KR100962174B1 - 입체 장애적 페놀계 포스포네이트 난연제 및 이를 포함한난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물 - Google Patents

입체 장애적 페놀계 포스포네이트 난연제 및 이를 포함한난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물과 이를 난연제로 적용한 폴리카보네이트계 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112007088561762-pat00001
(상기 식 중, R1은 C1-C6의 알킬 및 C6-C14 아릴기이며, R2는 C1-C6의 선형 알킬, C3-C6 의 가지형 알킬기이고, n은 1 내지 3임).
폴리카보네이트계 수지 , 고무변성 스티렌계 수지, 입체 장애적 페놀계 포스포네이트 난연제

Description

입체 장애적 페놀계 포스포네이트 난연제 및 이를 포함한 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물 {Sterically Hindered Phenolic Phosphonates and Flame Retardant Polycarbonate Resin Composition Containing Them}
도 1은 본 발명의 실시예 1에 의한 입체 장애 페놀계 포스포네이트 화합물 c1의 GC-MS 분석 결과를 나타낸 개략도이다.
도 2는 본 발명의 실시예 1에 의한 입체 장애 페놀계 포스포네이트 화합물 c1의 1H-NMR 분석 결과를 나타낸 개략도이다.
도 3은 본 발명의 실시예 2에 의한 입체 장애 페놀계 포스포네이트 화합물 c2의 GC-MS 분석 결과를 나타낸 개략도이다.
도 4는 본 발명의 실시예 2에 의한 입체 장애 페놀계 포스포네이트 화합물 c2의 1H-NMR 분석 결과를 나타낸 개략도이다.
도 5는 본 발명의 실시예 3에 의한 입체 장애 페놀계 포스포네이트 화합물 c3의 GC-MS 분석 결과를 나타낸 개략도이다.
도 6은 본 발명의 실시예 3에 의한 입체 장애 페놀계 포스포네이트 화합물 c3의 1H-NMR 분석 결과를 나타낸 개략도이다.
발명의 분야
본 발명은 신규 인계 난연제 및 이를 포함한 비할로겐계 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 입체 장애적 페놀계 포스포네이트 난연제 및 이를 폴리카보네이트계 수지에 난연제로 적용함으로써 난연성이 우수한 비할로겐계 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물에 관한 것이다.
발명의 배경
폴리카보네이트/스티렌 함유 공중합체의 블렌드는 높은 노치 충격강도를 유지하면서 가공성을 향상시킨 수지 혼합물로서 통상 컴퓨터 하우징 또는 기타 사무용 기기와 같이 열을 많이 발산시키는 대형 사출물에 적용되기 때문에, 필수적으로 난연성과 내열성 및 높은 기계적 강도를 유지하여야 한다.
이러한 수지 조성물에 난연성을 부여하기 위해 종래에는 할로겐계 난연제와 안티몬 화합물이 사용되었다. 그러나 할로겐계 난연제를 사용할 경우, 연소시에 발생하는 가스의 인체 유해성 문제 때문에 할로겐계 난연제를 함유하지 않은 수지에 대한 수요가 최근 급격히 확대되고 있다.
할로겐계 난연제를 사용하지 않고 난연성을 부여하기 위한 기술로 현재 가장 보편적인 것은 인산 에스테르계 난연제를 사용하는 것이다. 미국특허 제 4,692,488호에는 비할로겐 방향족 폴리카보네이트 수지, 비할로겐 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 비할로겐 인계 화합물, 테트라플루오로에틸렌 중합체 및 소량의 ABS 공중합체로 이루어진 열가소성 수지 조성물을 개시하고 있다. 미국특허 제 5,061,745호에는 방향족 폴리카보네이트 수지, ABS 그라프트 공중합체, 스티렌계 공중합체, 인산 에스테르 및 테트라플루오로에틸렌 중합체로 구성된 난연성 수지 조성물이 개시되어 있다. 하지만 인산 에스테르 첨가에 의한 난연성이 효과를 나타내기 위해서는 일정량 이상을 첨가하여야 하는 문제점이 있다.
이에 본 발명자들은 종래의 난연성 열가소성 수지의 문제점들을 해결하고자 신규한 입체 장애적 페놀계 포스포네이트 난연제를 합성하고 이를 난연제로 폴리카보네이트계 수지 및 스티렌계 수지와의 블렌드에 적용함으로써, 화재 안정성이 있는 친환경 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물을 개발하기에 이른 것이다.
본 발명의 목적은 난연 효과가 뛰어난 입체 장애적 페놀계 포스포네이트 난연제를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 열가소성 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물에 적용할 수 있는 새로운 페놀계 포스포네이트 난연제를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 난연제로 입체 장애적 페놀계 포스포네이트 화합물을 사용함으로써 소량의 난연제 첨가에도 난연성이 우수한 환경 친화적인 난연성 폴리 카보네이트계 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 상기 및 기타의 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.
발명의 요약
본 발명에 따른 입체 장애적 페놀계 포스포네이트 난연제는 다음의 화학식 1로 표시된다.
[화학식 1]
Figure 112007088561762-pat00002
(상기 식 중, R1은 C1-C6의 알킬 및 C6-C14 아릴기이며, R2는 C1-C6의 선형 알킬, C3-C6 의 가지형 알킬기이고, n은 1 내지 3임).
본 발명은 또한 상기 입체장애적 페놀계 포스포네이트 난연제를 적용한 폴리카보네이트계 수지에 관한 것이다.
이하 본 발명의 내용을 하기에 상세히 설명한다.
발명의 구체예에 대한 상세한 설명
입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물
본 발명의 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물은 하기 화학식 1로 표시된다.
[화학식 1]
Figure 112007088561762-pat00003
(상기 식 중, R1은 C1-C6의 알킬 및 C6-C14 의 아릴기이며, R2는 C1-C6의 선형 알킬, C3-C6 의 가지형 알킬기이고, n은 1 내지 3임).
본 발명의 바람직한 실시예에서 상기 화학식 1의 R2는 C1-C6의 선형 알킬이고 n=2 또는 3이다. 본 발명의 다른 바람직한 실시예에서 상기 화학식 1의 R2는 C3-C6 의 가지형 알킬기이고 n= 1 내지 3이다. 본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에서 상기 R1은 C6-C14 의 아릴기이다.
본 발명은 또한 상기 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물의 합성방법을 제공한다. 상기 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 페놀 화합물 및 하기 화학식 3으로 표시되는 할로겐화 포스포네이트 화합물을 용매 및 염기 하에서 12 내지 48시간 동안 환류 반응하여 얻어질 수 있다. 용매 및 염기로는 피리딘을 단독사용하거나 톨루엔과 트리에틸아민을 함께 사용하는 것이 바람직하나 이에 제한되지 않는다.
[화학식 2]
Figure 112007088561762-pat00004
(상기 식 중, R2는 C1-C6의 선형 알킬, C3-C6 의 가지형 알킬기이고, n은 1 내지 3임).
[화학식 3]
Figure 112007088561762-pat00005
(상기 식 중, R1은 C1-C6의 알킬 및 C6-C14 의 아릴기이고, X는 Cl, Br임).
이때, 페놀 화합물 2 당량비에 대하여 할로겐화 포스포네이트 화합물 1당량비로 적용하며, 용매 및 염기의 존재 하에 100 내지 200℃에서, 바람직하게는 120 내지 160℃의 반응 온도에서 12 내지 48시간, 바람직하게는 18 내지 36 시간동안 환류 반응한다.
상기 화학식 2의 구체예로는 4-t-부틸 페놀, 2,4,6-트리메틸 페놀, 2,6-디메틸 페놀 등을 들 수 있으며 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 화학식 3의 구체예로는 페닐 디클로로 포스포네이트, 페닐 디브로모 포스포네이트 등을 들 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는 페닐 디클로로 포스포네이트를 사용한다.
본 발명의 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물을 사용함으로써 소량의 인계 난연제만을 적용하여도 큰 난연 효과를 얻을 수 있다.
본 발명에서는 상기 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물을 난연제로 적용한 수지 조성물을 제공한다. 본 발명의 한 구체예는 상기 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물을 난연제로 적용한 폴리카보네이트계 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 상기 폴리카보네이트계 수지 조성물은,
(A) 폴리카보네이트계 수지 50∼100 중량%; (B) (B1) 그라프트 공중합체 수지 20∼100중량%; 및 (B2) 비닐계 공중합체 수지 0∼80중량%;로 이루어진 고무변성 스티렌계 수지 0∼50 중량%로 이루어지는 기초수지 (A)+(B) 100중량부에 대하여, (C) 입체 장애적 페놀계 포스포네이트 난연제 0.5∼20 중량부; 및 선택적으로 (D) 방향족 인산 에스테르 화합물 0∼10 중량부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이하, 각 성분에 대해 상세히 설명한다.
(A) 폴리카보네이트 수지
본 발명의 수지 조성물의 제조에 사용되는 폴리카보네이트 수지는 하기 화학식 4로 표시되는 디페놀류를 포스겐, 할로겐 포르메이트 또는 탄산 디에스테르와 반응시킴으로써 제조될 수 있는 방향족 폴리카보네이트 수지이다.
[화학식 4]
Figure 112007088561762-pat00006
(상기 식에서, A는 단일 결합, C1-C5 의 알킬렌, C1-C5의 알킬리덴, C5-C6 의 시클로알킬리덴, -S-또는 -SO2- 이다.)
상기 화학식 4의 디페놀의 구체예로서는 히드로퀴논, 레조시놀, 4,4'-디히드록시디페닐, 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판, 2,4-비스-(4-히드록시페닐)-2-메틸부탄, 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-시클로헥산, 2,2-비스-(3-클로로-4-히드록시페닐)-프로판, 2,2-비스-(3,5-디클로로-4-히드록시페닐)-프로판 등을 들 수 있다. 이들 중, 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판, 2,2-비스-(3,5-디클로로-4-히드록시페닐)-프로판, 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-시클로헥산 등이 있다. 바람직하게는 공업적으로 가장 많이 사용되는 방향족 폴리카보네이트인 비스페놀-A라고도 불리는 2,2-비스-(4-히드록시페닐)-프로판으로부터 제조된다.
본 발명의 폴리카보네이트 수지는 중량평균분자량(Mw)이 10,000 내지 200,000 이며, 바람직하게는 15,000 내지 80,000이다.
본 발명의 수지 조성물의 제조에 사용되는 폴리카보네이트로는 분지쇄가 있는 것이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 중합에 사용되는 디페놀 전량에 대하여 0.05∼2몰%의 트리- 또는 그 이상의 다관능 화합물, 예를 들면 3가 또는 그 이상의 페놀기를 가진 화합물을 첨가하여 제조할 수 있다.
본 발명의 수지 조성물의 제조에 사용되는 폴리카보네이트로는 호모 폴리카보네이트, 코폴리카보네이트를 들 수 있으며, 또한 코폴리카보네이트와 호모 폴리카보네이트의 블렌드 형태로 사용하는 것도 가능하다.
또한 본 발명의 수지 조성물의 제조에 사용되는 폴리카보네이트는 에스테르 전구체(precursor), 예컨대 2관능 카르복시산 존재 하에 중합반응시켜 얻어진 방향족 폴리에스테르-카보네이트 수지로 일부 또는 전량 대체하는 것도 가능하다.
본 발명에서 상기 폴리카보네이트 수지(A)는 기초수지 중 50 내지 100 중량%의 범위로 사용된다. 폴리카보네이트 수지는 난연성 부여를 용이하게 하는 역할을 하기 때문에 기초수지 중 50 중량% 미만으로 적용시 난연성 및 기계적 강도 저하가 발생할 수 있다.
(B) 고무변성 스티렌계 수지
고무변성 스티렌계 수지는 방향족 비닐계 중합체로부터 이루어진 매트릭스(연속상) 중에 고무상 중합체가 입자형태로 분산되어 존재하는 중합체를 말하는 것으로서 고무상 중합체의 존재 하에 방향족 비닐 단량체 및 이것과 공중합 가능한 비닐계 단량체를 첨가하여 중합하여 제조되는 것이다. 이와 같은 고무변성 스티렌 계 수지는 유화중합, 현탁중합, 괴상중합과 같은 알려진 중합방법에 의하여 제조가 가능하며, 통상 그라프트 공중합체 수지와 공중합체 수지를 혼합 압출에 의해 생산한다. 괴상중합의 경우는 그라프트 공중합체 수지와 공중합체 수지를 별도로 제조하지 않고 일단계 반응공정만으로 고무변성 스티렌계 수지를 제조하나 어느 경우에도 최종 고무변성 스티렌계 수지 성분 중에서 고무함량은 기초수지 전체에 대하여 5 내지 30중량부의 것이 적합하다.
이와 같은 수지의 예로써는 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 수지(ABS), 아크릴로니트릴-아크릴고무-스티렌 공중합체 수지(AAS), 아크릴로니트릴-에틸렌프로필렌고무-스티렌 공중합체 수지 등이 있다.
본 발명의 고무변성 스티렌계 수지는 그라프트 수지 단독 또는 그라프트 공중합체 수지와 비닐계 공중합체 수지를 병용하여 사용할 수 있으며 각각의 상용성을 고려하여 배합하는 것이 바람직하다.
(B1) 그라프트 공중합체 수지
본 발명의 그라프트 공중합체 수지는 고무상 중합체 5∼65중량%에 방향족 비닐계 단량체 30∼94 중량%, 상기 방향족 비닐계 단량체와 공중합가능한 단량체 1∼20중량%, 및 선택적으로 가공성 및 내열성을 부가하는 단량체 0∼15중량%를 첨가하여 그라프트 공중합시켜 얻는다.
그라프트 공중합체 수지에 이용되는 고무의 예로써는 폴리부타디엔, 폴리(스티렌-부타디엔), 폴리(아크릴로니트릴-부타디엔) 등의 디엔계 고무 및 상기 디엔계 고무를 수소첨가한 포화고무, 이소플렌 고무 클로로프렌 고무, 폴리아크릴산부틸 등의 아크릴계 고무 및 에틸렌-프로필렌-디엔 단량체 삼원공중합체(EPDM) 등을 열거할 수 있지만 특히 디엔계고무가 바람직하다. 더욱 바람직하게는 부타디엔계 고무가 적합하다. 그라프트 공중합체의 제조 시에 충격강도 및 외관을 고려하여 고무입자의 평균 크기는 0.1 내지 4 μm의 범위가 적합하다.
상기 방향족 비닐계 단량체로는 스티렌, α-메틸스티렌, β-메틸 스티렌, p-메틸스티렌, 파라 t-부틸스티렌, 에틸스티렌, 비닐크실렌, 모노클로로스티렌, 디클로로스티렌, 디브로모스티렌, 비닐 나프탈렌 등이 사용될 수 있으며 이중 스티렌이 가장 바람직하다.
여기에 상기의 방향족 비닐계 단량체와 공중합 가능한 단량체를 1종 이상 도입하여 적용한다. 공중합 가능한 단량체로는 아크릴로니트릴과 같은 시안화 비닐계와 에타크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴과 같은 불포화 니트릴계 화합물이 바람직하며, 단독 혹은 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있다.
상기 그라프트 공중합체의 제조시에 가공성 및 내열성과 같은 특성을 부여하기 위하여 아크릴산, 메타크릴산, 무수말레인산, 및 N-치환말레이드 등의 단량체를 더 부가하여 그라프트 중합될 수 있다.
(B2) 비닐계 공중합체 수지
본 발명의 비닐계 공중합체 수지는 상기의 조성으로 제조된 그라프트 공중합체의 성분 중 고무를 제외한 단량체 비율과 상용성에 따라 제조되며 방향족 비닐계 단량체 60∼90중량%, 상기 방향족 비닐계 단량체와 공중합가능한 단량체 10∼40중량%, 및 선택적으로 가공성 및 내열성을 부가하는 단량체 0∼30중량%를 첨가하여 공중합시켜 얻는다.
상기 방향족 비닐계 단량체로는 스티렌, α-메틸스티렌, β-메틸 스티렌, p-메틸스티렌, 파라 t-부틸스티렌, 에틸스티렌, 비닐크실렌, 모노클로로스티렌, 디클로로스티렌, 디브로모스티렌, 비닐 나프탈렌 등이 사용될 수 있으며 이중 스티렌이 가장 바람직하다.
비닐계 공중합체 수지에는 상기 방향족 비닐계 단량체와 공중합 가능한 단량체가 1종류 이상 도입된다. 공중합 가능한 단량체로는 아크릴로니트릴과 같은 시안화 비닐계와 에타크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴과 같은 불포화 니트릴계 화합물이 바람직하며, 단독 혹은 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있다.
상기 비닐계 공중합체 수지에는 가공성 및 내열성과 같은 특성을 부여하기 위하여 아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레인산, 및 N-치환말레이드 등의 단량체를 부가하여 공중합할 수 있다.
고무변성 스티렌계 수지(B) 중에서 상기 그라프트 공중합체 수지(B1)는 20∼100중량%이고 비닐계 공중합체 수지(B2)는 0∼80중량%이다.
(C) 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물
본 발명의 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물은 화학식 1로 표시되는 화합물이다.
[화학식 1]
Figure 112007088561762-pat00007
(상기 식 중, R1은 C1-C6의 알킬 및 C6-C14 의 아릴기이며, R2는 C1-C6의 선형 알킬, C3-C6 의 가지형 알킬이고, n은 1 내지 3임).
본 발명의 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물은 (A)+(B) 기초수지 100 중량부에 대하여 0.5∼20 중량부의 범위에서 사용하며 바람직하게는 10∼20 중량부로 사용한다. 0.5 중량부 미만으로 사용하는 경우에는 난연 효과가 없으며, 20 중량부 이상으로 사용하는 경우에는 기계적 강도 등 물성이 저하되거나 가공성이 저하되는 문제가 있다.
(D) 방향족 인산 에스테르 화합물
본 발명에서 사용하는 방향족 인산 에스테르 화합물은 하기 화학식 5의 구조를 갖는다.
[화학식 5]
Figure 112007088561762-pat00008
상기 화학식에서 R3, R4, R5는 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C4의 알킬기이고, X는 C6-C20의 아릴기 또는 알킬기가 치환된 C6-C20의 아릴기로서 레소시놀, 히드로퀴놀, 비스페놀-A로부터 유도된 것이다. 또한 n의 범위는 0 에서 4이다.
상기 화학식 5에 해당되는 화합물의 예로 n이 0인 경우 트리페닐 포스페이트, 트리(2,6-디메틸)포스페이트 등이 있으며, n이 1인 경우 레소시놀 비스(디페닐)포스페이트, 레소시놀비스(2,6-디메틸페닐)포스페이트, 레소시놀비스(2,4-디t-부틸페닐)포스페이트, 하이드로퀴놀비스(2,6-디메틸페닐)포스페이트, 하이드로퀴놀비스(2,4-디t-부틸페닐)포스페이트 등을 들 수 있다. 이들 방향족 인산 에스테르 화합물(D)은 단독으로 적용될 수 있으며 또는 각각의 혼합물로도 적용이 가능하다.
본 발명에서 방향족 인산 에스테르 화합물(D)은 0 내지 10 중량부를 사용한다.
본 발명의 수지 조성물은 수지 조성물을 제조하는 공지의 방법에 의하여 제조할 수 있다. 본 발명에 따른 열가소성 수지 조성물의 제조 방법에 있어서, 각각 의 용도에 따라 가소제, 열안정제, 산화방지제, 적하 방지제, 상용화제, 광안정제, 안료, 염료 및/또는 무기물 첨가제가 부가될 수 있다. 부가되는 무기물 첨가제의 예로는 석면, 유리섬유, 탈크, 세라믹 및 황산염 등이 있으며, 이들은 전체 수지 조성물에 대하여 30 중량부 이하로 사용될 수 있다.
본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 구체화될 것이며, 하기 실시예는 본 발명의 구체적인 예시에 불과하며 본 발명의 보호범위를 한정하거나 제한하는 것은 아니다.
실시예
본 발명의 실시예 및 비교 실시예에서 사용한 성분들은 다음과 같다.
(A) 폴리카보네이트계 수지
중량평균 분자량(Mw) 25,000인 비스페놀-A형의 폴리카보네이트를 사용하였다(일본 테이진사 제, Panlite L1250 AP).
(B) 고무변성 스티렌계 수지
(B1) 그라프트 공중합체 수지
부타디엔 고무 라텍스의 고형분 50 중량부, 그라프트 중합되는 단량체인 스티렌 36 중량부, 아크릴로니트릴 14 중량부, 및 탈이온수 150중량부의 혼합물에 이 혼합물의 총 고형분에 대하여 올레인산칼륨 1.0 중량부, 큐멘하이드로퍼옥사이드 0.4 중량부, 머캅탄계 연쇄이동제 0.2 중량부, 포도당 0.4 중량부, 황산철 수화물 0.01 중량부, 및 피로포스페이트 나트륨염 0.3 중량부를 첨가하여 5시간 동안 75℃ 를 유지해서 반응을 완료하여, 그라프트 공중합체(g-ABS) 라텍스를 제조하였다. 결과물인 수지 조성물 고형분에 대해 황산을 0.4 중량부 부가하고 응고시켜서 그라프트 공중합체 수지(g-ABS)를 분말상태로 제조하였다.
(B2) 비닐계 공중합체 수지
스티렌을 75 중량부, 아크릴로니트릴 25 중량부, 탈이온수 120중량부의 혼합물에 필요한 첨가제인 아조비스이소부티로니트릴 0.2 중량부와 트리칼슘 포스페이트 0.4 중량부, 및 머캅탄계 연쇄이동제 0.2 중량부를 첨가하여 실온에서 80℃ 온도까지 90분 동안 승온시킨 후 이 온도에서 180분을 유지하여 스티렌/아크릴로니트릴 공중합체 수지(SAN)를 제조하였다. 이를 수세, 탈수 및 건조하여 분말상태의 스티렌/아크릴로니트릴 공중합체 수지(SAN)를 제조하였다. 제조된 스티렌/아크릴로니트릴 공중합체 수지의 중량평균분자량은 80,000∼100,000정도였다.
(C) 입체 장애 페놀계 포스포네이트
입체 장애 페놀계 포스포네이트의 대표적 제조법으로 아래와 같이 화합물 c1, c2, c3을 합성하였다.
Figure 112007088561762-pat00009
실시예 1
4-t-부틸 페놀 (60 g, 0.40 mol)과 페닐포스포닉디클로라이드 (43 g, 0.20 mol), 피리딘 (400 mL)을 용기에 넣고 140 ℃에서 하루 동안 환류 교반했다. 용기 온도를 상온으로 식힌 다음 로타리 증류 장치를 이용하여 피리딘을 감압 증류했다. 용기에 고체만 남게 되면 여기에 증류수 500 mL를 부은 다음 1 시간 교반했다. 이 과정에서 반응 중 생성된 피리딘·염산 솔트는 물층으로 용해되고 물에 녹지 않는 고체 화합물 c1을 여과하여 얻었다. 여과된 고체의 수분을 감압 오븐에서 하루 동안 제거하여 순수한 흰 색 고체 c1 79그램 (94%)를 얻어냈다. 제조된 화합물 c1에 대하여 GC-MS 및 1H-NMR 분석을 하였으며, 분석결과는 도 1 및 도 2 에 각각 나타내었다.
실시예 2
2,4,6-트리메틸 페놀 (54 g, 0.40 mol)과 페닐포스포닉디클로라이드 (43 g, 0.20 mol), 피리딘 (400 mL)을 용기에 넣고 140 ℃에서 하루 동안 환류 교반했다. 용기 온도를 상온으로 식힌 다음 로타리 증류 장치를 이용하여 피리딘을 감압 증류했다. 용기에 고체만 남게 되면 여기에 증류수 500 mL를 부은 다음 1 시간 교반했다. 이 과정에서 반응 중 생성된 피리딘·염산 솔트는 물층으로 용해되고 물에 녹지 않는 고체 화합물 c2을 여과하여 얻었다. 여과된 고체의 수분을 감압 오븐에서 하루 동안 제거하여 순수한 흰 색 고체 c2 75.7 그램 (96%)를 얻어냈다. 제조된 화합물 c2에 대하여 GC-MS 및 1H-NMR 분석을 하였으며, 분석결과는 도 3 및 도 4 에 각각 나타내었다.
실시예 3
2,6-디메틸 페놀 (50 g, 0.40 mol)과 페닐포스포닉디클로라이드 (43 g, 0.20 mol), 피리딘 (400 mL)을 용기에 넣고 140 ℃에서 하루 동안 환류 교반했다. 용기 온도를 상온으로 식힌 다음 로타리 증류 장치를 이용하여 피리딘을 감압 증류했다. 용기에 고체만 남게 되고 여기에 증류수 500 mL를 부은 다음 1 시간 교반했다. 이 과정에서 반응 중 생성된 피리딘·염산 솔트는 물층으로 용해되고 물에 녹지 않는 고체 화합물 c3을 여과하여 얻었다. 여과된 고체의 수분을 감압 오븐에서 하루 동 안 제거하여 순수한 흰 색 고체 c3 69그램 (95%)를 얻어내었다. 제조된 화합물 c3에 대하여 GC-MS 및 1H-NMR 분석을 하였으며, 분석결과는 도 5 및 도 6 에 각각 나타내었다.
(D) 방향족 인산 에스테르 화합물
일본 대팔화학의 테트라-2,6-디메틸 페닐 레조시놀 디포스페이트(상품명: PX-200)를 사용하였다.
실시예 4-9
상기와 같은 성분을 하기 표 1에 기재된 함량에 따라 통상의 이축 압출기에서 200∼280 ℃의 온도범위에서 압출하여 펠렛을 제조하였다. 제조된 펠렛은 80 ℃에서 2시간 건조 후 사출기에서 성형온도 180∼280 ℃, 금형온도 40∼80 ℃의 조건으로 사출하여 난연 시편을 제조하였다. 제조된 시편은 UL 94 VB 난연규정에 따라 1/8″의 두께에서 평균 연소시간을 측정하여 난연도를 측정하였다.
비교실시예 1-2
하기 표 1에 기재된 바와 같이 각 성분의 함량을 조절한 것 이외에는 실시예와 동일하게 시편을 제조하여 물성을 측정하였다. 측정 결과는 표 1에 나타내었다.
Figure 112007088561762-pat00010
상기 표 1의 결과로부터, 입체 장애 페놀계 포스포네이트를 사용할 경우 방향족 인산 에스테르 화합물만 사용한 경우보다 1/8"의 두께에서 난연성이 우수한 것을 알 수 있다.
본 발명에 의해 난연 효과가 뛰어나며 환경오염을 야기시키지 않는 입체 장애적 페놀계 포스포네이트 난연제 및 이를 난연제로 사용한 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물이 제공된다.
본 발명의 단순한 변형 및 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하 여 용이하게 이용될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims (8)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물:
    [화학식 1]
    Figure 112009047217969-pat00011
    (상기 식 중, R1은 C1-C6의 알킬 및 C6-C14 아릴기이며, R2는 C1-C6의 선형 알킬, C3-C6 의 가지형 알킬기이고, n은 3임).
  2. 하기 화학식 2로 표시되는 페놀계 화합물과 하기 화학식 3으로 표시되는 할로겐화 포스포네이트 화합물을 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 입체장애적 페놀계 포스포네이트의 제조방법:
    [화학식 2]
    Figure 112009047217969-pat00012
    (상기 식 중, R2는 C1-C6의 선형 알킬, C3-C6 의 가지형 알킬기이고, n은 3임),
    [화학식 3]
    Figure 112009047217969-pat00013
    (상기 식 중, R1은 C1-C6의 알킬 및 C6-C14의 아릴기이고, X는 Cl, Br임),
    [화학식 1]
    Figure 112009047217969-pat00014
    (상기 식 중, R1은 C1-C6의 알킬 및 C6-C14의 아릴기이며, R2는 C1-C6의 선형 알킬, C3-C6 의 가지형 알킬기이고, n은 3임).
  3. 폴리카보네이트계 수지를 포함하는 기초수지 100 중량부; 및
    하기 화학식 1로 표시되는 입체장애적 페놀계 포스포네이트 화합물 0.5∼20 중량부;
    로 이루어지는 것을 특징으로 하는 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물:
    [화학식 1]
    Figure 112009047217969-pat00015
    (상기 식 중, R1은 C1-C6의 알킬 및 C6-C14의 아릴기이며, R2는 C1-C6의 선형 알킬, C3-C6 의 가지형 알킬기이고, n은 3임).
  4. 제3항에 있어서, 상기 기초수지는 (A) 폴리카보네이트계 수지 50∼100 중량% 및 (B) 고무 변성 스티렌계 수지 0 내지 50 중량%로 이루어지는 것을 특징으로 하는 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 상기 (B) 고무 변성 스티렌계 수지는 (B1) 그라프트 공중합체 수지 20∼100 중량% 및 (B2) 비닐계 공중합체 수지 0∼80중량%로 이루어지는 것을 특징으로 하는 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 상기 그라프트 공중합체 수지(B1)는 고무상 중합체 5∼65중량%에 방향족 비닐계 단량체 30∼94 중량%, 상기 방향족 비닐계 단량체와 공중합가능한 단량체 1∼20중량%, 및 가공성 및 내열성을 부가하는 단량체 0∼15중량%를 첨가하여 그라프트 중합시킨 것이고, 상기 비닐계 공중합체 수지(B2)는 방향족 비닐계 단량체 60∼90중량 %, 상기 방향족 비닐계 단량체와 공중합가능한 단량체 10∼40중량%, 및 가공성 및 내열성을 부가하는 단량체 0∼30중량%를 첨가하여 공중합시킨 것임을 특징으로 하는 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물.
  7. 제3항에 있어서, 상기 수지 조성물은 기초수지 100중량부에 대하여 하기 화학식 5로 표시되는 방향족 인산 에스테르 화합물 0 내지 10 중량부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물:
    [화학식 5]
    Figure 112007088561762-pat00016
    (상기 식에서 R3, R4, R5는 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C4의 알킬기이고, X는 C6-C20의 아릴기 또는 알킬기가 치환된 C6-C20의 아릴기이며, n은 0 에서 4임).
  8. 제3항에 있어서, 가소제, 열안정제, 산화방지제, 적하 방지제, 상용화제, 광안정제, 안료, 염료, 무기물 첨가제 및 이들의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 난연성 폴리카보네이트계 수지 조성물.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101344807B1 (ko) * 2009-12-30 2013-12-26 제일모직주식회사 중합형 인계 화합물을 포함하는 열가소성 수지 조성물, 상기 조성물로부터 성형된 플라스틱 성형품 및 중합형 인계 화합물의 제조방법
JP7470301B2 (ja) 2020-04-06 2024-04-18 株式会社リコー 樹脂組成物、成形体、電子部品、及び電子機器

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4129551A (en) 1975-10-23 1978-12-12 Chemische Werke Huels Aktiengesellschaft Flame retardant polyesters
KR100560151B1 (ko) * 2004-12-30 2006-03-10 제일모직주식회사 난연성 폴리카보네이트 수지 조성물

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2769743A (en) * 1952-04-18 1956-11-06 Union Oil Co Pest control utilizing pesticidal compositions of phosphorus
US4152373A (en) * 1975-09-22 1979-05-01 Stauffer Chemical Company Process for preparing diaryl methylphosphonate and derivatives thereof
DE2708447A1 (de) 1976-03-06 1977-09-08 Ciba Geigy Ag Flammhemmende polymerzusammensetzungen
JPS57105435A (en) * 1980-12-20 1982-06-30 Asahi Chem Ind Co Ltd Stabilized flame-retardant composition
JPS58180613A (ja) * 1982-04-09 1983-10-22 Kuraray Co Ltd 微粒子分散ポリエステル系繊維及びその製造法
DE3523314A1 (de) 1985-06-29 1987-01-02 Bayer Ag Thermoplastische polycarbonatformmassen
DE3819081A1 (de) 1988-06-04 1989-12-07 Bayer Ag Flammwidrige, schlagzaehe polycarbonat-formmassen
JP2985980B2 (ja) 1991-06-19 1999-12-06 日本化学工業株式会社 高純度ジアリールクロロホスフェートの製造方法
JP2673058B2 (ja) * 1991-06-25 1997-11-05 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラー写真感光材料
KR100552999B1 (ko) * 2003-08-04 2006-02-15 제일모직주식회사 난연성 열가소성 수지 조성물

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4129551A (en) 1975-10-23 1978-12-12 Chemische Werke Huels Aktiengesellschaft Flame retardant polyesters
KR100560151B1 (ko) * 2004-12-30 2006-03-10 제일모직주식회사 난연성 폴리카보네이트 수지 조성물

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