KR100979759B1 - 개폐 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

개폐 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 Download PDF

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Abstract

개폐 유닛은 에어 셔터, 에어 공급부 및 에어 배출부를 포함한다. 에어 셔터는 외벽의 입구에 설치되고, 에어에 의해 팽창 및 수축할 수 있 벨로우즈(bellows) 형태로 이루어진다. 에어 공급부는 에어 셔터와 연결되고, 에어를 공급하여 에어 셔터를 팽창시킴으로써 입구를 차단시킨다. 에어 배출부는 에어 셔터와 연결되고, 에어 공급부에 의해 공급된 에어를 배출하여 에어 셔터를 수축시킴으로써 입구를 개방한다. 따라서, 에어에 의해 수축 및 팽창하는 에어 셔터를 통해 공정 챔버의 입구를 개방 및 차단함으로써, 개폐 구조를 간단하게 구성할 수 있다.

Description

개폐 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{OPENING/CLOSING UNIT AND APPARATUS FOR PROCESSING A GLASS INCLUDING THE SAME}
본 발명은 개폐 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 기판을 처리하기 위한 공간을 제공하는 공정 챔부의 입구를 개방 및 차단하는 개폐 유닛 및 상기 유닛을 포함하여 상기 기판을 처리하는 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 평판표시장치에서 영상을 표시하는 사용되는 디스플레이 소자는 투명한 유리 재질의 기판을 기초로 하여 제조된다. 구체적으로, 상기 디스플레이 소자는 증착 공정, 식각 공정, 포토리소그래피 공정, 세정 공정등을 수행하여 제조된다.
이러한 공정들 중 식각 공정 또는 세정 공정은 공정 챔버에 상기 기판을 로딩시킨 후, 상기 식각 공정 또는 상기 세정 공정에 따른 케미컬을 상기 기판에 분사하면서 수행한다.
이때, 상기 공정 챔버는 일측벽에 상기 기판을 로딩하기 위한 입구가 형성된다. 이러한 상기 입구는 상기 기판을 대상으로 상기 식각 공정 및 상기 세정 공정 이 실질적으로 진행되는 동안 상기 케미컬이 외부로 누출되는 것을 방지하기 위하여 별도의 셔터를 의해 차단된다.
구체적으로, 상기 셔터는 상기 공정 챔버 중 상기 입구가 형성된 일측벽을 슬라이딩 방식에 따라 이동하면서 상기 입구를 개방 및 차단하는 구조를 갖는다.
이때, 상기 셔터를 슬라이딩 방식에 따라 이동시키기 위해서는 회전력을 발생하는 모터 또는 로터리 실린더, 상기 회전력을 직선 구동력으로 전환하기 위한 랙(rack) 및 피니온(piniob) 기어 등이 필요하게 된다.
즉, 상기 입구를 개폐하는 구조가 복잡하게 구성됨으로써, 제조 비용도 증가하고 유지 보수 작업의 빈도수도 많아지는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 목적은 공정 챔버의 입구를 간단하게 개방 및 차단할 수 있는 개폐 유닛을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 상기한 개폐 유닛을 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 일 특징에 따른 개폐 유닛은 에어 셔터, 에어 공급부 및 에어 배출부를 포함한다. 상기 에어 셔터는 외벽의 입구에 설치되고, 에어에 의해 팽창 및 수축할 수 있 벨로우즈(bellows) 형태로 이루어진다. 상기 에어 공급부는 상기 에어 셔터와 연결되고, 상기 에어를 공급하여 상기 에어 셔터를 팽창시킴으로써 상기 입구를 차단시킨다. 상기 에어 배출부는 상기 에어 셔터와 연결되고, 상기 에어 공급부에 의해 공급된 에어를 배출하여 상기 에어 셔터를 수축시킴으로써 상기 입구를 개방한다.
상기 에어 셔터는 일측면이 상기 입구에서 상기 공정 챔버에 고정된 구조를 갖는다. 또한, 상기 에어 셔터는 상기 에어 공급부에 의해 팽창할 경우 상기 입구를 전체적으로 실링하는 구조를 가질 수 있다.
한편, 상기 개폐 유닛은 상기 에어 공급부 및 상기 에어 배출부 각각과 상기 에어 셔터의 사이에 상기 에어의 공급량 및 배출량을 조절하기 위한 제1 및 제2 밸 브들을 더 포함할 수 있다.
상술한 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 일 특징에 따른 기판 처리 장치는 공정 챔버, 이송 부재, 처리 부재, 에어 셔터, 에어 공급부 및 에어 배출부를 포함한다. 상기 공정 챔버는 기판을 처리하기 위한 공간을 제공하고, 일측벽에 입구가 형성된다. 상기 이송 부재는 상기 공정 챔버의 내부에 설치되고, 상기 입구를 통해 로딩되는 기판을 이송한다. 상기 처리 부재는 상기 이송 부재에 의해 이송하는 상기 기판의 상부에 위치하고, 상기 기판을 처리하기 위한 케미컬을 상기 기판에 분사한다. 상기 에어 셔터는 상기 공정 챔버의 입구에 설치되고, 에어에 의해 팽창 및 수축하며, 벨로우즈(bellows) 형태로 이루어진다. 상기 에어 공급부는 상기 에어 셔터와 연결되고, 상기 에어를 공급하여 상기 에어 셔터를 팽창시킴으로써 상기 입구를 차단시킨다. 상기 에어 배출부는 상기 에어 셔터와 연결되고, 상기 에어 공급부에 의해 공급된 에어를 배출하여 상기 에어 셔터를 수축시킴으로써 상기 입구를 개방한다.
이러한 개폐 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 따르면, 공정 챔버의 입구를 에어에 의해 팽창 및 수축하는 에어 셔터를 이용하여 간단하게 개방 및 차단함으로써, 상기 입구를 개폐하기 위한 구조를 간단하게 구성할 수 있다.
이로써, 상기 입구를 개폐하기 위한 개폐 유닛의 제조 비용을 절감하면서 이를 유지 보수하는 작업을 용이하게 할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 개폐 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하 지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 개략적인 구성도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(1000)는 공정 챔버(100), 이송 부재(200), 처리 부재(300) 및 개폐 유닛(400)을 포함한다.
상기 공정 챔버(100)는 기판(G)을 대상을 공정을 수행하기 위한 공간을 제공한다. 여기서, 상기 기판(G)은 일 예로, 액정을 이용하여 영상을 표시하는 액정표시장치(LCD)를 제조하는데 사용되는 유리 재질의 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT) 기판 또는 컬러 필터(Color Filter; CF) 기판일 수 있다. 이와 달리, 상기 기판(G)은 반도체 소자를 제조하는데 사용되는 반도체 기판일 수 있다.
상기 공정 챔버(100)는 마주보는 양 측벽에 상기 기판(G)을 각각 로딩 및 언로딩하기 위한 입구(110) 및 출구(120)가 형성된다. 이때, 상기 기판(G)이 상기 공정 챔버(100) 내부에서 대략 동일 면상으로 이송하므로, 상기 입구(110) 및 상기 출구(120)도 대략 동일 면상에 형성된다.
이와 달리, 상기 공정 챔버(100)에는 상기 출구(120)를 제외한 상기 입구(110)만이 형성될 수 있다. 이럴 경우, 상기 기판(G)은 상기 입구(110)에서 로딩 및 언로딩이 같이 이루어질 수 있다.
상기 이송 부재(200)는 상기 공정 챔버(100)의 내부에 설치된다. 상기 이송 부재(200)는 상기 기판(G)이 이송하는 방향과 수직한 방향으로 설치된 다수의 롤 러(210)들을 포함한다. 상기 롤러(210)들은 일정한 간격으로 서로 평행하게 다수가 설치된다.
이때, 상기 롤러(210)들 중 일부는 상기 기판(G)을 실질적으로 이송하기 위하여 외부의 구동 장치(미도시)와 연결되어 회전 운동한다. 이때, 상기 구동 장치(미도시)와 연결된 상기 롤러(210)들은 상기 기판(G)의 이송 방향에 따른 길이보다 실질적으로 짧은 사이 간격을 갖는 것이 바람직하다.
이와 달리, 상기 이송 부재(200)는 자체적으로 직선 구동력을 갖는 리니어 모터(Linear Motor)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 이송 부재(200)는 컨베어 벨트(Conveyor Belt) 타입으로 구성될 수 있다.
상기 처리 부재(300)는 상기 롤러(210)들에 의해 이송하는 상기 기판(G)의 상부에 배치된다. 상기 처리 부재(300)는 상기 기판(G)이 이송하는 방향과 수직한 방향을 따라 길게, 즉 상기 롤러(210)들과 평행하게 설치된다.
상기 처리 부재(300)는 상기 기판(G)을 실질적으로 처리하기 위한 케미컬(C)을 이송하는 상기 기판(G)에 분사한다. 구체적으로, 상기 처리 부재(300)는 나이프 분사 방식에 따라 상기 기판(G)의 이송 방향에 수직한 일변을 따라 일괄적으로 상기 케미컬(C)을 분사한다.
여기서, 상기 케미컬(C)은 상기 기판(G)을 대상으로 식각 공정 또는 세정 공정을 진행하고자 할 경우 황산(H2SO4), 염산(HCl), 불산(HF), 과산화 수소 용액(H2O2), 탈이온수(H2O) 등을 포함할 수 있다.
상기 개폐 유닛(400)은 상기 공정 챔버(100)의 입구(110) 및 출구(120)에 동 일한 구성으로 설치된다.
이에 따라, 이하에서는 상기 개폐 유닛(400)을 도 2 및 도 3을 추가적으로 참조하여 상기 입구(110)에 설치된 경우에 대해서만 대표하여 설명하고자 한다.
도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 기판 처리 장치의 개폐 유닛이 입구를 개폐하는 동작을 나타낸 도면들이다.
도 2 및 도 3을 추가적으로 참조하면, 상기 개폐 유닛(400)은 에어 셔터(410), 에어 공급부(420) 및 에어 배출부(430)를 포함한다.
상기 에어 셔터(410)는 상기 공정 챔버(100)의 입구(110)에 설치된다. 상기 에어 셔터(410)는 일측면이 상기 입구(110)에서 상기 공정 챔버(100)에 고정된다. 상기 에어 셔터(410)는 에어(air)에 의해 팽창 및 수축이 가능한 구조를 갖는다. 이를 위하여, 상기 에어 셔터(410)는 벨로우즈(bellows) 타입으로 제작될 수 있다.
또한, 상기 에어 셔터(410)는 상기 에어(air)에 의하여 자체적으로 팽창률 및 수축률이 좋은 재질로 이루어질 수도 있다. 예를 들어, 상기 에어 셔터(410)는 자재비용에 비해 신축성이 우수한 고무 재질로 이루어질 수 있다. 이와 달리, 상기 에어 셔터(410)는 상기 케미컬(C)에 직접적으로 노출되어 있음에 따라, 상기 케미컬(C)이 황산(H2SO4) 또는 염산(HCl)과 같은 강산으로 이루어질 경우 상기 케미컬(C)에 의한 산화를 어느 정도 방지하기 위하여 내산화성이 우수한 실리콘(silicon) 재질 또는 바이톤(viton) 재질로 이루어질 수 있다.
상기 에어 공급부(420)는 상기 에어 셔터(410)와 연결된다. 상기 에어 공급부(420)는 상기 에어 셔터(410)에 상기 에어(air)를 공급한다. 상기 에어 공급 부(420)는 설치 구조 상 상기 공정 챔버(100)의 외부에 설치되는 바람직하다.
이로써, 상기 에어 공급부(420)는 상기 에어 셔터(410)를 팽창시켜 상기 입구(110)를 외부로부터 차단시킨다. 이때, 상기 에어 셔터(410)는 상기 입구(110)에서 상기 공정 챔버(100)와 완전하게 밀착함으로써, 상기 공정 챔버(100)의 내부를 실링하여 상기 케미컬(C)이 외부로 누출되는 것을 방지하는 역할도 한다.
한편, 상기 개폐 유닛(400)은 상기 에어 공급부(420)와 상기 에어 셔터(410)의 사이에 설치되고 상기 에어 셔터(410)가 상기 입구(110)를 차단하는 속도를 제어하기 위하여 상기 에어(air)의 공급량을 조절하는 제1 밸브(440)를 더 포함한다. 이때, 상기 제1 밸브(440)를 수동으로 조절하고 할 경우, 상기 제1 밸브(440)는 상기 공정 챔버(100)의 외부에 설치되는 것이 바람직하다.
상기 에어 배출부(430)는 상기 에어 셔터(410)와 연결된다. 상기 에어 배출부(430)는 상기 에어 공급부(420)에 의하여 상기 에어 셔터(410)에 공급된 상기 에어(air)를 배출한다.
상기 에어 배출부(430)는 상기 에어 셔터(410) 내부의 상기 에어(air)에 의한 압력을 이용하여 수동적으로 배출시킬 수도 있고, 별도의 펌프를 통해 상기 에어(air)를 능동적으로 배출시킬 수도 있다.
이로써, 상기 에어 배출부(430)는 상기 에어 셔터(410)를 수축시켜 상기 입구(110)를 개방시킨다. 즉, 상기 기판(G)은 개방된 상기 입구(110)를 통해 상기 공정 챔버(100)의 내부로 로딩 및 언로딩될 수 있다.
한편, 상기 개폐 유닛(400)은 상기 에어 배출부(430)와 상기 에어 셔터(410) 의 사이에 설치되고 상기 에어 셔터(410)가 상기 입구(110)를 개방하는 속도를 제어하기 위하여 상기 에어(air)의 배출량을 조절하는 제2 밸브(450)를 더 포함한다. 이때, 상기 제2 밸브(450)도 상기 제1 밸브(440)와 같이 수동으로 조절할 경우, 상기 공정 챔버(100)의 외부에 설치되는 것이 바람직하다.
따라서, 상기 공정 챔버(100)의 입구(110)를 상기 에어(air)에 의해 팽창 및 수축하는 상기 에어 셔터(410)를 이용하여 간단하게 개방 및 차단함으로써, 상기 입구(110)를 개폐하기 위한 구조를 간단하게 구성할 수 있다.
이로써, 상기 입구(110)를 개폐하기 위한 개폐 유닛(400)의 제조 비용을 절감하면서 이를 유지 보수하는 작업을 용이하게 할 수 있다.
한편, 상기 에어 공급부(420) 및 상기 에어 배출부(430)는 상기 에어 셔터(410)의 양 측에 연결될 수 있다. 이럴 경우, 상기 에어 공급부(420) 및 상기 에어 배출부(430) 중 어느 하는 상기 공정 챔버(100)의 내부를 거쳐 외부로 연장된 구조를 가질 수 있다. 이에, 상기 공정 챔버(100)의 상기 어느 하나와 교차되는 위치에는 커넥터(미도시)가 설치될 수 있다.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
상술한 본 발명은 공정 챔버의 입구를 에어에 의해 팽창 및 수축하는 에어 셔터를 이용한 간단한 구성으로 개방 및 차단할 수 있는 장치에 이용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타낸 구성도이다.
도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 기판 처리 장치의 개폐 유닛이 입구를 개폐하는 동작을 나타낸 도면들이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
G : 기판 C : 케미컬
100 : 공정 챔버 200 : 이송 부재
300 : 처리 부재 400 : 개폐 유닛
410 : 에어 셔터 420 : 에어 공급부
430 : 에어 배출부 440 : 제1 밸브
450 : 제2 밸브 1000 : 기판 처리 장치

Claims (3)

  1. 외벽의 입구에 설치되고, 에어에 의해 팽창 및 수축이 가능한 벨로우즈(bellows) 형태의 에어 셔터;
    상기 에어 셔터와 연결되고, 상기 에어를 공급하여 상기 에어 셔터를 팽창시킴으로써 상기 입구를 차단시키는 에어 공급부;
    상기 에어 셔터와 연결되고, 상기 에어 공급부에 의해 공급된 에어를 배출하여 상기 에어 셔터를 수축시킴으로써 상기 입구를 개방하는 에어 배출부; 및
    상기 에어 공급부 및 상기 에어 배출부 각각과 상기 에어 셔터의 사이에 상기 에어의 공급량 및 배출량을 조절하기 위한 제1 및 제2 밸브들을 포함하는 개폐 유닛.
  2. 삭제
  3. 기판을 처리하기 위한 공간을 제공하고, 일측벽에 입구가 형성된 공정 챔버;
    상기 공정 챔버의 내부에 설치되고, 상기 입구를 통해 로딩되는 기판을 이송하는 이송 부재;
    상기 이송 부재에 의해 이송하는 상기 기판의 상부에 위치하고, 상기 기판을 처리하기 위한 케미컬을 상기 기판에 분사하는 처리 부재;
    상기 공정 챔버의 입구에 설치되고, 에어에 의해 팽창 및 수축이 가능한 벨로우즈(bellows) 형태의 에어 셔터;
    상기 에어 셔터와 연결되고, 상기 에어를 공급하여 상기 에어 셔터를 팽창시킴으로써 상기 입구를 차단시키는 에어 공급부;
    상기 에어 셔터와 연결되고, 상기 에어 공급부에 의해 공급된 에어를 배출하여 상기 에어 셔터를 수축시킴으로써 상기 입구를 개방하는 에어 배출부; 및
    상기 에어 공급부 및 상기 에어 배출부 각각과 상기 에어 셔터의 사이에 상기 에어의 공급량 및 배출량을 조절하기 위한 제1 및 제2 밸브들을 포함하는 기판 처리 장치.
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