KR100945691B1 - 표면처리된 나노입자, 그 제조방법, 및 이를 포함하는 잉크조성물 - Google Patents

표면처리된 나노입자, 그 제조방법, 및 이를 포함하는 잉크조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 저온 분위기에서 열처리를 통하여 초미세 금속 나노입자를 제조하고, 그 표면에 귀금속을 코팅하여 표면처리된 초미세 나노입자를 제조하는 방법을 제공한다. 본 발명은 저온 공정을 통하여 입자 성장을 억제하여 초미세 금속 나노입자를 제조할 수 있으며, 분쇄공정을 생략하여도 초미세 금속 나노입자가 얻어지며, 시간, 단가 절감이 가능하고, 환경오염 및 독성이 상대적으로 적은 재료를 사용함으로써, 환경 오염 요인을 제거할 수 있으며, 귀금속의 양을 줄임으로써 단가를 절감함과 동시에 도전성이 높으며 내산성, 내화학성이 우수하고 초미세한 입경을 갖는 표면처리된 초미세 나노입자 및 이를 함유한 잉크 조성물을 제공하여 표시장치의 전극 등을 보다 우수하게 제조할 수 있다.
도전성 나노입자, 잉크 조성물, 귀금속

Description

표면처리된 나노입자, 그 제조방법, 및 이를 포함하는 잉크 조성물{Surface treated Nano-particles, Manufacturing Method Thereof And Ink Composition Comprising The Same}
본 발명은 표면처리된 도전성 나노입자, 그 제조방법, 및 이를 포함하는 도전성 잉크 조성물에 관한 것이다.
최근 휴대통신기기의 성장, 디지털 TV의 보급과 더불어 고품위 영상에 대한 요구가 증가하고 있다. 이러한 고품위 영상에 부합하기 위해 평판 디스플레이는 고정세화가 필수적으로 수반되어야 한다. 이를 충족하기 위해서는 관련 공정 기술의 고정세화가 발전해야 한다. 그러나 기존의 스크린 인쇄 및 사진 식각으로 전극 패턴 형성을 할 경우 스크린의 메쉬 피치(mesh pitch)로부터 인쇄할 수 있는 최소 패턴 치수가 결정되며 이에 의하면 100 ㎛ 이하의 패턴 형성은 힘든 일이다. 또한 스크린의 사용 횟수가 1000 ∼ 2000회로 교환이 필요하고, 에칭을 통해 불필요한 부분의 도전층을 제거해야 하므로 실제 필요한 양보다 많은 양을 사용하게 되어 재료 비가 높아지는 단점이 있다. 공정 면에서도 글라스 프릿(glass frit)을 사용하므로 고온공정이 반드시 요구되고 글라스 프릿으로 인해 저항이 높아지는 문제점도 안고 있다. 따라서 100 ㎛ 이하의 미세 패턴 형성을 위한 방법으로 잉크젯 방식에 대한 연구가 이루어지고 있다. 잉크젯 방식을 이용하면 미세 패턴의 형성이 용이할 뿐만 아니라, 원하는 패턴만 그리게 되므로 기존의 사진 식각 공정에 비해 재료비를 획기적으로 절감할 수 있다.
잉크젯 방식의 핵심이 되는 원천 소재로 전도성 잉크를 들 수 있는데 잉크 구성은 금속을 포함한 도전성 나노 입자와 잉크 용매로 되어 있다. 여기서 도전성 나노 입자가 핵심인데, 이는 도전성 나노 입자가 부피 대비 표면적이 기존 벌크(bulk) 입자에 비해 매우 증가하므로 기존 소재보다 특성 향상 및 새로운 특성을 나타낼 수 있기 때문이다. 특히 적절한 두께의 전극을 구현하기 위해 잉크내 나노 입자의 함량을 높여야 하는데, 입자가 미세하고 분산성이 좋아질수록 이러한 입자 함유량이 증가할 수 있다. 이에 따라 고함량의 나노 입자를 함유한 용액들이 개발되고 있고 이를 이용한 다양한 응용으로의 개발에도 다각적인 노력들이 진행되고 있다.
특히 금이나 은과 같은 고가의 귀금속 나노입자 잉크를 대체하기 위해 니켈이나 구리와 같은 비귀금속 나노입자 및 잉크의 제조에 관한 연구가 활발하게 이루어지고 있다.
그러나 이러한 장점에도 불구하고 아직 양산화 기술이 개발되지 않고 있는 것은 나노 입자의 입도와 분산 안정성, 도전성, 그리고 금속의 경우 내부식 및 내산화와 같은 신뢰성이 확보되어 있지 않기 때문이다. 즉, 기존의 나노입자 제조공정은 MbCl2, Mb(NO3)2 등을 원료물질로 한 습식 침전법으로 제작하는데, 원료 물질에 함유된 다량의 염소(Cl) 및 질산(NO3) 성분이 처리공정이 매우 복잡하고, 잉크젯 공정에 악영향을 미친다.
이러한 Cl 및 NO3 등의 잔류 원소를 제거하기 위해서 수십번의 세척 및 공정의 가장 마지막 부분에서 400℃ 이상의 고온 열처리를 한다. 이와 같은 고온 열처리 공정에서 입자가 성장한다. 그 결과 100 ㎚ 이상의 조대한 입도 분포를 갖게 되어 나노 입자로서의 특성, 재현성 및 안정성이 저하할 수 있다. 즉, 나노 입자가 응집하면서 이에 의한 노즐의 막힘 현상 등으로 인해 분사 균일성이 확보되지 않아 최종 제품의 성능불량을 만들어 내는 원인이 된다.
더욱이 귀금속에 비해 전기 도전성이 낮고, 나노 입자의 고온 열처리 공정과 사용되는 열화 환경에서 발생하는 입자 표면의 산화와 부식 등으로 인해 신뢰성이 저하하게 된다. 따라서 이와 같은 고온 열처리 공정을 개선하고 나노 입자의 입도 미세화 및 균일성 향상을 위한 저온 열처리 및 합성법이 필요하다.
또한, 환경적 문제, 양산성 등을 고려할 때, 복잡한 공정과 첨가물, 그리고 유해성 약품의 사용이 없이도, 간단한 방법으로 우수한 결정성을 갖는 나노입자을 제조할 수 있는 방법이 요구되며, 특히 상기 불순물들이 나노입자에 잔류하여 잉크 소재로서 적용시 잉크젯 배선에 이러한 불순물이 남아 전기 저항을 높이는 등의 문제가 없는 나노입자 제조방법의 개발이 요구된다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로,
저가의 금속 나노입자의 전기 도전성을 귀금속 수준으로 향상시키고, 금속 나노입자의 경우 고온 열처리 공정과 사용되는 열화 환경에서 발생하는 입자 표면의 산화와 부식 등을 방지하여 신뢰성을 향상시키기 위해 나노입자의 표면에 무전해도금 등의 방법으로 귀금속을 코팅하여 표면처리된 초미세 나노입자를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 또한, 저온 공정을 통하여 입자 성장을 억제하여 초미세 나노입자를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 또한, 분쇄공정을 생략할 수 있는 방법을 제공하여, 시간, 단가 절감이 가능한 초미세 나노입자를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 또한, 환경오염 및 독성이 상대적으로 적은 재료를 사용함으로써, 환경 오염 요인을 제거한 초미세 나노입자를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 또한, 표면처리된 초미세 나노입자를 함유한 도전성 잉크 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명은,
금속-유기물 혼합제가 유기용제에 용해 또는 분산된 금속-유기물 혼합제 함유액을 제조하는 단계; 상기 함유액의 유기용제를 제거하여 불순 유기물이 존재하는 금속 나노입자를 얻는 단계; 250℃ 이하의 저온 분위기에서 열처리하여 상기 불순 유기물을 제거하는 단계; 및 불순 유기물이 제거된 금속 나노입자 표면에 귀금속을 코팅하는 단계;를 포함하여 이루어진 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
또한, 금속 나노입자 표면에 귀금속을 코팅하는 단계 전에 금속 나노입자를 알칼리 용액으로 세척 후 산성 용액으로 표면을 활성화시키는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 금속-유기물 혼합제에 사용되는 금속은 구리, 니켈, 알루미늄, 코발트, 마그네슘, 그 산화물, 및 이들 중 적어도 하나가 포함된 합금 중에서 적어도 하나 선택되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 귀금속은 금, 은, 백금, 팔라디움 및 이들 중 적어도 하나가 포함된 합금 중에서 적어도 하나 선택되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 유기용제를 제거하는 단계는 상온에서 교반을 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 교반은 8시간 이상 수행되어 유기용제를 서서히 제거하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 금속-유기물 혼합제는 금속과 유기물이 킬레이션(Chelation)된 형태인 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 유기물로는 아세테이트(acetate), 아세틸아세토네이트(acetylacetonate), 옥살레이트(oxalate) 및 이들로부터 유도되는 산(acid) 중에서 적어도 하나 포함되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 유기용제는 아세톤, 탄소수 1~4의 알콜 및 글리콜 중에서 적어도 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
또한, 열처리하여 유기물을 제거하는 단계는 200℃ 미만의 저온 분위기에서 수행되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 열처리하여 유기물을 제거하는 단계를 수행하면 분쇄공정 없이도 평균입경 100nm 이하의 초미세 나노입자가 얻어지는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 금속-유기물 혼합제 100 중량 대비 금속은 15 내지 50 중량부 포함되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 제조방법으로 제조된 표면처리된 초미세 나노입자를 제공한다.
또한, 평균입경이 100nm 이하인 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자를 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 표면처리된 초미세 나노입자를 포함하여 이루어진 잉크 조성물을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 잉크 조성물을 기재 상부에 잉크젯 방식으로 분사하여 패터닝한 후 열처리하여 제조된 패턴 구조물을 제공한다.
이하, 도면 및 실시예를 통해 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명은, 금속-유기물 혼합제가 유기용제에 용해 또는 분산된 금속-유기물 혼합제 함유액을 제조하는 단계, 상기 함유액의 유기용제를 제거하여 불순 유기물이 존재하는 금속 나노입자를 얻는 단계, 250℃ 이하의 저온 분위기에서 열처리하여 상기 불순 유기물을 제거하는 단계, 및 불순 유기물이 제거된 금속 나노입자 표면에 귀금속을 코팅하는 단계를 포함하여 이루어진 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법을 제공한다. 필요에 따라, 금속 나노입자 표면에 귀금속을 코팅하는 단계 전에 금속 나노입자를 알칼리 용액으로 세척 후 산성 용액으로 표면을 활성화시키는 단계를 추가할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법의 수순 개략도이다.
먼저, 초미세 나노입자를 제조하기 위하여 금속-유기물 혼합제가 유기용제에 용해 또는 분산된 금속-유기물 혼합제 함유액을 제조한다.
상기 금속-유기물 혼합제는 금속과 유기물이 이온결합이 아닌 킬레이션(Chelation) 형태로 혼합되어 있는 것이 바람직하며, 특히 금속을 유기물이 감싸고 있는 형태가 좋다. 이러한 형태를 통해 유기용제에 쉽게 용해 또는 고르게 분산될 수 있게 된다.
상기 금속으로는 귀금속에 비하여 가격이 저렴하고 도전성 나노입자로서 물성이 우수한 것이 좋으며, 일례로는 구리, 니켈, 알루미늄, 코발트, 마그네슘, 그 산화물, 및 이들 중 적어도 하나가 포함된 합금 중에서 적어도 하나 선택되는 것이 좋다.
상기 금속-유기물 혼합제에서 금속의 함유량은 제한되지 않으나 혼합제 총 100 중량 대비 금속이 15 내지 50 중량부 포함되는 것이 좋다. 상기 범위 이하로 금속이 포함된 경우에는 혼합제 대비 금속의 수율이 좋지 않으며, 상기 범위 이상으로 금속이 포함된 경우에는 용해도 또는 분산도가 떨어져 최종으로 얻어지는 금속 입자의 입경이 커질 수 있다.
상기 유기물로는 금속과 킬레이션될 수 있는 작용기를 갖는 것이라면 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 바람직하기로는 아세테이트(acetate), 아세틸아세토네이트(acetylacetonate), 옥살레이트(oxalate) 및 이들로부터 유도되는 산(acid) 중에서 적어도 하나 포함되는 것이 혼합제가 유기용에 잘 용해되어 좋다.
상기 유기용제는 금속-유기물 혼합제가 용해되거나 고르게 분산될 수 있는 유기용제라면 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 바람직하기로는 아세톤, 탄소수 1~4의 알콜 및 글리콜 중에서 적어도 하나 이상 선택되는 것이 좋다.
다음, 상기에서 얻어진 금속-유기물 혼합제 함유액에서 유기용제를 제거하여 불순 유기물이 존재하는 금속 나노입자를 얻는다. 유기용제를 제거하게 되면 서서 히 금속 나노입자가 석출되게 되며, 겔화되어 간다.
상기 유기용제를 제거하는 단계는 요구되는 나노크기의 입자를 얻기 위해 상온에서 교반을 통해 수행되는 것이 바람직하다. 열을 가하여 유기용제를 급하게 제거할 경우 얻어지는 금속 나노입자의 직경이 다소 커질 수 있다(다만, 본 발명에서 열을 가하여 유기용제를 제거하는 것을 제외하는 것은 아니다). 상기 교반은 유기용제가 충분히 제거되는 때까지 수행하는 것이 좋으며, 바람직하기로는 8시간 이상 수행되어 유기용제를 서서히 제거하는 것이 좋다. 교반 시간의 상한은 제한되지 않으나 96시간 이내면 적당하다. 상기 교반은 연속적일 수도 있으며, 비연속적으로 수행될 수도 있으며 모두 본 발명에 포함된다.
유기용제를 충분히 제거하게 되면, 특별한 분쇄공정 없이도 100nm 이하의 초미세 입자가 쉽게 얻어지게 된다. 이 경우, 유기용제 제거시 금속과 킬레이션되었던 유기물이 같이 증발하여 제거될 수 있으나 상당량이 잔존하여 불순물로 남게 된다.
다음, 상기 불순물로 잔존하는 유기물을 250℃ 이하의 저온 분위기에서 열처리하여 상기 불순 유기물을 제거하여 순수한 초미세 금속 나노입자를 얻는다. 상기 범위 이상의 온도에서 열처리를 하게 되면 금속 입자가 조대해지고 입자간 응집이 발생하여 원하는 초미세 금속 나노입자를 얻기 어렵다.
보다 초미세한 금속 나노입자를 얻기 위해서는 상기 불순 유기물이 제거될 수 있는 최소한의 온도로 열처리하는 것이 좋으며, 특히 200℃ 미만의 저온 분위기에서 수행되는 것이 바람직하다. 열처리 온도의 하한은 제한되지 않으나 열처리 효과의 효율성을 위해 150℃ 이상, 특히 180℃ 이상의 온도에서 열처리하는 것이 바람직하다.
상기 열처리하여 유기물을 제거하는 단계를 수행하면 특별한 분쇄공정 없이도 초미세 금속 나노입자가 얻어지게 된다. 즉, 본 발명에서는 환원 공정이나, 분쇄 공정 등의 복잡한 공정 없이도, 간단하게 초미세 금속 나노입자를 얻을 수 있다.
다음, 필요에 따라, 귀금속 코팅의 효율 및 안정성을 높이기 위해 귀금속 코팅 전에 상기 얻어진 초미세 금속 나노입자를 알칼리 용액으로 세척 후 산성 용액으로 표면을 활성화시킬 수 있다. 알칼리 용액으로 세척하여 표면의 오염 물질 및 불순물을 세척한 후에 물로 다시 세척하고 산성 용액으로 활성화 시킨다. 산성 용액은 희석된 산성용액인 것이 좋다.
다음, 초미세 금속 나노입자 표면에 귀금속을 코팅한다. 코팅 방법은 제한되지 않으나 도금 방법이 좋으며, 특히 무전해 도금법이 좋다. 상기 무전해 도금방법은 일반적인 방법 및 장치를 이용할 수 있으며, 잘 알려져 있으므로 설명을 생략한다.
상기 귀금속은 도전성이 우수한 것이 좋으며, 일례로 금, 은, 백금, 팔라디 움 및 이들 중 적어도 하나가 포함된 합금 중에서 적어도 하나 선택되는 것이 좋다. 귀금속의 코팅함량은 제한되지 않으나 피코팅물인 금속 : 귀금속의 중량비 범위가 1:1 ~11:1 범위내인 것이 좋다.
본 발명은 또한, 상기의 제조방법에 따라 제조된 표면처리된 초미세 나노입자로서, 평균입경이 100nm 이하, 특히 10nm 이하, 보다 미세하게는 평균입경이 5nm 이하인 표면처리된 초미세 나노입자를 제공한다. 평균입경의 하한은 제한되지 않으며, 본 발명이 허락하는 한 최소입경을 갖는 것이 좋다. 물론, 적용되는 필드에 따라 나노크기 미만은 요구되지 않을 수도 있다.
본 발명은 또한, 상기 표면처리된 초미세 나노입자가 포함된 잉크 조성물을 제공한다. 잉크 조성물은 잉크젯 방식에 적합하게 사용될 수 있다. 잉크 조성물의 성분으로는 상기 표면처리된 초미세 나노입자가 함유된 것이라면 제한되지 않으며, 본 기술분야에서 알려진 잉크 조성물을 적용할 수 있다.
일례로는, 상기 표면처리된 초미세 나노입자 및 용제가 포함되고, 기타 첨가제 등이 더 포함될 수 있으며, 첨가제의 예로는 제한되지 않으나 마멸방지 촉진 나노 입자(anti abrasive promoting nano particle) 및/또는 가요성 촉진 중합체(flexible promotingpolymer) 등을 포함할 수 있다. 마멸방지 촉진 나노 입자는 콜로이드상(colloidal) 및/또는 훈증 실리카(fumed silica) 나노 입자 및/또는 졸-겔 나노 입자 및/또는 탄소 나노 입자 등을 들 수 있으며, 가요성 촉진 중합체는 실리콘 중합체 및/또는 관능화(functionalised) 실리콘 중합체 등을 들 수 있다.
상기 용제로는 제한되지 않으나 에탄올, 에틸렌 글리콜 등의 알콜 유기용제를 들 수 있으며, 일종 또는 혼합하여 사용될 수 있다.
본 발명은 또한, 상기 잉크 조성물을 기재 상부에 잉크젯 방식으로 분사하여 패터닝한 후 열처리하여 제조된 패턴 구조물을 제공한다.
상기 잉크 조성물을 잉크젯 방식으로 분사하여 소정의 패턴으로 잉크 조성물을 기재에 도포한 후에 열처리하게 되면, 미세한 도전성 패턴 구조물을 얻을 수 있게 된다.
특히, 표시장치의 전극을 상기 방법으로 패터닝하여 제조할 수 있다. 상기 잉크 조성물을 사용할 경우, 도전성이 우수하고 100㎛ 이하의 매우 미세한 전극 패턴도 우수하게 형성될 수 있다.
본 발명은 저온 공정을 통하여 입자 성장을 억제하여 초미세 금속 나노입자를 제조할 수 있으며, 분쇄공정을 생략하여도 초미세 금속 나노입자가 얻어지며, 시간, 단가 절감이 가능하고, 환경오염 및 독성이 상대적으로 적은 재료를 사용함으로써, 환경 오염 요인을 제거할 수 있으며, 귀금속의 양을 줄임으로써 단가를 절감함과 동시에 도전성이 높으며 내산성, 내화학성이 우수하고 초미세한 입경을 갖는 표면처리된 초미세 나노입자 및 이를 함유한 잉크 조성물을 제공하여 표시장치 의 전극 등을 보다 우수하게 제조할 수 있다.
이하, 실시예를 통해 보다 상세히 설명한다. 하기의 실시예는 일례이므로 본 발명이 이에 한정되지 않는다.
<제조예 1>
1L의 아세톤에 10g의 Ni-아세테이트를 첨가하여 용해시켜 Ni-아세테이트 함유 혼합액을 제조하였다. 상기 제조된 혼합액을 상온에서 30시간 교반하면서 유기용매 및 일부의 아세테이트를 증발시켜 제거하였다. 제거후에 얻어진 건조된 물질을 회수하여 전기로에서 190℃의 온도로 5시간 저온 열처리를 통해 불순 유기물을 제거하여 순수한 금속 Ni 나노입자를 제조하였다.
<제조예 2>
상기 제조예 1에서 열처리 온도를 200℃에서 수행한 것을 제외하고는 동일하게 하여 금속 Ni 나노입자를 제조하였다.
<제조예 3>
상기 제조예 1에서 열처리 온도를 250℃에서 수행한 것을 제외하고는 동일하게 하여 금속 Ni 나노입자를 제조하였다.
<비교제조예 1>
상기 제조예 1에서 열처리 온도를 350℃에서 수행한 것을 제외하고는 동일하게 하여 금속 Ni 나노입자를 제조하였다.
<비교제조예 2>
상기 제조예 1에서 열처리 온도를 400℃에서 수행한 것을 제외하고는 동일하게 하여 금속 Ni 나노입자를 제조하였다.
<실시예>
상기 제조예 1에서 얻어진 금속 Ni 나노입자의 표면을 알칼리 탈지액으로 불순물을 제거하고, 수세 후 묽은 염산 용액으로 활성화시켰다. 다시 수세 후 무전해 도금법을 이용하여 니켈 표면에 금을 코팅하여 표면처리된 초미세 니켈 나노입자를 얻었다.
<비교예>
상기 제조예 1에서 얻어진, 표면처리하지 않은 금속 Ni 나노입자를 비교예로 하였다.
먼저, 상기의 제조예에서 제조된 니켈 나노입자를 전자 현미경 사진으로 입 경을 분석하고, X선 회절도를 통해 결정성을 분석하였다.
도 2는 제조예 1에서 제조된 니켈 나노입자의 전자 현미경 사진으로서, 특별한 분쇄공정 없이도 입경이 5nm 이하의 초미세 니켈 나노입자가 얻어진 것을 볼 수 있으며,
도 3은 제조예 1에서 제조된 니켈 나노입자의 X선 회절도로서, 순수한 니켈의 결정성을 볼 수 있다.
특히, 상기의 특징적인 제조방법에 따라 나노입자를 제조할 경우, 독특한 결정성을 갖는 니켈 나노입자를 얻을 수 있다. 즉, 도 3에 나타난 바와 같이 초미세 니켈 나노입자의 X선 회절도에서, 2θ가 40~50 사이에서 가장 큰 피크가 나타나고, 35~40 사이에서 두번째의 큰 피크가 나타나며, 60~65 사이에서 세번째의 큰 피크가 나타나는 결정성을 갖는 초미세 니켈 나노입자를 얻을 수 있으며, 특히 가장 큰 피크의 인텐시티(Intensity) 대비 노이즈 또는 불순 피크의 인텐시티(Intensity)가 1/4 이하인 초미세 니켈 나노입자를 얻을 수 있다.
이러한 본 발명의 초미세 니켈 나노입자의 XRD 피크는 기존의 니켈 입자의 벌크 피크와는 다소 차이점이 있다. 이에 대한 정확한 원인은 밝혀내지 못했으나 얻어진 초미세 니켈 나노입자의 표면에 다소간의 초박층의 유기산화물이 존재하는 것이 아닌가 추정된다. 얻어진 초미세 니켈 나노입자의 색상이 까만색인 점, 도금 실험 결과 도금이 잘 되는 점(색상 및 전자 현미경으로 확인)으로 보아, 상기 얻어진 입자의 성분이 니켈인 것은 충분히 증명, 확인되었다.
도 4는 제조예 1~3 및 비교제조예 1~2의 X선 회절도에 대한 비교 그래프로서, 비교제조예의 결정성이 열처리 온도로 인해 불량해지는 것을 볼 수 있으며, 가장 좋은 결정성은 200℃ 미만인 것을 볼 수 있다.
도 5는 실시예 및 비교예에서 제조된 초미세 나노입자의 전자 현미경 사진으로서, (a)가 비교예, (b)가 실시예이다. 귀금속으로 표면처리를 한 후에 입자의 입경이 다소 커졌으나 여전히 나노크기의 초미세 입자인 것을 볼 수 있다.
도 6은 실시예 및 비교예의 저항을 측정한 결과 그래프로서, 실시예가 저항이 낮아 도전성이 현저히 향상된 것을 볼 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법 수순 개략도,
도 2는 제조예 1에서 제조된 니켈 나노입자의 전자 현미경 사진,
도 3은 제조예 1에서 제조된 니켈 나노입자의 X선 회절도,
도 4는 제조예 1~3 및 비교제조예 1~2의 X선 회절도에 대한 비교 그래프,
도 5는 실시예 및 비교예에서 제조된 초미세 나노입자의 전자 현미경 사진,
도 6은 실시예 및 비교예의 저항을 측정한 결과 그래프이다.

Claims (16)

  1. 금속과 유기물이 킬레이션(Chelation)된 형태인 금속-유기물 혼합제가 유기용제에 용해 또는 분산된 금속-유기물 혼합제 함유액을 제조하는 단계;
    상기 함유액의 유기용제를 제거하여 불순 유기물이 존재하는 금속 나노입자를 얻는 단계;
    250℃ 이하의 저온 분위기에서 열처리하여 상기 불순 유기물을 제거하는 단계; 및
    불순 유기물이 제거된 금속 나노입자 표면에 귀금속을 코팅하는 단계;를 포함하여 이루어진 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법으로서,
    분쇄공정 없이도 평균입경은 40nm이하의 표면처리된 초미세 나노입자를 얻을 수 있는 것을 특징으로 하는 .표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법
  2. 제1항에 있어서, 금속 나노입자 표면에 귀금속을 코팅하는 단계 전에 금속 나노입자를 알칼리 용액으로 세척 후 산성 용액으로 표면을 활성화시키는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 금속-유기물 혼합제에 사용되는 금속은 구리, 니켈, 알루미늄, 코발트, 마그네슘, 그 산화물, 및 이들 중 적어도 하나가 포함된 합금 중에서 적어도 하나 선택되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 귀금속은 금, 은, 백금, 팔라디움 및 이들 중 적어도 하나가 포함된 합금 중에서 적어도 하나 선택되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 유기용제를 제거하는 단계는 상온에서 교반을 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 교반은 8시간 이상 수행되어 유기용제를 서서히 제거하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 금속-유기물 혼합제는 금속과 유기물이 킬레이션(Chelation)된 형태인 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기 유기물로는 아세테이트(acetate), 아세틸아세토네이트(acetylacetonate), 옥살레이트(oxalate) 및 이들로부터 유도되는 산(acid) 중에서 적어도 하나 포함되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 유기용제는 아세톤, 탄소수 1~4의 알콜 및 글리콜 중에서 적어도 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법.
  10. 제1항에 있어서, 열처리하여 유기물을 제거하는 단계는 200℃ 미만의 저온 분위기에서 수행되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법.
  11. 삭제
  12. 제1항에 있어서, 상기 금속-유기물 혼합제 100 중량 대비 금속은 15 내지 50 중량부 포함되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 초미세 나노입자의 제조방법.
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 삭제
  16. 삭제
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