KR100984900B1 - Photoelectron generating plate, and negative particle generating device using such plate - Google Patents
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Abstract
광전자 방출판 및 이것을 이용한 마이너스 입자 발생 장치에 있어서, 장기에 걸쳐 마이너스 입자의 발생을 유지하는 것으로 한다. In the photoelectron emission plate and the negative particle generator using the same, it is assumed that the generation of negative particles is maintained for a long time.
광전자 방출판(1)을 기판상에 배리어성을 갖고 또한 광조사하는 것에 의해 광전자를 방출하는 방출막을 갖는 구성으로 했다. 이것에 의해, 광조사에 의해 광전자를 방출하는 방출막을 확산한 하지재가 그 방출막 표면을 피복하는 것을 배리어성을 갖는 것으로 방지할 수 있어 마이너스 입자 발생 시간에 따라서 마이너스 이온 수가 크게 감소하지 않는, 즉 장기에 걸쳐 내구성이 우수한 광전자 방출판(1) 및 이것을 이용한 마이너스 입자 발생 장치를 실현할 수 있다.
It was set as the structure which has the emission film which emit | releases a photoelectron by having a barrier property on the board | substrate, and irradiating light on the board | substrate. Thereby, the base material which spread | dispersed the emission film which discharge | releases a photoelectron by light irradiation can prevent that the base material coat | covers the emission film surface, and has a barrier property, and that the number of negative ions does not greatly decrease according to minus particle generation time, ie The photoelectron emission plate 1 excellent in durability over a long period of time and a negative particle generator using the same can be realized.
방출판, 배리어성, 마이너스 입자, 기판, 광전자, 대전제거장치Emission plate, barrier property, negative particle, substrate, optoelectronic, antistatic device
Description
도 1은 본 발명의 실시예 1에 있어서의 마이너스 이온 발생 장치의 외관 구성도,1 is an external configuration diagram of a negative ion generating device according to a first embodiment of the present invention;
도 2는 실시예 1의 광전자 방출판에 있어서의 동작 시간에 대한 마이너스 입자 발생수를 도시한 도면,FIG. 2 is a diagram showing the number of negative particle generations with respect to the operation time in the photoelectron emission plate of Example 1; FIG.
도 3은 본 발명의 실시예 2에 있어서의 광전자 방출판의 동작 시간에 대한 마이너스 입자 발생수를 도시한 도면,3 is a diagram showing the number of negative particle generations with respect to the operating time of the photoelectron emission plate according to the second embodiment of the present invention;
도 4는 본 발명의 실시예 3에 있어서의 광전자 방출판의 동작 시간에 대한 마이너스 입자 발생수를 도시한 도면,4 is a diagram showing the number of negative particle generations with respect to the operating time of the photoelectron emission plate according to the third embodiment of the present invention;
도 5는 본 발명의 실시예 4에 있어서의 광전자 방출판의 동작 시간에 대한 마이너스 입자 발생수를 도시한 도면,Fig. 5 is a diagram showing the number of negative particle generations with respect to the operating time of the photoelectron emission plate according to the fourth embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 실시예 4에 있어서의 광전자 방출판의 동작 시간에 대한 마이너스 입자 발생수를 나타내는 다른 도면,6 is another diagram showing the number of negative particle generations with respect to the operating time of the photoelectron emission plate according to the fourth embodiment of the present invention;
도 7은 본 발명의 실시예 5에 있어서의 광전자 방출판의 동작 시간에 대한 마이너스 입자 발생수를 도시한 도면,7 is a diagram showing the number of negative particle generations with respect to the operating time of the photoelectron emission plate according to the fifth embodiment of the present invention;
도 8은 본 발명의 실시예 1에 있어서 자외선램프를 이용한 경우에 있어서의 광전자 발생 기구를 나타낸 개념도,8 is a conceptual diagram showing a photoelectron generating mechanism in the case where an ultraviolet lamp is used in Example 1 of the present invention;
도 9는 본 발명의 실시예 6에 있어서의 광전자 방출판의 동작 시간에 대한 마이너스 입자 발생수를 도시한 도면,Fig. 9 is a chart showing the number of negative particle generations with respect to the operating time of the photoelectron emission plate according to the sixth embodiment of the present invention;
도 10는 본 발명의 실시예 7에 있어서의 광전자 방출판의 동작 시간에 대한 마이너스 입자 발생수를 도시한 도면,Fig. 10 is a diagram showing the number of negative particle generations with respect to the operation time of the photoelectron emission plate according to the seventh embodiment of the present invention;
도 11은 본 발명의 실시예 8에 있어서의 광전자 방출판의 동작 시간에 대한 마이너스 입자 발생수를 도시한 도면,Fig. 11 is a chart showing the number of negative particle generations with respect to the operation time of the photoelectron emission plate according to the eighth embodiment of the present invention.
도 12는 본 발명의 실시예 9에 있어서의 마이너스 입자 발생 장치의 구성을 나타내는 요부 단면도,12 is a sectional view showing the principal parts of the structure of a negative particle generator in Example 9 of the present invention;
도 13은 실시예 9에 있어서의 마이너스 입자 발생량의 종래와의 비교를 나타내는 그래프,13 is a graph showing a comparison with the conventional one in the amount of negative particle generation in Example 9;
도 14는 본 발명의 실시예 10에 있어서의 마이너스 입자 발생 장치의 구성을 나타내는 요부 단면도,14 is a sectional view showing the principal parts of the structure of the negative particle generator in Example 10 of the present invention;
도 15는 실시예 10에 있어서의 마이너스 입자 발생량을 나타내는 그래프,15 is a graph showing the amount of negative particle generation in Example 10,
도 16는 본 발명의 실시예 11에 있어서의 마이너스 입자 발생 장치의 구성을 나타내는 요부 단면도,Fig. 16 is a sectional view showing the principal parts of the structure of a negative particle generator in Example 11 of the present invention;
도 17은 실시예 11에 있어서의 마이너스 입자 발생량을 나타내는 그래프,17 is a graph showing the amount of negative particle generation in Example 11,
도 18은 종래의 마이너스 입자 발생 장치의 구성을 나타내는 요부 단면도, 18 is a sectional view showing the main parts of a conventional negative particle generating device;
도 19는 본 발명의 실시예 12에 있어서의 대전 제거 장치의 구조도,19 is a structural diagram of a charge removing device according to a twelfth embodiment of the present invention;
도 20는 본 발명의 실시예 12에 있어서의 대전 제거 장치(9A, 9B, 9C)의 동작 시간과 발생하는 마이너스 입자의 수의 관련을 나타내는 도면,20 is a view showing the relationship between the operating time of the
도 21은 실시예 12의 구체 실시예 4에 있어서의 대전 제거 장치를 흡인 노즐에 탑재한 전기 청소기의 구조도,21 is a structural diagram of an electric vacuum cleaner in which an antistatic device according to a fourth embodiment of the twelfth embodiment is mounted on a suction nozzle;
도 22은 실시예 12의 구체 실시예 5에 있어서의 대전 제거 장치를 본체의 집진부에 탑재한 전기 청소기의 구조도.
Fig. 22 is a structural diagram of the vacuum cleaner mounted on the dust collecting part of the main body, in the antistatic device according to the fifth embodiment of the twelfth embodiment;
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings
1, 32 : 광전자 방출판 2 : 램프(광원)1, 32: photoelectric emission plate 2: lamp (light source)
3, 34 : 어스선 4, 11 : 망형상의 광전자 발생재3, 34:
5 : 광원 6 : 공기 입구5: light source 6: air inlet
7 : 공기 출구 8 : 전기적인 접지7: air outlet 8: electrical ground
9 : 용기 12 : 망형상의 도전성 기재9: container 12: mesh-shaped conductive base material
21 : 통풍 수단 31 : 파장 영역이 200nm 이상인 광원21: ventilation means 31: light source having a wavelength range of 200 nm or more
32A, 33A : 전기 청소기 33 :팬(통풍 수단)32A, 33A: Electric cleaner 33: Fan (ventilating means)
35 : 대전 제거 장치
35: antistatic device
본 발명은 공기에 마이너스 입자를 부가하는 장치 등에 관한 것으로, 특히 광전 효과에 의해서 발생하는 광전자를 이용한 마이너스 입자 발생 장치 등에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for adding negative particles to air, and more particularly, to a negative particle generator using photoelectrons generated by the photoelectric effect.
종래의 마이너스 입자 발생 장치로서는, 광전자 방출재에 자외선을 조사함으로써 광전자를 발생시키고, 팬과 집진 필터 등에 의해서 미립자가 제거된 고 청정도의 공기가 장치로 들어가고, 집진 필터 등에 의해서 제거되지 않은 미립자가 광전자를 포획함으로써 마이너스 입자로 되고, 장치로부터 나와 공기중으로 방출되는 것이 있었다(예컨대, 특허문헌 1 참조). Conventional negative particle generators generate photoelectrons by irradiating the photoelectron emitter with ultraviolet light, and high clean air in which fine particles have been removed by a fan and a dust collecting filter enters the device, and fine particles which have not been removed by a dust collecting filter or the like are optoelectronic. Trapped to form negative particles, and some were released from the apparatus into the air (see Patent Document 1, for example).
또한, 종래의 마이너스 입자 발생 장치로서는 도 18에 도시하는 것 같은 것이 있다(예컨대, 특허문헌 2 참조). As a conventional negative particle generator, there is one shown in FIG. 18 (see
도 18에 있어서, 광전자 발생재(51)가 용기(56)의 내부에 설치되어 있다. 광전자 발생재(51)에는 전기적인 접지(55)가 장착되고, 광원(52)으로부터의 자외선에 의해서 광전자 발생재(51)로부터 광전자가 발생하고, 공기 입구(53)로부터 들어오는 공기중의 물과 산소 등의 분자 또는 먼지 등의 미립자가 유로 제어재(57)에서 제어됨으로써, 광전자 발생재(51)의 표면을 지나고, 광전자가 포획되어 마이너스 입자로서 공기 출구(54)로부터 장치 밖으로 방출된다. In FIG. 18, the
또한, 종래의 마이너스 입자를 발생시키는 기법으로서는 방전 타입의 것이 있다(예컨대, 특허문헌 3 참조). 상기 특허문헌 3에는 마이너스 입자를 발생시키는 기법에 있어서의 가스중 방전에 대하여 개시되어 있다.
Moreover, there exists a discharge type thing as a technique of generating the conventional negative particle (for example, refer patent document 3).
(특허문헌 1) 일본 특허 공고 공보 평성 제8-10616호(Patent Document 1) Japanese Patent Publication No. Hei 8-10616
(특허문헌 2) 특허 공보 제3322267호(Patent Document 2) Patent Publication No. 3322267
(특허문헌 3) 일본 특허 공개 공보 평성 제63-78471호(Patent Document 3) Japanese Patent Laid-Open Publication No. 63-78471
그러나, 상기 종래의 구성에서는 광전자 방출재로의 자외선 조사로부터 시작되는 마이너스 입자의 발생이 시간이 경과함에 따라 감소한다고 하는 문제가 있었다. However, in the above conventional configuration, there has been a problem that the generation of negative particles starting from ultraviolet irradiation to the photoelectron emitting material decreases with time.
또한, 유로 제어재를 설치함으로써 공기의 유량이 감소하기 때문에, 광전자 발생재의 표면에 발생한 광전자를 충분히 포착할 수 없고, 그 결과 마이너스 입자의 발생량이 감소한다고 하는 과제도 갖고 있었다. Moreover, since the flow volume of air reduces by providing a flow path control material, the photoelectron which generate | occur | produced on the surface of an optoelectronic generating material cannot fully be captured, As a result, there also existed a subject that the generation amount of negative particle reduced.
또한, 오존이 발생하여, 인체에 대한 안전성의 문제나, 부재가 오존에 의해서 열화한다고 하는 과제도 있었다.
Furthermore, there also existed the problem that ozone generate | occur | produced and the problem of safety | security to a human body, and a member deteriorated by ozone.
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하는 것으로, 시간이 경과하더라도 마이너스 입자의 발생량이 감소하지 않는 마이너스 입자 발생 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. This invention solves the said conventional subject, Comprising: It aims at providing the negative particle generating apparatus which does not reduce the generation amount of negative particle even if time passes.
또한, 오존의 발생이 없는 대전 제거 장치 및 이것을 이용한 기기를 제공하는 것을 목적으로 한다. It is also an object of the present invention to provide an electrostatic elimination device without ozone generation and a device using the same.
상기 종래의 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 마이너스 입자 발생 장치는 기판 상에 배리어성(barrier property)을 갖고, 광 조사에 의해서 광전자를 방출하 는 방출막을 마련한 광전자 방출판을 이용하여, 마이너스 입자를 발생시키도록 했다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said conventional subject, the negative particle generation apparatus of this invention uses the photoelectron emission plate which has a barrier property on the board | substrate, and provided the emission film which discharge | releases a photoelectron by light irradiation. To generate.
본 발명자들은 마이너스 입자의 수가 감소하는 원인이 광 조사에 의해서 광전자 방출재의 핀홀(pinhole)을 통해서 확산한 광전자 방출재 이외의 화합물이 광전자 방출재의 표면을 피복하는 것을 찾아내었다. 이 결과, 배리어성이 높은 방출막을 설치함으로써, 시간이 경과하더라도 마이너스 입자의 발생량이 감소하지 않게 되는 것이다. The inventors have found that the cause of the decrease in the number of negative particles is that the compound other than the photoelectron emitting material diffused through the pinhole of the photoelectron emitting material by light irradiation covers the surface of the photoelectric emitting material. As a result, by providing the release film with high barrier property, the amount of generation of negative particles does not decrease even if time passes.
청구항 1에 기재된 발명은 기판 상에 배리어성을 갖고 또한 광 조사함으로써 광전자를 방출하는 방출막을 갖는 구성으로 했다. 이에 따라, 광 조사에 의해서 광전자를 방출하는 방출막을 확산하고, 기초재가 이 막 표면을 피복하는 것을 방지함으로써 마이너스 입자 발생 시간에 의해서 마이너스 이온 수가 크게 감소하지 않는, 즉 장기에 걸쳐 내구성이 우수한 광전자 방출판이 된다. The invention according to claim 1 has a structure having a barrier property on a substrate and an emission film which emits photoelectrons by light irradiation. Accordingly, by diffusing an emission film that emits photoelectrons by light irradiation and preventing the base material from covering the surface of the film, the number of negative ions does not significantly decrease due to the generation time of negative particles, i.e., the durability is excellent over a long period of time. It becomes a publication.
청구항 2에 기재된 발명은 특히 청구항 1에 기재된 기판이 도전성을 갖는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 마이너스 입자의 발생에 의해서, 부족한 광전자 방출판의 전자를 도전성 기판이 전기적으로 접지됨으로써 보충할 수 있고, 장기에 걸쳐서 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. Invention of
청구항 3에 기재된 발명은 특히 청구항 2에 기재된 기판이 스테인레스인 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 스테인레스가 치밀한 표면 산화 피막에 의해서, 광 조사에 의한 스테인레스 금속 성분의 표면확산을 블럭하므로, 장기에 걸쳐서 보다 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. Invention of
청구항 4에 기재된 발명은 특히 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 기재된 기판상의 방출막 아래에 도전성막을 갖는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 기판이 예를 들면 절연재료이더라도 마이너스 입자의 발생에 의해서, 부족한 광전자 방출판의 전자를 도전성막이 전기적으로 접지됨으로써 보충할 수 있어, 장기에 걸쳐서 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. Invention of
청구항 5에 기재된 발명은 특히 청구항 4에 기재된 도전성막이 금속인 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 상기 도전막의 도전율이 높기 때문에, 마이너스 입자의 발생에 의해서, 부족한 광전자 방출판의 전자를 재빨리 보충할 수 있고, 그 때문에 장기에 걸쳐서 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. In particular, the invention described in
청구항 6에 기재된 발명은 특히 청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 기재된 방출막의 막두께가 그 아래의 표면의 최대 표면 거칠기보다 두꺼운 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 광전자 방출판의 최표면이 모두 광전자를 방출하고, 또한 기초재료의 확산을 방지하는 배리어막으로 피복되므로, 장기에 걸쳐서 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. The invention according to
청구항 7에 기재된 발명은 특히 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 기재된 방출막이 증착으로 제조된 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 배리어성이 향상하기 때문에 장기에 걸쳐서 내구성이 우수한 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다.
The invention according to
청구항 8에 기재된 발명은 특히 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 기재된 방출막이 도전성인 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 마이너스 입자의 발생에 의해서, 부족한 광전자 방출판의 전자를 막에 직접 전기적으로 접지할 수 있고, 그 때문에 장기에 걸쳐서 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. In particular, the invention described in
청구항 9에 기재된 발명은 특히 청구항 1 내지 8중 어느 한 항에 기재된 방출막이 세라믹인 것을 특징으로 한다. 이것에 의해서, 배리어성이 향상하기 때문에 장기에 걸쳐서 내구성이 우수한 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. In particular, the invention described in
청구항 10에 기재된 발명은 특히 청구항 9에 기재된 방출막이 티타늄 질화물(titanium nitride), 티타늄 탄화물(titanium carbide), 지르코늄 질화물(zirconium nitride), 지르코늄 탄화물(zirconium carbide), 탄소 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 광전 효과에 있어서의 일 함수가 다른 것보다 작기 때문에, 보다 많은 마이너스 입자를 방출시킬 수 있고, 또한 가시광에서 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. 탄소는 그래파이트(graphite)의 경우가 광전 효과가 크고, DLC(Diamond Like Carbon)의 경우는 광전 효과가 그래파이트보다 떨어지지만, 막이 치밀하기 때문에 내구성이 우수하므로 좋다. The invention according to
청구항 11에 기재된 발명은 청구항 1에 기재된 광전자 방출판과, 상기 광전자 방출판에 광 조사하기 위한 광원을 구비한 마이너스 입자 발생 장치이다. 이것에 의해서, 마이너스 입자 발생 시간에 따라, 마이너스 이온 수가 크게 감소하지 않는, 즉 장기에 걸쳐서 내구성이 우수한 마이너스 입자 발생 장치가 된다. Invention of
청구항 12에 기재된 발명은 청구항 2에 기재된 광전자 방출판과, 상기 광전자 방출판에 광 조사하기 위한 광원을 구비하고, 상기 광전자 방출판의 기판을 전기적으로 접지한 마이너스 입자 발생 장치로 했다. 이것에 의해서, 마이너스 입자의 발생에 의해서, 부족한 광전자 방출판의 전자를, 도전성 기판이 전기적으로 접지됨으로써 보충할 수 있어, 장기에 걸쳐서 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 마이너스 입자 발생 장치가 된다. Invention of
청구항 13에 기재된 발명은 청구항 4에 기재된 광전자 방출판과, 상기 광전자 방출판에 광 조사하기 위한 광원을 구비하고, 상기 광전자 방출판의 도전성막을 전기적으로 접지한 마이너스 입자 발생 장치이다. 이것에 의해서, 마이너스 입자의 발생에 의해서, 부족한 광전자 방출판의 전자를 신속하게 보충할 수 있어, 장기에 걸쳐서 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 마이너스 입자 발생 장치가 된다. The invention according to claim 13 is a negative particle generator comprising the photoelectron emission plate according to
청구항 14에 기재된 발명은 특히 청구항 11 내지 13중 어느 한 항에 기재된 광전자 방출판의 표면에 산소를 흘려 보냄으로써, 마이너스 입자를 발생시키는 것을 특징으로 한다. 이것에 의해서, 보다 많은 산소 마이너스 입자를 공급할 수 있다. In particular, the invention described in claim 14 generates negative particles by flowing oxygen to the surface of the photoelectron emission plate according to any one of
또한, 예컨대 산소 마이너스 입자를 공급할 수 있어, 이것을 공기 청정기에 이용한 경우, 그 공간에서 완화 효과를, 또한 냉장고에 이용한 경우, 식품의 산화방지, 보습 효과를, 또한 반도체 제조 설비에 있어서는 제전(除電)을 장기에 걸쳐 서 유지할 수 있게 된다. Further, for example, when oxygen negative particles can be supplied and used in an air purifier, the effect of relaxation in the space is used, and when used in a refrigerator, antioxidation and moisturizing effects of food are prevented, and antistatic in semiconductor manufacturing equipment. Can be maintained over a long term.
또한, 배리어성을 갖고 또한 광 조사함으로써 광전자를 방출하는 막으로, 상기한 것 외에 그들의 복합화합물이 유효하다. Moreover, these complex compounds are effective as a film | membrane which has barrier property and emit | releases a photoelectron by light irradiation other than the above-mentioned.
또한, 기판으로서는 상기한 것 외에, 도전성을 갖는 것으로서는 알루미늄 등의 금속 또는 합금이 유효하다. 또한 도전성을 갖지 않더라도 무방하여, 유리, 플라스틱 등이 유효하고, 배리어성을 갖고 또한 광 조사함으로써 광전자를 방출하는 막과의 사이에 도전성막을 마련하여, 그것을 전기적으로 접지함으로써 마이너스 입자를 많게 할 수 있다. In addition to the above, as the substrate, a metal or an alloy such as aluminum is effective as having conductivity. Moreover, even if it does not have electroconductivity, glass, a plastic, etc. are effective, and a conductive film can be provided between the film | membrane property and the film | membrane which emit | releases a photoelectron by light irradiation, and can electrically ground it, and can add a lot of negative particles. .
또한, 그 도전성막으로서는 금속막 외에 예컨대, ITO라든가 산화 주석과 같은 도전성 세라믹 또는 그들의 복합화합물이 유효하다. As the conductive film, besides the metal film, for example, conductive ceramics such as ITO or tin oxide or composite compounds thereof are effective.
청구항 15에 기재된 발명은 기판 상에 배리어성을 갖는 배리어막을 형성하고, 상기 배리어막 위에 광 조사에 의해 광전자를 방출하는 방출막을 형성하는 구성으로 했다. 이것에 의해서, 광 조사에 의해 광전자를 방출하는 막을 확산한 기초재가 이 막 표면을 피복하는 것을 배리어막으로 방지함으로써, 마이너스 입자 발생 시간에 따라서 마이너스 이온수가 크게 감소하는 일이 없는, 즉 장기에 걸쳐서 내구성이 우수한 광전자 방출판이 된다. Invention of Claim 15 was made the structure which forms the barrier film which has barrier property on a board | substrate, and forms the emission film which emits photoelectron by light irradiation on the said barrier film. As a result, the barrier film prevents the base material from which the film that emits photoelectrons by light irradiation covers the surface of the film with a barrier film, so that the negative ion number does not decrease significantly with the generation time of negative particles, that is, over a long period of time. It becomes a durable photoelectron emission plate.
청구항 16에 기재된 발명은 특히 청구항 15에 기재된 배리어막이 Si, Ti, Zr, Al의 각각의 산화물 또는 Si, Al의 각각의 질화물 또는 이들의 복합물인 것을 특징으로 한다. 이것에 의해서, 배리어막의 배리어성이 현격히 향상하므로, 더욱 장기에 걸쳐서 내구성이 우수한 광전자 방출판이 된다. The invention described in claim 16 is particularly characterized in that the barrier film according to claim 15 is each oxide of Si, Ti, Zr, Al, or each nitride of Si, Al, or a composite thereof. Thereby, since the barrier property of a barrier film improves remarkably, it becomes a photoelectron emission plate excellent in durability for a long term.
청구항 17에 기재된 발명은 특히 청구항 15에 기재된 배리어막이 도전성을 갖는 것을 특징으로 한다. 그리고, 배리어성을 갖고 또한 도전성을 갖는 막과 그 바로 위에 광 조사함으로써, 광전자를 방출하는 막을 갖는 광전자 방출판에 의해서, 기판이 예를 들면 절연재료이더라도 마이너스 입자의 발생에 의해서, 부족한 광전자 방출판의 전자를, 도전성막이 전기적으로 접지됨으로써 보충할 수 있고, 그 때문에 장기에 걸쳐서 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. The invention described in claim 17 is particularly characterized in that the barrier film according to claim 15 has conductivity. And the photoelectron emission plate which is insufficient by the photoelectron emission plate which has a barrier property and the electroconductive film and the film | membrane which emits photoelectron by light irradiation directly on it, even if a board | substrate is an insulating material, for example by the generation of negative particles. Electrons can be replenished by electrically grounding the conductive film, thereby providing a photoelectron emission plate that is excellent in durability and emits many negative particles over a long period of time.
청구항 18에 기재된 발명은 특히 청구항 17에 기재된 배리어막이 Ti, Zr의 각각의 질화물 또는 탄화물 또는 ITO 또는 산화 주석 또는 이들의 복합물인 것을 특징으로 한다. 이것에 의해서 배리어막의 배리어성이 현저히 향상하므로, 그 때문에 더욱 장기에 걸쳐서, 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. The invention described in claim 18 is particularly characterized in that the barrier film according to claim 17 is each nitride or carbide of Ti, Zr or ITO or tin oxide or a composite thereof. As a result, the barrier property of the barrier film is remarkably improved, and therefore, it becomes an optoelectronic emission plate which is excellent in durability and emits many negative particles over a longer period.
청구항 19에 기재된 발명은 특히 청구항 17에 기재된 기판이 도전성을 갖는 것을 특징으로 한다. 그리고, 도전성 기판 상에 배리어성 또한 도전성을 갖는 막과 그 바로 위에 광 조사함으로써 광전자를 방출하는 막을 갖는 광전자 방출판에 의해서, 부족한 광전자 방출판의 전자를 배리어성 또한 도전성을 경유하여 도전성 기판이 전기적으로 접지됨으로써 보충할 수 있고, 그 때문에 장기에 걸쳐서 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. In particular, the invention described in claim 19 is characterized in that the substrate according to claim 17 has conductivity. Then, the photoelectric emission plate having a barrier-conductive conductive film on the conductive substrate and a film that emits photoelectrons by irradiating light directly on the conductive substrate allows the conductive substrate to be electrically connected to the electrons of the insufficient photoelectron emitting plate via barrier property and conductivity. It can be supplemented by being grounded, so that it becomes an optoelectronic emission plate which is excellent in durability and emits many negative particles over a long period of time.
청구항 20에 기재된 발명은 특히 청구항 17에 기재된 기판이 스테인레스인 것을 특징으로 한다. 이것에 의해서, 스테인레스가 치밀한 표면 산화 피막에 의 해, 광 조사에 의한 스테인레스 금속 성분의 표면확산을 블럭하므로, 장기에 걸쳐서 보다 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. The invention described in claim 20 is particularly characterized in that the substrate according to claim 17 is stainless. As a result, stainless blocks the surface diffusion of the stainless metal component by light irradiation by a dense surface oxide film, resulting in a photoelectron emission plate that is more durable and emits many negative particles over a long period of time.
청구항 21에 기재된 발명은 특히 청구항 15 내지 20중 어느 한 항에 기재된 방출막이 도전성인 것을 특징으로 한다. 이것에 의해서, 마이너스 입자의 발생에 의해, 부족한 광전자 방출판의 전자를 막에 직접 전기적으로 접지할 수 있고, 그 때문에 장기에 걸쳐서 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. In particular, the invention described in
청구항 22에 기재된 발명은 특히 청구항 15 내지 21중 어느 한 항에 기재된 방출막의 막두께가 배리어막의 표면의 최대 표면 거칠기보다 두꺼운 것을 특징으로 한다. 이것에 의해서, 광전자 방출판의 최 표면이 모두 광전자를 방출하고, 또한 기초재료의 확산을 방지하는 배리어막으로 피복되므로, 장기에 걸쳐서 내구성이 우수하고 또한 많은 마이너스 입자를 방출하는 광전자 방출판이 된다. The invention according to claim 22 is characterized in that the film thickness of the emission film according to any one of claims 15 to 21 is thicker than the maximum surface roughness of the surface of the barrier film. As a result, since the outermost surface of the photoelectron emission plate is covered with a barrier film that emits photoelectrons and prevents the diffusion of the base material, the photoelectron emission plate is excellent in durability and emits many negative particles over a long period of time. .
청구항 23에 기재된 발명은 청구항 15 또는 17 또는 19에 기재된 광전자 방출판과, 상기 광전자 방출판의 방출막에 광 조사하기 위한 광원을 구비한 마이너스 입자 발생 장치이다. 이것에 의해서, 마이너스 이온 수가 크게 감소하는 일이 없는, 즉 장기에 걸쳐서 내구성이 우수한 마이너스 입자 발생 장치가 된다. The invention according to claim 23 is a negative particle generator comprising the photoelectron emission plate according to claim 15 or 17 or 19 and a light source for irradiating light to the emission film of the photoelectron emission plate. As a result, the number of negative ions does not decrease significantly, i.e., it becomes a negative particle generator having excellent durability over a long period of time.
청구항 24에 기재된 발명은 특히 청구항 23에 기재된 광전자 방출판의 표면에 산소를 흘려보냄으로써 마이너스 입자를 발생시키는 것을 특징으로 한다. 이것에 의해서, 보다 많은 산소 마이너스 입자를 공급할 수 있다. In particular, the invention described in claim 24 generates negative particles by flowing oxygen to the surface of the photoelectron emission plate according to claim 23. Thereby, more oxygen negative particles can be supplied.
또한, 예컨대 산소 마이너스 입자를 공기 청정기에 사용한 경우, 그 공간에서 완화 효과를, 또한 냉장고에 이용한 경우, 식품의 산화방지, 보습 효과를, 또한 반도체 제조 설비에 있어서는 제전을 장기에 걸쳐서 유지할 수 있도록 된다. For example, when oxygen minus particles are used in an air purifier, the effect of relaxation in the space, and when used in a refrigerator, can prevent the oxidation and moisturizing effects of foods, and can maintain an antistatic effect for a long time in a semiconductor manufacturing facility. .
또한, 배리어막으로서는 상기의 것 외에 세라믹막 및 그들의 복합화합물이 유효하다. As the barrier film, in addition to the above, ceramic films and composite compounds thereof are effective.
또한, 기판으로서는 상기의 것 외에, 도전성을 갖는 것으로서는 알루미늄 등의 금속 또는 합금이 유효하다. 또한, 도전성을 갖지 않아도 무방하여, 유리, 플라스틱 등이 유효하고, 배리어성을 갖고 또한 도전성을 갖는 막을 형성하고, 그것을 전기적으로 접지함으로써 마이너스 입자를 많게 할 수 있다. In addition to the above, as the substrate, a metal or an alloy such as aluminum is effective as having conductivity. Moreover, even if it does not have electroconductivity, glass, plastics, etc. are effective, and a negative particle can be increased by forming a film | membrane which has barrier property and electroconductivity, and electrically grounding it.
또한, 그 배리어성을 갖고 또한 도전성막으로서는 상기의 것 외에 도전성 세라믹 또는 그들의 복합화합물이 유효하다. In addition to the above, conductive ceramics or composite compounds thereof are effective as the conductive film having the barrier property.
또한, 광 조사함으로써 광전자를 방출하는 막으로서는 금속 또는 도전성 세라믹이 유효하다. Moreover, as a film | membrane which emits photoelectron by light irradiation, a metal or a conductive ceramic is effective.
청구항 25에 기재한 발명은 전기적으로 접지한 망형상의 광전자 발생재와 상기 망형상의 광전자 발생재에 빛을 조사하기 위한 광원을 갖는 용기를 구비하고, 상기 망형상의 광전자 발생재에 빛을 조사함과 동시에, 상기 망형상의 광전자 발생재에 공기를 흘려줌으로써 마이너스 입자를 발생시키는 마이너스 입자 발생 장치에 있어서, 상기 용기내에 흐르는 공기가 상기 망형상의 광전자 발생재에 충돌하도록, 상기 망형상의 광전자 발생재를 상기 용기내에 마련하도록 했다. The invention as set forth in claim 25 is provided with a container having an electrically grounded mesh-shaped photoelectric generator and a light source for irradiating light to the mesh-shaped photoelectric generator, wherein the mesh-shaped photoelectric generator is irradiated with light. And a negative particle generator in which negative particles are generated by flowing air into the meshed photoelectric generator, wherein the meshed photoelectric generator is impregnated in the container so that air flowing in the vessel collides with the meshed photoelectric generator. I made it.
이것에 의해서, 광전자 발생재를 망형상으로 함으로써, 따로 유로 제어재를 마련하지 않고, 용기내에 흐르는 공기의 통로를 차단하는 위치에 망형상의 광전자 발생재를 마련했다고해도, 공기는 광전자 발생재의 망의 눈을 통과하여 후방으로 흐르기 때문에, 실질적으로 공기의 흐름이 차단되는 일은 없이, 공기의 유량을 확보할 수 있다. 그리고, 공기의 유량이 유로 제어재 등에 의해서 감소하지 않기 때문에, 마이너스 입자 발생 장치로부터 발생하는 마이너스 입자의 양이 감소하는 일도 없이, 마이너스 입자를 효율적으로 발생시킬 수 있는 마이너스 입자 발생 장치를 실현할 수 있게 된다. As a result, by forming the photoelectron generating material into a mesh shape, even if the mesh type photoelectric generating material is provided at a position to block the passage of air flowing in the container without providing a flow path control material, the air is formed in the mesh of the photoelectric generating material. Since it flows backward through the snow, the flow rate of the air can be ensured without substantially blocking the flow of the air. And since the flow rate of air does not decrease by a flow path control material etc., it is possible to realize the negative particle generator which can generate negative particles efficiently, without reducing the quantity of the negative particle generated from the negative particle generator. do.
청구항 26에 기재한 발명은 특히 청구항 25에 기재된 망형상의 광전자 발생재에 조사하는 빛을 자외선으로 하는 것이다. In particular, the invention described in claim 26 uses ultraviolet light to irradiate the mesh-shaped photoelectron generating material according to claim 25.
이것에 의해서, 광원으로부터 발생하는 빛이 자외선이면, 에너지가 높기 때문에 광전 효과에 의해서 많은 광전자가 발생하기 쉬워지기 때문에, 보다 많은 마이너스 입자를 장치 밖으로 방출할 수 있게 된다. As a result, if the light generated from the light source is ultraviolet light, since the energy is high, many photoelectrons are likely to be generated by the photoelectric effect, so that more negative particles can be emitted out of the device.
청구항 27에 기재한 발명은 특히 청구항 25 또는 26에 기재된 망형상의 광전자 발생재를 망형상의 도전성 기재상에 마련하여 이루어지는 것이다. The invention described in claim 27 is particularly provided by providing the mesh-shaped photoelectron generating material according to claim 25 or 26 on a mesh-shaped conductive base material.
광전자 발생재로서 예컨대 금 등의 귀금속을 이용하는 경우, 그것을 망형상의 도전성 기재상에 마련함으로써, 가령 광전자 발생재의 층이 박층이더라도 기계적 강도를 갖는 부재로 될 수 있는 것이다. When a precious metal such as gold is used as the photoelectron generating material, for example, by providing it on a mesh-shaped conductive substrate, even if the layer of the photoelectron generating material is a thin layer, it can be a member having mechanical strength.
청구항 28에 기재한 발명은 청구항 25 내지 27중 어느 한 항에 기재된 발명에 추가로 통풍 수단을 구비하고, 상기 통풍 수단에 의해서 망형상의 광전자 발생재에 공기를 흘려보내도록 한 것이다. The invention described in claim 28 is provided with a ventilation means, in addition to the invention according to any one of claims 25 to 27, wherein the air flows through the mesh-like photoelectric generator by the ventilation means.
빛이 조사된 광전자 발생재로부터는 광전자가 방출되고, 광전자 발생재를 전기적으로 접지함으로써 광전자가 빠져나간 흔적인 정공은 신속하게 전기적으로 중화되어, 광전자가 정공으로 되돌아가기 어렵게 한다. 그러나, 가령 광전자 발생재가 전기적으로 중화되어 있더라도 광전자와 광전자 발생재와의 사이에는 전기적 경상력(image force)가 작용하여, 미약하지만 광전자가 광전자 발생재로 되돌아가고자 한다. 따라서, 발생한 광전자를 조속히 광전자 발생재로부터 떼어놓은 수단이 필요하고, 발명자들은 특히 그 수단으로서 통풍이 유효한 것을 찾아냈다. 즉, 광전자 발생재에 통풍함으로써 발생한 광전자가 기체분자와 충돌하면서 광전자 발생재로부터 떼어지기 때문에, 광전자가 광전자 발생재로 되돌아가는 경향이 약해져, 결과적으로 장치로부터는 효율적으로 마이너스 입자가 발생하게 된다. Photoelectrons are emitted from the photo-generated material irradiated with light, and holes, which are traces of the photoelectrons being escaped by electrically grounding the photo-generators, are quickly electrically neutralized, making it difficult for the photons to return to the holes. However, even if the photoelectron generating material is electrically neutralized, an electric image force is applied between the photoelectric and the photoelectric generating material, so that the photoelectron is returned to the photoelectric generating material although weak. Therefore, a means for promptly detaching the generated photoelectrons from the photoelectron generating material is required, and the inventors have found that ventilation is particularly effective as the means. That is, since the photoelectron generated by the ventilation to the photoelectron generating material is separated from the photoelectric generating material while colliding with the gas molecules, the tendency for the photoelectron to return to the photoelectric generating material is weakened, and as a result, negative particles are efficiently generated from the apparatus.
청구항 29에 기재된 발명은 파장 영역이 200nm 이상인 광원과, 광 조사하면 광전자를 방출하는 광전자 방출판과, 상기 광전자 방출판의 표면 근방에 적어도 산소를 포함하는 가스를 통과시키는 통풍 수단을 갖고, 상기 광원에 의해서 광 조사된 광전자 방출재 표면 근방을 통과한 가스를 부재에 분사함으로써, 상기 부재의 플러스의 대전을 제거하는 대전 제거 장치이다. 이것에 의해서, 오존을 발생하지 않고, 간단하게 산소의 마이너스 입자가 발생하고, 이것을 부재에 분사하면 부재의 플러스의 대전을 제거할 수 있다. The invention according to claim 29 has a light source having a wavelength region of 200 nm or more, a photoelectron emitting plate which emits photons when irradiated with light, and ventilation means for passing a gas containing at least oxygen near the surface of the photoelectron emitting plate. It is an antistatic device which removes the positive charge of the said member by injecting the gas which passed near the surface of the photoelectron emission material irradiated by the to the member. Thereby, negative ozone particle | grains of oxygen generate | occur | produce without generating ozone, and spraying this on a member can remove the positive charge of a member.
청구항 30에 기재된 발명은 광전자 방출판의 표면이 광 조사되면 광전자를 방출하고, 또한 배리어막인 것을 특징으로 하는 대전 제거 장치로 하고, 또한 청구항 31에 기재된 발명은 광전자 방출판의 표면이 광 조사되면 광전자를 방출하는 막 이며 그 바로 아래에 배리어막을 갖는 것을 특징으로 하는 대전 제거 장치이다. 이것에 의해서, 광 조사에 의해서 광전자를 방출하는 막을 확산하고, 기초재가 이 막 표면을 피복하는 것을 방지함으로써, 마이너스 입자 발생 시간에 의해서 마이너스 이온 수가 크게 감소하는 일이 없는, 즉 장기에 걸쳐서 내구성이 우수한 대전 제거 장치가 된다. The invention as set forth in claim 30 is a charge removal device that emits photoelectrons when the surface of the photoelectron emitting plate is irradiated with light, and is also a barrier film. It is a film that emits photoelectrons and has a barrier film directly below it. As a result, by diffusing a film that emits photoelectrons by light irradiation and preventing the base material from covering the film surface, the number of negative ions does not decrease significantly due to the generation time of negative particles, that is, durability over a long period of time. It becomes an excellent antistatic device.
청구항 32에 기재된 발명은 광전자 방출재의 표면이 전기적으로 접지되어 있는 것을 특징으로 하는 대전 제거 장치로 하는 것으로, 전자방출에 의한 플러스로 대전한 광전자 방출재가 신속하게 제거되기 때문에, 보다 많은 마이너스 입자를 발생시킬 수 있어, 신속하게 부재의 플러스대전의 제거와 먼지의 제거를 할 수 있다. The invention as set forth in
청구항 33에 기재된 발명은 청구항 29 내지 32중 어느 한 항에 기재된 대전 제거 장치를 구비하고, 흡입 노즐로부터 마루 면을 향해서 상기 대전 제거 장치의 가스를 분사함으로써, 마루 면에 부착하고 있는 먼지 및 마루 면의 플러스대전을 제거하고, 마루 면에 부착한 먼지를 흡인 제거하는 전기 청소기로 하는 것으로, 마이너스만의 대전이 되기 때문에, 마루 면을 브러쉬 등으로 문지르지 않고, 더구나 오존의 발생이 없기 때문에 마루 면에 손상을 부여하는 일이 없고, 또한 작업자에게 불쾌함을 부여하지 않고 마루 면에 부착한 먼지를 제거할 수 있다. The invention according to
청구항 34에 기재된 발명은 청구항 29 내지 32중 어느 한 항에 기재된 대전 제거 장치를 구비하고, 집진부내를 향해서 상기 대전 제거 장치의 가스의 분사를 실행함으로써, 집진한 먼지 및 집진부벽의 플러스의 대전을 제거하고, 집진부내에 부착한 먼지를 떼어내기 쉽게 한 전기 청소기로, 마이너스만의 대전이 되기 때문 에, 집진한 먼지를 문지르지 않고 간단하게 제거할 수 있고, 더구나 오존의 발생이 없기 때문에, 벽면의 재료, 예컨대 플라스틱 등에 손상을 주지 않는다. 또한, 작업자에게 불쾌함을 주지 않는다. The invention according to
청구항 35에 기재된 발명은 청구항 29 내지 32중 어느 한 항에 기재된 대전 제거 장치를 구비하고, 상기 대전 제거 장치의 가스의 분사를 고압으로 실행함으로써, 부재에 부착하고 있는 먼지 및 부재의 플러스의 대전을 제거하고, 부재에 부착한 먼지를 불어서 날려버리는 공기 분출 장치로, 마이너스만의 대전이 되기 때문에, 강력한 분출력을 필요로 하지 않고 간단하게 부재의 먼지를 제거할 수 있다. 또한, 오존이 발생하지 않으므로, 부재에 대한 손상을 부여하지 않는다. 또한, 작업자에게 불쾌함을 부여하지 않는다. Invention of
청구항 36에 기재된 발명은 특히 청구항 35에 기재된 부재가 반도체 또는 액정 또는 광 디스크 부재인 것을 특징으로 한다. 그리고, 이들 부재는 서브 마이크론 레벨의 먼지를 싫어하기 때문에, 본 발명의 방법이 가장 적절하다. The invention according to claim 36 is particularly characterized in that the member according to
청구항 37에 기재된 발명은 청구항 29 내지 32중 어느 한 항에 기재된 대전 제거 장치를 구비하고, 상기 대전 제거 장치의 가스의 분출을 고압으로 실행함으로써, 인체에 부착되어 있는 먼지 및 부재의 플러스의 대전을 제거하여, 인체에 부착된 먼지를 불어 날려버리는 공기 샤워 장치로, 마이너스만의 대전이 되기 때문에, 강력한 분출력을 필요로 하지 않고 간단하게 인체의 먼지를 제거할 수 있다. 또한, 오존이 발생하지 않기 때문에, 인체에 대한 손상, 불쾌감을 주지 않는다. According to a thirty-seventh aspect of the present invention, there is provided the antistatic device according to any one of Claims 29 to 32, and the discharge of the gas of the antistatic device is performed at a high pressure, whereby positive charge of dust and members attached to the human body is prevented. It is an air shower device that removes and blows dust attached to the human body, so that only negative charge is applied, and dust of the human body can be easily removed without the need for powerful power output. In addition, since ozone is not generated, it does not cause any damage or discomfort to the human body.
또한, 배리어성을 갖고 또한 광 조사함으로써 광전자를 방출하는 막으로, 도 전성막이나 세라믹막이 좋고, 구체적으로는 티타늄 질화물, 티타늄 탄화물, 지르코늄 질화물, 지르코늄 탄화물 및 그들의 복합화합물이 유효하다. In addition, as a film having a barrier property and emitting photoelectrons by light irradiation, a conductive film or a ceramic film is preferable. Specifically, titanium nitride, titanium carbide, zirconium nitride, zirconium carbide and composite compounds thereof are effective.
또한, 기판으로서는 스테인레스, 알루미늄 등의 도전성을 갖는 금속 또는 합금이 유효하다. 이러한 구성을 취하면, 표면뿐만 아니라 기판과도 전기적으로 접지할 수 있다. 또한, 도전성을 갖지 않아도 무방하여, 유리, 플라스틱 등이 유효하고, 배리어성을 갖고 또한 광 조사함으로써 광전자를 방출하는 막과의 사이에 도전성막을 마련하여, 그것과도 전기적으로 접지할 수 있다. 그 도전성막으로서는 금속막 외에, 예컨대 ITO나 산화 주석과 같은 도전성 세라믹 또는 그들의 복합화합물이 유효하다.
Moreover, as a board | substrate, the metal or alloy which has electroconductivity, such as stainless steel and aluminum, is effective. With this configuration, it is possible to electrically ground not only the surface but also the substrate. Moreover, it is not necessary to have electroconductivity, glass, plastic, etc. are effective, and an electroconductive film can be provided between the film | membrane which emits photoelectron by barrier property and light irradiation, and can also electrically ground with it. As the conductive film, besides a metal film, for example, a conductive ceramic such as ITO or tin oxide or a composite compound thereof is effective.
이하, 본 발명의 실시예에 대하여, 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 이 실시예에 의해서 본 발명이 한정되는 것은 아니다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described, referring drawings. In addition, this invention is not limited by this Example.
(실시예 1)(Example 1)
본 발명의 실시예 1의 마이너스 이온 발생 장치에 대하여, 도 1을 이용하여 설명한다. 참조부호(1)는 광전자 방출판, 참조부호(2)는 참조부호(1)에 광 조사하기 위한 램프(광원)이며, 광전자 방출판(1)은 램프(2)를 끼우도록 통풍구의 상하벽에 접지되어 있다. 통풍구의 배후에는 팬이 설치되어, 통풍구로 공기를 보내도록 되어 있다. 또한, 특별한 명기가 없는 경우에는 광전자 방출판(1)의 기판측에 전기적으로 접지하는 어스선(3)이 설치되어 있다.
The negative ion generating apparatus of Example 1 of this invention is demonstrated using FIG. Reference numeral 1 denotes an optoelectronic emission plate,
또한, 램프(2)는 6W의 냉음극관(cold cathode tube)을 사용하여, 공기의 송풍량을 200L/min으로 했다. 또한, 특별히 명기하지 않은 경우, 모든 스위치를 온으로 했다. In addition, the
또한, 도 8은 램프(2)로서 자외선램프를 사용한 경우에 있어서의 광전자 발생의 기구를 나타낸 개념도이다. 8 is a conceptual diagram showing the mechanism of photoelectron generation when an ultraviolet lamp is used as the
본 실시예의 광전자 방출판으로서, 아크릴 기판 상에 티타늄 질화물 1㎛를 증착하여 광전자 방출판(1A)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. 또한, 전기적 접지는 티타늄 질화물막으로 실행했다. As the photoelectron emission plate of the present embodiment, 1 micrometer of titanium nitride is deposited on an acrylic substrate to produce a
또한, 본 실시예의 광전자 방출판(1A)과 비교하기 위한 비교용 광전자 방출판으로서, 아크릴 기판 상에 금 1㎛를 증착하여 광전자 방출판(1B)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. 또한, 전기적 설치는 금막으로 실행했다. In addition, as a comparison photoelectron emission plate for comparison with the
도 2는 광전자 방출판(1A와 1B)의 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수이다. 배리어성을 갖는 광전자 방출판(1A) 쪽이 장기에 걸쳐서 마이너스 입자의 수를 유지하고 있는 것을 알 수 있고, 광전자 방출판(1A)이 본 발명의 효과를 발휘하고 있는 것을 알 수 있다. 2 is the number of negative particles versus the operating time of the
(실시예 2)(Example 2)
실시예 2의 광전자 방출판으로서, 놋쇠(brass) 기판 상에 티타늄 질화물 1㎛을 증착하여 광전자 방출판(2A)을, 스테인레스 기판 상에 티타늄 질화물 1㎛을 증 착하여 광전자 방출판(2B)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. As the photoelectron emitting plate of Example 2, 1 micrometer of titanium nitride was deposited on a brass substrate to deposit the
또한, 본 실시예의 광전자 방출판(2A, 2B)과 비교하기 위한 비교용 광전자 방출판으로서, 아크릴 기판 상에 티타늄 질화물 1㎛을 증착하여 광전자 방출판(2C)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. In addition, as a comparison photoelectron emission plate for comparison with the
도 3은 광전자 방출판(2A와 2B와 2C)의 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수이다. 베이스에 도전막을 갖는 광전자 방출판(2A와 2B) 쪽이 많은 마이너스 입자의 수를 방출하고, 또한 2B의 쪽이 장기에 걸쳐서 유지하고 있는 것을 알 수 있고, 광전자 방출판(2A, 2B)이 본 발명의 효과를 발휘하고 있는 것을 알 수 있다. 3 is the number of negative particles versus the operating time of the
(실시예 3)(Example 3)
실시예 3의 광전자 방출판으로서, 아크릴 기판 상에 알루미늄을 증착하고, 또한 그 위에 티타늄 질화물 1㎛을 증착하여 광전자 방출판(3A)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. 또한, 전기적 설치는 알루미늄막으로 실행했다. As the photoelectron emission plate of Example 3, aluminum was deposited on an acrylic substrate, and 1 µm of titanium nitride was deposited thereon to produce the
도 4는 광전자 방출판(3A)과 실시예 2에 있어서의 광전자 방출판(2C)의 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수이다. 베이스에 도전막을 갖는 광전자 방출판(3A)의 쪽이 장기에 걸쳐서 많은 마이너스 입자의 수를 유지하고 있는 것을 알 수 있고, 광전자 방출판(3A)이 본 발명의 효과를 발휘하고 있는 것을 알 수 있다. 4 shows the number of negative particles with respect to the operating time of the
(실시예 4) (Example 4)
실시예 4의 광전자 방출판으로서, 스테인레스 기판 상(최대 표면 거칠기 0.8㎛)에 티타늄 질화물 0.1(4A), 0.5(4B), 1(4C), 2(4D)㎛을 증착하여 광전자 방출판(4A 내지 4D)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. As the photoelectron emitting plate of Example 4, titanium nitride 0.1 (4A), 0.5 (4B), 1 (4C) and 2 (4D) 占 퐉 are deposited on a stainless substrate (maximum surface roughness 0.8 占 퐉) to form a photoelectron emitting plate 4A. 4D) were produced, mounted on the negative ion generating device of FIG. 1, and the number of negative particles with respect to the operation time was measured.
도 5는 상기 광전자 방출판(4A 내지 4D)의 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수이다. 기초의 최대 표면 거칠기보다 두꺼운 티타늄 질화물 막두께를 갖는 광전자 방출판(4C, 4D)의 쪽이 장기에 걸쳐서 많은 마이너스 입자의 수를 유지하고 있는 것을 알 수 있어, 광전자 방출판(4C, 4D)이 본 발명의 효과를 발휘하고 있는 것을 알 수 있다. 5 is the number of negative particles versus the operating time of the photoelectron emission plates 4A to 4D. It can be seen that the
또한, 본 실시예의 광전자 방출판(4C)과 비교하기 위한 비교용 광전자 방출판으로서, 스테인레스 기판상(최대 표면 거칠기 0.8㎛)에 티타늄 질화물 1㎛를 스퍼터법으로 막을 제조하여 광전자 방출판(4E)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. Further, as a comparison photoelectron emission plate for comparison with the
도 6은 상기 광전자 방출판(4C와 4E)(모두 티타늄 질화물의 막두께 1㎛)막두께의 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수이다. 티타늄 질화물막이 치밀한 증착법에 의해서 제작한 광전자 방출판(4C) 쪽이 장기에 걸쳐서 많은 마이너스 입자의 수를 유지하고 있는 것을 알 수 있어, 광전자 방출판(4C)이 본 발명의 효과를 발휘하고 있는 것을 알 수 있다. Fig. 6 is the number of negative particles with respect to the operation time of the
(실시예 5)(Example 5)
실시예 5의 광전자 방출판으로서, 스테인레스 기판 상(최대 표면 거칠기 0.8 ㎛)에 그래파이트막 1㎛(5A) 및 DLC막(5B)을 작성하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치의 램프를 182nm가 방출하는 램프로 대체한 장치에 탑재하고, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정하여, 실시예 4의 4C의 광전자 방출판과 비교했다. As the photoelectron emission plate of Example 5, a graphite film 1 μm (5A) and a DLC film 5B were formed on a stainless substrate (maximum surface roughness 0.8 μm), and 182 nm of the lamp of the negative ion generator of FIG. 1 was emitted. It mounted in the apparatus replaced with the lamp, and measured the number of the negative particle with respect to the operation time, and compared with the photoelectric emission plate of 4C of Example 4.
도 7은 상기 광전자 방출판(5A, 5B, 및 4C)의 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수이다. 그래파이트를 광전자 방출재에 이용한 광전자 방출재(5A)가 초기에 많은 마이너스 입자를 방출하고 있는 것을 알 수 있다. 한편, DLC을 광전자 방출재에 이용한 광전자 방출재(5B)는 초기 적은 마이너스 입자이지만, 이것을 장기에 걸쳐서 유지하고 있는 것을 알 수 있다. 7 is the number of negative particles versus the operating time of the
(실시예 6)(Example 6)
본 발명의 실시예 6의 마이너스 이온 발생 장치를 도 1을 이용하여 설명한다. 참조부호(1)는 광전자 방출판, 참조부호(2)는 참조부호(1)에 광 조사하기 위한 램프(광원)이며, 광전자 방출판(1)은 램프(2)를 끼우도록 통풍구의 상하벽에 접지되어 있다. 통풍구의 배후에는 팬이 설치되어, 통풍구에 공기를 보내도록 되어 있다. 또한 특별한 명기가 없는 경우에는 광전자 방출판(1)의 기판측에 전기적으로 접지하는 어스선(3)이 설치되어 있다. The negative ion generating apparatus of Example 6 of the present invention will be described with reference to FIG. Reference numeral 1 denotes an optoelectronic emission plate,
또한, 램프(2)는 6W의 냉음극관을 사용하고, 공기의 송풍량을 200L/min으로 했다. 또한, 특별히 명기하지 않는 경우, 모든 스위치를 온으로 했다. In addition, the
본 실시예의 광전자 방출판으로서, 아크릴 기판 상에 스퍼터법으로 실리카(silica) 1㎛를 마련하고, 그 위에 금 1㎛를 증착하여 광전자 방출판(6A)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너 스 입자의 수를 측정했다. 또한, 전기적 접지는 금막으로 실행했다. As the photoelectron emission plate of this embodiment, 1 µm of silica is provided on an acrylic substrate by sputtering, 1 µm of gold is deposited thereon to produce a
또한, 본 실시예의 광전자 방출판(1A)과 비교하기 위한 비교용 광전자 방출판으로서, 아크릴 기판 상에 금 1㎛를 증착하여 광전자 방출판(1B)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. 또한, 전기적 접지는 금막으로 실행했다. In addition, as a comparison photoelectron emission plate for comparison with the
도 9는 상기 광전자 방출판(6A와 6B)의, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수이다. 배리어성을 갖는 광전자 방출판(6A) 쪽이 장기에 걸쳐서 마이너스 입자의 수를 유지하고 있는 것을 알 수 있고, 광전자 방출판(6A)이 본 발명의 효과를 발휘하고 있는 것을 알 수 있다. 9 is the number of negative particles with respect to the operating time of the
(실시예 7)(Example 7)
다음에, 실시예 7의 광전자 방출판으로서, 아크릴 기판 상에 티타늄 질화물 1㎛를 증착하고, 그 위에 금 1㎛를 증착하여 광전자 방출판(7A)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. 또한, 전기적 접지는 티타늄 질화물으로 실행했다. Next, as the photoelectron emitting plate of Example 7, 1 micrometer of titanium nitride was deposited on an acrylic substrate, and 1 micrometer of gold was deposited thereon to produce a
또한, 본 실시예의 광전자 방출판(7A)과 비교하기 위한 비교용 광전자 방출판으로서, 아크릴 기판 상에 스퍼터법으로 실리카 1㎛를 마련하고, 그 위에 금 1㎛를 증착하여 광전자 방출판(7B)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. 또한, 전기적 접지는 실리카로 실행했다. In addition, as a comparison photoelectron emission plate for comparison with the
도 10은 상기 광전자 방출판(7A와 7B)의 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수이다. 베이스에 도전막을 갖는 광전자 방출판(7A) 쪽이 장기에 걸쳐서 많은 마이너스 입자의 수를 방출하여 유지하고 있는 것을 알 수 있고, 광전자 방출판(7A)이 본 발명의 효과를 발휘하고 있는 것을 알 수 있다. 10 is the number of negative particles versus the operating time of the
(실시예 8)(Example 8)
다음에, 실시예 8의 광전자 방출판으로서, 놋쇠 기판 상에 티타늄 질화물 1㎛를 증착하고, 또한 그 위에 금 1㎛를 증착하여 광전자 방출판(8A)을, 스테인레스 기판 상에 티타늄 질화물 1㎛를 증착하고, 또한 그 위에 금 1㎛를 증착하여 광전자 방출판(8B)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. Next, as the photoelectron emitting plate of Example 8, 1 micrometer of titanium nitride was deposited on a brass substrate, and 1 micrometer of gold was deposited thereon, and the
또한, 본 실시예의 광전자 방출판(8A)과 비교하기 위한 비교용 광전자 방출판으로서, 아크릴 상에 티타늄 질화물 1㎛를 증착하고, 또한 그 위에 금 1㎛를 증착하여 광전자 방출판(8C)을 제작하고, 도 1의 마이너스 이온 발생 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수를 측정했다. In addition, as a comparison photoelectron emission plate for comparison with the
도 11은 광전자 방출판(8A와 8B와 8C)의 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수이다. 기판이 도전성인 경우의 광전자 방출판(8A와 8B)의 쪽이 많은 마이너스 입자의 수를 방출하고, 또한 8B의 쪽이 장기에 걸쳐서 유지하고 있는 것을 알 수 있어, 광전자 방출판(8A, 8B)이 본 발명의 효과를 발휘하고 있는 것을 알 수 있다. 11 is the number of negative particles versus the operating time of the
(실시예 9)(Example 9)
도 12은 본 발명의 실시예 9의 마이너스 입자 발생 장치의 요부 단면도이다. 도 12에 있어서, 망형상의 광전자 발생재(4)가 대략 원통형의 용기(9)의 내주 및 공기 출구(7) 근방에 설치되어 있다. 상기 공기 출구(7) 근방에 설치된 광전자 발생재(4)는 공기의 흐르는 방향과 대략 직각이 되도록 설치된다. 망형상의 광전자 발생재(4)에는 전기적인 접지(8)가 장착되어 있다. 광원(5)으로부터의 자외선 등의 빛에 의해서 망형상의 광전자 발생재(4)로부터 광전자가 발생하고, 공기 입구(6)로부터 들어오는 공기중의 물이나 산소 등의 분자 또는 먼지 등의 미립자에 광전자가 포획되어 마이너스 입자로서 공기 출구(7)로부터 장치 밖으로 방출된다. 12 is a sectional view of principal parts of the negative particle generator in Example 9 of the present invention. In FIG. 12, a mesh-shaped
본 실시예에서는 상기 망형상의 광전자 발생재(4)는 금, 백금, 은, 동, 스테인레스, 티타늄 질화물 중에서 선택된 1종류 이상인 것을 사용하고 있다. 이들 광전자 발생재는 일 함수가 작고, 빛을 조사했을 때에 금속 표면에서 효율적으로 광전자가 발생하기 때문에, 마이너스 입자를 효율적으로 발생시키는 데 적합하다. In this embodiment, the mesh-shaped
또한, 본 실시예에서는 전기적인 접지(8)를 망형상의 광전자 발생재(4)에 장착하고 있다. 광전 효과에 의해서 광전자가 방출된 광전자 발생재(4)에는 광전자의 방출 개소에 정공이 생기고, 광전자와 정공과의 사이에 전기적 인력이 작용하여, 발생한 광전자가 광전자 발생재(4)에 흡착된다. 거기에서 광전자 발생재(4)를 전기적으로 접지함으로써, 정공에는 전자가 보충되기 때문에, 방출된 광전자가 정공으로 되돌아가는 일이 없으므로, 마이너스 입자를 감소시키지 않고 발생시키는 데 적합하다. In addition, in this embodiment, the
이하, 본 실시예의 효과에 대하여 실험예을 이용하여 설명한다. Hereinafter, the effect of this embodiment is demonstrated using an experiment example.
용기(9)로서 내경 3cm, 길이 7cm인 스테인레스로 만든 용기를 사용하고, 망형상의 광전자 발생재(4)로서 두께 0.1mm의 금을 사용했다. 또한, 광원(5)으로서 3W의 자외선램프를 사용했다. As the
망형상의 광전자 발생재(4)에 전기적인 접지(8)를 장착하고, 본 실시예의 마이너스 입자 발생 장치의 성능을 평가하기 위한 실험을 했다. 광원(5)의 자외선 살균 램프를 점등하고, 마이너스 입자를 발생시켰다. 측정은 공기 출구(7)로부터 1cm의 위치에서 실행하고, 장치 작동 후로부터 2분마다 10분간, 단위 부피당 마이너스 입자의 수를 이온측정기로 측정했다. The
또한, 종래예로서 도 18에 나타낸 장치로, 상기와 동일한 시험을 하여 마이너스 입자의 수를 측정했다. 이들 시험 결과를 정리하여 도 13에 나타낸다. Moreover, with the apparatus shown in FIG. 18 as a prior art example, the same test as above was performed and the number of negative particles was measured. These test results are put together and are shown in FIG.
도 13의 결과로부터 분명한 바와 같이, 본 발명의 마이너스 입자 발생 장치를 이용하면, 종래예에 비교해서 마이너스 입자의 발생량이 많이 안정하고 있는 것을 알 수 있다. As is clear from the results of FIG. 13, it can be seen that when the negative particle generator of the present invention is used, the amount of generation of negative particles is more stable than in the conventional example.
(실시예 10)(Example 10)
도 14은 본 발명의 실시예 10의 마이너스 입자 발생 장치의 요부 단면도이다. 도 14에 있어서, 망형상의 광전자 발생재(11)가 망형상의 도전성 기재(12)의 표면에 담지(擔持)되어 있는 것 외에는 실시예 9와 동일하고, 동일 부분에는 동일 부호를 부여하여 상세한 설명을 생략한다. 14 is a sectional view of principal parts of the negative particle generator in Example 10 of the present invention. In FIG. 14, the meshed
본 실시예에서는 상기 광전자 발생재(11)는 금, 백금, 은, 동, 스테인레스, 티타늄 질화물 중에서 선택된 1종류 이상의 것을 사용하고 있다. 이들 광전자 발생재는 일 함수가 작고, 자외선을 조사했을 때에 금속 표면에서 효율적으로 광전자가 발생하기 때문에, 마이너스 입자를 효율적으로 발생시키는 데 적합하다.
In the present embodiment, the
또한, 본 실시예에서는 전기적인 접지(8)를 망형상 도전성 기재(12)에 장착하고 있다. 광전 효과에 의해서 광전자가 방출된 광전자 발생재(11)는 광전자의 방출 개소에 정공을 할 수 있고, 광전자와 정공 사이에 전기적 인력이 작용하여, 발생한 광전자가 광전자 발생재에 흡착된다. 그래서 도전성 기재를 전기적으로 접지함으로써, 정공에는 전자가 보충되기 때문에, 방출된 광전자가 정공으로 되돌아가는 일이 없으므로, 마이너스 입자를 감소시키지 않고 발생시키는 데 적합하다. In this embodiment, the
이하, 본 실시예의 효과에 대하여 실험예을 이용하여 설명한다. Hereinafter, the effect of this embodiment is demonstrated using an experiment example.
용기(9)로서 내경 3cm, 길이 7cm인 스테인레스로 만든 원통형 용기를 이용하고, 망형상의 도전성 기재(12)로서 두께 0.5mm인 스테인레스를 이용하고, 이것에 망형상의 광전자 발생재(11)로서 금을 도금했다. 또한, 광원(5)으로서 3W의 자외선 살균 램프를 이용했다. As the
망형상의 도전성 기재(12)에 전기적인 접지(8)를 장착하고, 본 실시예의 마이너스 입자 발생 장치의 성능을 평가하기 위한 실험을 했다. 광원(5)의 자외선 살균 램프를 점등하여, 마이너스 입자를 발생시켰다. 측정은 공기 출구(7)로부터 1cm의 위치에서 실행하고, 장치 작동 후로부터 2분마다 10분간, 단위 부피당 마이너스 입자의 수를 이온측정기로 측정했다. 시험 결과를 도 15에 나타낸다. The
도 15의 결과로부터 분명한 바와 같이, 본 발명의 마이너스 입자 발생 장치를 이용하면, 항상 안정적인 마이너스 입자의 발생이 보였다. 이것으로부터, 본 발명은 마이너스 입자의 발생을 감소시키지 않고, 항상 일정하게 공기중으로의 마이너스 입자의 공급을 실현할 수 있었다. As is clear from the results of FIG. 15, when the negative particle generator of the present invention was used, stable negative particle generation was always observed. From this, the present invention was able to realize the supply of negative particles to the air at all times without reducing the occurrence of negative particles.
(실시예 11)(Example 11)
도 16는 본 발명의 실시예 11의 마이너스 입자 발생 장치의 요부 단면도이다. 도 16에 있어서, 통풍 장치(21)가 설치되어 있는 것 이외에는 실시예 10과 동일하고, 동일 부분에는 동일 부호를 부여하여 상세한 설명을 생략한다. 16 is a sectional view of principal parts of the negative particle generator in Example 11 of the present invention. In FIG. 16, it is the same as that of Example 10 except having provided the
본 실시예에서는 상기 광전자 발생재(11)는 금, 백금, 은, 동, 스테인레스, 티타늄 질화물 중에서 선택된 1종류 이상의 것을 사용하고 있다. 이들 광전자 발생재는 일 함수가 작고, 자외선을 조사했을 때에 금속 표면에서 효율적으로 광전자가 발생하기 때문에, 마이너스 입자를 효율적으로 발생시키는 데 적합하다. In the present embodiment, the
또한, 본 실시예에서는 전기적인 접지(8)를 망형상 도전성 기재(12)에 장착하고 있다. 광전 효과에 의해서 광전자가 방출된 광전자 발생재(11)는 광전자의 방출 개소에 정공을 할 수 있고, 광전자와 정공과의 사이에 전기적 인력이 작용하여, 발생한 광전자가 광전자 발생재에 흡착된다. 그래서 도전성 기재를 전기적으로 접지함으로써, 정공에는 전자가 보충되기 때문에, 방출된 광전자가 정공으로 되돌아가는 일이 없으므로, 마이너스 입자를 감소시키지 않고 발생시키는 데 적합하다. In this embodiment, the
이하, 본 실시예의 효과에 대하여 실험예 1을 이용하여 설명한다. Hereinafter, the effect of this embodiment is demonstrated using Experimental example 1.
용기(9)로서 내경 3cm, 길이 7cm인 스테인레스로 만든 용기를 이용하고, 망형상의 도전성 기재(12)로서 두께 0.5mm의 스테인레스를 이용하고, 이것에 광전자 발생재(11)로서 금을 도금했다. 또한, 광원(5)으로서 3W의 자외선램프를 이용했다.
As the
망형상의 도전성 기재(12)에 전기적인 접지(8)를 장착하고, 본 실시예의 마이너스 입자 발생 장치의 성능을 평가하기 위한 실험을 했다. 광원(5)의 자외선램프를 점등하고, 통풍 수단(21)을 작동하여, 마이너스 입자를 발생시켰다. 측정은 공기 출구(7)로부터 1cm인 위치에서 실행하고, 장치 작동 후로부터 2분마다 10분간, 단위 부피당 마이너스 입자의 수를 이온측정기로 측정했다. 시험 결과를 도 17에 나타낸다. The
도 17의 결과로부터 분명한 바와 같이, 본 발명의 마이너스 입자 발생 장치를 이용하면, 항상 안정적인 마이너스 입자의 발생이 보였다. 이것으로부터, 통풍 수단을 이용하면, 마이너스 입자의 발생이 한층 더 많아지고, 또한 항상 일정하게 공간내로의 마이너스 입자의 공급을 실현할 수 있었다. As is clear from the results of FIG. 17, when the negative particle generator of the present invention is used, the generation of stable negative particles is always observed. From this, by using the ventilation means, the generation of the negative particles was further increased, and the supply of the negative particles into the space was always realized constantly.
다음에, 본 실시예의 효과에 대하여 실험예 2를 이용하여 설명한다. Next, the effect of a present Example is demonstrated using Experimental Example 2. FIG.
광전자 발생재(11)로서, 금, 백금, 은, 동, 스테인레스, 티타늄 질화물으로 이루어지는 마이너스 입자 발생 장치를 이용하여, 실험예 1과 동일한 방법으로 마이너스 입자를 측정했다. 또한, 측정은 공기 출구(7)로부터 1cm인 위치에서 실행하여, 장치 작동 후 2분 후에 단위 부피당 마이너스 입자의 수를 이온측정기로 측정했다. 측정 결과를 표 1에 나타낸다.
As the
표 1의 결과로부터 분명한 바와 같이, 본 실시예의 마이너스 입자 발생 장치를 이용하여, 광전자 발생재로서, 금, 백금, 은, 동, 스테인레스, 티타늄 질화물을 이용하면, 많은 마이너스 입자가 발생하는 것이 판명되었다. 그중에서도 특히 금, 백금, 티타늄 질화물을 이용한 경우에 대량의 마이너스 입자가 발생하는 것을 알 수 있었다. As is clear from the results in Table 1, it was found that using the negative particle generator of the present embodiment, when gold, platinum, silver, copper, stainless, and titanium nitride were used as the photoelectron generating material, many negative particles were generated. . Among them, it was found that a large amount of negative particles are generated especially when gold, platinum and titanium nitride are used.
다음에, 본 실시예의 효과에 대하여 실험예 3을 이용하여 설명한다. Next, the effect of a present Example is demonstrated using Experimental Example 3. FIG.
광전자 발생재(11)로서 금, 망형상의 도전성 기재(12)로서 동, 알루미늄, 스테인레스, 놋쇠로 이루어지는 마이너스 입자 발생 장치를 이용하여, 실험예 1과 동일한 방법으로, 마이너스 입자의 측정을 했다. 또한, 측정은 공기 출구(7)로부터 1cm의 위치에서 실행하고, 장치 작동 후 2분 후에 단위 부피당 마이너스 입자의 수를 이온측정기로 측정했다. 측정 결과를 표 2에 나타낸다. As a
표 2의 결과로부터 분명한 바와 같이, 본 실시예의 마이너스 입자 발생 장치를 이용하여, 광전자 발생재로서 금, 도전성 기재로서 동, 알루미늄, 스테인레스, 놋쇠를 이용하면, 많은 마이너스 입자가 발생하는 것이 판명되었다. 그중에서도 특히 스테인레스를 이용한 경우에 대량의 마이너스 입자가 발생하는 것을 알 수 있었다. As is clear from the results in Table 2, it was found that using the negative particle generator of the present embodiment, when gold, copper, aluminum, stainless, and brass were used as the photoelectron generating material and copper, aluminum, stainless, and brass as the conductive substrate, many negative particles were generated. Among them, it was found that a large amount of negative particles are generated, especially when stainless is used.
또한, 상기 실시예 9 내지 실시예 11에 있어서, 내경 3cm, 길이 7cm인 스테인레스로 만든 용기를 이용했지만, 형상, 크기, 두께, 종류는 한정되는 것이 아니라, 마이너스 입자 발생 장치로서 적용할 수 있는 형상이나 크기나 두께나 종류라면, 어떠한 것이라도 상관없다. Further, in Examples 9 to 11, although a container made of stainless steel having an inner diameter of 3 cm and a length of 7 cm was used, the shape, size, thickness, and type are not limited, and the shape can be applied as a negative particle generator. Any size or thickness or type may be used.
또한, 실시예 10, 실시예 11에서는 망형상의 도전성 기재로서 두께 0.5mm인 스테인레스를 이용했지만, 두께, 종류는 한정되는 것이 아니라, 도전성이며, 또한 광전자 발생재를 담지할 수 있으면, 어떠한 것이라도 상관없다. In Example 10 and Example 11, stainless steel having a thickness of 0.5 mm was used as the mesh-shaped conductive base material, but the thickness and type are not limited, but any type of conductive material can be used as long as it is conductive and can support the photoelectron generating material. none.
이상과 같이 본 실시예에 있어서, 공간에 마이너스 입자를 첨가하는 마이너스 입자 발생 장치를 얻을 수 있었다. 또한, 본 실시예의 마이너스 입자 발생 장치를 구비한 공기 조화 장치로서, 공기 청정기, 에어컨디셔너, 팬히터, 제습기, 가습기, 간호 냄새(skatole) 등의 탈취기, 화장실용 탈취기 등에도 응용 가능한 것은 말할 필요도 없다. As mentioned above, in the present Example, the negative particle generating apparatus which adds negative particle to space was obtained. Furthermore, it is needless to say that the air conditioner provided with the negative particle generator of this embodiment is applicable to an air purifier, an air conditioner, a fan heater, a dehumidifier, a humidifier, a deodorizer such as a nursing skatole, a deodorizer for a bathroom, and the like. none.
또한, 상기 실시예에 있어서, 망형상의 광전자 발생재(4)를 용기(9)의 내주 및 공기 출구(7) 근방의 양쪽에 마련했지만, 용기(9)의 내주에 마련하는 것은 본 발명의 필수요건이 아니고, 또한 공기 출구(7) 근방에 마련하는 것에 대해서도, 용기(9)내에 흐르는 공기를(망형상이기 때문에 실질 차단은 하지 않지만) 차단하는 위치에 설치되어 있으면 지장이 없어, 공기 출구(7) 근방으로 한정하는 것을 아니 다. In addition, in the said Example, although the mesh-shaped
또한, 상기 실시예에 있어서 망형상의 광전자 발생재(4)를 공기의 흐르는 방향과 대략 직각이 되도록 마련하고 있지만, 이 각도로 한정하는 것이 아니고, 용기(9)내에 흐르는 공기가 망형상의 광전자 발생재(4)에 충돌하거나, 또는 광전자 발생재(4)의 망의 눈을 통과하도록 설치되면 지장이 없다. Further, in the above embodiment, the mesh-shaped
(실시예 12)(Example 12)
본 발명의 실시예 12에 있어서의 대전 제거 장치에 대하여 도 19를 이용하여 설명한다. 참조부호(31)는 200nm 이상의 파장 영역을 갖는 광원, 참조부호(32)는 광전자 방출판이고, 광전자 방출판(32)은 광원(31)을 끼우도록 통풍구의 상하벽에 접지되어 있다. 통풍구의 배후에는 적어도 산소를 포함하는 가스를 통과시키는 통풍 수단으로서 팬(33)이 설치되어, 통풍구로 공기를 보내도록 되어 있다. 또한, 특별한 명기가 없는 경우에는 광전자 방출판(32)의 기판의 가장 표면에 전기적으로 접지하는 어스선(34)이 설치되어 있다. An apparatus for removing electricity in
또한, 광원(31)은 6W의 냉음극관을 사용하고, 공기의 송풍량을 200L/min(압력 가변)으로 했다. 또한, 특별히 명기하지 않는 경우, 모든 스위치를 온으로 했다. In addition, the
(구체 실시예 1)(Example 1)
놋쇠 기판에 금 1㎛를 도금하여 광전자 방출판(9A)을 제작하고, 도 19의 대전 제거 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 플러스로 대전한 부재를 중화하는 마이너스 입자의 수를 측정했다. 또한, 전기적 접지는 놋쇠로 실행했다.
The
(구체 실시예 2)(Example 2)
놋쇠 기판에 티타늄 질화물 1㎛를 증착하여 광전자 방출판(9B)을 제작하고, 도 19의 대전 제거 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 플러스로 대전한 부재를 중화하는 마이너스 입자의 수를 측정했다. 또한, 전기적 접지는 놋쇠로 실행했다. 1 micrometer of titanium nitride was deposited on the brass board | substrate, the
(구체 실시예 3)(Example 3)
놋쇠 기판에 SiOx막을 증착하고, 그 위에 금을 증착하여 광전자 방출판(9C)를 제작하고, 도 19의 대전 제거 장치에 탑재하여, 동작 시간에 대한 플러스로 대전한 부재를 중화하는 마이너스 입자의 수를 측정했다. 또한, 전기적 접지는 금으로 실행했다. The number of negative particles for depositing a SiOx film on a brass substrate, depositing gold thereon to produce a
(플러스로 대전한 플라스틱의 대전 제거)(Charge removal of plus charged plastic)
구체 실시예 1, 2, 3의 가스를 플러스로 대전하고 있는 수지에 분사하고, 플러스의 대전량을 측정한 결과, 플러스의 대전량이 감소하고 있는 것을 알 수 있어, 본 발명의 효과가 발휘되고 있는 것을 알 수 있었다. 또한, 양쪽 모두 오존냄새는 인정을 받을 수 없었다. As a result of injecting the gas of the specific examples 1, 2, and 3 into the positively charged resin, and measuring the positive charge amount, it can be seen that the positive charge amount is decreasing, and the effect of the present invention is exhibited. I could see that. In addition, ozone odor was not recognized in both cases.
(배리어성을 갖고, 또한 광 조사함으로써 광전자를 방출하는 광전자 방출재의 특성)(Characteristics of the photoelectron emission material which has barrier property and emits photoelectron by light irradiation)
도 20은 대전 제거 장치(9A, 9B, 9C)의 동작 시간에 대한 마이너스 입자의 수이다. 배리어성을 갖는 광전자 방출판(9B, 9C) 쪽이 배리어성을 갖지 않는 광전자 방출판(9A)에 비교하여, 장기에 걸쳐서 마이너스 입자의 수를 유지하고 있는 것을 알 수 있어, 광전자 방출판(9B, 9C)이 본 발명의 효과를 발휘하고 있는 것을 알 수 있다. 20 is the number of negative particles with respect to the operating time of the
(비교예1)(Comparative Example 1)
상기 구체 실시예 2의 대전 제거 장치(9B)의 접지를 제거한 대전 제거 장치(9D)에 대하여, 상기와 같이 플러스로 대전한 부재를 중화하는 마이너스 입자의 수를 측정했다. The number of negative particles neutralizing the positively charged member as described above was measured with respect to the antistatic device 9D from which the grounding of the
(접지의 유무에 따른 플러스로 대전한 부재를 중화하는 마이너스 입자의 수)(Number of negative particles neutralizing the positively charged member with or without ground)
플러스로 대전한 부재를 중화하는 마이너스 이온의 수를 측정한 결과, 대전 제거 장치(9B)의 경우가 100만개/cm3에 대하여, 대전 제거 장치(9D)의 경우는 3000개/cm3으로, 본 발명의 효과가 밝혀졌다. As a result of measuring the number of negative ions that neutralize the positively charged member, the
(구체 실시예 4)(Example 4)
도 21과 같이, 구체 실시예 2의 대전 제거 장치(9B)와 같은 기능을 갖는 대전 제거 장치(35)를 전기 청소기의 흡인 노즐의 마루 면측에 탑재하여, 본 발명의 전기 청소기(32A)(흡입 효율 200W)를 제작했다. 이것을 이용하여, 5g의 제올라이트(zeolite)가 부착하고 있는 플라스틱의 마루(폭은 흡인 노즐과 같은 폭) 위에서 흡인 노즐을 1회 왕복시켰다. As shown in FIG. 21, the
(비교예 2)(Comparative Example 2)
대전 제거 장치(35)를 탑재하지 않은 것 외에는 완전히 상기 구체 실시예 4와 같은 전기 청소기(32B)(흡입 효율 200W)를 제작했다. 이것을 이용하여, 상기 구체 실시예 4와 완전히 같은 방법으로 5g의 제올라이트가 부착되어 있는 플라스틱 의 마루(폭은 흡인 노즐과 같은 폭)위에서 흡인 노즐을 1회 왕복시켰다. The vacuum cleaner 32B (suction efficiency 200W) similar to the specific example 4 was produced except having not attached the
(제올라이트의 집진 능력의 평가)(Evaluation of Zeolite's Dust Collection Capacity)
전기 청소기(32A)와 전기 청소기(32B)에서 제올라이트의 집진량을 비교한 결과, 전기 청소기(32A)의 경우가 4.9g인데 대하여, 전기 청소기(32B)의 경우는 3.9g으로, 본 발명의 대전 제거 장치(35) 탑재의 효과가 실증되었다. 또한, 전기 청소기(32A)에서 오존냄새는 인정을 받을 수 없었다. As a result of comparing the dust collection amount of the zeolite with the
(구체 실시예 5)(Example 5)
도 22와 같이, 구체 실시예 2의 대전 제거 장치(9B)와 같은 기능을 갖는 대전 제거 장치(35)를 전기 청소기 본체의 집진부에 탑재하여, 본 발명의 전기 청소기(33A)(흡입 효율 200W)를 제작했다. 이것을 이용하여, 10g의 제올라이트를 흡인한 뒤, 집진부 뚜껑을 열고, 집진부 뚜껑을 밑으로 하여, 집진한 제올라이트가 자연 낙하하는 양을 측정했다. As shown in FIG. 22, the
(비교예 3)(Comparative Example 3)
대전 제거 장치(35)를 탑재하지 않는 것 외에는 완전히 상기 구체 실시예 5와 동일한 전기 청소기(33B)(흡입 효율 200W)를 제작했다. 이것을 이용하여, 상기 구체 실시예 5와 완전히 같은 방법으로, 10g의 제올라이트를 흡인한 뒤, 집진부 뚜껑을 열고, 집진부 뚜껑을 밑으로 하여, 집진한 제올라이트가 자연 낙하하는 양을 측정했다. The vacuum cleaner 33B (suction efficiency 200W) similar to the specific example 5 was produced except having not attached the
(제올라이트의 집진 능력의 평가)(Evaluation of Zeolite's Dust Collection Capacity)
전기 청소기(33A)와 전기 청소기(33B)에서 제올라이트의 낙하량을 비교한 결 과, 전기 청소기(33A)의 경우가 7.9g인데 대하여, 전기 청소기(33B)의 경우는 5.9g 으로, 본 발명의 대전 제거 장치(35) 탑재의 효과가 실증되었다. 또한, 흡인량 10g에 대하여 집진량이 적었던 것은 전기 청소기의 흡인로 예컨대 호스 등에 부착하고 있었기 때문이며, 거기에도 본 발명의 대전 제거 장치에 의해서 가스를 보내면, 회수율이 오르는 것을 알 수 있다. 또한, 전기 청소기(33A)에서 오존냄새는 인정받을 수 없었다. As a result of comparing the fall amount of zeolite in the
(구체 실시예 6)(Example 6)
상기 구체 실시예 2의 대전 제거 장치(9B)에서의 팬(33) 대신에 고압 가스를 생성하는 압축기(송풍압 3kgf/cm2)를 탑재한 공기 분출 장치(34A)(도시하지 않음)를 제작했다. 이것을 이용하여, 0.1g의 유리 구슬(3㎛ 직경)을 도포한 13.3인치 액정 패널 유리부재에 내뿜고, 잔존하는 유리 구슬 밀도를 측정했다. Instead of the
(비교예 4)(Comparative Example 4)
대전 제거 장치(9B)를 탑재하지 않는 것 이외에는 완전히 상기 구체 실시예 6과 동일한 공기 분출 장치(34B)(도시하지 않음, 흡입 효율 200W)를 제작했다. 이것을 이용하여, 상기 구체 실시예 6과 완전히 같은 방법으로, 0.1g의 유리 구슬(3㎛ 직경)을 도포한 13.3인치 액정 패널 유리부재에 내뿜고, 잔존하는 유리 구슬 밀도를 측정했다. Except not mounting the
(유리 구슬의 제거 능력의 평가)(Evaluation of Removal Ability of Glass Beads)
공기 분출 장치(34A)와 공기 분출 장치(34B)에서 유리 구슬의 잔존량을 비교 한 결과, 공기 분출 장치(34A)의 경우는 1개/cm2 이하인데 대하여, 공기 분출 장치(34B)의 경우는 4×103개/cm2으로, 본 발명의 대전 제거 장치 탑재의 효과가 실증되었다. 또한, 공기 분출 장치(34A)에서, 오존냄새는 인정을 받을 수 없었다. As a result of comparing the remaining amount of glass beads in the air blowing device 34A and the air blowing device 34B, the air blowing device 34A is 1 / cm 2 or less, whereas the air blowing device 34B is Is 4 x 10 < 3 > / cm < 2 >, and the effect of mounting the antistatic device of the present invention was demonstrated. In addition, in the air blowing device 34A, the ozone smell could not be recognized.
또한, 반도체, 광 디스크부재에 대해서도 마찬가지의 효과가 인정을 받았다. Moreover, the same effect was recognized also about a semiconductor and an optical disk member.
또한, 부재뿐만 아니라 인체에도 동일한 효과가 있어, 반도체공장 등의 공기 샤워에 이용 가능하다.
In addition, it has the same effect not only on the member but also on the human body, and can be used for air showers in semiconductor factories and the like.
본 발명에 의하면, 마이너스 입자 발생 시간에 따라서, 마이너스 이온 수가 크게 감소하는 일이 없는, 즉 장기에 걸쳐서 내구성이 우수한 광전자 방출판 및 이것을 이용한 마이너스 입자 발생 장치를 실현할 수 있다.
According to the present invention, according to the negative particle generation time, the photoelectron emission plate excellent in durability and the negative particle generating device using the same can be realized without a significant decrease in the number of negative ions.
Claims (37)
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JPJP-P-2003-00007993 | 2003-01-16 | ||
JPJP-P-2003-00014571 | 2003-01-23 | ||
JPJP-P-2003-00014572 | 2003-01-23 | ||
JP2003014571 | 2003-01-23 | ||
JP2003014572A JP4059086B2 (en) | 2003-01-23 | 2003-01-23 | Photoelectron emission plate and negative particle generator using the same |
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JPJP-P-2003-00113849 | 2003-04-18 |
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KR100984900B1 true KR100984900B1 (en) | 2010-10-01 |
Family
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Country Status (4)
Country | Link |
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US (1) | US7843678B2 (en) |
EP (1) | EP1453162A3 (en) |
KR (1) | KR100984900B1 (en) |
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CN1518180A (en) | 2004-08-04 |
CN100394654C (en) | 2008-06-11 |
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Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |