백-투-백(back-to-back) 방식으로 다이를 설치하는 것은 공지되어 있지만, 백-투-백 방식으로 다이를 설치하는 경우에는 때로는 "미러 다이"가 필요해서, 상부 지향 다이의 일측면 위의 단자들은 상기 상부 지향 다이에 대응하는 하부 지향 다이 위에 같은 위치 및 같은 순서로 위치해야 한다. "미러 다이"를 필요로 한다는 것은 제조의 복잡성, 목록 제어 및 비용을 증가시키고, 각 패키지형 소자는 동일한 기능을 갖는 2 개의 다른 다이를 포함하여야 한다. 대안적으로, 2개의 동일한 기능의 다이를 연속적으로 위치시키도록 인터포저 또는 라미네이트 회로가 사용될 수 있으나, 상기 라미네이트 인터포저도 최종 소자의 비용과 복잡성을 증가시킨다.To increase the degree of integration, die stacking may be employed when the same devices are connected, such as in the case of DRAM devices, for example. Various methods may be used to provide multiple dies in a “face up” configuration, and wire bonding may connect each die to a shared leadframe using bond wires that connect the dies in parallel. However, it is known to install the die in a back-to-back manner over the leadframe to maintain a shared bond pad footprint, but the die is installed in a back-to-back manner. Sometimes a "mirror die" is needed so that the terminals on one side of the top facing die must be located in the same position and in the same order on the bottom facing die corresponding to the top facing die. The need for a "mirror die" increases manufacturing complexity, inventory control, and cost, and each packaged device must include two different dies with the same functionality. Alternatively, an interposer or laminate circuit can be used to position two identically functional dies in series, but the laminate interposer also increases the cost and complexity of the final device.

최근, 상업적 중요성이 증가하는 패키지형 장치는, 많은 전자 장치들 간에 데이터를 운송할 수 있는 이동형 비휘발성 저장 카드(removable non-volatile storage card)이다. 이러한 비휘발성 메모리 또는 저장 카드는 Compact FLASH, Secure Digital 또는 SD, 미니-SD, 메모리 스틱, USB 드라이브, Multimedia Card 또는 MMC, 및 기타 포맷을 포함하는 다양한 포맷으로 이용할 수 있다. 강력하고, 신뢰성 있으며 안정적인 데이터 저장 포맷을 제공하기 위해, 비휘발성 EEPROM 또는 FLASH 메모리 장치에는 단일 패키지형 장치 내에 지능형 제어기(intelligent controller)가 함께 제공된다. 지능형 제어기는 데이터 에러 교정 및 감지, 시험, 캐쉬 및 중복 지지 기능(redundancy support function)을 제공하여 비휘발성 메모리 장치 내의 일부 저장 위치에 장애가 있는 것으로 예측되거나 제품 사용 중에 장애가 있을 것으로 예측되더라도, 사용자 데이터가 저장되고 수정되어 복구되고, 사용자 또는 시스템은 메모리 어레이 내에서 사용할 수 없는 위치를 알지 못하며, 상 기 지능형 제어기는 이들 장애 위치를 중복 메모리 위치로 대체하여 데이터의 일관성 및 적당한 저장을 유지하는 데에 사용되는 이용 가능한 위치들의 맵을 유지한다. 사용자 시스템에 있어서, 상기 장치는 대형 메모리 어레이, 제어기 및 자동 에러 교정기와 유사하며, 중복 지지는 장치의 사용에 영향을 주지 않으면서 사용자 투명 자동 메모리 제어 조작이 되도록 한다. 이들 이동형 저장 카드들이 사용되고 있으며, 휴대폰, 디지털 카메라, MP3 음악과 음악 플레이어용 비디오 같은 디지털 미디어 저장 장치, 비디오 플레이어, 전자 게임기, 개인휴대용 정보단말기 또는 PDA 기기, 의료 기록 저장 장치용 기기, 스마트카드, 신용카드 및 이와 유사한 것과 같이 데이터가 저장되는 많은 분야에 지속적으로 사용될 것이다.Recently, packaged devices of increasing commercial importance are removable non-volatile storage cards that can transport data between many electronic devices. Such nonvolatile memory or storage cards are available in a variety of formats including Compact FLASH, Secure Digital or SD, Mini-SD, Memory Stick, USB Drive, Multimedia Card or MMC, and other formats. To provide a powerful, reliable and stable data storage format, nonvolatile EEPROM or FLASH memory devices are provided with an intelligent controller in a single packaged device. Intelligent controllers provide data error correction and detection, testing, caching, and redundancy support functions to ensure that user data is stored, even if some storage locations in a nonvolatile memory device are predicted to fail or are likely to fail during product use. Saved, modified and recovered, the user or system does not know where it is unavailable in the memory array, and the intelligent controllers replace these faulty locations with redundant memory locations to maintain consistency and proper storage of data. Maintain a map of available locations. In a user system, the device is similar to a large memory array, controller, and automatic error corrector, and redundant support allows for user transparent automatic memory control operations without affecting the use of the device. These portable storage cards are used and include digital media storage devices such as mobile phones, digital cameras, MP3 music and video for music players, video players, electronic game consoles, personal digital assistants or PDA devices, medical record storage devices, smart cards, It will continue to be used in many areas where data is stored, such as credit cards and the like.

도 1은 일반적인 이동형 저장 카드 패키지의 외관을 도시하고 있다. 상기 카드는, 예를 들면 본 명세서에 참고문헌으로 통합되어 있는, 본 발명의 발명자인 월리스(Wallace)에 의한 미국 특허 제6,410,355호에 개시되어 있는 형태일 수 있다. 도 1a에서, 예를 들어 시큐어 디지털 또는 SD 형태 카드인 상기 카드의 접촉부가 패키지(100) 내에 집적회로와 접촉하도록 배치되어 있는 전도성 터미널(101)로 도시되어 있다. 도 1b는 패키지(100)의 반대쪽을 도시하고 있는데, 상기 반대쪽에는 전기 접점이 없으며 일반적으로 사용자의 시각 검열 및 참고용의 정보, 브랜드 이름, 미디어 크기 및 기타 이와 유사한 정보가 기재되어 있는 라벨이 부착되어 있다. 터미널의 개수 및 사용된 접속 형태는, 예를 들어 시큐어 디지털 또는 SD와 같은 형태에 따라 변하며, 도 1a에 도시한 터미널은 일반적인 것으로 단지 소량의 외부 터미널들이 사용되고 있다. 디지털 카메라에 터미널의 수가 많은 컴팩트 플래쉬 또는 "CF" 카드가 종종 사용되고, 상기 터미널은 패키지의 일 측면의 일 단부에 위치하는 암 리셉터클이다. 카메라 또는 카드 리더기는 수터미널(male terminal) 또는 핀을 갖고 있는 CF 패키지의 동일한 단부를 수용하는 소켓을 구비하고 있어서, 컴팩트 플래쉬 카드가 소켓 내부로 삽입될 때에 소켓이 상기 수터미널에 대응하는 암 리셉터클로 들어가서 접속이 완성된다. 기타 다른 접속 방법이 사용될 수 있는데, 예를 들어 USB 포트가 접속부로 사용될 수 있다.1 shows the appearance of a typical removable storage card package. The card may be, for example, in the form disclosed in US Pat. No. 6,410,355 by Wallace, the inventor of the present invention, which is incorporated herein by reference. In FIG. 1A, the contact portion of the card, for example a secure digital or SD type card, is shown as a conductive terminal 101 disposed in contact with the integrated circuit in the package 100. FIG. 1B shows the opposite side of the package 100, which has no electrical contacts and is generally labeled with the user's visual censorship and reference information, brand name, media size and other similar information. It is. The number of terminals and the type of connection used vary, for example, with forms such as Secure Digital or SD, and the terminal shown in FIG. 1A is typical and only a small amount of external terminals are used. Compact flash or "CF" cards with a large number of terminals are often used in digital cameras, which are female receptacles located at one end of one side of the package. The camera or card reader has a socket for receiving the same end of a CF package with a male terminal or pin so that when the compact flash card is inserted into the socket the female receptacle corresponds to the male terminal. Enter to complete the connection. Other connection methods may be used, for example a USB port may be used as the connection.

이동형 저장 카드 장치용의 종래의 패키지는 일반적으로 제어기 집적회로 및 메모리 소자 또는 소자들의 장치-대-장치 연결과 물리적 지지를 제공하는 다층 라미네이트 인쇄회로기판 또는 "PC 보드" 형태의 기판 또는 복잡한 인터포저를 포함한다. BT 수지, FR4, 또는 유리섬유 또는 이와 유사한 것일 수 있는 보드는 일반적으로 컨덕터 트레이스, 전기 접속을 형성도록 각 층을 연결하는 바이어홀, 및 보드 표면 위의 트레이스들을 집적회로 다이들 또는 기타 구성요소에 연결하는 와이어 본딩용 랜드를 형성하도록 패턴된 금속층을 포함하고 있는 라미네이트 구조이다. 다중 메모리 소자들은 예를 들어 서로 나란하게(side by side) 또는 스택(stack)으로 제공될 수 있고 또는 하나의 단일 메모리 소자만이 사용될 수 있으나, 선행 기술에서 패키지형의 저장 카드는 적어도 2개의 소자들이 패키지 되어 서로 연결되어 있는 복잡한 패키지형 소자이다. 도 2는 전형적인 구성의 단면을 도시하고 있다. 도 2는 라미네이트 기판(208)의 동일 표면 위에 장착되어 있는 집적회로 다이(204)와 집적회로 다이(205)를 구비하고 있는 선행 기술의 저장 카드(200)를 도시하고 있다. 본드 와이어(203)는 집적회로 다이의 활성표면 또는 면 위의 본드 패드(204) 를 기판의 상부 표면 위의 랜드(206) 또는 전도성 영역에 연결한다. 2개의 이러한 본드 와이어들은 랜드(206)에 연결되어서 집적회로의 2개의 다이 패드를 전기적으로 연결하는 것으로 도시되어 있고, 이에 따라 집적회로들이 전기적으로 연결되며, 집적회로는 예를 들어 메모리 및 제어기 집적회로일 수 있다. 다이(204, 205)를 기판(208)에 부착하기 위해 다이 부착 재료(209)가 사용된다. 본드 와이어(203)를 형성하고, 본드 와이어를 기판 위의 랜드(206)와 집적회로 다이(204, 205)에 부착하는 통상적인 반도체 패키지 조립 공정 후에, 본드 와이어와 집적회로 다이들은 봉지재(encapsulant)(211)로 봉지된다. 이때 봉지재는 열경화성 또는 실온 성형 화합물 또는 기타 봉지 재료일 수 있다. 상기 패키지는 쉘(201)로 완성된다. 셀은 기판과 성형 재료를 커버하는 플라스틱일 수 있다. 또 다른 접근 방안, 본 명세서에 참고문헌으로 통합되어 있는 본 발명의 발명자인 월리스에 의한 미국 특허 제6,639,309호는, 메모리 장치와 제어 장치가 다층 PC 보드 재료의 양쪽 표면에 통합되어 있고, 와이어 본딩 연결되어 있으며 오버성형 봉지되어 있는 이동형 저장 카드를 도시하고 있다.Conventional packages for removable storage card devices typically include controller integrated circuits and memory elements or substrates in the form of multilayer laminate printed circuit boards or " PC boards " or complex interposers that provide device-to-device connectivity and physical support of the devices. It includes. Boards, which may be BT resin, FR4, or fiberglass or the like, generally include conductor traces, via holes connecting each layer to form electrical connections, and traces on the board surface to integrated circuit dies or other components. It is a laminate structure containing a metal layer patterned to form the land for wire bonding to connect. Multiple memory elements may be provided side by side or stack, for example, or only one single memory element may be used, although in the prior art packaged storage cards are at least two elements. Are complex packaged devices that are packaged and connected together. 2 shows a cross section of a typical configuration. 2 illustrates a prior art storage card 200 having an integrated circuit die 204 and an integrated circuit die 205 mounted on the same surface of a laminate substrate 208. Bond wires 203 connect bond pads 204 on the active surface or face of the integrated circuit die to lands 206 or conductive regions on the top surface of the substrate. Two such bond wires are shown connected to lands 206 to electrically connect the two die pads of the integrated circuit, whereby the integrated circuits are electrically connected, the integrated circuit being for example memory and controller integrated. May be a circuit. Die attach material 209 is used to attach the dies 204, 205 to the substrate 208. After forming the bond wire 203 and attaching the bond wire to the land 206 on the substrate and the integrated circuit dies 204 and 205, the bond wire and the integrated circuit dies are encapsulant. Encapsulated in 211. In this case, the encapsulant may be a thermosetting or room temperature molding compound or other encapsulation material. The package is completed with a shell 201. The cell may be a plastic covering the substrate and the molding material. Another approach, US Pat. No. 6,639,309 by Wallace, inventor of the present invention, which is incorporated herein by reference, discloses that a memory device and a control device are integrated on both surfaces of a multilayer PC board material, and wire bonded connections. And a removable storage card that is overmolded.

패키지형 반도체 집적회로에 대한 다른 접근 방안은 서로 연결되어 있는 다중 레벨 리드프레임 또는 다중 리드프레임을 통합하는 것이다. 예를 들면, 본 명세서에 참고문헌으로 통합되어 있는 카스토(Casto)의 미국 특허 제5,147,815호는 2개의 집적회로 다이와 2개의 리드프레임이 조립되어 단일 성형 듀얼 인라인 플라스틱(single molded dual inline plastic) 또는 "DIP" 패캐지 내에 제공되어 있는 것을 도시하고 있다. 집적회로 다이와 그들 각각의 리드프레임은 백-투-백(back-to- back) 방식으로 배치되고 각 다이는 본드 와이어에 의해 각 리드프레임에 연결되어 있거나, 또는 선택적으로는 집적회로 다이들이 인터포저의 양쪽 면 위에 페이스-투-페이스(face-to-face) 방식으로 배치되어서 플립-칩 배열 내의 각 리드프레임에 연결되어 있고, 2개의 집적회로들이 개별적으로 패키지형 소자의 양쪽 면 위에 배치되어 있는 외부 리드에 연결되어 있으며 전기적으로 서로 소통하고 있지 않다. 본 명세서에 참고문헌으로 통합되어 있는 요시다 등의 미국 특허 제6,603,197호는 리드프레임의 많은 리드에 연결되어서 모듈을 형성하는 적어도 2개의 별개의 집적회로 소자들에 연결되어 있는 다중 리드프레임을 제공하는데, 일부 공유 리드들은 예를 들어 파워 리드 같은 패키지 외부에서 물리적으로 그리고 전기적으로 연결되어 있어서 집적회로 소자 양방이 시그널을 받아들이게 된다. 이와 유사하게, 본 명세서에 참고문헌으로 통합되어 있는 박(Park) 등의 미국 특허 제6,316,825호는 메모리 소자 같은 집적회로 소자 2개를 2개의 리드프레임을 갖고 있는 하나의 성형 패키지 내에서 적층하고 있는 스택형 패키지를 제공하는데, 리드프레임들은 외부 리드에 연결되어 있는 각 시그널들이 2개의 동일한 메모리 소자 각각에 병렬 방식으로 물리적이고 전기적으로 연결되도록 패키지의 외부에서 물리적으로 연결되어 있다.Another approach to packaged semiconductor integrated circuits is to integrate multiple level leadframes or multiple leadframes that are interconnected. For example, US Pat. No. 5,147,815 to Casto, which is incorporated herein by reference, discloses two integrated circuit dies and two leadframes assembled into a single molded dual inline plastic or It is shown what is provided in the "DIP" package. The integrated circuit dies and their respective leadframes are arranged in a back-to-back manner and each die is connected to each leadframe by a bond wire, or optionally integrated circuit dies are interposer Arranged face-to-face on both sides of the circuit board, connected to each leadframe in a flip-chip arrangement, and two integrated circuits separately arranged on both sides of the packaged device. It is connected to an external lead and is not in electrical communication with each other. US Pat. No. 6,603,197 to Yoshida et al., Incorporated herein by reference, provides a multiple leadframe connected to at least two separate integrated circuit elements that are connected to many leads of the leadframe to form a module. Some shared leads are physically and electrically connected outside the package, for example power leads, so that both integrated circuit devices accept signals. Similarly, US Pat. No. 6,316,825 to Park et al., Which is incorporated herein by reference, discloses stacking two integrated circuit devices, such as memory devices, in a single molded package having two leadframes. In a stacked package, leadframes are physically connected external to the package such that each signal connected to an external lead is physically and electrically coupled in parallel to each of the two identical memory elements.

다중 레벨 리드프레임에 연결되어 있는 단일 집적회로를 제공하는 종래에 공지되어 있는 다른 구성, 예를 들어 본 명세서에 참고문헌으로 통합되어 있는 맥쉐인(McShane)의 미국 특허 제5,220,195호는 다중 리드프레임에 와이어 본딩되어 있는 단일 집적회로를 제공하고, 패키지 내에서 다층 리드프레임의 부분들 간에 물리 적 접점이 형성되어 있고, 바이어 내로 연장되어 있는 본드 와이어와 함께 형성되어 있는 관통홀 바이어이 집적회로 밑에 위치하는 리드프레임 층들을 물리적으로 접촉하도록 하여 패키지형 소자 내에서 다중 전압 평면(multiple voltage plane)이 형성되도록 한다.Another configuration known in the art for providing a single integrated circuit connected to a multilevel leadframe, such as US Pat. No. 5,220,195 to McShane, which is incorporated herein by reference, is incorporated herein by reference. Leadframes that provide a single integrated circuit that is bonded, physical contacts are formed between parts of the multilayer leadframe in the package, and through-hole vias formed with bond wires extending into the vias are located underneath the integrated circuit. Physical contact of the layers allows multiple voltage planes to be formed in the packaged device.

다중 집적회로용의 선행 패키지가 존재하고 있지만, 패키지의 신뢰성을 유지하면서 제조 비용을 절감할 수 있는 다중 다이 패키지에 대한 수요는 지속되고 있다.Although there are prior packages for multiple integrated circuits, there is a continuing need for multiple die packages that can reduce manufacturing costs while maintaining package reliability.

이에 따라, 간단하고 신뢰성 있으며 다수 개의 집적회로 소자들 간에 임의로 접속할 수 있게 하며, 고가의 인터포저, 인쇄회로기판 또는 기판을 사용하지 않으며 기존의 패키지와 방법에 비해 제조 비용이 절감되는, 개선된 다중 집적회로 패키지 및 다중 집적회로 패키징 방법에 대한 수요가 있다.This allows for simple, reliable, arbitrary connection between multiple integrated circuit devices, eliminates the use of expensive interposers, printed circuit boards or boards, and reduces manufacturing costs compared to conventional packages and methods. There is a need for integrated circuit packages and multiple integrated circuit packaging methods.

본 발명의 다양한 바람직한 실시예들은, 2개 또는 그 이상의 집적회로들을 전기적으로 연결하고, 집적회로를 기구적으로 지지하고, 집적회로들 간에 임의로 접속되도록 하며, 패키지형 소자가 외부 접점과 전기적으로 연결되도록 하는 다중 반도체 집적회로 또는 다이용 패키지를 제공한다. 본 발명의 패키지는 선행 기술에서 사용되는 형태의 기판 또는 인터포저를 필요로 하지 않고, 본 발명을 사용하고 실시하는 데에 재툴링 또는 특수한 장비를 필요로 하지 않도록 소재들은 반도체 공정 산업에 공지되어 있는 자동화 생산 장비 및 장치와 호환되는 통상적인 와이어 본딩 및 리드프레임 기술을 사용한다.Various preferred embodiments of the present invention provide for electrically connecting two or more integrated circuits, mechanically supporting the integrated circuits, allowing arbitrary connections between integrated circuits, and packaged devices to electrically connect external contacts. A package for multiple semiconductor integrated circuits or dies is provided. The package of the present invention does not require a substrate or interposer of the type used in the prior art, and the materials are known in the semiconductor processing industry so that no retooling or special equipment is required to use and practice the present invention. Use conventional wire bonding and leadframe technology that is compatible with automated production equipment and devices.

본 발명의 제1 실시예에서, 제1 리드프레임이 간단한 절연체를 덮도록 제공되어 위치된다. 절연체는 특정 위치에 관통 형성되어 있는 바이어들을 갖고 있으며, 리드프레임의 일부 리드들이 바이어들 위에 놓여진다. 상기 리드프레임의 나머지 리드들은 절연체의 가장자리 너머 또는 절연체 외부 경계부까지 연장될 수 있다. 리드프레임의 일부 리드들은 외부 커넥터까지 연장되지 않을 수 있다. 제1 집적회로 다이가 리드프레임의 내부 단부 근방에 제공되어 위치하고, 일부 실시예에서 리드프레임의 내부에 관통구(opening)가 형성되어 있을 수 있고, 다이가 그 내부 관통구에 놓여질 수 있다. 다른 실시예에서, 다이가 리드프레임의 리드들 위에 놓여지거나 또는 리드프레임의 리드들 아래에 놓여질 수 있다. 바람직한 실시예에서, 다이가 리드프레임에 와이어 본딩되어 집적회로의 하나 또는 그 이상의 리드를 리드프레임의 리드에 전기적으로 연결한다. 다른 바람직한 실시예에서, 리드프레임의 리드들은 관련 업계에서 공지되어 있는 바와 같은 플립 칩 기술을 사용하여 다이에 연결될 수도 있다.In a first embodiment of the invention, a first leadframe is provided and positioned to cover a simple insulator. The insulator has vias formed in a specific position, and some leads of the leadframe rest on the vias. The remaining leads of the leadframe may extend beyond the edge of the insulator or to the outer boundary of the insulator. Some leads of the leadframe may not extend to the external connector. A first integrated circuit die may be provided and positioned near the inner end of the leadframe, and in some embodiments, an opening may be formed in the interior of the leadframe, and the die may be placed in the inner through hole. In other embodiments, the die may be placed over the leads of the leadframe or under the leads of the leadframe. In a preferred embodiment, the die is wire bonded to the leadframe to electrically connect one or more leads of the integrated circuit to the leads of the leadframe. In another preferred embodiment, the leads of the leadframe may be connected to the die using flip chip technology as is known in the art.

그런 다음, 제2 리드프레임이 절연체의 제2 및 반대쪽 표면에 놓여진다. 제2 리드프레임의 일부 리드들은 제1 리드프레임의 일부 리드와 대응되도록 절연체의 관통홀 바이어를 덮도록 위치한다. 제2 리드프레임의 나머지 리드들은 외부 전기 접점들이 완성된 소자에 연결되도록 절연체의 외부까지 연장될 수 있고, 절연체 외부 경계부를 넘어서까지 연장될 수 있다. 제2 집적회로 다이가 제2 리드프레임의 내부 리드 근방에 위치할 수 있다. 제2 리드프레임의 리드의 내부 단부 근방의 중앙부에는 다이를 수용하기 위한 공간부가 형성되어 있을 수 있거나, 또는 칩 아래쪽에의 리드 또는 칩 리드프레임 장치 위쪽에의 리드가 사용될 수 있다. 제2 집적회로 위의 다이 패드 터미널로부터 제2 리드프레임의 적어도 하나의 리드 사이에는 예를 들어 본드 와이어 연결 또는 플립 칩 연결과 같은 전기적 연결이 형성되어 있다. 전형적인 응용 분야에서, 집적회로로부터 리드프레임까지 많은 본드 와이어가 연장되어 있다. 대안적으로, 제1 리드프레임과 제2 리드프레임은 각 리드프레임에 대응하는 다이가 부착되기 전에 서로 부착될 수 있다.The second leadframe is then placed on the second and opposite surfaces of the insulator. Some leads of the second leadframe are positioned to cover the through-hole vias of the insulator so as to correspond to some leads of the first leadframe. The remaining leads of the second leadframe may extend outside of the insulator such that external electrical contacts are connected to the finished device and may extend beyond the insulator outer boundary. The second integrated circuit die may be located near an internal lead of the second leadframe. The central portion near the inner end of the lead of the second leadframe may be formed with a space for accommodating the die, or a lead below the chip or a lead above the chip leadframe apparatus may be used. Electrical connections, such as bond wire connections or flip chip connections, are formed between the die pad terminals on the second integrated circuit and at least one lead of the second leadframe. In typical applications, many bond wires extend from the integrated circuit to the leadframe. Alternatively, the first leadframe and the second leadframe may be attached to each other before the die corresponding to each leadframe is attached.

제1 리드프레임 및 제2 리드프레임의 특정 리드들은 절연체 내의 바이어를 통해 전기적으로 연결되는 것이 바람직하다. 본 발명의 이러한 교시는, 절연체를 관통하여 2개의 리드프레임을 전기적으로 연결하는 설비를 사용하여 제1 집적회로 다이와 제2 집적회로 다이를 임의의 위치에서 전기적으로 연결하도록 한다. 제1 바람직한 실시예에서, 절연체 내의 바이어 내의 공간부 내로 제1 리드 및 제2 리드의 리드프레임 리드들을 물리적으로 변형시킨 후에, 바이어 내에서 상기 2개의 리드들 사이에 물리적으로 연결시킴으로써 접속이 형성될 수 있다. 그 다음에 바람직한 실시예에서는 2개의 리드프레임 사이를 도전성 용접한다. 이러한 용접은 예를 들어 열, 전기 에너지, 초음파 에너지, 레이저 에너지 및 이와 유사한 에너지를 부가하여 수행될 수 있다. 다른 바람직한 실시예에서, 전기 접점으로 기능하는 도전성 페이스트 같은 도전성 재료를 바이어 내에 제공하고, 열 에너지 또는 전기 에너지를 사용하여 연결을 완성함으로써 상기 2개의 리드프레임 간에 전기 접속이 이루어질 수 있다.Particular leads of the first leadframe and the second leadframe are preferably electrically connected via vias in the insulator. This teaching of the present invention allows the electrical connection of the first integrated circuit die and the second integrated circuit die at any location using equipment that electrically connects the two leadframes through the insulator. In a first preferred embodiment, a connection is formed by physically deforming the leadframe leads of the first and second leads into spaces in the vias in the insulator, and then physically connecting between the two leads in the vias. Can be. Next, in a preferred embodiment, conductive welding is carried out between the two lead frames. Such welding can be performed, for example, by adding heat, electrical energy, ultrasonic energy, laser energy and the like. In another preferred embodiment, an electrical connection can be made between the two leadframes by providing a conductive material, such as a conductive paste, that serves as an electrical contact, in the via and completing the connection using thermal or electrical energy.

다른 바람직한 실시예에서, 상기 절연체는 초기에는 모든 방향으로 절연체로서 기능하나, 압력 또는 열 에너지 또는 압력 및 열 에너지 양방이 절연체에 가해질 때에 평면 방향으로는 절연체를 유지하면서도 수직 방향으로는 선택적으로 도전성으로 되는 이방성 전도성 재료로 제조될 수 있다. 일반적으로, 바이어는 절연체의 상부 표면에 인접한 도체와 절연체의 하부 표면에 인접한 도체 사이에 전기 전도가 이루어지는 영역이다.In another preferred embodiment, the insulator initially functions as an insulator in all directions, but is selectively conductive in the vertical direction while maintaining the insulator in the planar direction when both pressure or heat energy or pressure and heat energy is applied to the insulator. Can be made of an anisotropic conductive material. In general, a via is an area in which electrical conduction occurs between a conductor adjacent the top surface of the insulator and a conductor adjacent the bottom surface of the insulator.

집적회로 다이들은 집적회로 다이들이 백-투-백 방식으로 되도록 절연체의 양쪽 표면을 덮도록 위치할 수 있다. 본 발명에 의해 절연체를 통해 전기적 접속을 형성하는 방법은 2개의 소자들의 터미널들이 임의로 접속되도록 하기 때문에, 종래의 백-투-백 방식의 배열과는 달리, 본 발명을 실시하는 데에는 미러 대칭의 다이가 필요하지 않는다. 일부 선행 기술에 따른 패키지에서와 같이 2개의 집적회로 다이들의 터미널들이 정렬되거나 미러 대칭일 것을 요하지 않는다.Integrated circuit dies may be positioned to cover both surfaces of the insulator such that the integrated circuit dies are in a back-to-back manner. Unlike the conventional back-to-back arrangement, the method of forming an electrical connection through the insulator by the present invention allows the terminals of the two elements to be arbitrarily connected, thus implementing a mirror symmetric die in the practice of the present invention. Is not necessary. As in some prior art packages, the terminals of the two integrated circuit dies do not require alignment or mirror symmetry.

또한, 일부 실시예에서의 집적회로 다이는, 다수 개의 동일한 집적회로 다이들을 서로 연결하여 대형의 패키지형 장치로 만들 수 있는 DRAM, EEPROM, FLASH 또는 기타 동적 메모리 소자 또는 비휘발성 메모리 소자용의 동일한 집적회로 다이일 수 있다. 다른 바람직한 실시예에서, 상기 다이들은 메모리 제어기, 메모리 소자, 아날로그 회로 및 디지털 기기, 센서 및 제어기기 및 이와 유사한 것과 같이 서로 다른 기능을 구비해서 최종 패키지형 기기 내에서 통합된 기능을 제공할 수 있다.In addition, the integrated circuit die in some embodiments may be the same integrated for DRAM, EEPROM, FLASH or other dynamic memory devices or non-volatile memory devices that can connect multiple identical integrated circuit dies together to form a large packaged device. It may be a circuit die. In other preferred embodiments, the dies may have different functions, such as memory controllers, memory devices, analog circuits and digital devices, sensors and controllers, and the like, to provide integrated functionality within the final packaged device. .

대안적인 바람직한 실시예에서, 본 발명은 선택된 위치에 형성되어 있는 바이어를 구비하는 절연체, 절연체의 일 표면을 덮고 있는 제1 리드프레임, 절연체의 다른 표면을 덮고 있는 제2 리드프레임, 공지의 플립 칩 기술에 의해 제1 리드프레임에 연결되어 있는 제1 집적회로를 제공하며, 집적회로 본드 패드가 이미 형성되어 있는 솔더의 패드 또는 볼과 소망하는 리드들과 물리적으로 근방인 위치하고, 그런 다음에 에너지를 사용하여 리플로우하여 다이 패드와 리드의 내부 사이에 기구적이고 전기적인 연결을 형성하고; 제2 집적회로가 이와 유사하게 플립 칩 기술을 사용하여 제2 리드프레임에 연결되고, 소자가 완성되기 전에 절연체 내의 바이어를 통해 제1 집적회로와 제2 집적회로 사이에 전기적 연결이 이루어진다. 상기 바람직한 실시예에서 제1 다이와 제2 다이는 모두 플립 칩 기술을 사용하여 리드프레임에 연결되어 있기 때문에, 집적회로 소자들은 페이스-투-페이스 방식으로 배열될 수 있다.In an alternative preferred embodiment, the invention provides an insulator with vias formed in selected positions, a first leadframe covering one surface of the insulator, a second leadframe covering another surface of the insulator, a known flip chip. Technology to provide a first integrated circuit connected to a first leadframe, the circuit being located physically close to a pad or ball of solder and desired leads, in which an integrated circuit bond pad has already been formed, and then energy Reflow to form a mechanical and electrical connection between the die pad and the interior of the lid; The second integrated circuit is similarly connected to the second leadframe using flip chip technology, and electrical connections are made between the first integrated circuit and the second integrated circuit through vias in the insulator before the device is completed. In the preferred embodiment, since both the first die and the second die are connected to the leadframe using flip chip technology, the integrated circuit elements can be arranged in a face-to-face manner.

본 발명의 범위 내에 포함되며 첨부된 청구항에 포함되어 있는 선택적인 실시예는 플립 칩 연결과 와이어 본딩 연결을 조합함으로써, 예를 들면, 플립 칩 기술을 사용하여 하나의 다이가 제1 리드프레임에 연결되고, 와이어 본딩에 의해 제2 다이가 제2 리드프레임에 연결될 수 있다.An alternative embodiment, which is included within the scope of the present invention and contained in the appended claims, combines a flip chip connection and a wire bonding connection, such that one die is connected to the first leadframe using, for example, flip chip technology. The second die may be connected to the second leadframe by wire bonding.

다른 바람직한 실시예에서, 본 발명의 방법 및 패키징 장치를 사용하여 제조되는 이동형 저장 카드로서; 선택된 위치에 형성되어 있는 바이어를 구비하는 절연체, 절연체를 덮도록 위치하며 일부 리드들이 상기 절연체 내의 바이어를 덮고 있는 제1 리드프레임, 상기 제1 리드프레임 근방에 위치하며 비휘발성 집적회로와 리드프레임 간에 적어도 하나의 전기적 접점이 형성되는 제1 집적회로, 절연체의 바이어를 덮고 있는 일부 리드를 구비하며 절연체의 반대쪽 표면을 덮도록 위치하고 있는 제2 리드프레임 근방에 제2 집적회로가 제공되어 있고, 상기 제2 집적회로는 비휘발성 메모리 소자를 동작하는 제어기 회로이며, 상기 제2 집적회로는 제2 리드프레임에 전기적으로 연결되어 있다.In another preferred embodiment, a removable storage card manufactured using the method and packaging apparatus of the present invention; An insulator having vias formed in a selected position, a first leadframe positioned to cover the insulator, wherein some leads are covering the vias in the insulator, and located near the first leadframe and between the nonvolatile integrated circuit and the leadframe A first integrated circuit in which at least one electrical contact is formed, a second integrated circuit is provided in proximity to a second leadframe having some leads covering the vias of the insulator and positioned to cover the opposite surface of the insulator. The second integrated circuit is a controller circuit for operating a nonvolatile memory device, and the second integrated circuit is electrically connected to the second leadframe.

본 발명의 방법을 사용하여 절연체 내의 바이어를 통해 제1 리드프레임과 제2 리드프레임 사이에 전기적 연결이 형성됨으로써, 메모리 제어기 회로와 비휘발성 메모리 사이에 전기적 연결이 형성된다. 절연체, 제1 집적회로 및 제2 집적회로 및 제1 리드프레임 부분과 제2 리드프레임 부분을 봉지하거나 오버몰딩하여 저장 카드가 완성되며, 제1 및 제2 리드프레임의 나머지 외곽부는 완성된 저장 카드가 외부와 연결되는 데에 사용된다.Using the method of the present invention, an electrical connection is made between the first leadframe and the second leadframe through the vias in the insulator, thereby forming an electrical connection between the memory controller circuit and the nonvolatile memory. The storage card is completed by sealing or overmolding the insulator, the first integrated circuit and the second integrated circuit, and the first leadframe portion and the second leadframe portion, and the remaining outer portions of the first and second leadframes are completed storage cards. Is used to connect to the outside.

보다 유리하게는, 본 발명의 바람직한 실시예에 사용되는 절연체는 공지되어 있는 다양한 소재들을 사용할 수 있다. 절연체 내에 또는 절연체 위에 전기적 연결, 복잡한 다층 루팅 또는 금속피복 패턴을 필요로 하지 않기 때문에, 상기 절연체로는 절연체 내에 형성되어 있는 관통홀 바이어를 구비하고 있으며 제1 리드프레임과 제2 리드프레임을 전기적으로 절연하는 어떠한 재료도 사용될 수 있다. 플라스틱, 유리, 세라믹, 유리섬유, 수지, PC 보드, 테이프, 필름, 종이 및 기타 절연체가 사용될 수 있다. 화학 에칭, 포토리소그래피, 레이저 드릴링 또는 기계적 드릴링 공정으로 바이어를 형성할 수 있다. 바이어가 형성되어 있는 절연체를 형성하기 위해 플라스틱 또는 수지 성형이 사용될 수 있다. 절연체는 다양한 두께 및 원하는 바에 따라 강성(rigid) 재료 또는 가요성 재료로 제작될 수 있다. 패키지형 소자를 완성하기 위해 절연체는 오버몰딩될 수 있고, 선택적으로는 절연체, 집적회로 및 리드프레임 어셈블리를 쉘의 공동 내에 또는 예비성형된 바디 구조체 내에 위치시킨 후에 덮개 또는 층을 사용하여 접착제 또는 밀봉제로 밀봉할 수 있다.More advantageously, the insulator used in the preferred embodiment of the present invention may use a variety of known materials. The insulator has through-hole vias formed in the insulator and does not require electrical connections, complex multilayer routing or metallization patterns in or on the insulator and electrically connects the first lead frame and the second lead frame. Any material that insulates may be used. Plastics, glass, ceramics, fiberglass, resins, PC boards, tapes, films, paper and other insulators can be used. The vias may be formed by chemical etching, photolithography, laser drilling or mechanical drilling processes. Plastic or resin molding may be used to form the insulators in which the vias are formed. The insulator can be made of a rigid material or a flexible material as desired and of various thicknesses. Insulators may be overmolded to complete a packaged device, optionally with an insulator, integrated circuit, and leadframe assembly placed in a cavity of the shell or in a preformed body structure, followed by adhesive or sealing with a cover or layer It can seal zero.

다른 바람직한 실시예에서, 집적 시스템은 절연체의 양쪽 위에 다중 집적회로 다이를 통합한 단일 패키지로 제공될 수 있다. 상기 다중 다이는 절연체 내의 바이어를 통해 집적회로 사이에서 임의의 접속을 형성하도록 연결되어 있는 리드프레임에 와이어 본딩되어 있다. 상기 시스템용 패키지형 어셈블리는 레지스터, 커패시터 또는 인턱터 같은 수동 소자를 포함한다. 어셈블리 전체는 본 발명의 방법을 사용하여 오버몰딩되어 패키지형 시스템으로 완성된다.In another preferred embodiment, the integrated system may be provided in a single package incorporating multiple integrated circuit dies on both sides of the insulator. The multiple die is wire bonded to a leadframe that is connected to form any connection between integrated circuits through vias in the insulator. The packaged assembly for the system includes passive elements such as resistors, capacitors or inductors. The entire assembly is overmolded using the method of the present invention to complete the packaged system.

본 발명의 실시예의 이점은, 기존의 자동화 반도체 패키징 인프라스트럭쳐와 호환되는 재료를 사용하며, 통상적인 와이어 본딩 또는 플립 칩 기술과, 기존의 툴링과 호환될 수 있는 패키지 몰딩 방법을 사용하여 선행 기술의 복잡한 인터포저, 가요성 회로, 라미네이트 또는 패턴형 인쇄회로기판을 필요로 하지 않으면서 서로에 대해 전기적으로 연결될 수 있는 다중 집적회로 소자를 포함하는 다중 집적회로 모듈을 형성하는 방법 및 장치를 제공하는 것을 포함한다.An advantage of embodiments of the present invention is the use of materials compatible with existing automated semiconductor packaging infrastructure, using conventional wire bonding or flip chip techniques, and package molding methods that are compatible with existing tooling. To provide a method and apparatus for forming a multiple integrated circuit module comprising multiple integrated circuit elements that can be electrically connected to one another without the need for complex interposers, flexible circuits, laminates or patterned printed circuit boards. Include.

전술한 기재 사항은 후속되는 본 발명의 상세한 설명이 좀 더 잘 이해되도록 하기 위해 본 발명의 실시예의 특징과 기술적 이점을 개괄적으로 기재한 것이다. 당업자라면 개시되어 있는 특정 실시예과 개념이 본 발명과 동일한 목적을 달성하도록 공정이나 다른 구조체의 설계나 변조의 기초로 용이하게 사용될 수 있다는 점을 알 수 있을 것이다. 당업자라면 그러한 균등물들이 첨부되어 있는 청구범위에 개시되어 있는 본 발명의 범위와 사상으로부터 벗어나지 않는다는 것을 인지해야 한다.The foregoing descriptions outline the features and technical advantages of embodiments of the present invention in order that the detailed description of the invention that follows may be better understood. Those skilled in the art will recognize that the specific embodiments and concepts disclosed can be readily used as a basis for the design or modulation of processes or other structures to achieve the same purposes as the present invention. Those skilled in the art should recognize that such equivalents do not depart from the scope and spirit of the invention as set forth in the appended claims.

본 발명과 본 발명의 이점을 좀 더 완벽하게 이해할 수 있도록 하기 위해, 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 다만, 첨부된 도면은 이해를 용이하게 하기 위한 것으로서 축척에 맞추어 도시된 것은 아니다.In order to more fully understand the present invention and its advantages, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the accompanying drawings are for ease of understanding and are not drawn to scale.

도 1은 종래 기술에 의한 분리 가능한 저장 카드 패키지를 도시하며, 도 1a는 그 평면도, 도 1b는 저면도이다.1 shows a detachable storage card package according to the prior art, in which FIG. 1A is a plan view thereof and FIG. 1B is a bottom view.

도 2는 메모리 소자와 제어 소자를 포함하는, 도 1에 도시한 것과 같이 종래 기술에 의한 이동형 저장 카드의 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of a removable storage card according to the prior art as shown in FIG. 1, including a memory element and a control element.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 통합될 수 있는, 관통홀 바이어를 구비하는 절연체의 평면도이다.3 is a plan view of an insulator having through-hole vias, which may be incorporated into a preferred embodiment of the present invention.

도 4는 도 3의 절연체의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of the insulator of FIG. 3.

도 5는 절연체 위에 위치하는 리드프레임과 집적회로를 구비하는 도 3 및 도 4에 도시한 절연체의 평면도이다.FIG. 5 is a plan view of the insulator shown in FIGS. 3 and 4 having a lead frame and an integrated circuit positioned over the insulator.

도 6은 후속하는 추가의 공정 단계를 거친 도 5의 소자의 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view of the device of FIG. 5 undergoing further processing steps.

도 7a 및 도 7b는 본 발명의 절연체의 추가의 바람직한 실시예의 단면도이다.7A and 7B are cross-sectional views of a further preferred embodiment of the insulator of the present invention.

도 8은 본 발명의 바람직한 실시예로서, 완성된 패키지형 소자의 단면도이다.8 is a cross-sectional view of a completed packaged device as a preferred embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 도 8의 소자와는 다른 바람직한 실시예로서, 완성된 패키지형 소자의 단면도이다.9 is a cross-sectional view of a completed packaged device as another preferred embodiment of the device of FIG. 8 of the present invention.

도 10은 도 9의 소자의 평면도이다.10 is a plan view of the device of FIG.

도 11은 본 발명의 또 다른 실시예로서, 또 다르게 완성된 패키지형 소자의 단면도이다.11 is a cross-sectional view of another completed packaged device as another embodiment of the present invention.

각기 다른 도면에서 서로 대응하는 도면부호와 심볼은 특별히 지적하지 않는 경우 외에는 서로 대응하는 부분을 지칭하는 것이다. 상기 도면들은 바람직한 실시예의 관련된 태양을 명확하게 설명하기 위한 것으로, 축척에 맞추어서 도시한 것은 아니다.Reference numerals and symbols corresponding to each other in different drawings refer to corresponding parts unless otherwise indicated. The drawings are intended to clearly illustrate related aspects of the preferred embodiments and are not drawn to scale.

이하에서 바람직한 실시예들의 공정과 제조를 상세하게 설명한다. 그러나, 개시되어 있는 실시예들과 예들이 본 발명을 실시하는 데에만 적용되는 것은 아니다. 언급하고 있는 특정 실시예들은 본 발명을 실시하는 특정 방식을 단지 설명하기 위한 것이고, 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니다. 도면들은 설명용으로서 축척에 맞는 것은 아니다.Hereinafter, the process and manufacture of the preferred embodiments will be described in detail. However, the disclosed embodiments and examples are not only applicable to the practice of the present invention. The specific embodiments mentioned are merely illustrative of specific ways of carrying out the invention and do not limit the scope of the invention. The drawings are not to scale, for illustrative purposes.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 사용되는 절연체(300)의 평면도이다. 상기 절연체(300)는, 당 업계에서 공지되어 있는 밀라(Mylar), 유필렉스(Upilex), 캡톤(Kapton), 기타 필름, 절연종이, 수지, 폴리이미드, 글라스, 유리섬유 및 기타 재료와 같이 반도체 공정 단계에서 호환될 수 있는 많은 절연 재료들 중에서의 어느 재료를 포함할 수 있다. 절연체(300)는 전기적으로 절연하고, 트랜스퍼 성형과 같은 특정한 열적 공정에서 호환 사용될 수 있는 물리적 특성을 갖는 것이 바람직하다. 절연체에는 이하에서 상세하게 설명하는 바와 같은 소정의 위치에 관통홀 바이어(301)가 형성되어 있어서, 절연체(300) 내에 관통-홀을 제공한다. 상기 관통홀 바이어는 임의의 크기일 수 있으나, 바람직한 실시예에서는 직경이 약 3~10 밀스(mil), 바람직하게는 약 5 밀이다. 이하에 개시되어 있는 제1 바람직한 실시예에서, 바이어(via)들은 개방된 관통홀이고, 다른 바람직한 실시예에서는 상기 바이어들은 전도성 페이스트 또는 접착제로 채워질 수 있다.3 is a plan view of an insulator 300 used in the preferred embodiment of the present invention. The insulator 300 is a semiconductor such as Mylar, Upilex, Kapton, other films, insulating papers, resins, polyimides, glass, glass fibers and other materials known in the art. It can include any of a number of insulating materials that are compatible in the process step. Insulator 300 preferably has physical properties that are electrically insulated and that can be used interchangeably in certain thermal processes, such as transfer molding. The insulator is formed with a through hole via 301 at a predetermined position, as described in detail below, to provide a through-hole in the insulator 300. The through-hole vias can be any size, but in a preferred embodiment the diameter is about 3-10 mils, preferably about 5 mils. In a first preferred embodiment disclosed below, the vias are open through holes, and in other preferred embodiments the vias may be filled with a conductive paste or adhesive.

도 4는 도 3의 절연체의 단면도이다. 도 4에서, 관통홀 바이어(301)들은 절연체(300)를 관통하여 연장되어 있음을 알 수 있다. 관통홀 바이어(301)는 예를 들어, 레이저 드릴링, 기계적 드릴링, 에칭, 펀칭 또는 몰딩과 같이 재료 내에 홀을 형성하는 다른 수단에 의해 형성될 수 있다. 당 업계에서 알려져 있는 바와 같이, 홀의 위치와 치수를 획정하기 위한 포지티브 또는 네가티브 레지스트로 표면 전체에 걸쳐 식각 레지스트 층을 패턴하기 의해 포토리소그래피가 사용될 수 있고, 상기 재료를 제거하는 데에 선택적 식각이 활용될 수 있으며, 그리고 나서 패턴층을 세척(strip away)한다.4 is a cross-sectional view of the insulator of FIG. 3. In FIG. 4, it can be seen that the through hole vias 301 extend through the insulator 300. The through hole vias 301 may be formed by other means for forming holes in the material, such as, for example, laser drilling, mechanical drilling, etching, punching or molding. As is known in the art, photolithography can be used by patterning an etch resist layer across the surface with a positive or negative resist to define the location and dimension of the hole, and selective etching is utilized to remove the material. And then strip away the pattern layer.

도 5는 여러 조립 단계가 완료된, 본 발명의 바람직한 실시예의 평면도이다. 도 5에서, 절연체(300)는 선택된 위치에 관통홀 바이어(301)가 형성되어 있다. 리드프레임에는 리드(502)가 형성되어 있고, 일부 리드는 관통홀 바이어(301) 위에 놓여져 있다. 집적회로 다이(303)가 리드(502)의 내부 근방에 위치하고 있다. 본드 패드(507)를 리드(502)에 전기적으로 연결하는 본드 와이어(505)가 형성되어 있다. 도 5에는 도시되어 있지 않지만, 절연체(300)의 반대쪽 표면 위에 제2 리드프레임과 제2 집적회로를 위치시키는 동일한 공정이 수행되었다. 제2 리드프레임의 일부 리드는 관통홀 바이어(301) 아래에 위치하고 있다.5 is a plan view of a preferred embodiment of the present invention, in which several assembly steps have been completed. In FIG. 5, the insulator 300 has a through hole via 301 formed at a selected position. A lead 502 is formed in the lead frame, and some leads are placed on the through hole vias 301. An integrated circuit die 303 is located near the interior of the lid 502. Bond wires 505 are formed to electrically connect the bond pads 507 to the leads 502. Although not shown in FIG. 5, the same process was performed to position the second leadframe and the second integrated circuit on the opposite surface of the insulator 300. Some leads of the second leadframe are positioned under the through hole vias 301.

도 6은 중간 조립 단계에 있는, 본 발명의 바람직한 실시예의 단면도이다. 도 6에서, 집적회로 다이(303)가 절연체(300)의 제1 표면 위에 위치하고 있음을 알 수 있다. 단면도에서 리드프레임 리드(502)가 보이고, 집적회로 다이의 본드 패드를 리드프레임 리드(502)에 연결하는 본드 와이어(505)가 보인다. 관통홀 바이어(301)가 절연체(300) 내의 선택된 위치에 형성되어 있음을 알 수 있다.6 is a cross-sectional view of a preferred embodiment of the present invention in an intermediate assembly step. In FIG. 6, it can be seen that the integrated circuit die 303 is located above the first surface of the insulator 300. A cross sectional view of a leadframe lead 502 is shown and a bond wire 505 connecting the bond pad of the integrated circuit die to the leadframe lead 502. It can be seen that the through hole via 301 is formed at a selected position in the insulator 300.

리드프레임(601)은 절연체(300)의 아래쪽에 위치하고 있고, 관통홀 바이어(301)의 아래쪽에서 연장되어 있다. 집적회로 다이(604)가 본드 패드(603)에서 리드프레임(601)까지 본드 와이어(605)를 통해 연결되어 있다.The lead frame 601 is positioned below the insulator 300 and extends below the through hole via 301. Integrated circuit die 604 is connected via bond wire 605 from bond pad 603 to leadframe 601.

도 6에 도시한 바와 같이, 리드프레임 리드들은 관통홀 바이어(301)에서 상기 절연체를 관통하여 서로 결합하여 물리적으로 및 전기적으로 결합된다. 도 6에서, 용접툴(607)을 사용하여 관통홀 바이어(301)에서 리드(502)와 리드(602)를 압박하여 변형시키고, 에너지를 인가하여 상기 두 개의 리드가 서로 용접되도록 한다. 용접부를 형성하기 위해 초음파, 전기 및/또는 열 에너지가 사용될 수 있고, 전기 저항 용접, 용량 방전(capacitive discharge), 또는 레이저 용접을 포함하는 방법도 고려될 수 있다. 일부 실시예에서, 리드프레임 리드들은 용접부 형성을 보조하기 위해 조립되기 전에 스폿 도금 또는 기타 방법으로 재료로 피복될 수 있다. 이러한 결합 공정은 각각의 관통홀 바이어(301)에서 수행된다. 리드프레임과 절연체(300)를 적절하게 디자인함으로써, 도 5 및 도 6에 도시한 바와 같이 두 개의 집적회로 사이의 원하는 임의의 지점에 전기 접점이 형성될 수 있다.As shown in FIG. 6, the leadframe leads are physically and electrically coupled to each other through the insulator in the through hole via 301. In FIG. 6, the lead 502 and the lead 602 are pressed and deformed in the through hole via 301 using the welding tool 607, and the two leads are welded to each other by applying energy. Ultrasonic, electrical and / or thermal energy may be used to form the welds, and methods including electrical resistance welding, capacitive discharge, or laser welding may also be considered. In some embodiments, leadframe leads may be coated with a material by spot plating or other methods prior to assembly to aid in weld formation. This coupling process is performed in each through hole via 301. By properly designing the leadframe and insulator 300, electrical contacts can be formed at any desired point between the two integrated circuits, as shown in FIGS.

바람직한 실시예에서, 초기에는 절연체에 홀이 형성되어 있지 않고, 리드프레임들이 서로 대향하게 양 측면에 위치하고, 상부 및 하부 리드프레임으로부터 나온 리드들을 결합하고자 하는 위치에, 도 6에서 도면부호 607로 도시한 것과 같은 툴을 사용하여 상부 및 하부 리드프레임 리드들 사이에 용접부를 형성하는 동시에 절연체(300) 내에 관통홀 바이어(301)를 형성한다. 상기 바람직한 실시예에서, 용접툴(607)을 사용하여 하나의 연속적인 공정으로, 연결하고자 하는 지점에 있는 리드에 열과 같은 에너지를 인가하여 그 에너지에 의해 절연 재료를 녹이거나 증발시켜, 절연 재료가 제거되면서 관통홀 바이어(301)가 형성되고, 리드들이 관통홀 바이어(301) 내로 물리적으로 변형되어서 용접된다. 상기 방법에서는 절연체를 위한 디자인 또는 패터닝이 필요하기 않으므로, 절연체의 비용이 매우 감소된다.In a preferred embodiment, initially no holes are formed in the insulator and the leadframes are located on both sides opposite to each other and are shown at 607 in FIG. 6 in a position where the leads from the upper and lower leadframes are to be joined. A tool such as one is used to form a weld between the upper and lower leadframe leads and to form a through hole via 301 in the insulator 300. In this preferred embodiment, the welding tool 607 is used in one continuous process to apply energy, such as heat, to the lead at the point to be connected to melt or evaporate the insulating material by the energy, thereby providing an insulating material. The through hole via 301 is formed while being removed, and the leads are physically deformed and welded into the through hole via 301. The method does not require design or patterning for the insulator, so the cost of the insulator is greatly reduced.

도 7a 및 도 7b는 절연체(300) 내의 관통홀 바이어(301)에서 상부 및 하부 리드프레임 리드들을 연결하는 대안적인 방법을 도시하고 있다. 도 7a는 도전성 재료(705)로 채워져 있는 관통홀 바이어(301)를 구비하고 있는, 본 발명의 패키지에서 사용되는 절연체(300)의 일부를 도시하고 있다. 도전성 페이스트와 같은 도전성 재료가 관통홀 바이어(301) 내에 적층되고, 조립 공정이 진행됨에 따라 도전성 재료가 리드프레임 리드들 사이에 위치하고 있다. 도전성 재료가, 도 6에 도시한 두 개의 집적회로 소자 간의 전기적 연결을 완성한다. 도전성 재료는 당 업계에서 주지되어 있는 방법으로 바이어홀 내에 스크린되는 도전성 페이스트일 수 있고, 또는 예를 들어, 뉴저지의 록키 힐의 파르렉으로부터 파모드 브이엘스(Parmod VLT)른 상품명으로 시판되는 도전성 잉크 재료인 도전성 잉크일 수 있으며, 이들 재료는 스크린 프린팅, 레이저 밀 및 충전(laser mill and filling) 또는 잉크 프린팅 공정으로 부착될 수 있다. 전도 경로를 완성하고, 상기 리드들에 도전성 재료를 물리적으로 접합하기 위해 열 또는 기타 에너지가 인가될 수 있다. 7A and 7B illustrate alternative methods of connecting the upper and lower leadframe leads in the through hole vias 301 in the insulator 300. FIG. 7A shows a portion of the insulator 300 used in the package of the present invention having a through hole via 301 filled with a conductive material 705. A conductive material such as a conductive paste is stacked in the through hole via 301, and as the assembly process proceeds, the conductive material is positioned between the leadframe leads. The conductive material completes the electrical connection between the two integrated circuit elements shown in FIG. The conductive material may be a conductive paste that is screened in the via hole in a manner well known in the art, or may be, for example, a conductive ink sold under the trade name Parmod VLT from Parlek, Rocky Hill, NJ. The material may be a conductive ink, and these materials may be attached by screen printing, laser mill and filling or ink printing process. Heat or other energy may be applied to complete the conductive path and physically bond the conductive material to the leads.

도 7b는 절연체(300)로서 이방성 도전성 재료의 사용을 도시하고 있다. 상기 재료는 초기에는 수평 평면 방향과 수직 방향으로 절연되어 있다. 압력 및/또는 열 또는 기타 에너지를 받아, 도전성 필라멘트를 포함하고 있는 상기 재료가 선택된 영역에서 수직 방향으로 전도성으로 된다. 이에 따라서, 도 7b에서, 상부 리드프레임 하나와 하부 리드프레임인 두 개의 리드프레임 리드들 사이에 놓여있는 지점에 전도 경로가 형성되고, 이러한 전도 경로는 임의로 선택되는 지점에서 리드프레임 리드들을 연결하기 위한 도 5 및 도 6의 관통홀 바이어(301)를 대신하여 사용된다. 미네소타, 세인트폴의 3M사는 이방성 전도체인 압력 반응성 접착 이송 테이프(a pressure sensitive adhesive transfer tape)를 제공하는데, 사용될 수 있는 제품의 예로는 3M Tape 9703이 있다. 도 7b(필름) 또는 도 7a(페이스트)와 같이 실시예에서 사용되는 이방성 필름 및 도전성 페이스트들은 또한 독일의 뒤셀도르프의 헨켈 테크놀로지와 같이 일반 벤더로부터도 구입할 수 있다. 이들 재료들은 다른 필름들과 함께 사용되거나, 단독으로 사용되어 절연체(300)를 형성하게 된다.7B illustrates the use of an anisotropic conductive material as the insulator 300. The material is initially insulated in the horizontal and vertical directions. Under pressure and / or heat or other energy, the material containing the conductive filaments becomes conductive in the vertical direction in the selected area. Accordingly, in FIG. 7B, a conductive path is formed at a point lying between two lead frame leads, one upper lead frame and a lower lead frame, and the conductive path is used to connect the lead frame leads at a randomly selected point. It is used in place of the through hole vias 301 of FIGS. 5 and 6. St. Paul, Minnesota, Inc. provides a pressure sensitive adhesive transfer tape that is anisotropic conductors. An example of a product that can be used is 3M Tape 9703. Anisotropic films and conductive pastes used in the examples, such as FIG. 7B (film) or FIG. 7A (paste), can also be purchased from common vendors, such as Henkel Technologies, Dusseldorf, Germany. These materials may be used in conjunction with other films, or used alone to form the insulator 300.

도 8은 집적회로 다이를 리드프레임에 결합시키는 플립칩 기술을 사용하는 대안적인 바람직한 실시예를 도시하고 있다. 도 8에서, 소자들과 리드프레임들을 보호하며, 절연체(300)의 양쪽 면을 덮고 있는 봉지재(encapsulant)(803)로 패키지(801)가 형성된다. 관통홀 바이어(301)가 절연체(300)에 형성되어 있고, 상술한 바와 같이 상부 및 하부 리드프레임으로부터 리드(502)와 연결되어 있다. 메모리 제어 소자일 수 있는 집적회로 다이(303)는, 집적회로의 다이 패드 위에 솔더 범프, 볼 또는 칼럼을 형성하는 웨이퍼 범핑 공정 또는 공지된 다이를 사용하여 상부 리드프레임에 플립-칩 접합되고, 그런 후에, 솔더 범프된 다이는 리드프레임 리드들의 내부 단부에 정렬되고, "하향 대면"(face down)되게 위치하여 다이 패드가 리드프레임 리드와 결합하고, 열 에너지를 이용하여 솔더를 리플로우 함으로써 리드프레임에의 연결이 완성된다. 이와 유사하게, 예를 들어 플래쉬 메모리 소자같은 비휘발성 메모리일 수 있는 집적회로(809)도 역시 하부 리드프레임에 플립-칩 장착되고, 도면부호 807과 같이 용접부가 형성되어 관통홀 바이어(301)에서 상부 및 하부 리드프레임들이 서로 결합된다. 도 8은 또한 다이들이 서로 동일한 크기 또는 매우 비슷한 크기가 아니더라도, 본 발명에 따라 패키지 내의 두 개 또는 그 이상의 집적회로들 간에 임의의 지점에 접점을 형성시킬 수 있음을 보여주고 있다.8 illustrates an alternative preferred embodiment using flip chip technology to couple an integrated circuit die to a leadframe. In FIG. 8, a package 801 is formed of an encapsulant 803 that protects devices and leadframes and covers both sides of the insulator 300. The through hole via 301 is formed in the insulator 300 and is connected to the lead 502 from the upper and lower lead frames as described above. An integrated circuit die 303, which may be a memory control element, is flip-chip bonded to an upper leadframe using a known bump or wafer bumping process to form solder bumps, balls, or columns on die pads of an integrated circuit, and Afterwards, the solder bumped die is aligned to the inner ends of the leadframe leads, positioned “face down” so that the die pads engage with the leadframe leads and reflow the solder using thermal energy to leadframe The connection to is completed. Similarly, the integrated circuit 809, which may be a nonvolatile memory such as, for example, a flash memory element, is also flip-chip mounted to the lower leadframe, and a weld is formed as shown at 807 in the through-hole via 301. The upper and lower leadframes are coupled to each other. 8 also shows that the dies may form contacts at any point between two or more integrated circuits in a package, even if the dies are not the same size or very similar size to each other.

도 9는, 칩 아래의 리드 또는 상부 및 하부 리드프레임용 "LUC" 리드프레임을 사용하여 와이어 본딩 접속하는 대안적인 바람직한 실시예를 사용한 완성된 패키지(901)를 도시하고 있다. 도 9에서, 리드는 봉지재 경계를 관통해 연장되어서 패키지에 대한 외부 접점을 제공한다. 전술한 바와 같이, 단면에는 절연체(300)의 양쪽에 봉지재(903)를 구비하고 있는 패키지(901)가 도시되어 있고, 다시 상기 봉지재는 집적회로 다이, 리드프레임 및 본드 와이어들이 손상되지 않도록 하고 또한 습기로부터 보호한다. 집적회로 다이(303)는 상부 리드프레임의 리드(502)를 덮도록 제공되고, 테이프 또는 에폭시 다이 부착제(609)를 사용하여 리드프레임에 장착되는 것이 바람직하다. 상부 및 하부 집적회로의 본드 패드(605)는 전술한 바와 같이 와이어 본딩을 사용하여 리드프레임 리드(502)에 와이어 본드 연결되고, 본드 와이어(505)는 리드프레임 리드까지 연장 연결되어 있다. 상부 및 하부 리드프레임 리드를 결합시키는 용접부(807)가 관통홀 바이어(301) 내에 도시되어 있다. 리드(502)는 봉지재 경계를 관통하여 연장되어서 외부 터미널을 형성하여, 예를 들면 소켓 소자를 사용하여 패키지(901)가 외부 접속되도록 한다. 본 실시예에서, 상부 리드프레임으로부터 나오는 리드는 패키지의 어느 한쪽으로 빠져나와 있고, 하부 리드프레임으로부터 나온 리드는 패키지의 다른 한쪽으로 빠져나와 있다. FIG. 9 shows a completed package 901 using an alternative preferred embodiment of wire bonding connections using a lead under chip or " LUC " leadframes for upper and lower leadframes. In FIG. 9, the leads extend through the encapsulant boundary to provide external contacts for the package. As described above, a package 901 having encapsulant 903 on both sides of the insulator 300 is shown in cross section, which again prevents the integrated circuit die, leadframe and bond wires from being damaged. It also protects from moisture. The integrated circuit die 303 is provided to cover the lid 502 of the upper leadframe and is preferably mounted to the leadframe using a tape or epoxy die attach 609. The bond pads 605 of the upper and lower integrated circuits are wire-bonded to the leadframe leads 502 using wire bonding as described above, and the bond wires 505 extend to the leadframe leads. A weld 807 that joins the upper and lower leadframe leads is shown in the through hole via 301. The lead 502 extends through the encapsulant boundary to form an external terminal such that the package 901 is externally connected using, for example, a socket element. In this embodiment, the leads coming out of the upper leadframe are exited to either side of the package and the leads coming out of the lower leadframe are exiting to the other side of the package.

도 10은 도 9의 패키지(901)의 평면도이다. 절연체(300) 위에는 봉지재(903)가 형성되어 있음을 알 수 있다. 리드(502)가 절연체(300)를 덮고 있으며, 봉지재 영역(902)의 경계를 관통해 연장되어 있음을 알 수 있다. 용접부(807)가 특정 리드(502)의 아래쪽에 형성되어 있는 바이어홀에 놓여 있음을 알 수 있다. 집적회로 다이(303)가 리드(502) 위에 걸쳐서 위치하고 있어서 리드프레임은 LUC 또는 칩 배열 아래의 리드이고, 상기 다이는 테이프 또는 에폭시로 부착되어 지지될 수 있다. 집적회로 위의 본드 패드는 본드 와이어(505)에 의해 리드프레임 리드(520)에 결합되어 있다. 상기 도면에서 보이지는 않지만, 제2의 집적회로와 절연체(300) 아래쪽에 놓여서 용접부(807)에 의해 상부 리드프레임에 연결되어 있는 리드프레임 어셈블리가 있다. FIG. 10 is a plan view of the package 901 of FIG. 9. It can be seen that the encapsulant 903 is formed on the insulator 300. It can be seen that the lead 502 covers the insulator 300 and extends through the boundary of the encapsulant region 902. It can be seen that the weld 807 lies in the via hole formed below the specific lead 502. An integrated circuit die 303 is located over the leads 502 so that the leadframe is a lead under an LUC or chip arrangement, which can be supported by tape or epoxy. The bond pads on the integrated circuit are coupled to the leadframe leads 520 by bond wires 505. Although not shown in the figure, there is a leadframe assembly placed under the second integrated circuit and insulator 300 and connected to the upper leadframe by a weld 807.

도 11은 리드(502)의 일부가 패키지의 일측에서 하향으로 형성되어 있으며, 봉지재(903)가 어셈블리 전체를 둘러싸고는 있지만, 외부와 전기적으로 접속되도록 선택된 리드(502)의 하측 표면(101) 영역이 외부로 노출되어 있는 또 다른 바람직한 실시예를 도시하고 있다. 상기 외부 접속 영역은 도 1에 도시한 바와 같이 위치할 수도 있고, 당 업계에서 주지되어 있는 유사한 패턴으로 될 수도 있다.11 shows a lower surface 101 of a lid 502 selected to be electrically connected to the outside although a portion of the lid 502 is formed downwardly from one side of the package and the encapsulant 903 surrounds the entire assembly. Another preferred embodiment is shown in which the area is exposed to the outside. The external connection area may be located as shown in FIG. 1 or may be of a similar pattern as is well known in the art.

본 발명을 실시하는 방법은 변경될 수 있고, 이들 변경된 실시들도 본 발명의 범위와 청구범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다. 예를 들어, 리드프레임과 절연체(300)는 예비-성형된 어셈블리로 함께 조립될 수 있고, 대응하는 리드프레임, 와이어 본딩 또는 플립-칩 커플링 근방에 위치하는 집적회로 다이들을 사용하여 상기 다이에의 접속을 완성한 후에 오버몰딩 또는 글럽탑 봉지(glop top encapsulation)가 수행될 수 있다. 선택적으로, 리드프레임은 스트립 형태로 제공될 수 있고, 집적회로 다이들이 위치하고, 와이어 본딩 또는 플립-칩 공정을 수행하여 접착제 또는 테이프를 사용하거나 접착제 또는 테이프를 사용하지 않고서 집적회로를 리드프레임에 연결할 수 있고; 리드프레임 어셈블리가 절연체(300)의 대향하는 표면 각각의 위에 위치하고, 사전에 절연체(300)를 패터닝하여 관통홀 바이어(301)를 형성시키고, 그런 다음 용접, 전도성 페이스트 또는 솔더, 또는 전술한 이방성 도전성 연결부를 사용에 의해 리드프레임들을 결합시킨다. 최종적으로, 완성된 어셈블리를 오버몰딩 또는 글럽탑 봉지하여 패키지를 완성한다. 전술한 바와 같이, 절연체(300)는 그 절연체 내에 관통홀 바이어(301)가 없는 또 다른 방식으로 제공될 수 있고, 툴링을 사용하여 절연체(300) 내에 관통홀 바이어(301)를 형성하는 동시에 용접할 수도 있다.The method of practicing the present invention may be changed, and such modified embodiments should be regarded as falling within the scope and claims of the present invention. For example, the leadframe and insulator 300 may be assembled together in a pre-molded assembly and may be integrated into the die using integrated circuit dies located near corresponding leadframes, wire bonding or flip-chip couplings. After completion of the overmolding or glop top encapsulation may be performed. Optionally, the leadframe may be provided in the form of a strip, in which the integrated circuit dies are located, performing a wire bonding or flip-chip process to connect the integrated circuit to the leadframe with or without adhesive or tape. Can; A leadframe assembly is positioned on each of the opposing surfaces of the insulator 300 and previously patterned the insulator 300 to form the through hole vias 301 and then welded, conductive paste or solder, or the anisotropic conductive described above. Join the leadframes by using a connection. Finally, the finished assembly is overmolded or glove-top sealed to complete the package. As described above, the insulator 300 may be provided in another manner without the through hole vias 301 in the insulator, and the tooling is used to simultaneously form the through hole vias 301 in the insulator 300. You may.

본 발명의 특정의 바람직한 실시예와 그 실시예들의 이점을 명세서에 상세하 게 기재하고 있지만, 첨부된 청구범위에 개시되어 있는 본 발명의 사상과 범위를 벗어나지 않으면서도 많은 변경, 치환 및 교환이 될 수 있다는 점을 명심해야 한다. 또한, 본 출원의 범위는 본 명세서에 개시되어 있는 특정 실시예의 회로, 구조, 방법 및 단계로 한정되지 않는다. 이에 따라, 첨부된 청구범위는 본 발명에서 사용하는 공정, 장비, 제조, 물질 조성, 수단, 방법 또는 단계의 범위를 포함하기 위한 것이고, 본 발명을 이용하는 변형 실시예들은 당업자에게는 자명한 것이다.While certain preferred embodiments of the present invention and the advantages thereof are described in detail in the specification, many modifications, substitutions, and exchanges can be made without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the appended claims. Keep in mind that you can. In addition, the scope of the present application is not limited to the circuits, structures, methods, and steps of specific embodiments disclosed herein. Accordingly, the appended claims are intended to cover the scope of processes, equipment, manufacture, material compositions, means, methods, or steps used in the present invention, and modifications that utilize the present invention will be apparent to those skilled in the art.

Claims (27)

제1 표면, 상기 제1 표면과 반대쪽에 있는 제2 표면, 및 사전에 미리 결정된 위치에 형성되어 있는 하나 또는 그 이상의 관통홀 바이어를 구비하는 절연체;An insulator having a first surface, a second surface opposite the first surface, and one or more through hole vias formed in a predetermined position; 다수 개의 리드를 갖고 있으며 적어도 부분적으로 상기 제1 표면을 덮고 있는 제1 리드프레임;A first leadframe having a plurality of leads and at least partially covering the first surface; 상기 제1 리드프레임의 다수 개의 리드들 중 적어도 하나의 리드 근방에 위치하여 전기적으로 연결되어 있는 제1 집적회로 다이;A first integrated circuit die positioned near and electrically connected to at least one of the plurality of leads of the first leadframe; 다수 개의 리드를 갖고 있으며 적어도 부분적으로 상기 제2 표면을 덮고 있는 제2 리드프레임;A second leadframe having a plurality of leads and at least partially covering the second surface; 상기 제2 리드프레임의 다수 개의 리드들 중 적어도 하나의 리드 근방에 위치하여 전기적으로 연결되어 있는 제2 집적회로 다이를 포함하는 다중 다이 반도체 패키지에 있어서,A multi-die semiconductor package comprising a second integrated circuit die positioned near and electrically connected to at least one of the plurality of leads of the second lead frame. 상기 제1 리드프레임의 상기 다수 개의 리드들 중 적어도 하나의 리드가 상기 절연체 내의 관통홀 바이어들 중 어느 하나의 관통홀 바이어를 통해 상기 제2 리드프레임의 상기 다수 개의 리드들 중 대응하는 하나의 리드에 전기적으로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.At least one lead of the plurality of leads of the first leadframe is the corresponding one of the plurality of leads of the second leadframe through the through hole via of any one of the through hole vias in the insulator. And a multi-die semiconductor package electrically connected thereto. 제1항에 있어서, 상기 절연체, 상기 제1 집적회로 다이, 상기 제2 집적회로 다이, 상기 제1 리드프레임 및 상기 제2 리드프레임을 적어도 부분적으로 봉지(encapsulating)하는 봉지재를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.The semiconductor device of claim 1, further comprising an encapsulant that encapsulates the insulator, the first integrated circuit die, the second integrated circuit die, the first leadframe, and the second leadframe at least partially. Multi-die semiconductor package, characterized in that. 제1항에 있어서, 상기 제1 집적회로 다이와 상기 제2 집적회로 다이는 동일한 집적회로 다이인 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.The multi-die semiconductor package of claim 1, wherein the first integrated circuit die and the second integrated circuit die are the same integrated circuit die. 제1항에 있어서, 상기 제1 집적회로 다이와 상기 제2 집적회로 다이는 각각 제어기 집적회로와 메모리 어레이 집적회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.2. The multi-die semiconductor package of claim 1, wherein the first integrated circuit die and the second integrated circuit die each comprise a controller integrated circuit and a memory array integrated circuit. 제4항에 있어서, 상기 메모리 어레이 집적회로는 비휘발성 메모리 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.5. The multiple die semiconductor package of claim 4, wherein the memory array integrated circuit comprises a nonvolatile memory device. 제1항에 있어서, 상기 제1 집적회로 다이와 상기 제2 집적회로 다이는 각각 본드 와이어에 의해 제1 리드프레임과 제2 리드프레임에 전기적으로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.The multi-die semiconductor package of claim 1, wherein the first integrated circuit die and the second integrated circuit die are electrically connected to the first lead frame and the second lead frame by bond wires, respectively. 제1항에 있어서, 상기 제1 집적회로 다이와 상기 제2 집적회로 다이는 각각 플립 칩 연결에 의해 제1 리드프레임과 제2 리드프레임에 전기적으로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.The multi-die semiconductor package of claim 1, wherein the first integrated circuit die and the second integrated circuit die are electrically connected to the first lead frame and the second lead frame by flip chip connections, respectively. 제6항에 있어서, 상기 제1 집적회로 다이와 상기 제2 집적회로 다이는 백-투-백(back-to-back) 방식으로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.The multi-die semiconductor package of claim 6, wherein the first integrated circuit die and the second integrated circuit die are arranged in a back-to-back manner. 제7항에 있어서, 상기 제1 집적회로 다이와 상기 제2 집적회로 다이는 페이스-투-페이스(face-to-face) 방식으로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.8. The multi-die semiconductor package of claim 7, wherein the first integrated circuit die and the second integrated circuit die are arranged in a face-to-face manner. 제1항에 있어서, 상기 관통홀 바이어가 도전성 재료로 채워져서 상기 제1 리드프레임의 적어도 하나의 리드와 물리적으로 접촉하고 있는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.The multi-die semiconductor package of claim 1, wherein the through-hole via is filled with a conductive material and is in physical contact with at least one lead of the first leadframe. 제1항에 있어서, 상기 절연체는 상기 하나 또는 그 이상의 관통홀 바이어 위치에 이방성 도전성 재료를 포함하고, 상기 이방성 도전성 재료가 사전에 미리 결정된 하나 또는 그 이상의 위치에서 도전성으로 됨으로써 전기적 접속이 형성되는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.The insulator of claim 1, wherein the insulator comprises an anisotropic conductive material at the one or more through-hole via locations, and wherein the anisotropic conductive material is conductive at a predetermined one or more predetermined positions to form an electrical connection. Multi die semiconductor package. 제1항에 있어서, 상기 제1 리드프레임 및 제2 리드프레임 각각의 적어도 하나의 리드가 상기 절연체에서 적어도 하나의 상기 관통홀 바이어 내에서 서로 물리적으로 용접되어 있는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.The multi-die semiconductor package of claim 1, wherein at least one lead of each of the first lead frame and the second lead frame is physically welded to each other in the at least one through hole via in the insulator. 제12항에 있어서, 상기 제1 리드프레임 및 제2 리드프레임 각각의 적어도 하나의 리드가 상기 리드들이 서로 용접되는 관통홀 내로 변형되어 들어가는 것을 특징으로 하는 다중 다이 반도체 패키지.The multi-die semiconductor package of claim 12, wherein at least one lead of each of the first lead frame and the second lead frame is deformed into a through hole through which the leads are welded to each other. 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법으로서,A method of manufacturing a multi die integrated circuit package, 제1 표면과, 상기 제1 표면과 반대쪽에 있는 제2 표면을 구비하는 절연체를 준비하는 단계;Preparing an insulator having a first surface and a second surface opposite the first surface; 상기 절연체 내의 소망하는 위치에 하나 또는 그 이상의 관통홀 바이어를 형성하는 단계;Forming one or more through hole vias in a desired position in the insulator; 상기 제1 표면을 적어도 부분적으로 덮는 다수 개의 리드들을 구비하는 제1 리드프레임을 준비하는 단계;Preparing a first leadframe having a plurality of leads at least partially covering the first surface; 상기 제2 표면을 적어도 부분적으로 덮는 다수 개의 리드들을 구비하는 제2 리드프레임을 준비하는 단계;Preparing a second leadframe having a plurality of leads at least partially covering the second surface; 제1 집적회로 다이를 상기 제1 리드프레임의 적어도 하나의 리드에 연결하는 단계;Coupling a first integrated circuit die to at least one lead of the first leadframe; 제2 집적회로 다이를 상기 제2 리드프레임의 적어도 하나의 리드에 연결하는 단계;Coupling a second integrated circuit die to at least one lead of the second leadframe; 상기 제1 리드프레임의 적어도 하나의 리드를 상기 절연체 내의 하나 또는 그 이상의 바이어를 통해 상기 제2 리드프레임의 대응하는 리드에 전기적으로 연결하는 단계를 포함하여;Electrically connecting at least one lead of the first leadframe to a corresponding lead of the second leadframe through one or more vias in the insulator; 상기 제1 집적회로 다이와 상기 제2 집적회로 다이가 서로 전기적으로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.And wherein the first integrated circuit die and the second integrated circuit die are electrically connected to each other. 제14항에 있어서, 절연체, 제1 집적회로 다이, 제2 집적회로 다이, 제1 리드프레임 및 제2 리드프레임을 적어도 부분적으로 봉지(encapsulating)하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.15. The multiple die of claim 14 further comprising at least partially encapsulating the insulator, the first integrated circuit die, the second integrated circuit die, the first leadframe, and the second leadframe. Integrated circuit package manufacturing method. 제14항에 있어서, 상기 전기적으로 연결하는 단계는,The method of claim 14, wherein the electrically connecting step, 상기 제1 리드프레임의 하나의 리드의 일부분을 상기 절연체 내의 적어도 하나의 관통홀 바이어 내에 형성하는 단계;Forming a portion of one lead of the first leadframe in at least one through hole via in the insulator; 상기 제2 리드프레임의 하나의 리드의 대응하는 일부분을 상기 절연체 내의 상기 관통홀 바이어 내에 형성하는 단계; 및Forming a corresponding portion of one lead of said second leadframe in said through hole via in said insulator; And 상기 제1 리드프레임과 제2 리드프레임을 물리적으로 연결하여 상기 관통홀 바이어 내에서 전기적 연결을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.And physically connecting the first lead frame and the second lead frame to form an electrical connection in the through hole via. 제16항에 있어서, 물리적으로 연결하는 단계는 상기 관통홀 바이어 내에서 상기 제1 리드프레임과 제2 리드프레임의 일부분 사이에 물리적 용접부를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.17. The multi-die integrated circuit package of claim 16, wherein physically connecting comprises forming a physical weld between the first leadframe and a portion of the second leadframe in the through hole via. Manufacturing method. 제17항에 있어서, 상기 절연체 내에 하나 또는 그 이상의 관통홀 바이어를 형성하는 단계가 제1 리드프레임과 제2 리드프레임을 물리적으로 연결하는 단계와 연관되어 수행되는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.18. The multi-die integrated circuit package of claim 17, wherein forming one or more through hole vias in the insulator is performed in connection with physically connecting the first lead frame and the second lead frame. Manufacturing method. 제16항에 있어서, 물리적으로 연결하는 단계는 상기 관통홀 바이어 내에서 상기 제1 리드프레임과 제2 리드프레임의 제1 부분 및 제2 부분 사이에 도전성 접착제를 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.17. The method of claim 16, wherein physically connecting comprises providing a conductive adhesive between the first and second portions of the first leadframe and the second leadframe in the through hole via. A multi-die integrated circuit package manufacturing method. 제14항에 있어서, 제1 집적회로 다이와 제2 집적회로 다이를 제1 리드프레임과 제2 리드프레임에 연결하는 단계는 동일한 집적회로 다이들을 연결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.15. The multiple die integrated circuit of claim 14, wherein coupling the first integrated circuit die and the second integrated circuit die to the first leadframe and the second leadframe comprises connecting the same integrated circuit dies. Package manufacturing method. 제14항에 있어서, 제1 집적회로 다이와 제2 집적회로 다이를 제1 리드프레임과 제2 리드프레임에 연결하는 단계는 메모리 어레이 집적회로 다이를 제1 리드프레임에 연결하고, 제어기 집적회로 다이를 제2 리드프레임에 연결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.15. The method of claim 14, wherein connecting the first integrated circuit die and the second integrated circuit die to the first leadframe and the second leadframe comprises connecting the memory array integrated circuit die to the first leadframe and connecting the controller integrated circuit die. And connecting to a second leadframe. 제21항에 있어서, 메모리 어레이 집적회로 다이를 제1 리드프레임에 연결하는 단계는 비휘발성 메모리 어레이 집적회로 다이를 연결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.22. The method of claim 21, wherein coupling the memory array integrated circuit die to the first leadframe comprises connecting a nonvolatile memory array integrated circuit die. 제22항에 있어서, 비휘발성 메모리 어레이 집적회로 다이 위에 추가의 비휘발성 메모리 어레이 집적회로 다이를 스태킹하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.23. The method of claim 22, further comprising stacking additional nonvolatile memory array integrated circuit dies on the nonvolatile memory array integrated circuit dies. 제14항에 있어서, 제1 집적회로 다이와 제2 집적회로 다이를 제1 리드프레임과 제2 리드프레임에 연결하는 단계는 제1 집적회로 다이 및 제2 집적회로 다이와 제1 리드프레임 및 제2 리드프레임 사이에 와이어 본드를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.15. The method of claim 14, wherein connecting the first integrated circuit die and the second integrated circuit die to the first leadframe and the second leadframe comprises: a first integrated circuit die and a second integrated circuit die and a first leadframe and a second lead. Forming a wire bond between the frames. 제24항에 있어서, 제1 집적회로 다이와 제2 집적회로 다이를 연결하는 단계는 상기 집적회로 다이들을 백-투-백 방식으로 배열하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.25. The multi-die integrated circuit package of claim 24, wherein connecting the first integrated circuit die and the second integrated circuit die further comprises arranging the integrated circuit dies back-to-back. Manufacturing method. 제14항에 있어서, 제1 집적회로 다이와 제2 집적회로 다이를 제1 리드프레임과 제2 리드프레임에 연결하는 단계는 제1 집적회로 다이 및 제2 집적회로 다이와 제1 리드프레임 및 제2 리드프레임 사이에 플립 칩 연결을 형성하는 단계를 포함하 는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.15. The method of claim 14, wherein connecting the first integrated circuit die and the second integrated circuit die to the first leadframe and the second leadframe comprises: a first integrated circuit die and a second integrated circuit die and a first leadframe and a second lead. Forming a flip chip connection between the frames. 제26항에 있어서, 제1 집적회로 다이와 제2 집적회로 다이를 제1 리드프레임과 제2 리드프레임에 연결하는 단계는 제1 집적회로 다이와 제2 집적회로 다이를 페이스-투-페이스 방식으로 배열하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 다이 집적회로 패키지 제조 방법.27. The method of claim 26, wherein connecting the first integrated circuit die and the second integrated circuit die to the first leadframe and the second leadframe comprises arranging the first integrated circuit die and the second integrated circuit die in a face-to-face manner. And further comprising the step of: a multi-die integrated circuit package manufacturing method.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI405279B (en) * 2010-07-23 2013-08-11 Global Unichip Corp Packaging of semiconductor components

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4288841A (en) 1979-09-20 1981-09-08 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Double cavity semiconductor chip carrier
US4423468A (en) 1980-10-01 1983-12-27 Motorola, Inc. Dual electronic component assembly
US6316825B1 (en) 1998-05-15 2001-11-13 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Chip stack package utilizing a connecting hole to improve electrical connection between leadframes
US20020121690A1 (en) 1987-06-24 2002-09-05 Hitachi, Ltd. (Jp) Semiconductor memory module having double-sided stacked memory chip layout

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5763850A (en) * 1980-10-06 1982-04-17 Nec Corp Semiconductor device
JPH0330494A (en) * 1989-06-28 1991-02-08 Sharp Corp Through-hole forming method for flexible circuit board
WO1993026144A1 (en) * 1992-06-15 1993-12-23 Dyconex Patente Ag Process for producing subsequently conditionable contact points on circuit substrates and circuit substrates with such contact points
DE19522338B4 (en) * 1995-06-20 2006-12-07 Pac Tech-Packaging Technologies Gmbh Chip carrier assembly with a via
FR2746678B1 (en) * 1996-03-26 1998-07-03 Commissariat Energie Atomique METHOD FOR MAKING A DEPOSIT ON A REMOVABLE MEDIUM, AND DEPOSIT CARRIED OUT ON A MEDIUM
KR0179921B1 (en) * 1996-05-17 1999-03-20 문정환 Stacked semiconductor package
US5715193A (en) * 1996-05-23 1998-02-03 Micron Quantum Devices, Inc. Flash memory system and method for monitoring the disturb effect on memory cell blocks due to high voltage conditions of other memory cell blocks
DE19648492A1 (en) * 1996-11-22 1997-11-13 Siemens Ag Three=dimensional multi-chip module, e.g. memory module
JP3296306B2 (en) * 1997-10-28 2002-06-24 ソニーケミカル株式会社 Anisotropic conductive adhesive and adhesive film
JP3674333B2 (en) * 1998-09-11 2005-07-20 株式会社日立製作所 Power semiconductor module and electric motor drive system using the same
JP2000332055A (en) * 1999-05-17 2000-11-30 Sony Corp Flip-chip mounting structure and mounting method
US6720644B2 (en) * 2000-10-10 2004-04-13 Sony Corporation Semiconductor device using interposer substrate and manufacturing method therefor
JP2004199887A (en) * 2002-12-16 2004-07-15 Agilent Technol Inc Electrical contact switching device using conductive fluid and its manufacturing method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4288841A (en) 1979-09-20 1981-09-08 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Double cavity semiconductor chip carrier
US4423468A (en) 1980-10-01 1983-12-27 Motorola, Inc. Dual electronic component assembly
US20020121690A1 (en) 1987-06-24 2002-09-05 Hitachi, Ltd. (Jp) Semiconductor memory module having double-sided stacked memory chip layout
US6316825B1 (en) 1998-05-15 2001-11-13 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Chip stack package utilizing a connecting hole to improve electrical connection between leadframes

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