KR100968530B1 - 반도체 패키지 기판 고정용 척 테이블 및 이를 포함하는 반도체 패키지 절단장치 - Google Patents
반도체 패키지 기판 고정용 척 테이블 및 이를 포함하는 반도체 패키지 절단장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100968530B1 KR100968530B1 KR1020090065261A KR20090065261A KR100968530B1 KR 100968530 B1 KR100968530 B1 KR 100968530B1 KR 1020090065261 A KR1020090065261 A KR 1020090065261A KR 20090065261 A KR20090065261 A KR 20090065261A KR 100968530 B1 KR100968530 B1 KR 100968530B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- semiconductor package
- cleaning liquid
- package substrate
- blade
- chuck table
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68778—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by supporting substrates others than wafers, e.g. chips
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
Description
Claims (3)
- 절단될 개별 반도체 패키지의 크기에 대응하도록 표면으로부터 돌출하는 형태로 형성되되, 절단될 반도체 패키지 기판에 포함된 다수의 반도체 패키지의 배열구조에 대응하도록 종횡으로 배열되며, 각각 개별 반도체 패키지의 가장자리와 밀착되는 경계턱과 상기 경계턱으로 둘러싸인 만입된 형상의 진공홈 및 상기 진공홈에서 수직으로 관통하도록 형성되는 진공형성구멍을 구비하도록 형성되는, 다수의 패키지 흡착대;상기 다수의 패키지 흡착대의 사이사이에 종횡으로 교차하도록 표면측에 형성되어 인접하는 패키지 흡착대들을 구분하며, 절단과정에서 블레이드의 에지가 통과할 수 있도록 하는 블레이드 이동홈;각각 상기 블레이드 이동홈에서 수직으로 관통하도록 형성되며, 상기 블레이드 이동홈을 따라 소정 간격으로 위치하도록 배치되는, 다수의 세정액 분사구멍;표면으로부터 소정 깊이의 위치에서 상기 블레이드 이동홈과 나란하게 종횡으로 교차하는 형태로 수평으로 관통하도록 형성되어 상기 다수의 세정액 분사구멍과 연결되며, 세정액 공급수단과의 연결을 위한 공급포트를 이면 측에 구비하는 세정액 공급배관; 및상기 세정액 공급배관이 위치한 깊이와 다른 표면으로부터 소정 깊이의 위치에서 종횡으로 교차하는 형태로 수평으로 관통하도록 형성되어 모든 상기 진공형성구멍과 연결되며, 진공형성수단과의 연결을 위한 진공포트를 이면 측에 구비하는 진공배관;을 포함하고,반도체 패키지 기판 고정용 척 테이블은 세정액공급배관 및 진공배관이 내부에 일체로 형성되고,상기 세정액 공급배관을 통해 세정액이 반도체 패키지 기판의 이면을 향해 분사되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 기판 고정용 척 테이블.
- 제 1항의 반도체 패키지 기판 고정용 척 테이블; 및상기 반도체 패키지 기판의 표면을 향해 세정액을 분사하도록 하는 하나 이상의 세정액 분사 노즐 및 하나 이상의 상기 블레이드를 포함하도록 구성되어, 상기 블레이드의 에지가 상기 블레이드 이동홈을 따라 이동하면서 상기 반도체 패키지 기판 고정용 척 테이블에 고정된 상기 반도체 패키지 기판을 절단하여 낱개의 반도체 패키지로 분리하는 블레이드 어셈블리;를 포함하고,상기 반도체 패키지 기판의 표면에는 상기 세정액 분사 노즐을 통해서 세정액이 분사되고, 상기 반도체 패키지 기판의 이면에는 세정액공급배관을 통하여 세정액이 분사되어 반도체 패키지 기판의 양면에 세정액이 분사되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지 절단장치.
- 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090065261A KR100968530B1 (ko) | 2009-07-17 | 2009-07-17 | 반도체 패키지 기판 고정용 척 테이블 및 이를 포함하는 반도체 패키지 절단장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090065261A KR100968530B1 (ko) | 2009-07-17 | 2009-07-17 | 반도체 패키지 기판 고정용 척 테이블 및 이를 포함하는 반도체 패키지 절단장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100968530B1 true KR100968530B1 (ko) | 2010-07-08 |
Family
ID=42645278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090065261A KR100968530B1 (ko) | 2009-07-17 | 2009-07-17 | 반도체 패키지 기판 고정용 척 테이블 및 이를 포함하는 반도체 패키지 절단장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100968530B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200479834Y1 (ko) * | 2011-07-11 | 2016-03-10 | 세메스 주식회사 | 반도체 소자들을 지지하기 위한 테이블 조립체 |
US9474145B2 (en) | 2014-06-25 | 2016-10-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate and method for manufacturing semiconductor package |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03181148A (ja) * | 1989-12-11 | 1991-08-07 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ダイシング方法 |
KR20070043192A (ko) * | 2005-10-20 | 2007-04-25 | 삼성전자주식회사 | 물과 공기를 혼합하여 분사하면서 소잉하는 패키지 소잉장치 |
-
2009
- 2009-07-17 KR KR1020090065261A patent/KR100968530B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03181148A (ja) * | 1989-12-11 | 1991-08-07 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ダイシング方法 |
KR20070043192A (ko) * | 2005-10-20 | 2007-04-25 | 삼성전자주식회사 | 물과 공기를 혼합하여 분사하면서 소잉하는 패키지 소잉장치 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200479834Y1 (ko) * | 2011-07-11 | 2016-03-10 | 세메스 주식회사 | 반도체 소자들을 지지하기 위한 테이블 조립체 |
US9474145B2 (en) | 2014-06-25 | 2016-10-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate and method for manufacturing semiconductor package |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102346492B1 (ko) | 워터 제트 가공 장치 | |
KR102089111B1 (ko) | 웨이퍼 절삭 방법 | |
TWI567809B (zh) | Cutting device and cutting method | |
WO2009113236A1 (ja) | 基板の切断方法及び装置 | |
WO2009107324A1 (ja) | 切断装置及び切断方法 | |
JP2014225489A (ja) | 切削装置およびパッケージ基板の加工方法 | |
KR100968530B1 (ko) | 반도체 패키지 기판 고정용 척 테이블 및 이를 포함하는 반도체 패키지 절단장치 | |
KR102365978B1 (ko) | 절삭 장치 | |
JP2016181569A (ja) | パッケージ基板の切削方法 | |
JP2008080180A (ja) | 洗浄装置および加工装置 | |
KR20070083598A (ko) | 집적 회로 유닛용 진공 홀더 | |
KR101560305B1 (ko) | 기판 절단 시스템 및 기판 지지장치 | |
TWI737247B (zh) | 切斷裝置及切斷品的製造方法 | |
TW201608629A (zh) | 切斷裝置及切斷方法 | |
TW201641242A (zh) | 切削裝置 | |
JP2013010180A (ja) | 切断装置及び切断方法 | |
KR101391706B1 (ko) | 진공흡착 테이블 및 그 제조방법 | |
JP2014217871A (ja) | レーザ加工装置及びこれを用いたレーザ加工方法 | |
JP2015149428A (ja) | 切削装置 | |
KR20180069381A (ko) | 반도체 기판을 지지하는 진공척 | |
JP2008254111A (ja) | ウォータージェット加工装置 | |
KR20130063402A (ko) | 반도체 제조 장치 | |
KR20000052404A (ko) | 공동 기판상에 장착된 생산물을 절단선을 따라 서로분리하기 위한 방법 및 장치 | |
KR20080004298A (ko) | 다이싱테이프 부착장치용 크리닝장치 | |
JP2014232741A (ja) | 切り残し部除去装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130628 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140625 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160630 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170626 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180731 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190610 Year of fee payment: 10 |