KR100959388B1 - 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 ｖｐｄ유닛과 그도어개폐장치 - Google Patents

반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 ｖｐｄ유닛과 그도어개폐장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛의 도어개폐장치에 관한 것으로,
사각통형의 본체로서 내부에 소정의 공간을 형성하되 바닥측에 받침구들이 형성됨과 아울러 가스배출 및 흡입 노즐들이 위치하며, 상면은 투명하게 투시창을 형성하고 그 중심에 내부 분위기 제어용 검출단자를 형성하며, 일측면을 개방하여 웨이퍼 투입구를 형성하는 VPD유닛의 본체; 및 상기 VPD유닛의 투입구를 밀폐되게 커버함과 아울러 개방되는 도어로서 이 도어의 개폐는 VPD유닛 본체의 입구를 개폐하기 위한 도어(114)를 전후진 이동시키도록 실린더로드(113),에어실린더(112),플레이트(111)로 이루어진 전,후진부(110)와;고정플레이트(121), 가이드바(125), 슬라이드바(124), 실린더(122)로 이루어진 승강부(120)로 이루어진다.
웨이퍼,오염물질측정장치,VPD유닛,도어개폐.

Description

반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 ＶＰＤ유닛과 그 도어개폐장치{ＶＰＤ chamber and door on/off apparatus for auto scanning system}
본 발명은 실리콘 웨이퍼 표면의 성분을 액체 샘플로 스캐닝(SCANNING)하고 샘플로서 오염도를 측정하기 위한 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치(Auto Scanning System)의 VPD유닛과 그 도어개폐장치에 관한 것이다.
반도체 디바이스(Device)가 고집적화되면서 반도체 제조라인 및 제조공정 상에서 발생되어지는 여러가지 오염물질은 웨이퍼 표면에 흡착되어 반도체 디바이스의 성능 및 수율에 영향을 미치고 있다.
이에 따라 웨이퍼 표면의 오염물질 분석은 반도체 디바이스 제조에 있어서 중요하게 대두되고 있으며, 이를 해결하기 위해 종래에는 각 반도체 제조라인 및 각 제조공정 사이에서 소정 웨이퍼를 선택한 다음, 이 선택된 웨이퍼의 표면을 스캐닝하여 웨이퍼 표면의 오염물질 분석을 위한 오염물질 샘플을 포집하고, 이를 원자흡광분석(Atomic absorption spectroscopy), 유도결합질량분석(ICP-mass spectroscopy) 등의 파괴 분석법이나 전반사 형광X선 분석(Total X-ray fluorescent analyzer)과 같은 비파괴 분석법으로 분석하고 있다.
즉, 종래에는 각 제조라인 및 각 제조공정에서 소정 웨이퍼를 선택한 후, 이 웨이퍼 표면의 오염물질을 포집하기 전에 정확한 오염물질 포집을 위해 이 웨이퍼 표면을 코팅(Coatimg)하고 있는 산화막(Oxide)을 먼저 제거해야 했으며, 이는 기상분해장치(Vapor phase decomposition apparatus)에 의해 구현되었다.
기상분해장치는 공정이 진행되는 공정챔버(Chamber)와, 챔버내에 웨이퍼가 로딩(Loading)되는 로딩플레이트(Loading plate)와, 웨이퍼 표면을 코팅하고 있는 산화막을 분해시키기 위한 불산(HF;hydrofluoric acid)이 담겨진 용기로 구성되고, 웨이퍼가 공정챔버에 설치된 로딩플레이트에 이송되면, 이 웨이퍼가 일정시간 공정챔버내에 안착되도록 하여 용기에서 자연증발된 불산 증기에 의해 웨이퍼 표면을 코팅하고 있던 산화막이 모두 분해되도록 한다.
이후, 유저(User)는 웨이퍼를 공정챔버에서 꺼낸 다음, 웨이퍼 표면 위에 스캐닝 용액을 떨어뜨리고, 유저가 직접 매뉴얼(Manual)로 웨이퍼 표면을 스캐닝용액으로 스캐닝하여 웨이퍼 표면의 오염분석을 위한 오염물질 샘플을 포집하였다. 물론 이후에 포집 샘플을 분석하여 오염도를 측정한다.
이러한 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치로는 이미 알려진 특허 제 10-0383264호의 반도체 웨이퍼의 오염물질 포집장치 및 포집방법이 알려져 있다. 이 반도체 웨이퍼의 오염물질 포집장치는 전체적으로 공정 챔버, 이송유닛, 로더부, 기상분해유닛, 스캐닝 유닛, 드라이유닛, 언로더부 및 오염물질 포집장치를 전반적으로 제어하는 중앙제어유닛으로 구성된다.
다만, 이러한 오염물질 포집장치중 이송유닛, 로더부, 기상분해유닛, 스캐닝 유닛, 드라이유닛 및 언로더부는 공정챔버 내에 구현되고 있다. 즉, 이송유닛을 센터(Center)로 하고, 로더부와 언로더부가 각각 시점과 종점이 되는 반원형태로 설치된다. 여기에서 기상분해유닛, 스캐닝 유닛 그리고 드라이유닛은 순차적으로 로더부와 언로더부 사이에 설치된다.
이 공정챔버는 하나의 밀페된 공간내에 이송유닛, 로더부, 기상분해유닛(이하에서는 VPD유닛이라 함), 스캐닝 유닛, 드라이유닛 및 언로더부가 모두 집합된 구성을 갖추고 있으므로 작동 안정성의 장점이 있는 반면 웨이퍼 표면의 불산 분위기에 의한 분해 작용시 공정챔버내 유닛들에 영향을 받을 수 있는 단점이 있다.
웨이퍼 오염도 측정을 위한 샘플 채취시에는 불산 분해외에도 공정챔버내에 여러가지 가스들 즉, N2가스, 에어등을 주입하여 청정도를 유지하고, 소정의 기체 압력 상태를 유지하여야 하며, 분해 발생된 가스를 신속하게 배출하여야 하는 정확한 기체 주입 및 배출의 제어가 이루어져야 하지만 종래의 이러한 공정챔버 구성은 오염도 샘플 채취 웨이퍼의 표면을 분해하는 과정에서 불필요하게 이송유닛,로더부,스캐닝유닛,드라이유닛등에 영향을 주게 되는 등의 문제점이 있다.
본 발명은 웨이퍼 표면을 오토 스캐닝하는 시스템에서 VPD유닛만을 분리하여 타 유닛들과 분리되어 웨이퍼 표면의 오염도를 불산으로 분해시키고 N2가스에 의한 청정이 이루어질 수 있는 독립적인 VPD유닛을 제공하되,
이러한 VPD유닛을 통하여 내부 기압과 가스의 주입상태의 제어가 용이하도록 VPD유닛 내부의 투시가 가능한 VPD유닛으로써,
반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛의 전체적인 스캐닝 시스템을 하나의 공간에서 기압의 제어가 가능하게 하고, 가스공급이 가능하게 하므로서 웨이퍼의 기상분해효과를 증대시켜 웨이퍼 수율을 향상시키며,
VPD유닛의 밀폐성을 높이고, 도어의 전,후진 및 상,하동의 작동이 자동화하여 VPD유닛의 웨이퍼 주입과 가스 공급등에 기민하게 도어를 열고 닫을 수 있는 VPD유닛의 도어개폐 장치를 제공하는 데에 도 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛은,
사각통형의 본체로서 내부에 소정의 공간을 형성하되 바닥측에 받침구들이 형성됨과 아울러 가스배출 및 흡입 노즐들이 위치하며, 상면은 투명하게 투시창을 형성하고 그 중심에 내부 분위기 제어용 검출단자를 형성하며, 일측면을 개방하여 웨이퍼 투입구를 형성하는 VPD유닛의 본체와 상기 VPD유닛의 투입구를 밀폐되게 커버함과 아울러 개방되는 도어를 포함하되,
이 VPD유닛 도어개폐장치는,
내부에 공간을 형성하고, 가스 주입,배기되는 입출구를 형성한 본체과; 상기 본체의 입구를 개폐하기 위한 도어와, 이 도어를 전후진 이동시키도록 연결된 실린더로드와, 이 실린더로드를 에어압력으로 전후진시키는 에어실린더와, 에어실린더를 지지하는 플레이트로 이루어진 전,후진부와; 상기 전,후진부를 승하강시키기 위하여 상기 본체 입구에 독립적으로 설치되는 고정플레이트와, 이 고정플레이트에 설치되는 가이드바와, 이 가이드바의 사이에 설치된 실린더로드와, 실린더로드양측에 설치된 슬라이드바와, 상기 실린더로드 하단에 설치된 실린더로 이루어진 승강부; 및 상기 승강부의 슬라이드바와 가이드바와 실린더로드에 연결되어 상하 이동됨과 아울러 상기 전,후진부를 탑재한 슬라이드블럭를 포함하며, 상기 본체의 도어를 에어실린더에 의하여 상,하 및 전,후진시켜 챔버도어를 개폐시키는 특징을 갖는다.
상기한 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛과 그 도어개폐장치의 상기 슬라이드블럭는 저부에 업서버로 완충되는 특징을 갖는다.
이러한 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛은 웨이퍼 표면을 오토 스캐닝하는 시스템에서 VPD유닛만을 분리하여 타 유닛들과 분리되므로 웨이퍼 표면의 오염도를 불산으로 분해시키고 N2가스에 의한 청정이 이루어질 수 있는 독립적인 VPD유닛을 제공하게 되었다.
또한, 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛은 이러한 독립적인 VPD유닛을 통하여 내부 기압과 가스의 주입상태의 제어가 용이하도록 VPD유닛 내부의 투시가 가능한 VPD유닛을 제공하므로서 그 내부 가스의 제어가 용이해지는 효과를 얻기도 한다.
본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛은 VPD유닛의 전체적인 스캐닝 시스템을 하나의 공간에서 기압의 제어가 가능하게 하고, 가스공급이 가능하게 하므로서 웨이퍼의 기상분해효과를 증대시켜 웨이퍼 수율을 향상시키는 효과를 얻는다.
본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치는 VPD유닛의 밀폐성을 높이고, 도어의 전,후진 및 상,하동의 작동이 자동화하여 VPD유닛의 웨이퍼 주입과 가스 공급등에 기민하게 도어를 열고 닫을 수 있는 제어효과를 얻게 되었다.
이하, 본 발명의 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛과 그 도어개폐장치의 바람직한 실시예를 첨부 도면에 의거 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
첨부 도면중 도 2a는 본 발명 오토 스캐닝시스템의 전체 외부사시도이고, 도 2b는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 내부를 보인평면개략도이다.
상기 도면들에 따르는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치는 전체적으로 외부와 차단된 공간내에서 특히 입구부에 위치하여 웨이퍼 사이즈중 300미리, 200미리,150미리에 따라 구분하여 웨이퍼 카세트를 구분하여 개방하는 오프너(700)와, 이 오프너(700)에 안착된 카세트내의 웨이퍼를 집어 이송하는 로봇암(600)과, 이 로봇암(600)에 의하여 이송된 웨이퍼의 표면 1차 산화막을 분해하는 본 발명 VPD유닛(100)과, 산화막이 분해된 웨이퍼를 지지한 상태로 회전시키는 스캔 스테이지(400)와, 이 스캔스테이지(400)상에 위치한 웨이퍼 위에 용액을 접촉시키기 위하여 스캐닝 유닛(500)이 x,y,z축의 3축 이동하여 흡입,세정부(300)에서 시약을 흡입한 뒤 이동하여 스캔 스테이지(400)위의 웨이퍼에서 스캐닝이 이루어지며, 이후 분석장치(200)의 바틀내에 스캐닝된 용액을 배출하게 되며, 배출후의 노즐은 흡입,세정부(300)에서 노즐내 세정을 한 뒤 시약을 흡입하여 다시 스캐닝하는 작동을 반복한다.
스캐닝에 관해서는 그 설명을 생략한다. 다만, 노즐내 용액이 소정량 흡입된 상태로 웨이퍼 소정위치에 이르면 웨이퍼를 회전시키면서 용액을 일부 배출시켜 웨이퍼 표면상에 접촉하게 한다. 대부분의 표면을 직선방향 이동함과 동시에 웨이퍼를 회전시키면 웨이퍼 표면의 대부분에 용액이 접촉되면서 오염물질이 포집된다. 이 포집된 오염물질의 용액을 노즐의 흡입상태에서 분석기로 이동하여 빈 공간의 바틀에 배출시킨다.
이후 시험이 끝난 웨이퍼들을 이송유닛(700)로봇암이 얼라이너(800)로 이동시켜 각 웨이퍼들의 ID를 인식함과 동시에 정렬시켜 카세트로 옮겨 담게 된다.
이러한 오염물질이 포함된 용액을 바틀에 배출하므로서 본 발명의 전체적인 장치의 작동은 끝난다. 이어서 유저는 측정장비를 통하여 바틀마다의 오염도를 측정하게 되는 것이다.
첨부 도면중 도 3a는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛과 그 도어개폐장치의 사시도이고, 도 3b는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치 의 VPD유닛의 일부를 절개한 사시도이다.
상기 도면들에 따르는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛은 본체(100)와, 도어(114,도어개페장치110,120)로 이루어진다.
본체(100)는 내부에 공간(101)을 형성하고, 불소가스 및 N2가스가 주입되는 복수의 노즐(102)과 분해된 가스를 배기시키는 배기구(103)를 형성하며, 상기 본체(100)의 상면은 투시창(104)을 형성하며, 투시창(104)의 중심에는 본체(100) 내부의 가스 분해후의 상황을 검출하기 위한 검출단자(105)를 형성한다.
도어(114)는 본체(100)의 투입구(106)를 차단가능한 밀폐기능을 갖는 일반적인 회전가능한 도어이며, 본 발명 VPD유닛(100)에서는 독립적으로 개폐작동되는 도어개폐장치에 도어(114)를 장착한 상태로 실시되며, 후술하는 바와 같은 도어개페장치로 이루어짐이 바람직하며, 회전방식의 알려진 도어도 실시가능하나 본 발명에서는 이를 생략한다.
도어개폐장치는 전,후진부(110)와, 승강부(120)로 이루어져 VPD유닛 본체(100)의 투입구(106)의 전면에서 전,후진됨과 아울러 상,하동 되면서 투입구(106)를 개폐한다.
첨부 도면중 도 4a는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치의 저부 사시도이고, 도 4b는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치의 다른 방향의 사시도이고, 도 4c는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치의 측면도이다.
상기 도면들에 따르는 도어개페장치는 크게 전,후진부(110)와 승강부(120)로 구분되어지며, 먼저, 전,후진부(110)를 설명한다.
전,후진부(110)는 상기 VPD유닛의 투입구(106)를 개폐하기 위한 평판형의 도어(114)와, 이 도어(114)를 전,후진 이동시켜 개폐하도록 실린더로드(113)와 연결되게 한 에어실린더(112)와, 에어실린더(112)를 지지하는 플레이트(111)들로 이루어진다.
플레이트(111)들은 도시하는 바와 같이 에어실린더(112)를 양측에 장착한 포오크형의 상부와, 이 상부를 승강부(120)와 연결시키는 연결부로 이루어지며, 승강부(120)가 탑재된 고정플레이트(121)에 일체로 연결되므로서 도어(114)일체의 전,후진부(110) 및 승강부(120) 전체가 상,하동 및 전,후진의 2축이동구조를 갖는다.
상기 승강부(120)는 상기 전,후진부(110)를 승하강시키기 위하여 상기 플레이트(111)와 연결되는 고정플레이트(121)와, 이 고정플레이트(121) 양측에 볼부싱으로 설치되는 가이드바(125)와, 이 가이드바(125)의 외측에서 승하강 높이를 센싱하도록 센서를 양측에 구비한 센서프레임(126)과, 일측에서 전체적인 플레이트(111)의 승하강을 안정적으로 안내하는 보조가이드바(127)과, 중심부에서 슬라이드블럭(124)을 상,하이동시키는 실린더(123)로 이루어진다.
본 발명 실린더(123)은 원통형의 통체 상,하단에 실린더블럭(122)이 연통구조로 설치되며,하단측에 에어 주입 및 배출용 연결구(128)들이 설치되어 있다.특히, 실린더(123)의 내부에는 에어압력에 의하여 상,하동되는 마그넷조각(도시생략)이 내장되어 있고, 이 마그넷 조각의 자력에 의하여 슬라이드블럭(124)가 흡착유지된다. 슬라이드블럭(124)은 전,후진부(110)의 플레이트(111)중 하부와 연결되어 있 다.
첨부 도면중 도 5a는 도 5a, 5b는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치의 도어 개폐작동을 나타내는 작용 설명도이다.
상기 도면에 따르는 본 발명의 작동은 상기 본체(100)의 도어(114)를 에어실린더(112)(122)에 의하여 상,하 및 전,후진시켜 VPD유닛 본체(100)의 도어(114)를 개폐시키는 것으로 아래와 같이 작동한다.
VPD유닛의 본체(100)안에 웨이퍼를 넣은 후 도어(114) 일체의 전,후진부(110)의 플레이트(111)일체의 슬라이드블럭(124)을 상승시키기 위하여 실린더블럭(122)의 연결구(128)를 통하여 소정 압력의 에어를 공급한다. 에어의 주입으로 실린더(123)내에 위치한 마그넷조각이 상방 이동되며, 이에 자력으로 흡착유지되던 슬라이드블럭(124)가 이동하게 된다. 슬라이드블럭(124)의 이동으로 이에 일체로 고정된 전,후진부(110)의 플레이트(111)전체가 소정높이로 상승한다.
이러한 승강부(120)의 상승작동으로 도어(114)가 정위치에 도달하면 센싱된 신호에 따라 상승이동이 정지되고, 이어서 전,후진부(110)의 실린더(112)가 작동된다. 실린더(112)의 전진작동으로 그 로드(113)에 연결된 도어(114)가 VPD 본체(100)의 투입구(106)에 밀착되어 내외부를 차단시켜 폐쇄작동이 완료된다.
이후 웨이퍼 표면 식각이 끝나면 도어(114)를 개방하기 위하여 실린더(112)가 후진 작동이 되고, 순차적으로 승강부(120)의 실린더(123)작동으로 전체 플레이트(111)가 하강되어 원복된다.
첨부 도면중 도 6a는 본 발명 본체에서 로봇암을 이용하여 웨이퍼 인출상태 를 설명하는 개략도이고, 도 6b는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛과 그 도어개폐장치의 본체의 가스입출구를 나타내는 세부도면이고, 도 7은 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛과 그 도어개폐장치의 실제 적용시의 가스제어를 설명하는 개략도이고, 도 8은 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛과 그 도어개폐장치의 본체의 웨이퍼 투입과 함께 챔버 도어의 개폐작동을 설명하는 순서도이다.
상기 도면들에 따르는 바와 같이 본 발명 웨이퍼 VPD유닛 본체(100)내 노즐(102)을 통해 HF 가스가 분사되어 본체(100) 내부 공간에 위치한 웨이퍼 표면을 식각한다. 식각 후 N2가스를 압력을 갖고 주입하여 VPD유닛 본체(100) 내부 HF가스를 배기구(103)을 통해 배출시킨다. HF 가스 배기 후 도어(114)를 전,후진부(110)의 실린더(112)에 의해 후방으로 이동시켜 투입구(106)를 개방시킨다. 후진된 도어(114)는 승강부(120)의 실린더(122)로서 하방으로 하강시킨다. 이후 웨이퍼 트랜스퍼 로봇에 의하여 본체(100)내부의 웨이퍼를 꺼낸다.
이후 실리콘 웨이퍼 표면의 성분을 액체 샘플로 스캐닝하여 액체샘플을 검사 장비에서 오염도를 측정하게 되는 것이다. 즉, 밀폐된 본체(100)내에서 HF기체에 노출되므로서 메탈 성분들을 산화시켜 식각된 표면에서 스캐닝하여 액체를 채집하며, 채집된 액체는 소정의 이송장비에 의해 pipette에 의해 깨끗한 시료 샘플바틀에 전달된다. 이 채집된 샘플 용액은 ICP-MS에 의해 메탈 성분을 분석한다.
실리콘 웨이퍼 위의 소량의 금속성분을 분석하기 위해 ICP-MS가 사용된다. 스캐닝 공정에서 추출된 물방울은 표면 오염 정도를 알 수 있도록 추출되며,웨이퍼 샘플 준비와 분석은 30분 안에 실행되며, 실시간 웨이퍼 제조 모니터링도 가능하게 한다.
도 1은 종래 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 실시예를 나타내는 내부를 보인 사시도이고,
도 2a는 본 발명 오토 스캐닝시스템의 전체 외부사시도이고, 도 2b는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 내부를 보인 평면개략도이고,
도 3a는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛과 그 도어개폐장치의 사시도이고, 도 3b는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛의 일부를 절개한 사시도이고,
도 4a는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치의 저부 사시도이고, 도 4b는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치의 다른 방향의 사시도이고, 도 4c는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치의 측면도이고,
도 5a, 5b는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치의 도어 개폐작동을 나타내는 작용 설명도이고,
도 6a는 본 발명 본체에서 로봇암을 이용하여 웨이퍼 인출상태를 설명하는 개략도이고, 도 6b는 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛과 그 도어개폐장치의 본체의 가스입출구를 나타내는 세부도면이고,
도 7은 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛과 그 도어개폐장치의 실제 적용시의 가스제어를 설명하는 개략도이고,
도 8은 본 발명 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛과 그 도어개폐 장치의 본체의 웨이퍼 투입과 함께 챔버 도어의 개폐작동을 설명하는 순서도이다.

Claims (3)

  1. 삭제
  2. 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치에 있어서,
    VPD유닛 본체의 투입구를 개폐하기 위한 도어(114);
    상기 도어(114)를 전,후진 이동시키도록 실린더로드(113)로 연결된 에어실린더(112)와, 이 에어실린더(112)를 지지하는 플레이트(111)로 이루어진 전,후진부(110); 및
    상기 전,후진부(110)를 승하강시키기 위하여 상기 플레이트(111)전체와 연결되는 슬라이드블럭(124)와, 이 슬라이드블럭(124)를 상,하 이동시키는 실린더(123)와, 이 실린더(123)의 양측에 위치하여 슬라이드블럭(124)의 상,하이동을 가이드하는 가이드바(125)로 이루어진 승강부(120)를 포함하는 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 슬라이드블럭(124)은 일측에서 보조가이드바(127)로 안내되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 VPD유닛 도어개폐장치.
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