KR100971756B1 - Solar cell manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 태양전지 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 인쇄 공정을 적용하는 태양전지 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a solar cell manufacturing method, and more particularly to a solar cell manufacturing method applying a printing process.
알려진 바와 같이, 태양전지는 반도체의 성질을 이용하여 빛 에너지를 전기 에너지로 변환시키는 장치이다. 이러한 태양전지는 외부에서 들어온 빛에 의해 무기 또는 유기 반도체 내부에서 전자와 정공을 형성하고 이들의 이동을 통하여 전력을 생산한다.As is known, solar cells are devices that convert light energy into electrical energy using the properties of a semiconductor. Such solar cells form electrons and holes in an inorganic or organic semiconductor by light from outside, and generate electric power through their movement.
도1을 참조하면, 태양전지는 투명기판(11)에 제1 전극(12)(anode)을 프린팅 공정으로 형성하고, 제1 전극(12) 위에 버퍼층(13)과 유기활성층(14) 및 제2 전극(15)(cathode)을 순차적인 프린팅 공정으로 형성하는 적층 구조로 형성된다. 버퍼층(13)은 계면에 존재하는 전자와 정공의 재결합을 줄인다.Referring to FIG. 1, a solar cell forms a first electrode 12 (anode) on a
제1 전극(12)은 투명한 ITO 전극과. ITO 전극이 형성된 투명기판(11)에 정공의 전달을 도와주는 전도성 고분자층을 포함한다. 유기활성층(14)은 전자를 주고 받는 성질을 가지는 2가지의 유기 반도체 물질로 이루어지고, 제2 전극(15)에 전자를 전달한다.The
이와 같은 태양전지 제조 방법에 인쇄 공정을 적용하는 경우, 제2 전극(15)은 솔벤트를 함유하는 Al 또는 Ag 페이스트를 유기활성층(14) 위에 인쇄함으로써 형성된다.When the printing process is applied to such a solar cell manufacturing method, the
그러나 Al, Ag 페이스트에 함유된 솔벤트는 앞 공정에서 형성된 유기활성층(14)에 손상을 입히게 되어, 유기활성층(14)의 공유결합을 끊거나 유기활성층(14)에 핀홀(pinhole)을 발생시켜 제품 불량을 유발한다.However, the solvent contained in the Al and Ag paste may damage the organic
따라서 제2 전극(15)을 형성하는 페이스트에 포함된 솔벤트로부터 유기활성층(14)을 보호할 수 있는 방법이 요구된다.Therefore, there is a need for a method capable of protecting the organic
본 발명의 일 실시예는 인쇄 공정을 적용하면서 캐소드 전극 형성에 사용되는 솔벤트로부터 유기활성층을 보호하는 태양전지 제조 방법에 관한 것이다.One embodiment of the present invention relates to a solar cell manufacturing method for protecting the organic active layer from the solvent used to form the cathode electrode while applying the printing process.
본 발명의 일 실시예는 인쇄 공정을 적용하면서 캐소드 전극 형성에 따라 유기활성층이 손상되는 것을 방지하는 태양전지 제조 방법에 관한 것이다.One embodiment of the present invention relates to a solar cell manufacturing method for preventing the organic active layer from being damaged by the formation of a cathode while applying a printing process.
본 발명의 일 실시예에 따른 태양전지 제조 방법은, 투명기판에 투명재로 애노드 전극을 프린팅 공정으로 형성하는 제1 단계, 상기 애노드 전극 위에 버퍼층을 프린팅 공정으로 형성하는 제2 단계, 상기 버퍼층 위에 유기활성층을 형성하는 프린팅 공정으로 제3 단계, 필름에 캐소드 전극을 패터닝 또는 프린팅 하는 제4 단계, 및 상기 필름과 상기 투명기판을 가압하여, 상기 필름으로부터 패턴 또는 프린 트 된 상기 캐소드 전극을 상기 유기활성층에 라미네이팅하는 제5 단계를 포함한다.In the solar cell manufacturing method according to an embodiment of the present invention, a first step of forming an anode electrode by a printing process on a transparent substrate, a second step of forming a buffer layer on the anode electrode by a printing process, on the buffer layer In a printing process of forming an organic active layer, a third step, a fourth step of patterning or printing a cathode electrode on a film, and pressing the film and the transparent substrate to form a pattern or printed cathode electrode from the film Laminating to the active layer.
상기 제1 단계 내지 상기 제4 단계는, 스크린, 그라비어, 플렉소(flexography), 옵셋, 그라비어-옵셋, 잉크젯, 에어로젯, 정전기력 잉크젯, 미세접촉인쇄 및 임프린트, 슬릿, 스릿다이, 스퀴지 및 블레이드 코팅 방법 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.The first to fourth steps include screen, gravure, flexography, offset, gravure-offset, inkjet, aerojet, electrostatic inkjet, microcontact printing and imprint, slit, slit die, squeegee and blade coating. It can be done in any one of the methods.
상기 제4 단계는, 상기 필름을 표면 처리하여 거칠기를 증대시키는 제41 단계와, 상기 필름의 표면에 상기 캐소드 전극을 패터닝 또는 프린팅 하는 제42 단계를 포함할 수 있다.The fourth step may include a forty-first step of increasing the roughness by surface treatment of the film, and a forty-second step of patterning or printing the cathode electrode on the surface of the film.
상기 제3 단계는, 상기 유기활성층의 표면을 플라즈마 표면 처리하여 개질하는 단계를 더 포함할 수 있다.The third step may further include modifying the surface of the organic active layer by plasma surface treatment.
상기 제3 단계는, 상기 버퍼층 위에 상기 유기활성층의 설정된 두께의 일부를 형성할 수 있다.In the third step, a portion of the set thickness of the organic active layer may be formed on the buffer layer.
상기 제4 단계는, 상기 필름을 표면 처리하여 거칠기를 증대시키는 제41 단계, 상기 필름의 표면에 상기 캐소드 전극을 패터닝 또는 프린팅 하는 제42 단계, 및 패턴 또는 프린트 된 상기 캐소드 전극 위에 상기 유기활성층의 설정된 두께의 나머지부를 형성하는 제43 단계를 포함할 수 있다.The fourth step includes the forty-first step of increasing the roughness by surface treatment of the film, the forty-second step of patterning or printing the cathode electrode on the surface of the film, and the patterning or printing of the organic active layer on the cathode electrode. The step 43 may include forming the remainder of the set thickness.
상기 제5 단계는, 상기 제3 단계에서 형성된 상기 유기활성층의 일부와. 상기 제43 단계에서 형성된 상기 유기활성층의 나머지부를 라미네이팅할 수 있다.The fifth step is a portion of the organic active layer formed in the third step. The remaining part of the organic active layer formed in step 43 may be laminated.
본 발명의 일 실시예에 따른 태양전지 제조 방법은,투명기판에 캐소드 전극 을 프린팅 공정으로 형성하는 제1 단계, 상기 캐소드 전극 위에 유기활성층을 프린팅 공정으로 형성하는 제2 단계, 상기 유기활성층 위에 버퍼층을 프린팅 공정으로 형성하는 제3 단계, 및 상기 버퍼층에 투명재로 애노드 전극을 프린팅 공정으로 형성하는 제4 단계를 포함한다.In the solar cell manufacturing method according to an embodiment of the present invention, a first step of forming a cathode electrode on a transparent substrate by a printing process, a second step of forming an organic active layer on the cathode electrode by a printing process, a buffer layer on the organic active layer And a fourth step of forming an anode electrode in a printing process using a transparent material on the buffer layer.
상기 제1 단계 내지 상기 제4 단계는, 스크린, 그라비어, 플렉소(flexography), 옵셋, 그라비어-옵셋, 잉크젯, 에어로젯, 정전기력 잉크젯, 미세접촉인쇄, 임프린트, 슬릿, 스릿다이, 스퀴지 및 블레이드 코팅 방법 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.The first to fourth steps include screen, gravure, flexography, offset, gravure-offset, inkjet, aerojet, electrostatic inkjet, microcontact printing, imprint, slit, slit die, squeegee and blade coating. It can be done in any one of the methods.
본 발명의 일 실시예에 따른 태양전지 제조 방법은, 투명기판에 투명재로 애노드 전극을 프린팅 공정으로 형성하는 제1 단계, 상기 애노드 전극 위에 버퍼층을 프린팅 공정으로 형성하는 제2 단계, 상기 버퍼층 위에 유기활성층을 프린팅 공정으로 형성하는 제3 단계, 및 상기 유기활성층 위에 캐소드 전극을 프린팅 공정으로 형성하는 제4 단계를 포함하며, 상기 캐소드 전극은, 수계(水系) 또는 알코올계 솔벤트에 용해되는 물질을 포함한다.In the solar cell manufacturing method according to an embodiment of the present invention, a first step of forming an anode electrode by a printing process on a transparent substrate, a second step of forming a buffer layer on the anode electrode by a printing process, on the buffer layer And a fourth step of forming an organic active layer by a printing process, and a fourth step of forming a cathode on a surface of the organic active layer by a printing process, wherein the cathode is a material that is dissolved in an aqueous or alcohol-based solvent. Include.
상기 제1 단계 내지 상기 제4 단계는, 스크린, 그라비어, 플렉소, 옵셋, 그라비어-옵셋, 잉크젯, 에어로젯, 정전기력 잉크젯, 미세접촉인쇄, 임프린트, 슬릿, 스릿다이, 스퀴지 및 블레이드 코팅 방법 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.The first step to the fourth step, any one of the screen, gravure, flexo, offset, gravure-offset, inkjet, aerojet, electrostatic inkjet, microcontact printing, imprint, slit, slit die, squeegee and blade coating method It can be done as one.
이와 같이 본 발명의 일 실시예에 따르면, 필름에 캐소드 전극을 형성하고, 투명기판에 애노드 전극, 버퍼층 및 유기활성층을 적층 형성하여, 캐소드 전극을 유기활성층에 라미네이팅하므로 캐소드 전극을 형성하는 솔벤트로부터 유기활성층이 손상되는 것을 방지하는 효과가 있다.As described above, according to an embodiment of the present invention, the cathode is formed on the film, and the anode electrode, the buffer layer, and the organic active layer are laminated on the transparent substrate, and the cathode is laminated on the organic active layer so that the organic solvent is formed from the solvent. There is an effect of preventing the active layer from being damaged.
투명기판에 캐소드 전극을 형성하고, 캐소드 전극 위에 유기활성층을 형성하는 공정을 적용하므로 캐소드 전극을 형성하는 솔벤트로부터 유기활성층이 손상되는 것을 방지하는 효과가 있다.Since the cathode electrode is formed on the transparent substrate and the organic active layer is formed on the cathode, the organic active layer is prevented from being damaged from the solvent forming the cathode.
또한, 캐소드 전극을 형성하는 솔벤트를 수계 또는 알코올계를 사용하므로 캐소드 전극의 솔벤트에 의하여 유기활성층이 손상되는 것을 방지하는 효과가 있다.In addition, since the solvent for forming the cathode electrode is based on water or alcohol, there is an effect of preventing the organic active layer from being damaged by the solvent of the cathode.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.
도2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 태양전지 제조 방법의 구성도이다. 도1을 참조하면, 제1 실시예의 태양전지 제조 방법은, 인쇄 공정을 주로 적용하고, 마지막에 라미네이팅 공정을 적용하여 태양전지(1)를 제조한다.2 is a block diagram of a solar cell manufacturing method according to a first embodiment of the present invention. 1, in the solar cell manufacturing method of the first embodiment, the printing process is mainly applied, and finally, the laminating process is applied to manufacture the
즉 제1 실시예의 태양전지 제조 방법은 인쇄 공정으로 이루어지는 제1, 제2, 제3, 제4 단계(ST1, ST2, ST3, ST4)와, 라미네이팅 공정으로 이루어지는 제5 단 계(ST5)를 포함한다.That is, the solar cell manufacturing method of the first embodiment includes the first, second, third, and fourth steps (ST1, ST2, ST3, ST4) of the printing process, and the fifth step (ST5) of the laminating process. do.
제1, 제2, 제3, 제4 단계(ST1, ST2, ST3, ST4)는 스크린, 그라비어, 플렉소(flexography), 옵셋, 그라비어-옵셋, 잉크젯, 에어로젯, 정전기력 잉크젯, 미세접촉인쇄, 임프린트, 슬릿, 스릿다이, 스퀴지 및 블레이드 코팅 방법들 중에서 선택적으로 적용될 수 있다.The first, second, third, and fourth steps ST1, ST2, ST3, and ST4 include screen, gravure, flexography, offset, gravure-offset, inkjet, aerojet, electrostatic inkjet, microcontact printing, It can be selectively applied among imprint, slit, slit die, squeegee and blade coating methods.
제1 단계(ST1)는 투명기판(11)에 투명재를 인쇄하여 애노드 전극(12)을 형성한다. 예를 들면, 애노드 전극(12)은 ITO로 이루어지는 투명전극(미도시)과, 정공의 전달을 도와주는 전도성 고분자층(미도시)을 포함한다.In the first step ST1, a transparent material is printed on the
제2 단계(ST2)는 애노드 전극(12) 위에 버퍼층(13)을 인쇄하여 형성한다. 버퍼층(13)은 애노드 전극(12)과 유기활성층(14)의 계면에 존재하는 전자와 정공의 재결합을 줄인다.The second step ST2 is formed by printing the
제3 단계(ST3)는 버퍼층(13) 위에 유기 반도체 재료를 인쇄하여 유기활성층(14)을 형성한다. 유기활성층(14)은 전자를 주고 받는 성질을 가지는 2가지의 유기 반도체 물질로 이루어지고, 캐소드 전극(15)에 전자를 전달한다. 예를 들면, 캐소드 전극(15)은 Al, Ag, Cu 및 Au 등으로 형성될 수 있다.In the third step ST3, the organic semiconductor material is printed on the
제3 단계(ST3)는 유기활성층(14)의 표면을 플라즈마 표면 처리하여 개질 함으로써, 캐소드 전극(15)과의 접합을 보다 원활하게 한다. 즉 유기활성층(14)을 플라즈마 표면 처리하여 개질 하면, 그렇지 않는 경우와 비교할 때, 무기물질로 이루어지는 캐소드 전극(15)과 유기활성층(14)의 접합이 더 원활하게 이루어진다.In the third step ST3, the surface of the organic
제4 단계(ST4)는 별도의 필름(21)에 캐소드 전극(15)을 패터닝 또는 프린팅 한다. 예를 들면, 제4 단계(ST4)는 필름(21)을 표면 처리하여 거칠기를 증대시키는 제41 단계(ST41)와, 필름(21)의 표면에 캐소드 전극(15)을 패터닝 또는 프린팅 하는 제42 단계(ST42)를 포함한다.In the fourth step ST4, the
제4 단계(ST4)는 별도의 공정(미도시)으로 진행되며, 본 실시예에서는 진행 완료된 상태를 적용하여 설명한다. 제41 단계(ST41)는 캐소드 전극(15) 패턴이 형성될 필름(21)의 표면을 거칠게 하여, 라미네이팅 공정 시, 패턴된 캐소드 전극(15)이 필름(21)으로부터 쉽게 분리될 수 있게 한다.The fourth step ST4 is performed in a separate process (not shown), and the present embodiment will be described by applying the completed state. The 41 th step ST41 roughens the surface of the
즉 패턴 또는 프린트 된 캐소드 전극(15)은 필름(21)의 표면에 약한 부착력으로 부착 상태를 유지한다. 따라서 라미네이팅 공정으로 진행되는 제42 단계(ST42)는 캐소드 전극(15)의 패턴을 유기활성층(14)에 접합하며, 이때, 필름(21)은 캐소드 전극(15)으로부터 쉽게 분리될 수 있다.That is, the patterned or printed
제5 단계(ST5)는 캐소드 전극(15) 패턴과 유기활성층(14)이 서로 마주하는 상태로 필름(21)과 투명기판(11)을 가압롤(31)과 가열되는 라이네이팅롤(32) 사이로 경유시켜, 필름(21)과 투명기판(11)을 열가압한다.In the fifth step ST5, the
이를 위하여, 캐소드 전극(15)의 패턴을 형성한 필름(21)은 공급롤(41)에서 공급되고, 가압롤(31)과 라미네이팅롤(32) 사이를 경유하여, 캐소드 전극(15)의 패턴을 유기활성층(14)에 열가압 접합하고, 캐소드 전극(15)으로부터 분리된 후, 회수롤(42)로 회수된다. 이때, 캐소드 전극(15)의 패턴은 인쇄 공정 후, 솔벤트를 제거한 상태이므로 유기활성층(14)을 공격하지 못하는 상태이다.To this end, the
따라서 필름(21)에 패턴으로 형성된 캐소드 전극(15)은 유기활성층(14)에 라 미네이팅되어 투명기판(11)에 태양전지(1)를 완성한다. 캐소드 전극(15)은 별도의 필름(21)에 패터닝되어 솔벤트를 제거한 상태로 유기활성층(14)에 접합되므로 캐소드 전극(15)을 형성하는데 사용되는 솔벤트와 유기활성층(14)의 접촉을 원천적으로 차단될 수 있다. 즉 유기활성층(14)에서 공유결합이 끊기거나 핀홀이 발생되지 않는다.Therefore, the
이하 본 발명의 다양한 실시예들에 대하여 설명한다. 제1 실시예와 비교하여, 유사 또한 동일한 구성에 대한 설명을 생략하고, 서로 다른 구성들에 대하여 설명한다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described. Compared with the first embodiment, descriptions of similar and identical configurations are omitted, and different configurations will be described.
도3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 태양전지 제조 방법의 구성도이다. 제1 실시예의 태양전지(1)는 버퍼층(13) 위에 유기활성층(14)을 설정 두께(T)로 형성한다.3 is a block diagram of a solar cell manufacturing method according to a second embodiment of the present invention. In the
제1 실시예에 비하여, 제2 실시예의 태양전지(2)는 유기활성층(14')을 2개로 분리하여 형성하고, 각각 분리된 부분을 접합하여 유기활성층(14')을 형성하는 구조 및 방법을 적용한다.Compared to the first embodiment, the
제3' 단계(ST3')는 버퍼층(13) 위에 설정된 두께(T) 중, 유기활성층(14')의 일부(141)를 제1 두께(T1)로 형성한다. 나머지부(142)는 제4' 단계(ST4')에서 제2 두께(T2)로 형성된다.In the third step ST3 ′, a
제4' 단계(ST4')는 필름(21)을 표면 처리하여 거칠기를 증대시키는 제41 단계(ST41), 필름(21)의 표면에 캐소드 전극(15)을 패터닝 하는 제42 단계(ST42), 및 패턴된 캐소드 전극(15) 위에 유기활성층(14')의 설정된 두께(T)의 나머지부(142) 를 제2 두께(T2)로 형성하는 제43 단계(T43)를 포함한다.In the fourth step ST4 ', a surface treatment of the
즉 유기활성층(14')은 제3' 단계(ST3')와 제43 단계(ST43)를 통하여 각각 분리하여 형성된다. 이때, 캐소드 전극(15)의 패턴은 인쇄 공정 후, 솔벤트를 제거한 상태이므로 솔벤트와 유기활성층(14') 나머지부(142)의 접촉이 원천적으로 차단될 수 있다. 즉 유기활성층(14')의 나머지부(142)에서 공유결합이 끊기거나 핀홀이 발생되지 않는다.That is, the organic active layer 14 'is formed separately through the third step ST3' and the 43rd step ST43. At this time, since the pattern of the
제5' 단계(ST5')는 제3' 단계(ST3')에서 형성된 유기활성층(14')의 일부(141)와, 제43 단계(ST43)에서 형성된 유기활성층(14)의 나머지부(142)를 라미네이팅 하여, 설정 두께(T)의 유기활성층(14')을 형성한다.The fifth step ST5 'includes a
동일한 유기물질로 이루어지는 제1 두께(T1)의 일부(141)와 제2 두께(T2)의 나머지부(142)는 효과적으로 열가압 접합되어 설정 두께(T=T1+T2)의 유기활성층(14)을 형성한다.A
즉 제5' 단계(ST5')는 유기활성층(14)의 일부(141)와 나머지부(142)가 서로 마주하는 상태로 필름(21)과 투명기판(11)을 가압롤(31)과 가열된 라이네이팅롤(32) 사이로 경유시켜, 필름(21)과 투명기판(11)을 가압한다.That is, in the fifth step ST5 ', the
이를 위하여, 캐소드 전극(15)의 패턴과 유기활성층(14')의 일부(141)를 형성한 필름(21)은 공급롤(41)에서 공급되고, 가압롤(31)과 라미네이팅롤(32) 사이를 경유하여, 유기활성층(14')의 일부(141)를 나머지부(142)에 접합하고 캐소드 전극(15)으로부터 분리된 후, 회수롤(42)로 회수된다.To this end, the
따라서 필름(21)에 패턴으로 형성된 캐소드 전극(15)과 유기활성층(14)의 나 머지부(142)는 유기활성층(14)의 일부(141)에 라미네이팅되어 투명기판(11)에 태양전지(1)를 완성한다.Therefore, the
한편, 제3' 단계(ST3')는 유기활성층(14')의 일부(141) 표면과 나머지부(142) 표면을 플라즈마 표면 처리하여 개질함으로써, 일부(141)와 나머지부(142)의 열가압 접합을 더 효과적을 구현할 수 있다.Meanwhile, in the third step ST3 ′, the surface of the
도4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 태양전지 제조 방법의 순서도이다. 제3실시예의 태양전지 제조 방법은 제1 실시예에 따른 태양전지 제조 방법의 역순으로 태양전지(3)를 제조한다.Figure 4 is a flow chart of a solar cell manufacturing method according to a third embodiment of the present invention. In the solar cell manufacturing method of the third embodiment, the solar cell 3 is manufactured in the reverse order of the solar cell manufacturing method according to the first embodiment.
즉, 제1 실시예의 태양전지(1) 제조 방법은 투명기판(11)에 애노드 전극(12), 버퍼층(13), 유기활성층(14)을 순차적인 프린팅 공정으로 형성하고, 별도로 제작된 캐소드 전극(15)을 유기활성층(14)에 라미네이팅한다.That is, in the method of manufacturing the
이에 비하여, 제3 실시예의 태양전지(3) 제조 방법은 제1 실시예의 역순으로 진행된다. 즉 제3 실시예의 태양전지 제조 방법은, 투명기판(11)에 캐소드 전극(15)을 프린팅 공정으로 형성하고, 캐소드 전극(15) 위에 유기활성층(14)을 프린팅 공정으로 형성하며, 유기활성층(14) 위에 버퍼층(13)을 프린팅 공정으로 형성하고, 버퍼층(13) 위에 투명재로 애노드 전극(12)을 프린팅 공정으로 형성한다.In contrast, the manufacturing method of the solar cell 3 of the third embodiment proceeds in the reverse order of the first embodiment. That is, according to the solar cell manufacturing method of the third embodiment, the
패턴된 캐소드 전극(15)은 투명기판(11)에 먼저 형성되어, 솔벤트를 제거한 상태로 유지된다. 이 상태에서, 캐소드 전극(15) 위에 유기활성층(14)을 인쇄하므로 캐소드 전극(15)을 형성하는데 사용되는 솔벤트와 유기활성층(14)의 접촉을 원천적으로 차단될 수 있다. 즉 유기활성층(14)에서 공유결합이 끊기거나 핀홀이 발 생되지 않는다.The patterned
제1 내지 제4 단계(ST1, ST2, ST3, ST4)는 스크린, 그라비어, 플렉소(flexography), 옵셋, 그라비어-옵셋, 미세접촉인쇄, 임프린트, 슬릿, 스릿다이, 스퀴지 및 블레이드 코팅 방법들 중에서 선택적으로 적용될 수 있다.The first to fourth steps (ST1, ST2, ST3, ST4) are screen, gravure, flexography, offset, gravure-offset, microcontact printing, imprint, slit, slit die, squeegee and blade coating methods. May be optionally applied.
본 실시예에서는, 애노드 전극(12)에서, 투명 전극을 형성하는 투명 잉크와 전도성 고분자층을 형성하는 전도성 고분자 잉크는 정전기력 젯팅 방법으로 인쇄 또는 코팅된다. 정전기력 젯팅 방법은 미세 입자를 분사하여 박막으로 인쇄 및 코팅하기 때문에 잉크에 함유되어 있는 솔벤트의 영향을 최소화 할 수 있다.In this embodiment, in the
도5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 태양전지 제조 방법의 순서도이다. 제4실시예의 태양전지 제조 방법은 유기활성층(14)에 영향을 주지 않는 수계 또는 알코올계 솔벤트(예를 들면, 메탄올, 에탄올 또는 테트라데칸)에 용해되는 물질로 캐소드 전극(15)을 형성한다.5 is a flowchart illustrating a solar cell manufacturing method according to a fourth embodiment of the present invention. In the solar cell manufacturing method of the fourth embodiment, the
제1 내지 제3 실시예의 태양전지(1, 2, 3)에서 캐소드 전극(15)은 솔벤트로 수계 또는 알코올계를 사용하고, 또한 물이나 알코올에 용해되는 물질로 이루어진다.In the
제4 실시예의 태양전지 제조 방법은, 투명기판(11)에 투명재로 애노드 전극(12)을 프린팅 공정으로 형성하고, 애노드 전극(12) 위에 버퍼층(13)을 프린팅 공정으로 형성하며, 버퍼층(13) 위에 유기활성층(14)을 프린팅 공정으로 형성하고, 유기활성층(14) 위에 캐소드 전극(15)을 프린팅 공정으로 형성한다.In the solar cell manufacturing method of the fourth embodiment, the
이때, 캐소드 전극(15)은 수계(水系) 또는 알코올계 솔벤트와 이들에 용해되 는 물질을 포함하여 형성된다. 따라서 캐소드 전극(15)의 솔벤트는 유기활성층(14)에 어떠한 영향도 주지 않는다.In this case, the
제1 내지 제4 단계(ST1, ST2, ST3, ST4)는 스크린, 그라비어, 플렉소(flexography), 옵셋, 그라비어-옵셋, 미세접촉인쇄, 임프린트, 슬릿, 스릿다이, 스퀴지 및 블레이드 코팅 방법들 중에서 선택적으로 적용될 수 있다.The first to fourth steps (ST1, ST2, ST3, ST4) are screen, gravure, flexography, offset, gravure-offset, microcontact printing, imprint, slit, slit die, squeegee and blade coating methods. May be optionally applied.
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the scope of the invention.
도1은 일반적인 태양전지의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a typical solar cell.
도2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 태양전지 제조 방법의 구성도이다.2 is a block diagram of a solar cell manufacturing method according to a first embodiment of the present invention.
도3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 태양전지 제조 방법의 구성도이다.3 is a block diagram of a solar cell manufacturing method according to a second embodiment of the present invention.
도4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 태양전지 제조 방법의 순서도이다.Figure 4 is a flow chart of a solar cell manufacturing method according to a third embodiment of the present invention.
도5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 태양전지 제조 방법의 순서도이다.5 is a flowchart illustrating a solar cell manufacturing method according to a fourth embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
11 : 투명기판 12 : 애노드 전극11
13 : 버퍼층 14, 14": 유기활성층13:
15 : 캐소드 전극 21 : 필름15
31 : 가압롤 32 : 라이네이팅롤31: pressure roll 32: lining roll
41 : 공급롤 42 : 회수롤41: supply roll 42: recovery roll
141 : 일부 142 : 나머지부141: part 142: remainder
T : 설정 두께 T1, T2 : 제1, 제2 두께T: Set thickness T1, T2: 1st, 2nd thickness
Claims (11)
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KR1020090084181A KR100971756B1 (en) | 2009-09-07 | 2009-09-07 | Solar cell manufacturing method |
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KR1020090084181A KR100971756B1 (en) | 2009-09-07 | 2009-09-07 | Solar cell manufacturing method |
Publications (1)
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ID=42645898
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KR1020090084181A KR100971756B1 (en) | 2009-09-07 | 2009-09-07 | Solar cell manufacturing method |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2009
- 2009-09-07 KR KR1020090084181A patent/KR100971756B1/en active IP Right Grant
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