KR100975535B1 - 촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법에 관한 것으로서, 촉매와 피처리 가스의 반응 전에 촉매독을 제거하여 촉매의 수명을 연장할 수 있고, 배출되는 피처리 가스의 폐열을 회수하여 시스템의 에너지 효율을 향상시킬 수 있으며, 피처리 가스를 가열하는 히팅 유닛의 성능을 향상시킬 수 있다.
촉매 산화 시스템, 공급 유닛, 히팅 유닛, 촉매 산화 유닛, 열교환 유닛, 피처리 가스

Description

촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법{CATALYTIC OXIDATION SYSTEM AND CATALYTIC OXIDATION METHOD USING THE SAME}
본 발명은 촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 피처리 가스의 처리 효율을 안정적으로 확보할 수 있고, 에너지 효율을 향상시킬 수 있는 촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법에 관한 것이다.
화학산업, 도장공정, PET필름재생, 인쇄, 및 음식물쓰레기 등에서는 휘발성 유기 화합물(VOC, Volatile Organic Compounds) 또는 악취 등을 함유한 가스가 발생한다. 이러한 휘발성 유기 화합물과 악취는 환경 오염을 방지하기 위하여 다양한 처리 방법으로 처리되고 있다. 일반적으로 휘발성 유기 화합물을 처리하는 방법으로는 직화연소법, 축열식연소법, 습식세정법, 활성탄흡착법, 및 촉매산화법 등이 있다.
직화연소법은 제거 성능이 우수하고 모든 휘발성 유기 화합물에 적용이 가능 한 장점이 있으나, 연료 소모가 크고 2차 오염물질을 발생하는 단점이 있다. 축열식 연소법은 축열체를 이용하여 직화연소법보다 연료 소모를 줄이는 장점이 있으나, 2차 오염물질을 발생하는 단점이 있다. 습식세정법은 장치를 비교적 간단히 구성할 수 있는 장점이 있으나, 폐수가 발생하고 제거 성능이 다른 방법에 비해 떨어지는 단점이 있다. 활성탄 흡착법은 별도의 열원이 필요없고 초기 투자비가 적으며 성능이 우수한 장점이 있으나, 활성탄의 교체 주기가 매우 짧고 배풍량이 증대됨에 따라 압손으로 설비가 커지는 단점이 있다. 촉매산화법은 2차 오염물질의 발생이 없고 직화연소법과 비교하여 연료를 절감할 수 있으며 설비의 수명도 긴 장점이 있으나, 촉매가 소모품으로 일정기간 경과 후 교체가 필요하고 촉매독(catalyst poison)과 관련된 단점이 있다.
최근에는 환경 보호 및 에너지 절약에 대한 요구 및 그와 관련된 법규의 강화로 인하여, 2차 오염물질의 발생이 없고 대부분의 휘발성 유기 화합물에 사용이 가능하며 연료 소모가 상대적으로 적은 촉매산화법이 각광받는 추세이다. 하지만, 촉매산화법은 피처리 가스에 함유된 촉매독에 의해 촉매의 효율성이 급격히 감소될 수 있기 때문에 촉매의 교체 주기가 짧아지는 문제가 있다.
또한, 촉매산화법은 직화연소법보다는 낮지만 촉매 반응을 활성화시킬 수 있는 온도로 피처리 가스를 가열하기 때문에, 피처리 가스의 배기시 에너지 손실이 발생될 수 있는 문제가 있다.
본 발명의 실시예는 촉매의 수명이 비정상적으로 단축되는 것을 방지함으로써 피처리 가스의 처리 효율을 안정적으로 확보할 수 있는 촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법을 제공한다.
또한, 본 발명의 실시예는 피처리 가스의 폐열을 회수하여 재사용함으로써 에너지 효율을 향상시킬 수 있는 촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법을 제공한다.
또한, 본 발명의 실시예는 피처리 가스의 가열시 피처리 가스의 흐름과 온도를 균일하게 조절함으로써 피처리 가스와 촉매의 반응을 향상시킬 수 있는 촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법을 제공한다.
본 발명의 실시예는, 피처리 가스를 공급하는 공급 유닛, 상기 공급 유닛에 의해 공급된 상기 피처리 가스를 설정 온도로 간접 예열하는 히팅 유닛, 상기 히팅 유닛에 의해 설정 온도로 예열된 상기 피처리 가스를 촉매에 의해 산화시켜 상기 피처리 가스의 오염 물질을 분해하는 촉매 산화 유닛, 상기 촉매 산화 유닛에서 촉매 산화된 상기 피처리 가스를 외부로 배출하는 배출 유닛, 상기 공급 유닛에서부터 상기 히팅 유닛으로 유입되는 상기 피처리 가스를 열교환시키고 상기 촉매 산화 유닛에서부터 상기 배출 유닛으로 배출되는 상기 피처리 가스를 열교환시키는 열교 환 유닛, 및 상기 공급 유닛과 상기 촉매 산화 유닛의 사이에 형성된 상기 피처리 가스의 유동 경로 상에 배치되고, 상기 피처리 가스에 함유된 촉매독을 제거하는 필터 유닛을 포함하는 촉매 산화 시스템을 제공한다.
따라서, 상기 필터 유닛이 상기 촉매 산화 유닛 내의 촉매와 반응하는 촉매독을 미리 제거하므로, 촉매의 수명이 비정상적으로 단축되는 것을 방지할 수 있다. 그리고, 촉매의 수명 연장으로 인해 피처리 가스의 처리 효율을 안정적으로 확보할 수 있을 뿐만 아니라 촉매의 교체 비용을 절감할 수 있다.
한편, 상기 히팅 유닛은 간접 방식으로 상기 피처리 가스를 예열하므로, 상기 피처리 가스를 화염으로 직접 예열하는 방법보다 예열 성능을 안정적으로 확보할 수 있다.
상기 피처리 가스는 휘발성 유기 화합물 또는 악취 중 적어도 어느 하나의 오염 물질을 함유할 수 있다. 상기 피처리 가스의 설정 온도는 상기 오염 물질의 성분에 따라 200℃~400℃ 범위 내에서 설정될 수 있다. 즉, 상기 휘발성 유기 화합물과 악취의 오염물질은 200℃~400℃의 온도 범위에서 촉매에 의해 산화된 후 완전히 분해될 수 있다.
따라서, 직접연소법이 700℃~900℃의 온도 범위에서 오염물질을 연소시키는 것과 비교하면, 촉매 산화 시스템은 상대적으로 낮은 범위의 작동온도를 갖는다. 상기와 같이 촉매 산화 시스템은 직접연소법보다 작동온도가 낮기 때문에, 직접연소법보다 연료의 소모량을 줄일 수 있고 높은 온도의 영향으로 인한 내구성의 저하도 방지할 수 있다.
상기 필터 유닛은 활성탄을 구비한 망목구조형으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 필터 유닛의 내부 구조는 망목구조형으로 형성될 뿐만 아니라 활성탄 입자가 첨가될 수 있다. 상기 망목구조형이란 수세미와 같이 정돈되지 않은 실 형상이다.
따라서, 상기 필터 유닛의 내부 구조가 망목구조형으로 형성됨으로써, 상기 피처리 가스에 함유된 각종 먼지와 이물질이 포집될 수 있고, 상기 피처리 가스의 흐름과 온도가 일정하게 조절될 수 있다. 또한, 상기 필터 유닛의 내부에 활성탄 입자가 첨가됨으로써, 상기 촉매 산화 유닛의 촉매 반응에 악영향을 주는 촉매독 성분이 제거될 수 있다.
상기 열교환 유닛은, 상기 공급 유닛에 의해 공급되는 상기 피처리 가스가 유동되는 제1 유로, 및 상기 촉매 산화 유닛으로부터 배출되는 상기 피처리 가스가 유동되는 제2 유로를 구비할 수 있다. 상기 제1 유로와 상기 제2 유로는 서로 열교환 가능하게 형성될 수 있다. 즉, 상기 피처리 가스는 상기 히팅 유닛으로 유입되기 이전에 상기 촉매 산화 유닛으로부터 배출된 피처리 가스에게서 폐열을 전달받아 온도가 증가될 수 있다. 상기와 같이 히팅 유닛으로 유입되는 피처리 가스의 온도가 상승되면, 상기 히팅 유닛의 부하가 감소될 수 있고, 시스템 전체의 처리 속도와 에너지 효율을 향상시킬 수 있다.
상기 히팅 유닛은, 상기 열교환 유닛에서부터 상기 피처리 가스가 유입되는 가스 유입구 및 상기 촉매 산화 유닛으로 상기 피처리 가스가 유출되는 가스 유출구가 구비된 케이스, 및 상기 케이스의 내부에 복수개가 배치되어 상기 피처리 가스를 가열하고, 상기 피처리 가스의 유동 방향과 직교되는 방향으로 배치된 히팅 파이프들을 포함할 수 있다.
또한, 상기 히팅 유닛은 상기 케이스의 내부에 배치되어 상기 피처리 가스의 온도를 감지하는 온도 센서를 더 포함할 수 있고, 상기 히팅 유닛은 상기 온도 센서의 온도 감지값 및 상기 피처리 가스의 설정 온도에 따라 작동 온도를 조절할 수 있다. 상기와 다르게, 상기 히팅 유닛은 상기 히팅 파이프들 중 적어도 하나에 구비되어 상기 히팅 파이프들의 온도를 감지하는 온도 센서를 더 포함할 수 있고, 상기 공급 유닛은 상기 온도 센서의 온도 감지값 및 상기 히팅 파이프들의 설정 온도에 따라 상기 피처리 가스의 공급량을 조절할 수도 있다.
상기 히팅 파이프들은, 상기 피처리 가스의 유동 방향을 따라 복수개의 열을 형성하도록 배치되고, 상기 피처리 가스의 유동 방향 및 상기 히팅 파이프의 길이 방향에 직교되는 방향을 따라 복수개의 행을 형성하도록 배치된다. 그리고, 상기 히팅 파이프들은 열방향 또는 행방향 중 적어도 어느 한 방향으로 서로 엇갈리게 배치될 수 있다. 따라서, 상기 히팅 파이프들과 상기 피처리 가스의 접촉 효율을 극대화시킬 수 있다.
상기 히팅 파이프들은, 중공된 내부를 갖는 파이프 본체, 상기 파이프 본체의 내부에 배치되어 열을 발생시키는 전열부, 및 상기 파이프 본체의 외측면에 돌출되게 형성되고 상기 피처리 가스를 섞어주어 상기 피처리 가스의 흐름과 온도를 균일하게 조절하는 믹싱부를 포함할 수 있다.
즉, 상기 전열부에서 발생된 열은 상기 파이프 본체를 매개로 하여 상기 파이프 본체의 표면을 유동하는 상기 피처리 가스를 가열할 수 있다. 그리고, 상기 믹싱부는 상기 파이프 본체의 표면에 상기 피처리 가스의 정형화된 흐름을 파괴하는 구조로 형성되므로, 상기 파이프 본체의 표면을 유동하는 상기 피처리 가스를 뒤섞어 상기 피처리 가스의 흐름과 온도를 모든 위치에서 균일하게 만들 수 있다. 뿐만 아니라, 상기 믹싱부는 상기 피처리 가스와 상기 히팅 파이프의 접촉 면적을 증대시켜 상기 히팅 파이프의 전열 성능을 향상시킬 수 있다.
상기와 같은 믹싱부는 상기 파이프 본체의 외측면을 따라 나선 형상으로 돌출된 블레이드로 형성될 수 있다.
본 실시예의 다른 측면에 따르면, 피처리 가스를 공급하는 공급 단계, 상기 피처리 가스에 함유된 촉매독을 제거하는 필터링 단계, 상기 촉매독이 제거된 상기 피처리 가스를 열교환시켜 상기 피처리 가스의 온도를 높이는 열교환 단계, 상기 열교환 단계에서 열교환된 상기 피처리 가스를 설정 온도로 가열하는 예열 단계, 상기 설정 온도로 가열된 상기 피처리 가스를 촉매 산화시켜 상기 피처리 가스에 함유된 오염 물질을 분해하는 촉매 산화 단계, 상기 촉매 산화 단계에서 촉매 산화된 상기 피처리 가스의 폐열을 회수하는 폐열 회수 단계, 및 상기 폐열이 회수된 상기 피처리 가스를 외부로 배출시키는 배출 단계를 포함하는 촉매 산화 시스템의 촉매 산화 방법을 제공한다.
따라서, 상기 촉매 산화 단계의 촉매와 비정상적으로 반응하는 촉매독을 상기 필터링 단계에서 미리 제거할 수 있기 때문에, 촉매 산화 방법의 작동 안전성과 효율성을 확보할 수 있다. 그리고, 상기 배출 단계에서 배출되는 상기 피처리 가스의 폐열을 상기 폐열 회수 단계에서 회수할 수 있기 때문에, 촉매 산화 방법의 에 너지 효율을 향상시킬 수 있다.
상기 예열 단계에서 가열된 상기 피처리 가스의 온도를 감지하는 온도 감지 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 온도 감지 단계에서 감지된 상기 피처리 가스의 온도가 설정 온도보다 높으면 상기 예열 단계에서 가열 온도를 하강시킬 수 있다. 그리고, 상기 온도 감지 단계에서 감지된 상기 피처리 가스의 온도가 설정 온도보다 낮으면 상기 예열 단계에서 가열 온도를 상승시킬 수 있다.
상기와 다르게, 상기 예열 단계에서 상기 피처리 가스를 가열하는 온도를 감지하는 온도 감지 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 온도 감지 단계에서 감지된 온도가 설정 온도보다 높으면 상기 공급 단계에서 공급되는 상기 피처리 가스의 공급량을 증가시킬 수 있다. 그리고, 상기 온도 감지 단계에서 감지된 상기 피처리 가스의 온도가 설정 온도보다 낮으면 상기 공급 단계에서 공급되는 상기 피처리 가스의 공급량을 감소시킬 수 있다.
상기 폐열 회수 단계에서 회수된 폐열을 이용하여 상기 열교환 단계에서 상기 피처리 가스를 열교환시킬 수 있다. 따라서, 상기 열교환 단계는 외부에서 별도의 열을 공급하지 않고 상기 폐열 회수 단계에서 회수된 폐열을 이용하므로, 에너지 효율이 높아 에너지의 절약이 가능하고, 촉매 산화 방법의 운전 비용을 줄일 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법은, 피처리 가스의 촉매 산화 이전에 피처리 가스에 함유된 촉매독을 제거하므로, 촉매와 촉매독의 비정상 반응으로 인한 촉매의 효율성 저하를 미연에 방지할 수 있다. 그로 인하여, 촉매의 수명을 연장시킬 수 있고, 촉매의 교체 횟수를 감소시켜 유지보수 비용을 절감할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법은, 히팅 유닛의 히팅 파이프들의 표면에 믹싱부가 각각 형성되어 히팅 파이프들의 표면을 지나가는 피처리 가스의 흐름이 균일하게 섞일 수 있다. 따라서, 히팅 유닛 내의 피처리 가스의 흐름과 온도가 한쪽으로 치우치지 않고 균일하게 형성되므로, 촉매 산화 유닛의 촉매 전체가 피처리 가스와 동시에 반응하여 촉매 산화 유닛의 촉매 산화 반응을 안정적으로 확보할 수 있고, 촉매 산화 유닛의 촉매 산화 성능을 더욱 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법은, 히팅 파이프들에 의해 피처리 가스를 간접적으로 예열하는 구조이므로, 피처리 가스의 예열 성능을 안정적으로 확보할 수 있고, 피처리 가스의 온도도 매우 용이하게 조절할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 촉매 산화 시스템 및 그 장치의 촉매 산화 방법은, 촉매 산화 유닛에서 촉매 산화된 피처리 가스의 폐열을 회수하여 히팅 유닛으로 유입되는 피처리 가스를 가열시키므로, 히팅 유닛의 부하를 감소시킬 수 있고, 히팅 유닛의 에너지 소모량도 줄일 수 있다. 또한, 히팅 유닛의 에너지 소모량이 감소되면, 촉매 산화 시스템의 에너지 효율을 향상시킬 수 있고, 폐열의 재사용 으로 인해 비용을 절감시킬 수 있다.
이하에서, 본 발명에 따른 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 산화 시스템이 도시된 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 촉매 산화 시스템을 개략적으로 나타낸 구성도이다. 그리고, 도 3은 도 1에 도시된 촉매 산화 시스템의 히팅 유닛이 도시된 단면도이며, 도 4는 도 3에 도시된 히팅 유닛의 히팅 파이프부를 나타낸 사시도이다.
도 1과 도 2를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 산화 시스템(100)는 공급 유닛(110), 히팅 유닛(120), 촉매 산화 유닛(130), 배출 유닛(140), 열교환 유닛(150) 및 필터 유닛(160)을 포함한다. 이러한 촉매 산화 시스템(100)은 화학산업, 도장공정, PET필름재생, 인쇄, 음식물쓰레기 등에서 발생되는 피처리 가스(G)를 전달받아 피처리 가스(G)에 함유된 오염 물질을 제거하는 시스템이다.
피처리 가스(G)에 함유된 오염 물질은 휘발성 유기 화합물 또는 악취 중 적어도 어느 하나를 함유할 수 있다. 촉매 산화 시스템(100)은 적정 온도에서 촉매와 오염 물질을 반응시켜 환경과 인체에 무해한 물질로 분해할 수 있다.
도 1과 도 2를 참조하면, 상기 공급 유닛(110)은 피처리 가스(G)를 전달받아 촉매 산화 시스템(100)의 내부에 필요한 압력으로 피처리 가스(G)를 공급하는 장치 이다. 예를 들면, 공급 유닛(110)은 구동 모터(112), 송풍기(114), 흡기 덕트(116), 및 공급 덕트(118)를 포함할 수 있다.
구동 모터(112)는 송풍기(114)에 구동력을 전달하기 위하여 송풍기(114)의 팬과 연결될 수 있다. 송풍기(114)는 다양한 종류의 송풍기가 사용될 수 있지만, 이하에서는 원심 송풍기가 사용된 것으로 설명한다. 흡기 덕트(116)는 촉매 산화 시스템(100)의 외부로부터 송풍기(114)의 입구에 피처리 가스(G)를 안내하는 역할을 수행한다. 공급 덕트(118)는 송풍기(114)의 출구와 열교환 유닛(150)에 연결되어 열교환 유닛(150)으로 피처리 가스(G)를 안내하는 역할을 수행한다.
또한, 공급 유닛(110)은 후술하는 제2 온도 센서(172)의 감지값에 따라 구동 모터(112)의 작동 속도를 제어하는 인버터(미도시)를 더 포함할 수 있다. 즉, 인버터에 의해 구동 모터(112)의 작동 속도가 조절되면, 송풍기(114)가 송풍하는 피처리 가스(G)의 송풍량도 조절된다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 상기 히팅 유닛(120)은 촉매 산화 유닛(130)으로 유입되는 피처리 가스(G)를 설정 온도로 간접적으로 예열시키는 장치이다. 히팅 유닛(120)이 피처리 가스(G)를 설정 온도로 예열시키는 이유는, 촉매 산화 유닛(130) 내의 촉매와 피처리 가스(G)의 오염물질 간의 반응성을 높일 수 있을 뿐만 아니라, 촉매와의 반응으로 인해 오염물질을 완전히 분해시킬 수 있기 때문이다. 따라서, 히팅 유닛(120)이 피처리 가스(G)에 함유된 오염 물질에 따라 적당한 설정 온도로 피처리 가스(G)를 예열시키면, 촉매 산화 유닛(130)의 내부에서 피처리 가스(G) 내의 오염 물질은 촉매와 활발히 반응된 후 무해한 성분으로 완전히 분해될 수 있다.
히팅 유닛(120)의 설정 온도는 피처리 가스(G)에 함유된 오염 물질의 성분에 따라 200℃~400℃ 범위 내에서 설정될 수 있다. 왜냐하면, 휘발성 유기 화합물 및 악취와 같은 오염물질은 대부분 200℃~400℃의 온도 범위에서 촉매에 의해 원활히 산화된 후 완전히 분해될 수 있기 때문이다.
예를 들면, 톨루엔은 촉매와의 산화 반응이 130℃에서 개시되고 240℃에서 완전 산화될 수 있으며, 벤젠은 촉매와의 산화 반응이 130℃~135℃에서 개시되고 260℃에서 완전 산화될 수 있다. 그리고, 일산화탄소는 촉매와의 산화 반응이 80℃~100℃에서 개시되고 150℃에서 완전 산화될 수 있으며, 아세톤은 촉매와의 산화 반응이 130℃~135℃에서 개시되고 250℃에서 완전 산화될 수 있다. 뿐만 아니라, 포르말린은 촉매와의 산화 반응이 실온에서 개시되고 130℃에서 완전 산화될 수 있으며, 암모니아는 촉매와의 산화 반응이 180℃~185℃에서 개시되고 240℃에서 완전 산화될 수 있다.
상기와 같은 온도 범위는 직화연소법의 온도 범위, 즉 700℃~900℃보다 매우 낮은 온도이다. 따라서, 촉매 산화 시스템(100)은 직화연소법을 사용하는 시스템보다 연료의 소모량을 줄일 수 있고, 온도의 악영향을 덜 받기 때문에 내구성은 더욱 향상시킬 수 있다.
한편, 상기 히팅 유닛(120)은, 가스 유입구(120a) 및 가스 유출구(120b)가 구비된 케이스(122), 및 케이스(122)의 내부에 복수개가 배치되어 피처리 가스(G)를 가열하고 피처리 가스(G)의 유동 방향과 직교되는 방향으로 배치된 히팅 파이 프(124)들을 포함할 수 있다.
상기 가스 유입구(120a)는 케이스(122)의 일측에 형성되어 열교환 유닛(150)와 연통되게 연결될 수 있다. 상기 가스 유출구(120b)는 케이스(122)의 타측에 형성되어 촉매 산화 유닛(130)과 연통되게 연결될 수 있다.
상기 히팅 파이프(124)들은 피처리 가스(G)의 유동 방향을 따라 복수개의 열을 형성하도록 배치됨과 아울러 피처리 가스(G)의 유동 방향 및 히팅 파이프(124)의 길이 방향에 직교되는 방향을 따라 복수개의 행을 형성하도록 배치될 수 있다. 그리고, 히팅 파이프(124)들은 피처리 가스(G)와의 접촉 효율을 극대화시킬 수 있도록 열방향 또는 행방향 중 적어도 어느 한 방향으로 서로 엇갈리게 배치될 수 있다.
히팅 파이프(124)는, 중공된 내부를 갖는 파이프 본체(126), 파이프 본체의 내부에 배치되어 열을 발생시키는 전열부(127), 및 파이프 본체(126)의 외측면에 돌출되게 형성되고 피처리 가스(G)를 섞어주어 피처리 가스(G)의 흐름과 온도를 균일하게 조절하는 믹싱부(128)를 포함할 수 있다. 이와 같이 히팅 유닛(120)은 히팅 파이프(124)들에 의해 피처리 가스(G)를 전기를 이용하여 간접 가열하는 방식이므로, 피처리 가스(G)를 화염으로 직접 가열하는 방식보다 에너지 소비량이 감소될 수 있고, 피처리 가스(G)의 가열 성능도 안정적으로 확보할 수 있다.
상기 파이프 본체(126)는 열전도 계수가 높은 소재로 형성될 수 있다. 따라서, 파이프 본체(126)의 열에너지는 파이프 본체(126)의 표면에 접촉되는 피처리 가스(G)로 원활하게 전달될 수 있다.
상기 전열부(127)는 전기 에너지를 열에너지로 변환시키는 장치로써, 전열선을 이용하거나, 아크를 발생시키거나, 또는 금속의 전자 유도 작용을 이용할 수 있다. 이하, 본 실시예에서는 전열부(127)가 전열선으로 형성된 것으로 설명한다.
상기 믹싱부(128)는 파이프 본체(126)의 표면에 피처리 가스(G)의 정형화된 흐름을 파괴하는 구조로 돌출되게 형성될 수 있다. 즉, 믹싱부(128)가 파이프 본체(126)의 표면을 유동하는 피처리 가스(G)의 흐름을 섞어주기 때문에, 피처리 가스(G)의 흐름과 온도를 균일하게 만들 수 있다. 이와 같이 피처리 가스(G)의 흐름과 온도가 균일하게 조절되면, 피처리 가스(G)가 촉매 산화 유닛(130) 내에서 촉매와 균일하게 반응되므로 피처리 가스(G)의 촉매 산화 반응이 안정적으로 일정하게 실시될 수 있다.
뿐만 아니라, 믹싱부(128)가 파이프 본체(126)의 표면에 돌출되게 형성되면, 피처리 가스(G)와 접촉되는 히팅 파이프(124)의 전열 면적이 증대될 수 있다. 그러므로, 히팅 파이프(124)의 전열 성능을 향상시켜 히팅 유닛(120)의 효율을 증대시킬 수 있다.
상기와 같은 믹싱부(128)는 파이프 본체(126)의 외측면에 다양한 형상으로 돌출되게 형성될 수 있다. 이하, 본 실시예에서는 믹싱부(128)가 파이프 본체(126)의 외측면에 나선 형상으로 돌출된 블레이드인 것으로 설명한다.
또한, 히팅 유닛(120)은, 케이스(122)의 내부에 배치되어 피처리 가스(G)의 온도를 감지하는 제1 온도 센서(170), 및 히팅 파이프(124)들 중 적어도 하나에 구비되어 히팅 파이프(124)들의 온도를 감지하는 제2 온도 센서(172)를 더 포함할 수 있다.
상기 제1 온도 센서(170)는 케이스(122) 내의 여러 장소에 복수개가 배치될 수 있지만, 본 실시예에서는 케이스(122)의 가스 유출구(120b)에 단수개가 배치된 것으로 설명한다. 제1 온도 센서(170)는 가스 유출구(120b)를 통해 촉매 산화 유닛(130)으로 유동되는 피처리 가스(G)의 온도를 감지한다.
히팅 유닛(120)은 제1 온도 센서(170)의 온도 감지값에 따라 작동이 조절될 수 있다. 즉, 제1 온도 센서(170)의 온도 감지값이 피처리 가스(G)의 설정 온도보다 높으면 히팅 유닛(120)의 작동 온도를 낮출 수 있고, 제1 온도 센서(170)의 온도 감지값이 피처리 가스(G)의 설정 온도보다 낮으면 히팅 유닛(120)의 작동 온도를 높일 수 있다. 따라서, 히팅 유닛(120)의 동작 온도가 제1 온도 센서(170)의 감지값에 따라 제어되므로, 촉매 산화 유닛(130)으로 유동되는 피처리 가스(G)가 적정 온도로 유지될 수 있다.
상기 제2 온도 센서(172)는 히팅 파이프(124)들에 복수개가 각각 구비될 수 있지만, 본 실시예에서는 단수개의 히팅 파이프(124)에 배치된 것으로 설명한다. 제2 온도 센서(172)는 히팅 파이프(124)에 전열부(127)의 온도를 감지할 수 있도록 배치된다.
공급 유닛(110)은 제2 온도 센서(172)의 온도 감지값에 따라 작동이 조절될 수 있다. 즉, 제2 온도 센서(172)의 온도 감지값이 히팅 파이프(124)들의 설정 온도보다 높으면 공급 유닛(110)의 공급량을 증가시킬 수 있고, 제2 온도 센서(172)의 온도 감지값이 히팅 파이프(124)들의 설정 온도보다 낮으면 공급 유닛(110)의 공급량을 감소시킬 수 있다. 따라서, 공급 유닛(110)의 공급 유량이 제2 온도 센서(172)의 감지값에 따라 제어되므로, 전력비를 절감할 수 있고, 촉매 산화 유닛(130)으로 유입되는 피처리 가스(G)의 온도도 일정하게 유지할 수 있다.
도 1과 도 2를 참조하면, 상기 촉매 산화 유닛(130)은 히팅 유닛(120)에 의해 설정 온도로 예열된 피처리 가스(G)를 촉매로 산화시켜 피처리 가스(G)에 함유된 오염 물질을 분해하는 장치이다. 즉, 촉매 산화 유닛(130)은 일반 연소과정에서 필요한 활성화 에너지보다 적은 에너지로 피처리 가스(G)의 오염 물질을 분해 제거할 수 있다. 이러한 촉매의 산화 성능은 촉매 산화시킬 오염 물질의 종류에 따른 전환 온도로서 판단할 수 있다. 즉, 낮은 온도에서 오염 물질의 높은 제거 효율을 갖는 촉매가 좋은 촉매라 할 수 있다.
도 1과 도 2를 참조하면, 상기 배출 유닛(140)은 촉매 산화 유닛(130)에서 촉매 산화된 피처리 가스(G′)를 외부로 배출하는 장치이다. 배출 유닛(140)은 피처리 가스(G′)를 대기 중으로 배기시키는 덕트로 형성될 수 있다.
도 1과 도 2를 참조하면, 상기 열교환 유닛(150)은, 공급 유닛(110)에서부터 히팅 유닛(120)으로 유입되는 피처리 가스(G)를 열교환시켜 피처리 가스(G)의 온도를 높임과 아울러 촉매 산화 유닛에서부터 배출 유닛으로 배출되는 피처리 가스(G′)를 열교환시켜 피처리 가스(G′)의 폐열을 회수하는 장치이다.
열교환 유닛(150)의 내부에는 공급 유닛(110)에 의해 공급되는 피처리 가스(G)를 히팅 유닛(120)으로 안내하는 제1 유로, 및 촉매 산화 유닛(130)으로부터 배출되는 피처리 가스(G′)를 배출 유닛(140)으로 안내하는 제2 유로를 구비할 수 있다. 그리고, 제1 유로와 제2 유로는 서로 열교환 가능한 구조로 형성될 수 있다. 따라서, 촉매 산화 유닛(130)으로부터 배출된 피처리 가스(G′)의 폐열이 히팅 유닛(120)으로 유입되는 피처리 가스(G)에 전달되므로, 히팅 유닛(120)으로 유입되는 피처리 가스(G)의 온도를 증가시켜 히팅 유닛(120)의 부하를 감소시킬 수 있고, 촉매 산화 유닛(130)으로부터 배출된 피처리 가스(G′)의 폐열을 회수하여 촉매 산화 시스템(100)의 에너지 효율을 향상시킬 수 있다.
도 1과 도 2를 참조하면, 상기 필터 유닛(160)은, 공급 유닛(110)에 의해 공급된 피처리 가스(G)에 함유된 촉매독을 제거하는 장치이다. 상기 촉매독은 촉매의 반응시 촉매의 표면에 부착되어 촉매의 효율성을 감소시키는 물질이다. 따라서, 필터 유닛(160)은 촉매 산화 유닛(130)의 촉매에 대응하는 촉매독을 제거할 수 있는 필터가 선택적으로 구비될 수 있다. 즉, 필터 유닛(160)은 내부의 필터를 교체할 수 있는 구조로 형성될 수 있다.
예를 들면, 필터 유닛(160)의 필터는 활성탄이 구비된 망목구조형으로 형성될 수 있다. 망목구조형이란 수세미와 같이 정돈되지 않은 실 형상을 의미한다. 이와 같이 필터 유닛(160)의 필터가 망목구조형으로 형성되면, 피처리 가스(G)에 함유된 각종 먼지와 이물질이 필터에 포집될 수 있으며, 피처리 가스(G)가 필터에 일시적으로 체류될 수 있기 때문에 피처리 가스(G)의 흐름과 온도가 일정하게 조절될 수 있다. 따라서, 피처리 가스(G)는 각종 먼지와 이물질이 제거된 상태에서 일정한 온도와 흐름으로 촉매 산화 시스템(100)의 내부에 공급되므로, 촉매 산화 시스템(100)의 안정성과 신뢰성을 높일 수 있다.
또한, 필터 유닛(160)의 필터에 활성탄 입자가 첨가되면, 촉매 산화 유닛(100)의 촉매 반응에 악영향을 주는 촉매독 성분이 활성탄 입자에 의해 제거될 수 있다.
상기와 같은 필터 유닛(160)은 공급 유닛(110)과 촉매 산화 유닛(130)의 사이에 형성된 피처리 가스(G)의 유동 경로 상에 배치될 수 있다. 상기와 같이 필터 유닛(160)이 촉매 산화 유닛(130)의 이전에 배치되면, 피처리 가스(G) 내의 촉매독이 필터 유닛(160)에 의해 미리 제거될 수 있기 때문에, 촉매 산화 유닛(130) 내의 촉매가 촉매독으로 인해 수명이 단축되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 촉매 산화 유닛(130) 내의 촉매는 수명이 최대한 연장되므로, 피처리 가스의 처리 효율을 안정적으로 확보할 수 있을 뿐만 아니라 촉매의 교체 시기도 증가시킬 수 있다.
상기와 같이 구성된 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 산화 시스템(100)에 대한 작동을 살펴보면 다음과 같다. 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 산화 시스템의 촉매 산화 방법이 도시된 순서도이다.
본 발명의 일실시예에 따른 촉매 산화 시스템(100)의 촉매 산화 방법은 공급 단계(1), 필터링 단계(2), 열교환 단계(3), 예열 단계(4), 촉매 산화 단계(10), 폐열 회수 단계(11), 및 배출 단계(12)를 포함한다.
상기 공급 단계(1)에서는 공급 유닛(110)이 촉매 산화 시스템(100)의 내부로 피처리 가스(G)를 공급한다.
상기 필터링 단계(2)에서는, 공급 유닛(110)에 의해 공급되는 피처리 가 스(G)가 필터 유닛(160)을 통과하고, 필터 유닛(160)은 피처리 가스(G)에 함유된 촉매독을 흡착 제거한다. 또한, 필터 유닛(160)의 필터는 망목구조형으로 형성되므로, 피처리 가스(G)에 함유된 각종 먼지와 이물질을 제거하고 피처리 가스(G)의 흐름과 온도를 균일하게 만든다.
상기 열교환 단계(3)에서는 필터 유닛(160)에 의해 촉매독이 제거된 피처리 가스(G)와 배출 유닛(140)으로 배출되는 피처리 가스(G′)를 열교환시킨다. 필터 유닛(160)에 의해 촉매독이 제거된 피처리 가스(G)는 배출 유닛(140)으로 배출되는 피처리 가스(G′)의 폐열을 전달받아 온도가 상승된다. 따라서, 예열 단계(4)에서 피처리 가스(G)의 가열 부하를 감소시킬 수 있다.
상기 예열 단계(4)에서는 히팅 유닛(120)이 피처리 가스(G)를 설정 온도로 가열한다. 즉, 히팅 유닛(120)의 가스 유입구(120a)로 유입된 피처리 가스(G)는 히팅 파이프(124)들을 통과하면서 히팅 파이프(124)들에 의해 설정 온도로 가열되고, 히팅 파이프(124)들에 의해 가열된 피처리 가스(G)는 히팅 유닛(120)의 가스 유출구(120b)를 통해 촉매 산화 유닛(130)으로 유출된다.
이때, 히팅 파이프(124)들의 외측에 돌출된 믹싱부(128), 즉 나선 형상의 블레이드에 의해 피처리 가스(G)가 히팅 유닛(120)의 내부에 골고루 퍼질 수 있기 때문에, 촉매 산화 유닛(130)으로 유동되는 피처리 가스(G)의 흐름은 위치에 상관없이 균일할 뿐만 아니라 위치에 따른 온도 구배도 발생되지 않는다. 따라서, 촉매 산화 유닛(130) 내의 촉매에 균일하게 피처리 가스(G)가 공급되므로, 피처리 가스(G)와 촉매가 위치와 상관없이 모든 영역에서 고르게 반응된다.
상기 촉매 산화 단계(10)에서는 촉매 산화 유닛(130)이 설정 온도로 가열된 피처리 가스(G)를 촉매 산화시켜 피처리 가스(G)에 함유된 오염 물질, 예를 들면 휘발성 유기 화합물과 악취 등을 분해한다.
상기 폐열 회수 단계(11)에서는 열교환 유닛(150)이 오염 물질이 분해된 피처리 가스(G′)를 전달받아 피처리 가스(G′)의 폐열을 회수한다. 즉, 촉매 산화 유닛(130)에서 배출된 피처리 가스(G′)는 히팅 유닛(120)으로 유동되는 피처리 가스(G)와 열교환되고, 촉매 산화 유닛(130)에서 배출된 피처리 가스(G′)의 폐열이 히팅 유닛(120)으로 유동되는 피처리 가스(G)에 전달된다. 따라서, 열교환 단계(3)와 폐열 회수 단계(11)는 열교환 유닛(150)의 내부에서 동시에 진행될 수 있다.
물론 상기와 다르게, 촉매 산화 유닛(130)에서 배출된 피처리 가스(G′)의 폐열을 촉매 산화 시스템(100)의 외부 장치, 예를 들면 히트 펌프나 난방기가 전달받아 사용하는 것도 가능하다.
상기 배출 단계(12)에서는 폐열이 회수된 피처리 가스(G′)를 촉매 산화 유닛(130)의 외부로 배출시킨다.
한편, 촉매 산화 방법은 예열 단계(4)와 촉매 산화 단계(10)의 사이에 배치된 온도 감지 단계(6~9)를 더 포함할 수 있다.
온도 감지 단계(6~9)에서는, 제1 온도 센서(170)가 촉매 산화 유닛(130)으로 유입되는 피처리 가스(G)의 온도를 감지하고, 제2 온도 센서(172)가 히팅 유닛(120)의 히팅 파이프(124)의 작동 온도를 감지한다.
여기서, 제1 온도 센서(170)가 감지한 제1 온도 감지값이 피처리 가스(G)의 설정 온도보다 높으면, 히팅 파이프(124)의 전열부(127)에 공급되는 전기를 조절하여 예열 단계에서의 예열 온도를 하강시킨다. 반면에, 제1 온도 센서(170)가 감지한 제1 온도 감지값이 피처리 가스(G)의 설정 온도보다 낮으면, 히팅 파이프(124)의 전열부(127)에 공급되는 전기를 조절하여 예열 단계에서의 예열 온도를 상승시킨다.
따라서, 촉매 산화 유닛(130)으로 유입되는 피처리 가스(G)의 온도를 최적의 온도, 즉 설정 온도로 일정하게 유지시킬 수 있다. 피처리 가스(G)의 설정온도는 소정의 범위를 갖는 온도 영역일 수도 있다.
그리고, 제2 온도 센서(172)가 감지한 제2 온도 감지값이 히팅 파이프(124)의 설정 온도보다 높으면, 공급 유닛(110)의 작동을 조절하여 공급 단계에서의 피처리 가스(G)의 공급량을 증가시킨다. 반면에, 제2 온도 센서(172)가 감지한 제2 온도 감지값이 히팅 파이프(124)의 설정 온도보다 낮으면, 공급 유닛(110)의 작동을 조절하여 공급 단계에서의 피처리 가스(G)의 공급량을 감소시킨다.
피처리 가스(G)의 공급량을 증감하기 위해서는 송풍기(114)의 운전속도를 제어해야 하며, 이를 위해 인버터(미도시)를 사용할 수도 있다.
따라서, 히팅 유닛(120)의 히팅 파이프(124)가 필요 이상으로 과열되거나 냉각되는 현상을 방지할 수 있고, 전력비를 절감할 수 있으며, 촉매 산화 단계(10)에서 촉매 산화 유닛(130)의 성능을 일정하게 유지할 수 있다. 히팅 파이프(124)의 설정온도는 소정의 범위를 갖는 온도 영역일 수도 있다.
이상과 같이 본 발명의 일실시예에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 산화 시스템이 도시된 사시도,
도 2는 도 1에 도시된 촉매 산화 시스템을 개략적으로 나타낸 구성도,
도 3은 도 1에 도시된 촉매 산화 시스템의 히팅 유닛이 도시된 단면도,
도 4는 도 3에 도시된 히팅 유닛의 히팅 파이프부를 나타낸 사시도,
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 촉매 산화 시스템의 촉매 산화 방법이 도시된 순서도.
<도면의 주요 부분에 관한 부호의 간단한 설명>
100: 촉매 산화 시스템 110: 공급 유닛
120: 히팅 유닛 130: 촉매 산화 유닛
140: 배출 유닛 150: 열교환 유닛
160: 필터 유닛

Claims (15)

  1. 피처리 가스를 공급하는 공급 유닛;
    상기 공급 유닛에 의해 공급된 상기 피처리 가스를 설정 온도로 간접 예열하는 히팅 유닛;
    상기 히팅 유닛에 의해 설정 온도로 예열된 상기 피처리 가스를 촉매에 의해 산화시켜 상기 피처리 가스의 오염 물질을 분해하는 촉매 산화 유닛;
    상기 촉매 산화 유닛에서 촉매 산화된 상기 피처리 가스를 외부로 배출하는 배출 유닛;
    상기 공급 유닛에서부터 상기 히팅 유닛으로 유입되는 상기 피처리 가스를 열교환시키고, 상기 촉매 산화 유닛에서부터 상기 배출 유닛으로 배출되는 상기 피처리 가스를 열교환시키는 열교환 유닛; 및
    상기 공급 유닛과 상기 촉매 산화 유닛의 사이에 형성된 상기 피처리 가스의 유동 경로 상에 배치되고, 상기 피처리 가스에 함유된 촉매독을 제거하는 필터 유닛;을 포함하고,
    상기 히팅 유닛은,
    상기 열교환 유닛에서부터 상기 피처리 가스가 유입되는 가스 유입구 및 상기 촉매 산화 유닛으로 상기 피처리 가스가 유출되는 가스 유출구가 구비된 케이스; 및
    상기 케이스의 내부에 복수개가 배치되어 상기 피처리 가스를 가열하고, 상기 피처리 가스의 유동 방향과 직교되는 방향으로 배치된 히팅 파이프들;을 포함하는 촉매 산화 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 피처리 가스는 휘발성 유기 화합물 또는 악취 중 적어도 어느 하나의 오염 물질을 함유하고, 상기 피처리 가스의 설정 온도는 상기 오염 물질의 성분에 따라 200℃~400℃ 범위 내에서 설정되는 촉매 산화 시스템.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 필터 유닛은 활성탄을 구비한 망목구조형으로 형성된 촉매 산화 시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 열교환 유닛은, 상기 공급 유닛에 의해 공급되는 상기 피처리 가스가 유동되는 제1 유로, 및 상기 촉매 산화 유닛으로부터 배출되는 상기 피처리 가스가 유동되는 제2 유로를 구비하며,
    상기 제1 유로와 상기 제2 유로는 서로 열교환 가능하게 형성된 촉매 산화 시스템.
  5. 삭제
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 히팅 유닛은 상기 케이스의 내부에 배치되어 상기 피처리 가스의 온도를 감지하는 온도 센서를 더 포함하고,
    상기 히팅 유닛은 상기 온도 센서의 온도 감지값 및 상기 피처리 가스의 설정 온도에 따라 작동 온도를 조절하는 촉매 산화 시스템.
  7. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 히팅 유닛은 상기 히팅 파이프들 중 적어도 하나에 구비되어 상기 히팅 파이프들의 온도를 감지하는 온도 센서를 더 포함하고,
    상기 공급 유닛은 상기 온도 센서의 온도 감지값 및 상기 히팅 파이프들의 설정 온도에 따라 상기 피처리 가스의 공급량을 조절하는 촉매 산화 시스템.
  8. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 히팅 파이프들은, 상기 피처리 가스의 유동 방향을 따라 복수개의 열을 형성하도록 배치되고, 상기 피처리 가스의 유동 방향 및 상기 히팅 파이프의 길이 방향에 직교되는 방향을 따라 복수개의 행을 형성하도록 배치되며,
    상기 히팅 파이프들은 열방향 또는 행방향 중 적어도 어느 한 방향으로 서로 엇갈리게 배치된 촉매 산화 시스템.
  9. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 히팅 파이프들은,
    중공된 내부를 갖는 파이프 본체;
    상기 파이프 본체의 내부에 배치되어 열을 발생시키는 전열부; 및
    상기 파이프 본체의 외측면에 돌출되게 형성되고, 상기 피처리 가스를 섞어주어 상기 피처리 가스의 흐름과 온도를 균일하게 조절하는 믹싱부;
    를 포함하는 촉매 산화 시스템.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 믹싱부는 상기 파이프 본체의 외측면을 따라 나선 형상으로 돌출된 블레이드로 형성된 촉매 산화 시스템.
  11. 피처리 가스를 공급하는 공급 단계;
    상기 피처리 가스에 함유된 촉매독을 제거하는 필터링 단계;
    상기 촉매독이 제거된 상기 피처리 가스를 열교환시켜 상기 피처리 가스의 온도를 높이는 열교환 단계;
    상기 열교환 단계에서 열교환된 상기 피처리 가스를 설정 온도로 가열하는 예열 단계;
    상기 설정 온도로 가열된 상기 피처리 가스를 촉매 산화시켜 상기 피처리 가스에 함유된 오염 물질을 분해하는 촉매 산화 단계;
    상기 촉매 산화 단계에서 촉매 산화된 상기 피처리 가스의 폐열을 회수하는 폐열 회수 단계; 및
    상기 폐열이 회수된 상기 피처리 가스를 외부로 배출시키는 배출 단계; 및
    상기 예열 단계에서 가열된 상기 피처리 가스의 온도를 감지하는 온도 감지 단계;를 포함하고,
    상기 온도 감지 단계에서 감지된 상기 피처리 가스의 온도가 설정 온도보다 높으면 상기 예열 단계에서 가열 온도를 하강시키고, 상기 온도 감지 단계에서 감지된 상기 피처리 가스의 온도가 설정 온도보다 낮으면 상기 예열 단계에서 가열 온도를 상승시키는 촉매 산화 시스템의 촉매 산화 방법.
  12. 피처리 가스를 공급하는 공급 단계;
    상기 피처리 가스에 함유된 촉매독을 제거하는 필터링 단계;
    상기 촉매독이 제거된 상기 피처리 가스를 열교환시켜 상기 피처리 가스의 온도를 높이는 열교환 단계;
    상기 열교환 단계에서 열교환된 상기 피처리 가스를 설정 온도로 가열하는 예열 단계;
    상기 설정 온도로 가열된 상기 피처리 가스를 촉매 산화시켜 상기 피처리 가스에 함유된 오염 물질을 분해하는 촉매 산화 단계;
    상기 촉매 산화 단계에서 촉매 산화된 상기 피처리 가스의 폐열을 회수하는 폐열 회수 단계;
    상기 폐열이 회수된 상기 피처리 가스를 외부로 배출시키는 배출 단계; 및
    상기 예열 단계에서 상기 피처리 가스를 가열하는 온도를 감지하는 온도 감지 단계;를 포함하고,
    상기 온도 감지 단계에서 감지된 온도가 설정 온도보다 높으면 상기 공급 단계에서 공급되는 상기 피처리 가스의 공급량을 증가시키고, 상기 온도 감지 단계에서 감지된 상기 피처리 가스의 온도가 설정 온도보다 낮으면 상기 공급 단계에서 공급되는 상기 피처리 가스의 공급량을 감소시키는 촉매 산화 시스템의 촉매 산화 방법.
  13. 제11항 또는 제12항에 있어서,
    상기 피처리 가스는 휘발성 유기 화합물 또는 악취 중 적어도 어느 하나의 오염 물질을 함유하고, 상기 예열 단계의 설정 온도는 상기 오염 물질의 성분에 따라 200℃~400℃ 범위 내에서 설정되는 촉매 산화 방법.
  14. 삭제
  15. 제11항 또는 제12항에 있어서,
    상기 폐열 회수 단계에서 회수된 폐열을 이용하여 상기 열교환 단계에서 상기 피처리 가스를 열교환시키는 촉매 산화 시스템의 촉매 산화 방법.
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