KR100945638B1 - Photocuring Composition for Pressure Sensitive Adhesive Layer and Dicing Die Bonding Film Comprising the Same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더, UV 경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 열경화제, 광중합 개시제를 포함하는 광경화성 점착 조성물 및 점착 필름에 관한 것으로, 본 발명에 의하면 광경화전에 링프레임, 웨이퍼 또는 다이접착용 접착필름과 우수한 부착력을 나타내고, 자외선 경화시 에너지 양이 일정하지 못한 광경화 조건에서도 우수한 경화성을 갖기 때문에 다이싱 필름 및 다이싱 다이본딩 필름에 유용하게 사용할 수 있다.The present invention relates to an acrylic adhesive binder including a vinyl group, a UV curable urethane acrylate oligomer, a thermosetting agent, a photocurable adhesive composition and a pressure-sensitive adhesive film comprising a photopolymerization initiator, and according to the present invention, a ring frame, a wafer, or a die It shows excellent adhesion with the adhesive adhesive film for adhesion, and has excellent curability even under photocuring conditions in which the amount of energy is not constant during UV curing, and thus it can be usefully used for dicing films and dicing die-bonding films.

반도체, 점착 테이프, 광경화성 점착조성물, 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 에폭시기, 열경화제, 광개시제, 다이싱, 다이싱 다이본딩 Semiconductor, adhesive tape, photocurable adhesive composition, urethane acrylate oligomer, epoxy group, thermosetting agent, photoinitiator, dicing, dicing die bonding

Description

광경화성 점착 조성물 및 이를 포함하는 다이싱 다이본딩 필름 {Photocuring Composition for Pressure Sensitive Adhesive Layer and Dicing Die Bonding Film Comprising the Same}Photocuring Composition for Pressure Sensitive Adhesive Layer and Dicing Die Bonding Film Comprising the Same

본 발명은 광경화성 점착 조성물 및 이를 포함하는 다이싱 다이본딩 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더, UV 경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 열경화제, 광중합 개시제로 이루어진 광경화성 점착 조성물 및 이를 포함하는 다이싱 다이본딩 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable pressure-sensitive adhesive composition and a dicing die-bonding film comprising the same, and more particularly, to a photocurable pressure-sensitive adhesive composition comprising an acrylic adhesive binder including a vinyl group, a UV curable urethane acrylate oligomer, a thermosetting agent, and a photopolymerization initiator. And a dicing die bonding film comprising the same.

반도체 제조공정에서 회로가 설계된 웨이퍼는 큰 직경을 갖는 크기에서 다이싱을 통해 작은 칩들로 분리되고, 분리된 각 칩들은 PCB 기판이나 리드프레임 기판 등의 지지부재에 접착공정을 통해 다이본딩되는 단계적 공정을 거친다.In the semiconductor manufacturing process, a wafer in which a circuit is designed is divided into small chips through dicing in a size having a large diameter, and each separated chip is die-bonded by bonding to a supporting member such as a PCB substrate or a lead frame substrate. Go through

종래에는 다이싱 공정에서 다이싱 필름을 웨이퍼 이면에 부착하여 다이싱 시에 칩이 비산하거나 움직여서 크랙이 발생하는 것을 방지해왔다. 다이싱 필름을 사용하지 않으면 고속으로 회전하는 블레이이드에 의해 칩이 비산하거나 움직여 칩 이 손상을 입게 된다. 따라서, 적절한 점착력을 가진 다이싱 필름을 사용하여 칩의 개별화 공정을 용이하게 하였다.Conventionally, a dicing film is attached to the back surface of a wafer in a dicing process to prevent chips from scattering or moving during dicing. If the dicing film is not used, the chip may be scattered or moved by the blades rotating at high speed, causing the chip to be damaged. Thus, a dicing film with appropriate adhesion was used to facilitate the individualization process of the chip.

다이싱 필름이 자외선 경화형 조성물인 경우에는 다이싱 완료 후, 후면에 자외선을 조사하여 조성물을 경화시킴으로써 웨이퍼와의 계면 박리력을 낮추어 개별화된 칩 웨이퍼의 픽업공정을 용이하게 하고 있다.In the case where the dicing film is an ultraviolet curable composition, after the completion of the dicing, the back surface is irradiated with ultraviolet rays to cure the composition to lower the interfacial peeling force with the wafer, thereby facilitating the pickup process of the individualized chip wafer.

상기와 같은 종래의 방식에 의하면 다이싱후 개별화된 칩에 전기적 신호를 전달하기 위한 패키지화 공정에서 칩을 PCB 기판이나 리드프레임 기판과 같은 지지부재에 접착시켜주는 다이본딩 공정이 필요하고, 이 공정에서 액상의 에폭시 접착제를 이용하여 칩을 PCB 기판이나 리드프레임에 접착하였으나, 고밀도와 고집적이 요구되는 MCP(Multi Chip Package)에서는 기판 위에 접착된 칩과 칩을 서로 접착시켜 2층 이상 쌓게 되는 적층 기술이 적용되기 때문에, 액상의 에폭시 접착제를 사용할 경우 균일한 두께의 도포도 어려울 뿐만 아니라, 접착제가 넘치거나 불충분한 경우 필레(Fillet) 현상이나 접착력 부족 등의 문제가 발생해 왔다.According to the conventional method as described above, in the packaging process for delivering electrical signals to individual chips after dicing, a die bonding process for adhering the chip to a supporting member such as a PCB substrate or a lead frame substrate is required. Chip is bonded to PCB board or leadframe using epoxy adhesive of MCP (Multi Chip Package), which requires high density and high integration. Therefore, when a liquid epoxy adhesive is used, it is difficult to apply a uniform thickness, and when the adhesive is excessive or insufficient, problems such as fillet phenomenon and lack of adhesive strength have occurred.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 대한민국 특허 공개공보 제2004-30979호에서는 기재 위에 자외선 경화형 점착 조성물과 에폭시 수지 조성물을 1액형으로 혼합해 놓은 기술이 제안되었다. 그러나, 상기의 기술은 자외선 조사로 경화시키는 공정 외에 에폭시 수지를 경화시키는 경화공정을 추가로 30분 이상 필요로 하는 관계로 시간이 많이 소요되고, 웨이퍼 다이싱 단계에서는 링프레임에 고정시켜야 익스팬딩을 할 수 있으므로, 링프레임에 고정시키기 위한 별도의 점착 테이프를 추가로 제조하여야 하므로, 프리컷(Pre-cut) 샘플로 다이싱 다이본딩 필름을 제조하는 경우에는 이 링프레임 부착용 양면 점착필름을 제조해야 하는 등의 공정이 복잡하고, 비용상의 문제도 발생한다.In order to solve the above problems, Korean Patent Laid-Open Publication No. 2004-30979 proposes a technique in which an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive composition and an epoxy resin composition are mixed in a one-component form on a substrate. However, since the above technique requires an additional 30 minutes or more of a curing process for curing an epoxy resin in addition to a curing process by ultraviolet irradiation, it takes a long time, and in the wafer dicing step, it is necessary to fix the ring frame in order to expand the expansion. In order to manufacture a dicing die-bonding film with a pre-cut sample, a double-sided adhesive film for attaching the ring frame should be manufactured. The process is complicated, and the cost also arises.

또한, 1액형 자외선 경화형 조성물을 사용하므로 잔존하는 미경화된 에폭시 수지 조성물 때문에 다이 픽업 시에 기재로부터 원활한 분리도 어렵고, 픽업을 어렵게 하더라도 칩과 칩 사이의 접착력도 약해 보이드 등이 발생하기 쉬운 문제점이 있다. 한편, 상기 보이드가 발생하면 칩 탑재 후 몰딩 공정을 거쳐 패키징화 하였을 경우 신뢰성에 치명적인 문제가 발생하여 전기적 신호의 단락이나 크랙 등이 발생하는 문제점이 발생한다.In addition, since the one-component UV-curable composition is used, the remaining uncured epoxy resin composition is difficult to separate from the substrate at the time of die pick-up, and even if it is difficult to pick-up, the adhesive strength between the chip and the chip is weak, so that voids and the like tend to occur. have. On the other hand, when the voids are generated after packaging the chip through the molding process, a critical problem in reliability occurs, the short circuit or crack of the electrical signal occurs.

따라서, 상기와 같은 종래의 방식은 여러 단계의 공정을 거치므로 비용적인 측면, 수율적인 측면에서 문제가 발생하므로, 공정을 단축시키기 위한 많은 연구가 진행되어 왔다. 그 중 최근에는 웨이퍼 이면 칩 부착 방식이 점차 늘어나고 있는데, 이 방식은 필름상 에폭시를 다이싱 필름 역할을 하는 필름의 상부 면에 위치시키고, 상기 다이싱 필름의 점착제와 필름상 에폭시 사이에서 픽업시킴으로써 종래의 두 단계 공정을 한 단계로 줄여 시간적인 측면, 수율적인 측면에서 한층 유리하게 한 방식이라 할 수 있다.Therefore, the conventional method as described above has a problem in terms of cost and yield because it undergoes a multi-step process, many studies have been conducted to shorten the process. In recent years, the method of attaching the chip on the back surface of the wafer is gradually increasing, and this method is conventionally performed by placing the film-like epoxy on the upper surface of the film serving as the dicing film and picking it up between the adhesive of the dicing film and the film-like epoxy. By reducing the two-stage process to one step, it is more advantageous in terms of time and yield.

대한민국 특허 공개공보 제2004-29939호에서는 기재 위에 자외선 경화형 점착층을 형성시키고 그 위에 다시 접착필름을 부착하여 다이싱이 완료되면 자외선을 조사하여 점착층과 접착제층을 분리하여 칩을 픽업한 후 접착층이 부착된 칩을 기판상에 다이 접착을 하고 있다. 그러나 상기 기술은 자외선 조사 전에 점착층 내에 있는 자외선 경화형 저분자 물질들이 접착층으로 상당부분 이동 및 확산하여 실 제 자외선 조사시에는 접착력이 현저히 저하되지 않거나 또는 전이가 심한 경우에는 오히려 접착력이 올라가는 문제가 발생한다.In Korean Patent Laid-Open Publication No. 2004-29939, an ultraviolet curable adhesive layer is formed on a substrate, and an adhesive film is attached on the substrate again, and when dicing is completed, the adhesive layer and the adhesive layer are separated to pick up chips, and then the adhesive layer The attached chip is die bonded on the substrate. However, in the above technique, the UV-curable low molecular materials in the adhesive layer move and diffuse substantially to the adhesive layer before UV irradiation, so that the adhesion strength does not significantly decrease during the actual UV irradiation, or the adhesion increases when the transition is severe. .

특히, 칩 사이즈가 작은 경우나 웨이퍼 두께가 큰 경우에는 픽업기의 변수들을 조정해 어느 정도 범위의 픽업이 가능하지만, 80 ㎛ 이하의 웨이퍼 두께나 가로 10mm*세로 10mm 이상의 칩 사이즈에서는 적절하게 점착층과 접착층 사이의 접착력이 감소되지 않아 다이 픽업에 문제가 발생하고 있다. 또한, 분자량이 높은 점착 바인더와 분자량이 낮은 자외선 경화형 물질을 혼합함으로써 상용성이 나빠짐으로 인해 코팅 표면이 아크릴 바인더와 저분자 물질이 별도의 도메인(domain)을 형성해 표면조도가 높아지고, 높아진 표면조도로 인해 표면에너지 또한 높아져 자외선 조사 후 충분한 접착력 감소 효과를 가져오지 못하는 문제점이 있다.In particular, when the chip size is small or the wafer thickness is large, the pick-up range can be adjusted by adjusting the parameters of the pick-up machine. The adhesion between the adhesive layer and the adhesive layer is not reduced, which causes a problem in die pickup. In addition, due to the poor compatibility by mixing a high molecular weight adhesive binder and a low molecular weight ultraviolet curable material, the surface of the coating forms a separate domain between the acrylic binder and the low molecular weight material, resulting in high surface roughness and high surface roughness. The surface energy is also high, there is a problem that does not bring sufficient adhesive force reduction effect after ultraviolet irradiation.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 하나의 목적은 UV 경화 후 충분한 점착력의 감소를 가져와 픽업성이 우수한 점착필름 형성용 광경화성 조성물을 제공하는 것이다.The present invention is to solve the above problems, one object of the present invention is to provide a light-curable composition for forming a pressure-sensitive adhesive film excellent in pick-up properties bringing a sufficient decrease in adhesive strength after UV curing.

본 발명의 다른 목적은 상기의 점착필름 형성용 광경화성 조성물을 포함하고 있어 반도체 공정 중 다이싱(Dicing)할 때에는 칩이 비산하거나 움직이는 것을 방지하고 픽업할 때에는 접착제가 부착된 칩을 점착제층으로부터 용이하게 박리하여 사용할 수 있으며, PCB기판이나 리드프레임 기판에 다이 본딩 작업시 충분한 접착 성을 갖는 다이싱 다이본딩 필름을 제공하는 것이다,Another object of the present invention includes the above-mentioned photocurable composition for forming an adhesive film, which prevents the chip from scattering or moving during dicing during the semiconductor process, and easily removes the chip with the adhesive from the adhesive layer when picking up. It can be used to peel off, and to provide a dicing die-bonding film having sufficient adhesiveness during die bonding operation to the PCB substrate or lead frame substrate,

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은, 아크릴계 점착 바인더(A) 100 중량부 대비 40℃에서 점도가 10,000cps 이상인 UV 경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머(B) 10 내지 150 중량부, 열경화제(C) 0.5 내지 5 중량부, 및 광중합 개시제(D) 0.1 내지 3 중량부를 포함하는 것으로서,One aspect of the present invention for achieving the above object is 10 to 150 parts by weight of a UV curable urethane acrylate oligomer (B) having a viscosity of 10,000 cps or more at 40 ° C relative to 100 parts by weight of an acrylic adhesive binder (A), a thermosetting agent (C) 0.5 to 5 parts by weight, and 0.1 to 3 parts by weight of the photopolymerization initiator (D),

상기 아크릴계 점착바인더(A)가The acrylic adhesive binder (A)

(1) 아크릴 모노머, 하이드록시 모노머, 에폭시 모노머 및 중합개시제가 중합 반응되어 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지가 제조되고, (2) 상기 반응에서 수득된 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지와 비닐기 도입 모노머가 우레탄 부가 반응되어 제조되어 에폭시기를 2~10몰% 포함하는 광경화형 점착 조성물에 관계한다.(1) an acrylic monomer, a hydroxy monomer, an epoxy monomer and a polymerization initiator are polymerized to produce an acrylic polyol tackifying binder resin, and (2) the acrylic polyol tackifying binder resin and the vinyl group-introducing monomer obtained in the reaction are urethane addition reactions. It is produced and relates to the photocurable adhesive composition containing 2-10 mol% of epoxy groups.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 양상은, 상기 점착필름 형성용 광경화성 조성물을 이용하여 형성된 점착필름 및 이를 포함하는 다이싱 다이 본딩 필름에 관계한다.Another aspect of the present invention for achieving the above object relates to a pressure-sensitive adhesive film formed using the photocurable composition for pressure-sensitive adhesive film formation and a dicing die bonding film comprising the same.

본 발명에 의한 점착 필름은 비닐기를 함유하는 아크릴계 점착 바인더 및 UV 경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 포함하고 있어, 다이싱할 경우에는 칩이 비산하거나 움직이는 것을 방지하고, 픽업할 경우에는 접착제가 부착된 칩을 점 착제층으로부터 용이하게 박리하여 사용할 수 있으며, PCB 기판이나 리드프레임 기판에 다이본딩할 때에 충분한 접착성을 지니고 있어, 다이싱 공정과 다이 본딩 공정을 지지부재에 한 번의 공정으로 수행할 수 있다.The adhesive film according to the present invention includes an acrylic adhesive binder containing a vinyl group and a UV-curable urethane acrylate oligomer, and when dicing, prevents chips from scattering or moving, and when picking up the adhesive-attached chip It can be easily peeled off from the adhesive layer and has sufficient adhesiveness when die bonding to a PCB substrate or a lead frame substrate, so that the dicing process and the die bonding process can be performed in one step on the support member.

본 발명은 비닐기를 함유하는 아크릴계 점착 바인더 및 UV 경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 포함하는 점착필름 형성용 광경화성 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable composition for forming an adhesive film comprising an acrylic adhesive binder containing a vinyl group and a UV curable urethane acrylate oligomer.

본 발명의 광경화성 점착 조성물은 아크릴계 점착 바인더(A) 100 중량부 대비 40℃에서 점도가 10,000cps 이상인 UV 경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머(B) 10 내지 150 중량부, 열경화제(C) 0.5 내지 5 중량부, 및 광중합 개시제(D) 0.1 내지 3 중량부를 포함하는 것으로서,The photocurable pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is 10 to 150 parts by weight of a UV curable urethane acrylate oligomer (B) having a viscosity of 10,000 cps or more at 40 ° C relative to 100 parts by weight of the acrylic adhesive binder (A), 0.5 to 5 parts by weight of a thermosetting agent (C). Part, and 0.1 to 3 parts by weight of the photopolymerization initiator (D),

상기 아크릴계 점착바인더(A)가The acrylic adhesive binder (A)

(1) 아크릴 모노머, 하이드록시 모노머, 에폭시 모노머 및 중합개시제가 중합 반응되어 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지가 제조되고, (2) 상기 반응에서 수득된 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지와 비닐기 도입 모노머가 우레탄 부가 반응되어 제조되어 에폭시기를 2~10몰% 포함하는 것을 특징으로 한다.(1) an acrylic monomer, a hydroxy monomer, an epoxy monomer and a polymerization initiator are polymerized to produce an acrylic polyol tackifying binder resin, and (2) the acrylic polyol tackifying binder resin and the vinyl group-introducing monomer obtained in the reaction are urethane addition reactions. It is prepared and characterized by containing 2 to 10 mol% epoxy group.

이하에서 본 발명의 각 조성에 대해 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, each composition of the present invention will be described in more detail.

(A) 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A) Acrylic adhesive binder containing a vinyl group

상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더는 2단계 공정을 거쳐 합성하게 된다. 우선은 점착력을 부여해줄 수있는 아크릴 모노머를 주 모노머로 선정하고, 거기에 기능성 아크릴 모노머를 부가하여, 아크릴 점착 바인더를 중합 반응 후, 이에 비닐기 도입 모노머를 적용하여 저온에서 우레탄 부가반응을 함으로써 비닐기를 갖는 광경화형 아크릴계 점착 바인더를 합성할 수 있다.The acrylic adhesive binder including the vinyl group is synthesized through a two step process. First of all, an acrylic monomer capable of imparting adhesive strength is selected as a main monomer, and a functional acrylic monomer is added thereto, and the acrylic adhesive binder is polymerized, and then a vinyl group-introducing monomer is applied thereto to perform urethane addition reaction at low temperature. A photocurable acrylic adhesive binder having a group can be synthesized.

바람직하게는 (1) 아크릴 모노머, 기능성 아크릴 모노머 및 중합개시제가 중합 반응되어 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지가 제조되고, (2) 상기 반응에서 수득된 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지와 이소시아네이트 및 비닐기를 갖는 모노머가 우레탄 부가 반응되어 상기 아크릴계 점착 바인더(A)가 제조될 수 있다.Preferably, (1) an acrylic monomer, a functional acrylic monomer, and a polymerization initiator are polymerized to produce an acrylic polyol adhesive binder resin, and (2) the monomer having an isocyanate and vinyl group with an acrylic polyol adhesive binder resin obtained in the reaction is a urethane. The addition reaction may be prepared the acrylic adhesive binder (A).

상기 (1) 중합반응에서 기능성 모노머로는 하이드록시 모노머, 에폭시기 모노머 또는 반응성 모노머가 있고, 이 중 반드시 하이드록시 모노머와 에폭시기 모노머가 사용되는 것이 바람직하다.The functional monomer in the above (1) polymerization reaction includes a hydroxy monomer, an epoxy group monomer or a reactive monomer, of which a hydroxy monomer and an epoxy group monomer are preferably used.

상기 (1) 중합반응의 전체 모노머 중 상기 아크릴 모노머 50 내지 85 중량%, 상기 하이드록시 모노머 10 내지 35중량%, 상기 에폭시기 모노머 2 내지 15 중량%를 사용할 수 있다.50 to 85% by weight of the acrylic monomer, 10 to 35% by weight of the hydroxy monomer, and 2 to 15% by weight of the epoxy group monomer may be used in the entire monomer of the above (1) polymerization reaction.

상기 (1) 중합반응에서 반응성 모노머 1 내지 10중량%를 추가로 사용할 수 있다.In the polymerization reaction (1), 1 to 10% by weight of the reactive monomer may be further used.

상기 (2) 반응에서는 이소시아네이트 및 비닐기를 갖는 모노머가 상기 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지의 수산기 당량 대비 1 대 0.4 내지 0.9로 반응될 수 있다.In the reaction (2), the monomer having an isocyanate and a vinyl group may be reacted at a ratio of 0.4 to 0.9 with respect to the hydroxyl equivalent of the acrylic polyol adhesive binder resin.

상기 아크릴 모노머는 필름에 점착력을 부여하는 기능을 하는데, 상기 아크릴 모노머로는 특별한 제한이 없으나, 2-에칠헥실메타크릴레이트, 이소 옥칠 아크릴레이트, 2-에칠헥실아크릴레이트, 에칠아크릴레이트, n-부칠아크릴레이트, iso-부칠아크릴레이트 및 옥타데실메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다.The acrylic monomer functions to impart adhesion to the film, but there is no particular limitation as the acrylic monomer, but 2-ethylhexyl methacrylate, iso-oxyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, ethyl acrylate, n- Preference is given to using at least one member selected from the group consisting of butyl acrylate, iso-butyl acrylate and octadecyl methacrylate.

상기 아크릴 모노머의 유리 전이온도가 -50℃ 이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the glass transition temperature of the said acrylic monomer is -50 degrees C or less.

상기 아크릴 모노머의 함량은 전체 모노머중 50 내지 85 중량%, 바람직하게는 60 내지 80중량%를 사용할 수 있다.The content of the acrylic monomer may be 50 to 85% by weight, preferably 60 to 80% by weight of the total monomers.

상기 하이드록시 모노머로서 특별한 제한이 있는 것은 아니지만, 2-하이드록시 에틸 메타아크릴레이트, 하이드록시 에틸 아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트, 하이드록시 프로필 (메타)아크릴레이트 및 비닐 카프로락탐으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다.Although there is no particular limitation as the hydroxy monomer, a group consisting of 2-hydroxy ethyl methacrylate, hydroxy ethyl acrylate, 4-hydroxy butyl acrylate, hydroxy propyl (meth) acrylate and vinyl caprolactam Preference is given to using one or more selected from.

상기 하이드록시 모노머의 함량은 (1) 중합반응에 사용되는 모노머중 10 내지 35중량%, 바람직하게는 15 내지 25중량%를 사용할 수 있다. 상기 10중량% 미만이면, 비닐기를 갖는 모노머 도입후 열경화제인 이소시아네이트와 반응하는 수산화기의 함량이 작게 되어 기재필름과의 부착력이 매우 취약하게 되고, 35중량% 초과하면, 웨이퍼 또는 다이 접착용 접착필름층과의 부착력이 라미네이션 후 증가하게 되기 때문이다.The content of the hydroxy monomer (1) may be 10 to 35% by weight, preferably 15 to 25% by weight of the monomer used in the polymerization reaction. If the content is less than 10% by weight, the content of hydroxyl groups reacted with the isocyanate, which is a thermosetting agent after introduction of the monomer having a vinyl group, becomes small, so that the adhesion with the base film is very weak. When the content exceeds 35% by weight, the adhesive film for bonding wafers or dies This is because the adhesion with the layer increases after lamination.

상기 에폭시기 모노머로는 글리시딜 메타크릴레이트 또는 글리시딜 아크릴레이트를 사용할 수 있다.Glycidyl methacrylate or glycidyl acrylate may be used as the epoxy group monomer.

상기 에폭시기 모노머의 함량이 (1) 중합반응에 사용되는 모노머 중 2 내지15, 바람직하게는 2 내지 8중량%를 사용할 수 있다. 상기 범위에서는 특히 자외선 경화 시 표면에너지가 크게 감소하며, 또한 자외선 경화 전후 표면에너지 차이가 클수록 픽업성이 우수한 결과를 보인다. 그 함량이 2% 미만이면 링프레임에 대한 부착력이 저하되고, 15% 초과인 경우 광경화시 에폭시기에 의한 광경화율이 악화되어 소재와의 박리력이 무겁게 되기 때문이다.The content of the epoxy group monomer (1) may be 2 to 15, preferably 2 to 8% by weight of the monomer used in the polymerization reaction. In the above range, in particular, the surface energy during UV curing is greatly reduced, and the greater the difference in surface energy before and after UV curing, the better the pickup performance. If the content is less than 2%, the adhesion to the ring frame is lowered, and if the content is more than 15%, the photocurability by the epoxy group is deteriorated when the photocuring is a heavy peel force with the material.

상기 에폭시기 모노머는 중합 후 아크릴계 점착 바인더(A) 말단에 잔존하며 광경화 후 반응에 참여하지 않고 표면 특성에 영향을 준다. 즉 표면에너지와 연관이 있으며 광경화 후 표면에너지를 감소 시키는 역할을 한다.The epoxy group monomer remains at the end of the acrylic adhesive binder (A) after polymerization and does not participate in the reaction after photocuring and affects surface properties. That is, it is related to surface energy and plays a role of reducing surface energy after photocuring.

기능성 모노머로서 사용될 수 있는 반응성 모노머로는 라우릴아크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 스티어리메타아크릴레이트, 세칠아크릴레이트, 옥타데실아크릴레이트, 옥타데실메타크릴레이트 등이 바람직하며, 보다 바람직하게는 탄소수 12이상인 모노머의 단독 또는 혼합 사용이 더욱 바람직하다.As the reactive monomer which can be used as the functional monomer, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, styrie methacrylate, cetyl acrylate, octadecyl acrylate, octadecyl methacrylate and the like are preferable, and more preferably More preferably, a single or mixed use of a monomer having 12 or more carbon atoms is used.

상기 반응성 모노머의 함량은 (1) 중합반응에 사용되는 모노머중 1 내지 10중량% 범위에서 적절히 사용될 수 있다.The content of the reactive monomer may be suitably used in the range of 1 to 10% by weight of the monomer (1) used in the polymerization reaction.

상기 비닐기 도입 모노머로는 한쪽 말단에 이소시아네이트기를 다른 말단에 비닐기를 갖는 모노머 또는 올리고머를 사용할 수 있는데, 이는 아크릴 점착 바인더에 비닐기를 도입하기 위함이다.As the vinyl group introduction monomer, a monomer or oligomer having an isocyanate group at one end and a vinyl group at the other end may be used, for the purpose of introducing the vinyl group into the acrylic adhesive binder.

상기 비닐기 도입 모노머로는 반드시 제한이 있는 것은 아니지만, α,α-디메틸-m-이소프로페닐벤질이소시아네이트(α,α-dimethyl-m-isopropenylbenzyl isocyanate), 2-이소시아네이토에틸메타크릴레이트(2-Isocyanatoethyl Methacrylate), 2-이소시아네이토에틸2-프로펜산(2-Isocyanatoethyl 2-propenoate), 1,1-비스(아크릴로일옥시메틸에틸이소시아네이트)(1,1-bis(acryloyloxy methyl ethyl isocyanate))으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 단독 또는 혼합 사용할 수 있다.The vinyl group-introducing monomer is not necessarily limited, but α, α-dimethyl-m-isopropenylbenzyl isocyanate (α, α-dimethyl-m-isopropenylbenzyl isocyanate) and 2-isocyanatoethyl methacrylate (2-Isocyanatoethyl Methacrylate), 2-Isocyanatoethyl 2-propenoate, 1,1-bis (acryloyloxymethylethylisocyanate) (1,1-bis (acryloyloxy methyl ethyl isocyanate)) may be used alone or in combination.

상기 비닐기 도입 모노머는 상기 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지의 수산기 당량 대비 1 대 0.4 내지 0.9로 사용하는 것이 바람직하다.The vinyl group introduction monomer is preferably used at 0.4 to 0.9 to 1 equivalent to the hydroxyl equivalent of the acrylic polyol adhesive binder resin.

이는 수산기 당량 대비 1대 0.4 미만인 경우, 광경화시 반응할 수 있는 이중결합의 수가 적어서 점착력의 손실이 크지 않아 웨이퍼 또는 다이 접착용 접착필름과의 박리력이 무겁게 되며, 0.9 초과일 경우, 열경화제와 반응할 수 있는 사이트가 적어져서 기재 필름과의 부착력이 감소하기 때문이다.It is less than 0.4 compared to 1 equivalent of hydroxyl group, and the number of double bonds that can react during photocuring is small, so that the loss of adhesive strength is not great, and the peeling force with the adhesive film for wafer or die bonding is heavy. This is because there are fewer sites which can react with the adhesive force with the base film.

상기 비닐기 도입 모노머의 함량이 (1) 중합반응에서 제조된 폴리올 점착 바인더 수지의 고형분 100 중량부 대비 10 내지 25중량부, 바람직하게는 15 내지 20중량부인 것이 좋다, 함량이 10중량부 미만인 경우, 광경화후에 점착력의 손실이 크지 않아 웨이퍼 또는 다이 접착용 접착필름과의 박리력이 무겁게 되며, 25중량부 초과일 경우, 점착필름층의 유동성이 나빠지게 되어 기재와의 부착이 오히려 증가하여 박리력이 무겁게 되기 때문이다.When the content of the vinyl group-introduced monomer is (1) 10 to 25 parts by weight, preferably 15 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the polyol adhesive binder resin prepared in the polymerization reaction, the content is less than 10 parts by weight After the photocuring, the loss of adhesive force is not large, and the peeling force with the wafer or the die-bonding adhesive film becomes heavy, and when it exceeds 25 parts by weight, the adhesive film layer becomes poor in fluidity and the adhesion to the substrate is rather increased, resulting in peeling. This is because the force becomes heavy.

상기 아크릴계 점착 바인더(A)는 하이드록시 모노머를 적용한 결과 수산기를 가지며, 상기 수산기가가 15~30인 것이 바람직하다. 상기 아크릴계 점착 바인더(A)의 수산기가가 15 미만이면, 열경화제인 이소시아네이트의 함량이 작게 되어 기재필름과의 부착력이 매우 취약하게 되고, 수산기가가 30 초과이면, 웨이퍼 또는 다이 접착용 접착필름층과의 부착력이 라미네이션 후 증가하게 되기 때문이다.The acrylic pressure-sensitive adhesive (A) has a hydroxyl group as a result of applying a hydroxy monomer, it is preferable that the hydroxyl value is 15 to 30. If the hydroxyl value of the acrylic pressure-sensitive adhesive (A) is less than 15, the content of isocyanate as a thermosetting agent is small, the adhesion to the base film is very weak, if the hydroxyl value is more than 30, the adhesive film layer for wafer or die adhesion This is because the adhesion force to and after is increased after lamination.

상기 아크릴계 점착 바인더(A)의 산가가 1이하가 바람직하다. 산가가 1 을 초과하는 경우 아크릴산과 에폭시기를 갖는 모노머를 동시에 도입할 때 합성시 겔이 발생될 가능성이 매우 높으며, 웨이퍼 또는 다이 접착용 점착필름층과의 합지후 경시변화가 매우 크게 되기 때문이다.As for the acid value of the said acrylic adhesive binder (A), 1 or less is preferable. If the acid value is greater than 1, it is very likely that a gel is generated during the synthesis when the acrylic acid and the monomer having an epoxy group are introduced at the same time, and the change over time after lamination with the adhesive film layer for wafer or die bonding is very large.

상기 아크릴계 점착 바인더(A)는 열경화 후의 적절한 초기 점착력을 얻기 위해 -80 ∼ -40℃의 유리전이온도, 바람직하게는 -70 ∼ -50℃의 유리전이온도를 가지는데, 유리전이 온도가 약 -40℃를 초과하는 경우, 초기 점착력이 낮아 다이싱할 경우 링프레임에 대한 부착력이 낮아 링프레임으로부터 떨어지거나, 웨이퍼에 대한 부착력이 낮아 칩의 비산이 발생할 수 있고, -80℃ 미만인 경우 광경화전 높은 점착력에 의해 광경화후에도 택(tack)이 많이 남아 웨어퍼 또는 접착필름과의 박리력을 무겁게 하는 문제점이 있다.The acrylic adhesive binder (A) has a glass transition temperature of -80 to -40 ° C, preferably -70 to -50 ° C, in order to obtain an appropriate initial adhesive strength after thermal curing, but the glass transition temperature is about When the temperature exceeds -40 ℃, the initial adhesion is low, and when dicing, the adhesion to the ring frame is low, so that the chip may be separated from the ring frame or the chip may be scattered due to the low adhesion to the wafer. Due to the high adhesive strength, even after photocuring, a large number of tacks remain, causing a problem of heavy peeling force with a wafer or adhesive film.

상기 아크릴계 점착 바인더(A)의 중량평균 분자량은 150,000 내지 400,000이 다. 종래의 아크릴 폴리올만으로 구성된 아크릴 수지는 분자량이 500,000 이상인 아크릴 폴리올을 함유할 경우에 한하여 자외선 경화 후 낮은 박리력을 나타낼 수 있었지만, 본 발명에 의한 광경화형 아크릴계 점착 바인더는 에폭시기를 도입하여, 링프레임에 대한 부착력을 향상시킬 수 있어, 분자량 150,000~400,000 정도에서도 우수한 박리력을 보유할 수 있게 된다.The weight average molecular weight of the acrylic adhesive binder (A) is 150,000 to 400,000. Conventional acrylic resins composed of only acrylic polyols could exhibit low peeling strength after UV curing only when the acrylic resins contained an acrylic polyol having a molecular weight of 500,000 or more.However, the photocurable acrylic adhesive binder according to the present invention introduces an epoxy group to the ring frame. It is possible to improve the adhesion to the, it is possible to retain the excellent peeling force even in the molecular weight of about 150,000 ~ 400,000.

상기 바인더의 분자량이 150,000 미만이면, 코팅시 도막형성능에 문제가 발생하며, 광경화 후 점착력 소실시에도 일정한 물성이 나오지 않아, 소재와의 박리력이 일정하지 못한 문제가 발생하게 된다.When the molecular weight of the binder is less than 150,000, a problem occurs in coating film forming ability during coating, and even after the photocuring, even when the adhesive force is reduced, a certain physical property does not come out, resulting in a problem that the peeling force with the material is not constant.

상기 아크릴계 점착 바인더(A)의 합성에 있어서, 공중합을 용액중합으로 행하는 경우의 유기용제로는, 케톤계, 에스테르계, 알코올계, 방향족인 것을 사용할 수 있고, 바람직하게는 톨루엔, 초산에틸, 아세톤, 메틸에틸케톤 등을 사용하는 것이 좋고,특히 비점이 60~120℃인 용제가 바람직하다.In the synthesis of the acrylic adhesive binder (A), as the organic solvent in the case of performing copolymerization by solution polymerization, a ketone series, an ester series, an alcohol series or an aromatic group can be used, and preferably toluene, ethyl acetate, acetone It is preferable to use methyl ethyl ketone and the like, and a solvent having a boiling point of 60 to 120 ° C. is particularly preferable.

중합개시제로서는 α,α'-아조비스이소부틸니트릴 등의 아조비스계, 벤조일퍼옥사이드 등의 유기과산화물계 등의 라디칼 발생제를 통상 이용한다. 이때 필요에 따라서 촉매, 중합금지제를 병용할 수 있고, 그 함량은 투입 모노머 100중량부 대비 0.1 내지 0.5중량부를 사용하는 것이 바람직하다.As a polymerization initiator, radical generators, such as azobis type | system | groups, such as (alpha), (alpha) '-azobisisobutyl nitrile, and organic peroxides, such as benzoyl peroxide, are used normally. At this time, if necessary, a catalyst and a polymerization inhibitor may be used in combination, and the content thereof is preferably 0.1 to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the monomer charged.

상기 중합반응은 중합온도 80 내지 120℃ 및 중합시간 1 내지 75hr, 바람직하게는 5 내지 15hr의 범위에서 분자량을 조절할 수 있다.The polymerization reaction may control the molecular weight in the range of polymerization temperature 80 to 120 ℃ and polymerization time 1 to 75hr, preferably 5 to 15hr.

상기 1 단계의 중합반응에서 수득한 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지, 이소 시아네이트기와 비닐기를 갖는 모노머 및 촉매를 넣어 30 내지 55℃에서 7 내지 15hr 동안 우레탄 부가반응을 하여,아크릴계 공중합체를 합성할 수 있다.The acrylic polyol adhesive binder resin obtained in the above-described polymerization reaction, a monomer having an isocyanate group and a vinyl group, and a catalyst are added thereto, and a urethane addition reaction is carried out at 30 to 55 ° C. for 7 to 15 hrs to synthesize an acrylic copolymer. .

(B) UV경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머(B) UV curing urethane acrylate oligomer

상기 조성물은 (B)UV경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 포함한다. 상기 (B)UV경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A)에 혼합함으로써 점착 바인더와 아크릴레이트 사이의 가교반응을 유도하여 자외선 조사후 큰 폭의 접착력 감소 효과를 가져오게 한다.The composition comprises (B) UV curable urethane acrylate oligomer. The (B) UV curable urethane acrylate oligomer is mixed with the acrylic adhesive binder (A) containing the vinyl group to induce a crosslinking reaction between the adhesive binder and the acrylate, resulting in a significant reduction in adhesion after UV irradiation. .

(B)UV경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머는 폴리에스테르형 또는 폴리에테르형 등의 폴리올 화합물과 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시켜 수득한 말단 이소시아네이트우레탄 프리폴리머에 히드록실기를 갖는 아크릴레이트를 반응시켜 제조할 수 있다.(B) The UV curable urethane acrylate oligomer can be produced by reacting a acrylate having a hydroxyl group with a terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting a polyol compound such as a polyester type or a polyether type with a polyisocyanate compound.

본 발명에 의한 상기 점착필름 형성용 광경화성 조성물에 포함되는 상기 UV 경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머(B)는 점도가 매우 높아 상온에서 점도 측정이 불가능하여 40℃에서 점도가 10,000cps 이상인 것을 특징으로 하는데, 중량평균 분자량이 1,000 내지 10,000인 것이 바람직하다The UV curable urethane acrylate oligomer (B) included in the photocurable composition for forming an adhesive film according to the present invention has a very high viscosity, and thus, viscosity measurement at room temperature is impossible, and the viscosity is 10,000 cps or more at 40 ° C. It is preferable that the weight average molecular weights are 1,000-10,000.

상기 (B)UV경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머로는 U-324A(신나카무라사), QU-1000(큐엔탑사), Ebecryl 270(SK Cytec) 등이 사용될 수 있다.As the (B) UV-curable urethane acrylate oligomer, U-324A (Shin-Nakamura Co., Ltd.), QU-1000 (Kyuen-Top Co., Ltd.), Ebecryl 270 (SK Cytec), etc. may be used.

상기 UV경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머(B)는 상기 (A) 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 100중량부에 대하여 10 내지 150중량부를 적용하는 것 이 바람직하다. 이는 10 중량부 미만이면 자외선에 의해서 경화하는 절대량이 작으므로 접착력 감소가 상대적으로 작으며, 상기 UV경화형 아크릴레이트 올리고머(B)가 150중량부 초과이면 UV조사전 도막의 응집력이 부족하여 필름이 형성되지 않기 때문이다.The UV-curable urethane acrylate oligomer (B) is preferably applied to 10 to 150 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic adhesive binder (A) containing a vinyl group. If the amount is less than 10 parts by weight, the absolute amount of curing by ultraviolet light is small, so that the decrease in adhesion is relatively small. If the UV-curable acrylate oligomer (B) is more than 150 parts by weight, the cohesion of the coating film before UV irradiation is insufficient to form a film. Because it is not.

(C) 열경화제(C) thermosetting agent

광경화형 점착필름을 만들기 위해 사용 가능한 열경화제로 2,4-트릴렌 디이소시아네이트, 2,6-트리렌 디이소시아네이트, 수소화 트릴렌 디이소시아네이트, 1,3-크실렌 디이소시아네이트, 1,4-크실렌 디이소시아네이트, 디페닐 메탄-4,4-디이소시아네이트, 1,3-비스이소시아나토메칠 시클로헥산, 테트라 메틸 크실렌 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메티롤프로판의 트릴렌 디이소시아네이트 어덕트, 트리메티롤프로판의 크실렌 디이소시아네이트 어덕트, 토리페닐메탄토리이소시아네토, 메틸렌 비스 트리 이소시아네이트 등으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 경화제(C)는 점착 바인더의 관능기와 반응하여 가교제로서 작용하며 가교 반응 결과 삼차원 그물 형상 구조를 가지게 된다.Thermosetting agents that can be used to make photocurable adhesive films include 2,4-trilene diisocyanate, 2,6-triene diisocyanate, hydrogenated triylene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene di Isocyanate, diphenyl methane-4,4-diisocyanate, 1,3-bisisocyanatomethyl cyclohexane, tetra methyl xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 2,2,4-trimethyl hexamethylene diisocyanate, Consisting of 2,4,4-trimethyl hexamethylene diisocyanate, triylene diisocyanate adduct of trimetholpropane, xylene diisocyanate adduct of trimetholpropane, toriphenylmethanetoriisocyanate, methylene bistri isocyanate, etc. One or more selected from the group can be used, but is not limited thereto. The curing agent (C) reacts with the functional group of the adhesive binder to act as a crosslinking agent and has a three-dimensional network structure as a result of the crosslinking reaction.

상기 열경화제를 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A) 100중량부에 대하여 0.5 내지 5 중량부 적용하는 것이 바람직하다. 이는 0.5 미만이면 가교 반응 정도가 낮아서 기재필름과의 부착력이 불량해 코팅 후 도막층의 탈리가 발생하 거나, 기재필름과 점착층간의 광경화 후 부착력이 낮아지게 되어 웨이퍼 또는 다이 접착용 접착필름면에 전이될 수 있는 문제가 발생하고, 5 초과이면 미반응 이소시아네이트에 의해 다이 접착용 접착필름과의 박리력이 상대적으로 무거워 지거나 과도한 가교 반응으로 자외선 조사 전 택(tack)을 소실하여 링프레임의 부착력이 나빠져 익스팬딩시 링프레임에서 다이싱 다이본딩 필름 및 웨이퍼의 탈착이 일어나는 문제가 있기 때문이다.It is preferable to apply 0.5-5 weight part of the said thermosetting agents with respect to 100 weight part of acrylic adhesive binders (A) containing a vinyl group. If it is less than 0.5, the degree of crosslinking reaction is low, resulting in poor adhesion to the base film, resulting in detachment of the coating layer after coating, or low adhesion after photocuring between the base film and the adhesive layer. The problem that can be transferred occurs, and if it is more than 5, the peeling force with the die-bonding adhesive film becomes relatively heavy due to unreacted isocyanate or the UV irradiation tack is lost due to excessive crosslinking reaction. This is because deterioration of the dicing die-bonding film and the wafer occurs in the ring frame during the expansion.

(D) 광중합 개시제(D) photoinitiator

본 발명의 점착 조성물에는 광중합 개시제(D)가 포함된다. 상기 광경화성 조성물에 포함되는 광중합 개시제(D)는 특별한 제한이 업고 종래 알려져 있는 것을 이용할 수 있다. 구체적으로는 벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 4,4'디클로로벤조페논 등의 벤조페논류, 아세토페논, 디에톡시아세토페논 등의 아세톤페논류, 2-에틸안트라퀴논, t-부틸안트라퀴논 등의 안트라퀴논류 등의 이들의 단독 또는 두 종류 이상의 혼합에 의해 사용할 수 있다.The adhesive composition of this invention contains a photoinitiator (D). The photoinitiator (D) contained in the said photocurable composition has a special limitation, and can use what is known conventionally. Specifically, benzophenones such as benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, 4,4'dichlorobenzophenone, acetone such as acetophenone and diethoxyacetophenone Anthraquinones, such as phenone, 2-ethyl anthraquinone, and t-butyl anthraquinone, etc. can be used individually or in mixture of 2 or more types.

광중합 개시제(D)의 함량은 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A) 100 중량부에 대하여 0.1 내지 3 중량부가 바람직하다. 광중합 개시제(D)의 함량이 0.1중량부 미만이면 자외선 조사에 의해 라디칼 생성 효율이 떨어져 자외선 조사 후 점착층(4)과 접착층(3) 계면 사이에서 충분한 접착력의 감소를 가져오지 못한다. 따라서 칩 크기에 관계 없이 원하는 픽업 성능을 가져오지 못한다. 반대로, 3 중량부 초과이면 생성되는 라디칼농도가 과하여 UV에 의하여 반응하는 UV경화형 아크릴레이트의 분자량이 작아져 충분한 망상구조를 형성하지 못하면서 미반응 개시제 의 냄새 문제 발생 및 미반응 개시제의 접착층으로의 전이가 발생하여 접착층의 패키징 내의 신뢰성을 떨어뜨리게 된다.As for content of a photoinitiator (D), 0.1-3 weight part is preferable with respect to 100 weight part of acrylic adhesive binders (A) containing a vinyl group. When the content of the photopolymerization initiator (D) is less than 0.1 part by weight, the radical generation efficiency is lowered by the ultraviolet irradiation, which does not bring about a sufficient decrease of the adhesive force between the adhesive layer 4 and the adhesive layer 3 interface after the ultraviolet irradiation. Thus, regardless of chip size, the desired pickup performance is not achieved. On the contrary, if the amount is more than 3 parts by weight, the resulting radical concentration is excessive, the molecular weight of the UV-curable acrylate reacted by UV decreases, and thus does not form a sufficient network structure, causing odor problems of the unreacted initiator and transition of the unreacted initiator to the adhesive layer. Is generated to degrade the reliability in the packaging of the adhesive layer.

본 발명의 다른 양상은 상기의 점착필름 형성용 광경화성 조성물을 이용하여 형성된 점착층을 포함하는 다이싱 필름 및 다이싱 다이본딩 필름에 관계한다.Another aspect of the present invention relates to a dicing film and a dicing die-bonding film including an adhesive layer formed by using the photocurable composition for forming an adhesive film.

상기 (A), (B), (C) 및 (D)의 조성을 메틸에틸케톤 등의 용제에 녹여 본 발명의 광경화성 점착 조성물을 제조할 수 있고, 이 제조된 조성물에 대하여 열풍건조 및 기타 방법으로 잔량의 용제를 휘발하여 광경화형 점착 필름을 만들 수 있다. 또한 이렇게 하여 얻어진 광경화성 점착필름은 다이싱 또는 접착용 접착필름층을 갖는 다이싱 점착 테이프에 유용하게 적용할 수있다.The composition of (A), (B), (C) and (D) can be dissolved in a solvent such as methyl ethyl ketone to prepare the photocurable pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, and hot air drying and other methods for the prepared composition. The remaining amount of solvent may be volatilized to form a photocurable pressure-sensitive adhesive film. In addition, the photocurable adhesive film obtained in this way can be usefully applied to the dicing adhesive tape which has a dicing or adhesive adhesive film layer.

상기 다이싱 필름은 기재필름 상에 상기 점착층이 도포된 형태이며, 다이싱 다이본딩 필름은 기재필름 상에 상기 점착층이 도포되고, 상기 점착층이 필름상 에폭시인 접착층과 상호 적층되어 있으며, 상기 접착층을 보호하기 위한 이형필름이 상기 접착층 상에 적층되어 있는 구조를 지닐 수 있다. 그러나 이에 제한되는 것은 아니다.The dicing film is a form in which the adhesive layer is applied on the base film, the dicing die bonding film is the adhesive layer is applied on the base film, the adhesive layer is laminated with the adhesive layer of the film-like epoxy, Release film for protecting the adhesive layer may have a structure laminated on the adhesive layer. However, it is not limited thereto.

또한, 본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름에 포함되는 상기 점착층은 3 내지 30 마이크론의 두께를 갖는데, 3 마이크론 미만의 점착층에서는 자외선 경화 후 도막 응집력이 약해 상부의 접착층(3)과의 계면 사이에서 바람직한 접착력 감소 효과를 가져오지 못하며, 30 마이크론 초과의 경우에는 다이싱 공정시 수염 형상 절 삭 부스러기 등이 발생하는 문제점이 있다.In addition, the pressure-sensitive adhesive layer included in the dicing die-bonding film according to the present invention has a thickness of 3 to 30 microns, but in the pressure-sensitive adhesive layer of less than 3 microns, the cohesive strength of the coating film after UV curing is weak and the interface with the adhesive layer 3 on the upper side. It does not bring about a desirable adhesive force reduction effect, and in the case of more than 30 microns there is a problem that the beard shape cutting debris during the dicing process occurs.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the dicing die-bonding film according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 다이싱 다이본딩 필름의 단면개략도를 나타내는 것으로서, 점착제와 접착제가 동시에 도입되어 다이싱하는 동시에 픽업 후 다이본딩까지 가능한 구조를 갖는다.1 is a cross-sectional schematic view of a dicing die-bonding film according to an embodiment of the present invention, the pressure-sensitive adhesive and the adhesive is introduced at the same time and has a structure capable of up to die bonding after pickup.

폴리올레핀 필름 등의 익스팬딩이 가능한 기재필름(5)의 한쪽 면 위에 점착층(4)이 코팅되고, 상기 점착층(4) 위에 칩과 칩 사이를 부착시킬 수 있는 접착층(3)이 형성되어져 있으며, 상기 접착층(3)을 보호하는 이형필름(2)으로 구성된다.The adhesive layer 4 is coated on one side of the expandable base film 5 such as a polyolefin film, and an adhesive layer 3 capable of adhering the chip to the chip is formed on the adhesive layer 4. It consists of a release film (2) to protect the adhesive layer (3).

기재필름으로 사용되는 필름(5)은 다이싱시에 웨이퍼를 흔들리지 않도록 붙들어 주는 역할을 하는 점착층(4)을 지지해주고, 또한 다이싱이 완료되면 개별화된 칩을 픽업하기 용이하도록 하기 위해 칩과 칩 사이의 간격을 늘리는 공정인 익스팬딩 공정이 가능하도록 상온에서 연신이 가능한 필름이 사용된다.The film 5, which is used as the base film, supports the adhesive layer 4, which holds the wafer so as not to shake the wafer during dicing, and also makes it easy to pick up the individualized chip when the dicing is completed. A film that can be stretched at room temperature is used to allow an expansion process, which is a process of increasing the gap between chips.

상기 점착층(4)은 자외선 조사 전에는 접착층(3) 또는 링프레임과 강한 접착력을 유지하여야 하는데, 자외선 조사 전에 점착층(4)과 접착층(3) 사이 계면의 접착력이 크지 않으면 다이싱시 접착제가 부착된 칩과 점착층(4) 사이에서 박리가 쉽게 일어나 부분적으로 들뜸이 발생하여 다이싱시 칩이 흔들리므로 칩 크랙 등의 칩 손상이 발생할 우려가 있으며, 점착층(4)과 링프레임의 접착력이 크지 않으면 익스 팬딩시 링프레임은 고정되어 있고 필름에 일정한 장력을 가하여 익스팬딩시키므로 점착층(4)과 링프레임의 접착부분에서 탈착이 일어나 웨이퍼 전체의 불량을 야기시킨다.The adhesive layer 4 should maintain a strong adhesive force with the adhesive layer 3 or the ring frame before the ultraviolet irradiation, if the adhesive force of the interface between the adhesive layer 4 and the adhesive layer 3 before the ultraviolet irradiation is not large adhesive Peeling easily occurs between the attached chip and the adhesive layer 4, so that the chip is shaken during dicing due to partial lifting and there is a risk of chip damage such as chip crack, and the adhesion between the adhesive layer 4 and the ring frame. If it is not large, the ring frame is fixed during expansion and expands by applying a constant tension to the film, so that desorption occurs at the adhesive portion between the adhesive layer 4 and the ring frame, causing defects in the entire wafer.

상기 점착층(4)은 자외선 조사 후에는 점착층중의 도막층이 자외선 경화 가교에 의해 단단해지고 응집력이 커져, 점착층(4)의 상부인 접착층(3)과의 계면 박리력이 현저히 낮아져야 하며, 박리력 감소 폭이 크면 클수록 접착층이 부착된 칩을 픽업하기가 용이해진다. 즉 점착층(4)은 다이싱 단계부터 건조 단계까지 칩을 강력하게 잡아 둘 정도의 큰 접착력을 가져야 하는 반면에, 픽업 단계에서는 그 접착력이 현저하게 감소되어 칩이 안전하게 다이본딩 단계로 이동될 수 있도록 낮은 접착력을 가져야 하는 상반된 두 물성을 자외선 조사 전ㆍ후로 지녀야 한다.After the ultraviolet ray irradiation, the coating layer in the adhesive layer is hardened by ultraviolet curing crosslinking and the cohesive force is increased, so that the interfacial peeling force with the adhesive layer 3 which is the upper portion of the adhesive layer 4 should be significantly lowered. In addition, the greater the peel strength reduction range, the easier the pick-up of the chip with the adhesive layer. That is, the adhesive layer 4 should have a large adhesive force enough to hold the chip strongly from the dicing step to the drying step, while the adhesive force is significantly reduced in the pick-up step so that the chip can be safely moved to the die bonding step. Two opposing properties, which should have low adhesion, should be before and after UV irradiation.

상기 접착층(3)은 열경화형 조성물로 필름상으로 만들어지며 웨이퍼의 경면에 우수한 부착력을 가져야 하고, 최외부의 이형필름(2)은 상기 접착층(3)을 외부 이물로부터 보호하고, 롤상으로 권취하기 쉽게 하기 위해 사용되어진다.The adhesive layer 3 is made of a thermosetting composition in the form of a film and should have excellent adhesion to the mirror surface of the wafer, and the outermost release film 2 protects the adhesive layer 3 from external foreign substances and is wound into a roll. It is used to make it easier.

이하, 본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름의 구성에 대하여 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the structure of the dicing die bonding film by this invention is demonstrated in detail.

(A) 기재필름(A) base film

본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름(1)을 구성하는 기재필름(5)으로서 다양한 고분자 필름이 사용될 수 있으나, 그 중에서도 일반적으로 열가소성의 플라스틱 필름이 사용되고 있다. 이러한 이유는 열가소성 필름을 사용하여야 다이싱 공 정 후 픽업하기 위해 익스팬딩 할 수 있고 익스팬딩 후에 남아 있는 칩들을 시간이 경과한 후에 다시 픽업하기 위한 경우도 있으므로, 필름의 복원력 측면에서도 열가소성 필름이 필요하기 때문이다.Various polymer films may be used as the base film 5 constituting the dicing die-bonding film 1 according to the present invention. Among them, thermoplastic plastic films are generally used. This is because thermoplastic films must be used to expand the pickup after the dicing process, and in some cases the chips remaining after the expansion can be picked up again over time. Because.

상기 기재필름(5)은 익스팬딩이 가능해야 할 뿐만 아니라, 자외선 투과성인 것이 바람직하고, 특히 점착제가 자외선 경화형 점착 조성물인 경우 점착 조성물이 경화 가능한 파장의 자외선에 대해서 투과성이 우수한 필름인 것이 바람직하다. 따라서 기재필름에는 자외선 흡수제 등이 포함되어서는 안된다.The base film 5 should not only be expandable, but also preferably UV-permeable, and in particular, when the pressure-sensitive adhesive is an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive composition, it is preferable that the base film 5 is a film having excellent transmittance to ultraviolet rays of a wavelength at which the pressure-sensitive adhesive composition can be cured. . Therefore, the base film should not contain ultraviolet absorbers and the like.

이러한 기재로써 사용할 수 있는 폴리머 필름의 예로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌/프로필렌 공중합체, 폴리부텐-1, 에틸렌/초산비닐 공중합체, 폴리에틸렌/스타이렌부타디엔 고무의 혼합물, 폴리비닐클로라이드 필름 등의 폴리올레핀계 필름 등이 주로 사용될 수 있다. 또한, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리(메틸메타크릴레이트)등의 고분자나 폴리우레탄, 폴리아미드-폴리올 공중합체 등의 열가소성 엘라스토머 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있고, 이들 기재필름은 다이싱시의 절삭성이나 익스팬딩성을 개선하기 위해 복층의 구조를 지녀도 좋다.Examples of polymer films that can be used as such substrates include polyethylene, polypropylene, ethylene / propylene copolymers, polybutene-1, ethylene / vinyl acetate copolymers, mixtures of polyethylene / styrenebutadiene rubbers, polyolefins such as polyvinylchloride films Type films and the like can be mainly used. In addition, polymers such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, poly (methyl methacrylate), thermoplastic elastomers such as polyurethane and polyamide-polyol copolymers, and mixtures thereof can be used. In order to improve machinability and expandability, a multilayer structure may be provided.

상기의 필름 등은 주로 폴리올레핀 칩을 블렌딩하여 용융시켜 압출 방식으로 필름을 형성할 수도 있고, 블로잉 방식으로도 필름을 형성 할 수 있다. 블렌딩하는 칩의 종류에 따라 형성되는 필름의 내열성 및 기계적 물성이 결정되며, 상기 제조되는 필름은 헤이즈(HAZE) 85 이상의 값을 가져야 하는 바, 제조 당시 쿨링 롤의 표면을 인각하여 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 엠보싱 효과를 주어 빛의 산란에 의 해 헤이즈를 지녀야 한다.The film and the like may be mainly formed by blending and melting a polyolefin chip to form a film by an extrusion method, or may form a film by a blowing method. The heat resistance and mechanical properties of the film to be formed are determined according to the type of chips to be blended, and the film to be manufactured should have a value of HAZE 85 or more. Embossing should give a haze by scattering of light.

85 미만의 헤이즈이면 반도체 공정 중 프리컷(Pre-cut)상태에서 웨이퍼 경면에 라미네이션할 때 필름의 위치 인식 오류가 발생하여 연속적인 작업이 불가능해진다. 따라서, 기재필름은 반드시 표면에 엠보싱 처리됨으로써 인식 가능한 수준인 헤이즈 85 이상의 값을 나타내야 한다.If the haze is less than 85, the film may fail to recognize the position of the film when laminating to the mirror surface of the wafer in the pre-cut state during the semiconductor process, and continuous operation may be impossible. Therefore, the base film must exhibit a haze value of 85 or more, which is a recognizable level by embossing the surface.

기재필름의 엠보싱 가공은 인식성 뿐만 아니라, 기재필름 제조시의 블록킹을 방지하여 권취가 가능하도록 하는 역할도 한다. 기재필름(5)의 엠보싱 처리된 이면에는 점착층(4)이 형성되므로, 엠보싱면의 반대면은 형성되는 점착층(4)과의 접착력을 증가시키기 위하여 표면개질을 하는 것이 바람직하다.The embossing process of the base film not only recognizes, but also prevents blocking during manufacturing of the base film, thereby serving to enable winding. Since the adhesive layer 4 is formed on the embossed back surface of the base film 5, it is preferable that the opposite surface of the embossed surface is subjected to surface modification in order to increase the adhesive force with the adhesive layer 4 to be formed.

표면개질은 물리적 방법, 화학적 방법 모두 가능하며, 물리적 방법으로는 코로나 처리나 플라즈마 처리를 할 수 있고, 화학적 방법으로는 인라인코팅 처리 내지 프라이머 처리 등의 방법을 사용할 수 있고, 코로나 방전 처리에 의해 점착층(4)을 형성하는 것이 제조 공정성 측면에서 바람직하다.Surface modification can be performed by both physical and chemical methods. The physical method can be corona treatment or plasma treatment, and the chemical method can be a method such as in-line coating or primer treatment, and can be adhered by corona discharge treatment. It is preferable to form the layer 4 in terms of manufacturing processability.

기재필름(5)의 두께는 강한 신장도, 작업성, 자외선 투과성 등의 측면에서 바람직하게는 30~300㎛, 보다 바람직하게는 50~200㎛가 통상적인데, 기재필름이 30㎛ 이하이면 프리컷(Pre-cut) 상태에서 작업성이 불량해지고, 자외선 조사시 발생하는 열에 의해 쉽게 필름의 변형이 일어난다. 또한, 기재필름이 300㎛ 이상이면 설비상 익스팬딩하기 위한 힘이 과도하게 요구되어 비용 측면에서 바람직하지 않다.The thickness of the base film 5 is preferably 30 to 300 μm, more preferably 50 to 200 μm in view of strong elongation, workability, UV transmittance, and the like. The workability is poor in the pre-cut state, and the film is easily deformed by heat generated during ultraviolet irradiation. In addition, when the base film is 300㎛ or more, the force for expanding on a facility is excessively demanded, which is not preferable in terms of cost.

(B) 점착층(B) adhesive layer

본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름(1)에 사용되는 점착층(4)은 상기한 점착층용 광경화 조성물을 이용하여 형성되는데, 상기 광경화 조성물을 사용하여 점착층을 형성하는 방법은 주로 도포에 의해 이루어진다.The adhesive layer 4 used for the dicing die-bonding film 1 by this invention is formed using the photocuring composition for adhesion layers mentioned above, The method of forming an adhesion layer using the said photocuring composition is mainly apply | coated Is done by.

기재필름(5)에 점착층(4)을 형성시키는 방법은 직접 코팅할 수도 있고, 이형필름 등에 코팅한 후에 건조 완료후 전사방식에 의해 전사시킬 수도 있다. 전자이건 후자이건 점착층을 형성시키는 도포 방법은 균일한 도막층을 형성시킬 수 있는 것이면 어느 것이든 제한이 없으나, 주로 바 코팅, 그라비아 코팅, 콤마 코팅, 리버스 롤 코팅, 어플리케이터 코팅, 스프레이 코팅, 립 코팅 등의 방법이 이용되고 있다.The method of forming the adhesive layer 4 on the base film 5 may be directly coated, or may be transferred by a transfer method after completion of drying after coating on a release film or the like. The coating method for forming the adhesive layer, whether the former or the latter is not limited as long as it can form a uniform coating layer, but mainly bar coating, gravure coating, comma coating, reverse roll coating, applicator coating, spray coating, lip Methods such as coating are used.

도포한 후에 도막층을 형성하기 위한 건조방법은 주로 열경화 방식을 이용하고, 코팅 방식은 폴리올레핀 필름 표면 위에 직접 코팅층을 형성하기도 하고, 이형필름(2) 등의 기재필름 위에 점착층을 형성시킨 후, 폴리올레핀 필름 등에 전사하여 코팅층을 형성하기도 한다.After coating, the drying method for forming the coating layer is mainly a thermosetting method, the coating method may form a coating layer directly on the surface of the polyolefin film, and after forming an adhesive layer on a base film such as a release film (2) And a polyolefin film or the like may be transferred to form a coating layer.

점착층(4)의 두께는 3 내지 30 ㎛, 보다 바람직하게는 5내지 30 ㎛의 두께가 바람직하다. 이는 3 ㎛ 미만이면 자외선 경화 후 도막 응집력이 약해 상부의 접착층(3)과의 계면 사이에서 바람직한 접착력 감소 효과를 가져오지 못하며, 30 마이크론 초과이면 다이싱 공정시 수염 형상 절삭 부스러기 등이 발생하는 문제점이 있다.The thickness of the adhesion layer 4 is 3-30 micrometers, More preferably, the thickness of 5-30 micrometers is preferable. If the thickness is less than 3 μm, the cohesive force of the coating film is weak after UV curing, which does not bring about a desirable effect of reducing the adhesive force between the interface with the adhesive layer 3 on the upper side. have.

생성된 점착층(4)은 일정한 온도에서 일정 시간 숙성시킬 수 있는데, 일반적 으로 점착제는 열경화 후에도 일정 시간까지 도막층의 경화가 진행되기 때문에, 도막의 안정성과 경시변화를 최소화하는 범위 내에서 숙성시키는 것이 바람직하다.The resulting pressure-sensitive adhesive layer 4 may be aged at a constant temperature for a certain time. Generally, since the pressure-sensitive adhesive proceeds to harden the coating layer up to a predetermined time even after thermal curing, the pressure-sensitive adhesive layer 4 is aged within a range that minimizes stability of the coating film and changes over time. It is preferable to make it.

본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름(1)에 사용되는 점착층(4)은 상기한 점착층용 광경화 조성물을 이용하여 형성된 것 이외에도, 자외선 조사 전에는 강한 택(tack)으로 상부의 접착층(3)과 강한 접착력을 유지하고, 링프레임과도 강한 접착력을 지니며, 자외선 조사 후에는 점착층(4)이 가교 반응에 의해 도막 응집력이 증가하고 수축하여 접착층(3)과의 계면에서 접착력이 현저히 감소함으로써, 접착층(3)이 부착된 칩(6)이 쉽게 픽업되어 지지부재(7)에 다이본딩 되는 것이면 어느 것이나 가능하다.The adhesive layer 4 used for the dicing die-bonding film 1 according to the present invention is formed by using the above-mentioned photocurable composition for pressure-sensitive adhesive layers. Maintains strong adhesion to the ring frame, and also has strong adhesion to the ring frame, and after ultraviolet irradiation, the adhesion layer 4 increases and contracts due to the crosslinking reaction, and the adhesion decreases significantly at the interface with the adhesion layer 3. As a result, any of the chips 6 with the adhesive layer 3 can be easily picked up and die-bonded to the support member 7.

특히, 자외선 조사에 의해 경화되는 조성이어도 되고, 자외선 조사가 아닌 열경화나 기타 외부 에너지에 의해 에너지 부가 전 후로 접착층(3)과의 계면 사이에서 접착력이 현저히 감소하는 조성이면 어느 것이나 가능하다.In particular, any composition may be used as long as the composition is cured by ultraviolet irradiation, and the adhesive force is significantly reduced between the interface with the adhesive layer 3 before and after energy addition by heat curing or other external energy rather than ultraviolet irradiation.

본 발명에 사용하는 기재필름(5)이 폴리올레핀 필름과 같은 비극성 소재이기 때문에 점착층이 필름에 대해 부착력을 가지려면 필름 표면을 개질하여 점착층에 대해 친화력을 높이기도 하지만 점착층 성분 자체에 극성기를 도입하고 경화제와 가교 반응시켜서 부착력을 증진시킬 수 있다.Since the base film 5 used in the present invention is a nonpolar material such as a polyolefin film, in order for the adhesive layer to have adhesion to the film, the adhesive film may be modified to improve the affinity for the adhesive layer, but the polar group may be used in the adhesive layer component itself. It can be introduced and crosslinked with the curing agent to enhance adhesion.

상기 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A)와 경화제를 혼합하여 기재필름 위에 도포 시 숙성공정을 거치면서 점착 바인더내에서 단단하게 도막을 형성하여 부착되기 때문에 자외선 조사 전에도 접착층(3)으로의 전이가 발생하지 않아 자외선 조사 후에 충분한 접착력 감소 효과를 나타내게 된다.Since the acrylic adhesive binder (A) containing a vinyl group and a curing agent are mixed to form a coating film in the adhesive binder during the aging process when the coating is applied on the base film, the transition to the adhesive layer 3 is performed even before UV irradiation. It does not occur, resulting in a sufficient adhesive force reduction effect after ultraviolet irradiation.

열경화제(C)의 첨가에 의해 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A) 및 UV경화형 아크릴레이트(B)는 기재필름(5) 표면에 단단한 도막을 형성하며 다이싱이나 자외선 조사에 의해 도막 탈리가 발생하지 않는다. 앞에서도 언급한 것처럼 본 발명에 사용하는 기재필름(5)인 폴리올레핀 필름은 분자내에 극성기를 전혀 함유하지 않으므로 극성이 없는 외부 물질을 표면에 부착하기가 어렵게 된다. 따라서 필름 표면의 극성을 높이기 위해 코로나 처리나 프라이머 처리 등으로 표면 장력을 높이기도 하는데 이는 한계가 있으므로 기본적인 수지의 극성을 조절해서 도막을 형성하는 것이 일반적이다.The acrylic pressure-sensitive adhesive binder (A) and the UV-curable acrylate (B) containing a vinyl group by the addition of the thermosetting agent (C) form a hard coating film on the surface of the base film 5, and the coating film desorption is performed by dicing or ultraviolet irradiation. Does not occur. As mentioned above, since the polyolefin film, which is the base film 5 used in the present invention, contains no polar group in the molecule, it is difficult to attach an external substance having no polarity to the surface. Therefore, in order to increase the polarity of the film surface to increase the surface tension by corona treatment or primer treatment, etc. This is limited, so it is common to control the polarity of the basic resin to form a coating film.

본 발명에 의한 다이싱 필름 및 다이싱 다이본딩 필름에 포함되는 점착층(4)은 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더와 UV 경화형 아크릴레이트를 혼합한 경우이면서, 저분자 아크릴레이트의 전이도 전혀 발생하지 않아서 자외선 조사 후에 점착층(4)과 접착층(3) 사이의 계면에서의 접착력이 현저히 줄어들어 10mm x 10mm 이상의 큰 크기의 칩에서도 픽업하는 것이 가능하게 된다.The adhesive layer 4 included in the dicing film and the dicing die-bonding film according to the present invention is a case where an acrylic adhesive binder containing a vinyl group is mixed with a UV curable acrylate, and no transition of low molecular acrylate occurs. After ultraviolet irradiation, the adhesive force at the interface between the adhesive layer 4 and the adhesive layer 3 is significantly reduced, so that it is possible to pick up even a chip having a large size of 10 mm x 10 mm or more.

상기 점착층(4)의 성분으로는 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A), UV경화형 아크릴레이트(B), 열경화제(C), 광중합 개시제(D) 이외에 필요에 따라서는 유기 필러, 무기 필러, 접착부여제, 계면활성제, 대전방지제 등을 첨가하는 것이 가능하다.As the component of the adhesion layer 4, an organic filler and an inorganic filler, if necessary, other than the acrylic adhesive binder (A) containing a vinyl group, UV-curable acrylate (B), a thermosetting agent (C), and a photoinitiator (D). , Tackifiers, surfactants, antistatic agents and the like can be added.

(C) 접착층(C) adhesive layer

본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름(1)은 상기와 같이 기재필름(5) 위에 점착층(4)을 코팅하고 다시 상부에 접착층(3)을 적층하는 구조로 이루어진다. 상기 접착층(3)은 반도체 칩이 붙어 있어 작은 크기로 개별화된 후 칩을 픽업할 때 하부의 점착층(4)과 쉽게 박리되어 칩 이면에 부착된 상태로 지지부재(7)의 표면에 다이본딩 하게 된다.The dicing die-bonding film 1 according to the present invention has a structure in which the adhesive layer 4 is coated on the base film 5 as described above, and the adhesive layer 3 is laminated on the upper side. The adhesive layer 3 is attached to the surface of the support member 7 in a state in which the semiconductor chip is attached to the small size and then individualized to a small size and then easily peeled off from the lower adhesive layer 4 and attached to the back surface of the chip when picking up the chip. Done.

상기 접착층(3)은 60℃ 근처의 온도에서 회로가 설계된 웨이퍼의 경면(유리면)에 부착되고 다이싱이 된 후에는 약 100℃의 온도에서 리드프레임이나 PCB 기판과 같은 지지부재(7)에 다이본딩 하게 된다. 또한, 상기 접착층(3)은 칩에 부착되어 패키징 내에 들어가고, 에폭시 몰딩 후에도 패키징 내부에 잔존하게 되므로 이온이나 이물 기타 시간 경과에 따른 공정 안정성 등 신뢰성이 중요하다.The adhesive layer 3 is attached to the mirror surface (glass surface) of the circuit on which the circuit is designed at a temperature near 60 ° C. and then diced into a supporting member 7 such as a lead frame or a PCB substrate at a temperature of about 100 ° C. Bonding In addition, since the adhesive layer 3 adheres to the chip and enters the packaging, and remains in the packaging even after epoxy molding, reliability such as ionic or foreign matter and process stability over time is important.

본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름(1)의 접착층(3)은 필름 형성능을 갖는 고분자량의 아크릴 공중합체와 에폭시 수지 등의 열경화성 수지로 이루어진다. 상기 아크릴계 공중합체는 아크릴산 에스테르나 메타크릴산 에스테르 및 아크릴로니트릴 등의 공중합체인 아크릴 고무를 예로 들 수 있다. 에폭시 수지는 경화되어서 접착력을 나타내는 것이면 특별한 제한은 없으나, 경화반응을 하기 위해서는 관능기는 관능기가 2 이상이어야 하므로, 비스페놀 A형 에폭시 수지나 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 등을 사용하는 것이 바람직하다.The adhesive layer 3 of the dicing die bonding film 1 which concerns on this invention consists of a high molecular weight acrylic copolymer which has film forming ability, and thermosetting resins, such as an epoxy resin. Examples of the acrylic copolymer include acrylic rubber which is a copolymer such as acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and acrylonitrile. The epoxy resin is not particularly limited as long as the epoxy resin is cured to exhibit adhesive strength. However, in order to perform the curing reaction, the functional group must have two or more functional groups. Therefore, bisphenol A type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, etc. are used. It is desirable to.

또한, 상기 접착층(3)에는 에폭시 수지를 경화시키기 위한 경화촉진제를 사용할 수 있는데, 경화촉진제로는 이미다졸계나 아민계 등을 사용할 수 있다. 또한, 접착층에는 웨이퍼와의 부착력을 증가시키기 위해 다양한 실란 커플링제를 1종 또는 2종 이상의 혼합으로 사용할 수 있으며, 접착층의 치수 안정 및 내열 특성 향 상을 위해 실리카 등의 무기 입자를 첨가 할 수 있다.In addition, a curing accelerator for curing the epoxy resin may be used for the adhesive layer 3, but an imidazole series, an amine series, or the like may be used as the curing accelerator. In addition, various silane coupling agents may be used in one or two or more kinds of mixtures to increase adhesion to the wafer, and inorganic particles such as silica may be added to the adhesive layer to improve dimensional stability and heat resistance. .

상기 접착층(3)의 코팅 두께는 5 내지 100 ㎛이 바람직하며, 보다 바람직하게는 10 내지 80 ㎛이 좋다. 이는 5 ㎛ 미만에서는 웨이퍼 이면에 적합한 접착력을 나타내지 못하고, 100 ㎛ 초과하는 경우 최근에의 경박단소화의 반도체 패키징 경향에 반하고, 두께가 클수록 칩과 칩, 칩과 기판 사이를 접착할 때 접착제 층의 유동성에 의하여 액상 접착제를 사용할 때와 같은 필레(Fillet) 현상이 발생하게 되어 패키징시 신뢰성에 문제를 유발시키기 때문이다.The coating thickness of the adhesive layer 3 is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 80 μm. This does not show a suitable adhesion to the back surface of the wafer below 5 μm, and contrary to the recent trend of thin and short semiconductor packaging in the case of more than 100 μm, the larger the thickness, the adhesive layer when bonding between the chip and the chip, the chip and the substrate. This is because the fillet phenomenon, such as when using a liquid adhesive, occurs due to the fluidity of the, causing problems in reliability during packaging.

또한, 상기 접착층의 성분으로는 필요에 따라서 유기 필러, 무기 필러, 접착부여제, 계면활성제, 대전방지제 등을 혼합하는 것이 가능하고, 접착층의 코팅 방식도 점착층과 마찬가지로 균일한 도막 두께를 형성시킬 수 있는 것이면 특별한 제한은 없다.In addition, as the component of the adhesive layer, it is possible to mix an organic filler, an inorganic filler, a tackifier, a surfactant, an antistatic agent and the like as necessary. There is no special limitation as long as it can.

반도체 공정 중에는 상기 이형필름(2)을 박리한 후에 도 2에서 보는 바와 같이, 접착층을 웨이퍼 칩(6)에 라미네이션(마운팅 공정이라고도 함)한다.During the semiconductor process, after the release film 2 is peeled off, as shown in FIG. 2, the adhesive layer is laminated on the wafer chip 6 (also called a mounting process).

접착층(3)과 웨이퍼 칩(6)을 라미네이션 한 후 설계된 회로의 크기대로 칩을 자르는 다이싱(Dicing)공정을 거치게 되는데, 도 3에서 보는 바와 같이, 일반적으로 칩(6), 접착제(3)를 포함하여 점착층(4) 아래의 하부 폴리올레핀 필름(2)의 일부 깊이까지 다이싱을 하고, 이후에 개별화된 칩(6)을 픽업하여 지지부재(7)에 부착하기 위해서 필름 하부에서 자외선을 조사하여 점착층(4)과 접착층(3) 계면 사이의 박리력을 줄이는 구조로 되어 있다. 즉, 도 4와 같이, 접착층(3)이 부착된 개별화된 칩(6)을 콜렛(Collet)이라는 픽업기를 사용하여 일정한 힘으로 픽업한 후, 도 5와 같이 PCB 기판이나 리드프레임과 같은 지지부재(7)에 부착한다.After laminating the adhesive layer (3) and the wafer chip (6) is subjected to a dicing process to cut the chip to the size of the designed circuit, as shown in Figure 3, generally the chip (6), the adhesive (3) Dicing to a partial depth of the lower polyolefin film 2 below the adhesive layer 4, and then picking up the individualized chips 6 and applying ultraviolet rays from the lower part of the film to attach to the support member 7. Irradiation reduces the peel force between the adhesive layer 4 and the adhesive layer 3 interface. That is, as shown in FIG. 4, the individualized chip 6 having the adhesive layer 3 attached thereto is picked up with a constant force by using a pickup called a collet, and then a supporting member such as a PCB substrate or a lead frame as shown in FIG. 5. Attached to (7).

본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름은 상기와 같이 제조된 점착층(4), 접착층(3) 등을 적층하여 하나의 필름으로 제조한 것으로, 프리컷(Pre-cut) 형태나 롤 형태 모두 가능하나, 롤 형태로 제조 되었을 때 반도체 공정 중 웨이퍼 이외의 필름 부분을 제거(scrap)해야 하는 공정이 별도로 필요로 되고, 프리컷(Pre-cut)형태로 제조하는 경우에는 웨이퍼 크기에 맞는 필름이므로 별도의 제거공정이 필요하지 않게 된다. 다만, 본 발명에 의한 다이싱 다이본딩 필름(1)은 점착층(4)과 접착층(3)을 합지하여 일정 크기에 맞게 컷팅한 형태이므로, 합지시의 롤 압력, 온도 치수, 정밀도 관리 등이 매우 중요한 요소가 된다.The dicing die-bonding film according to the present invention is made of one film by laminating the adhesive layer 4, the adhesive layer 3 and the like prepared as described above, both pre-cut form and roll form is possible However, when manufactured in roll form, the process of scraping film portions other than the wafer during the semiconductor process is required separately. In the case of manufacturing in pre-cut form, the film is suitable for the wafer size. Eliminating the need for However, since the dicing die-bonding film 1 according to the present invention is formed by laminating the adhesive layer 4 and the adhesive layer 3 and cutting them to a certain size, the roll pressure, temperature dimension, and precision control at the time of lamination, etc. It is a very important factor.

본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시를 위한 것이고, 첨부된 특허청구범위에 의하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.The invention can be better understood by the following examples, which are intended to illustrate the invention and are not intended to limit the scope of protection defined by the appended claims.

[접착층(3) 및 접착 필름(3-a)의 제조][Production of Adhesive Layer 3 and Adhesive Film (3-a)]

아크릴 수지 KLS-1046DR(수산기값 13 mgKOH/g, 산가 63mgKOH/g, Tg 38℃, 평균분자량 690,000, 제조원: 후지쿠라 상사) 400g, WS-023(수산기값 혹은 산가 20 mgKOH/g, Tg -5℃, 평균분자량 500,000, 수산기 혹은 카르복시기 함유량 20, 제조원: 나가세켐텍) 60g, 크레졸 노볼락계로 이루어진 에폭시 수지 YDCN-500-4P(제조원: 국도화학, 분자량 10,000이하) 60g, 크레졸 노볼락계 경화제 MEH-7800SS(제조 원:메이와플라스틱산업) 40g, 이미다졸계 경화촉매 2P4MZ(제조원: 사국화학) 0.1g, 머켑토 실란커플링제 KBM-803(제조원: 신에쯔주식회사) 0.5g, 에폭시 실란커플링제KBM-303(제조원: 신에쯔주식회사) 0.5g 및 무정형 실리카 충진제 (OX-50, 제조원: 대구사) 20g을 혼합한 후, 500rpm에서 2시간 정도 1차 분산시켰다.Acrylic resin KLS-1046DR (hydroxyl value 13 mgKOH / g, acid value 63 mgKOH / g, Tg 38 ° C, average molecular weight 690,000, manufacturer: Fujikura Corporation) 400 g, WS-023 (hydroxyl value or acid value 20 mgKOH / g, Tg -5 ℃, average molecular weight 500,000, hydroxyl group or carboxyl group content 20, manufacturer: Nagase Chemtech) 60 g, cresol novolac-based epoxy resin YDCN-500-4P (manufactured by Kukdo Chemical, molecular weight 10,000 or less) 60 g, cresol novolac-based curing agent MEH- 7800SS (manufactured by Meiwa Plastic Industries) 40g, imidazole series curing catalyst 2P4MZ (manufactured by Sukkuk Chemical) 0.1g, mercanto silane coupling agent KBM-803 (manufactured by Shin-Etsu Co., Ltd.) 0.5g, epoxy silane coupling agent 0.5 g of KBM-303 (manufactured by Shin-Etsu Co., Ltd.) and 20 g of amorphous silica filler (OX-50, manufactured by Daegu) were mixed, followed by primary dispersion at 500 rpm for about 2 hours.

1차 분산 이후 밀링을 실시하였다. 밀링은 주로 무기 입자를 이용한 비드 밀링 방법을 사용하였다. 밀링이 완료된 후 38 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 이형필름의 편면에 건조 후 막 두께 20 ㎛로 하여 코팅을 실시하였다.Milling was performed after the first dispersion. Milling mainly used bead milling method using inorganic particles. After milling was completed, coating was performed on one side of the polyethylene terephthalate release film having a thickness of 38 μm and then having a thickness of 20 μm.

코팅된 면을 보호하기 위해 코팅층 상부면에 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로 적층하여 접착필름(3-a)을 제조하였다.In order to protect the coated surface, an adhesive film (3-a) was prepared by laminating a polyethylene terephthalate film on the upper surface of the coating layer.

제조예 1 : 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 제조(1)Preparation Example 1 Preparation of Acrylic Adhesive Binder Including Vinyl Group (1)

2L의 4구 플라스크에 다음 실시예의 배합조건으로 하여 시약을 투입하였고, 반응공정은 다음과 같다. 유기용매인 에칠아세테이트 300g, 톨루엔 240g을 먼저 투입하고, 한쪽에는 환류냉각기를 설치하였고, 다른 한쪽에는 온도계를, 또 다른 한쪽에는 드롭핑 판넬을 설치하였다.The reagent was added to a 2 L four-necked flask under the mixing conditions of the following example, and the reaction process was as follows. An organic solvent, 300 g of ethyl acetate and 240 g of toluene was added first, a reflux cooler was installed on one side, a thermometer was installed on the other side, and a dropping panel was installed on the other side.

플라스크 용액 온도를 80~90℃로 올린 후, 표 1의 실시예 1과 같이 2-에틸헥실아크릴레이트 (JUNSEI사, 7A2150), 하이드록시에틸메타크릴레이트 (SAMCHUN사, 03120), 하이드록시에틸아크릴레이트 (JUNSEI사, 10132-0480), 글리시딜 메타크릴레이트 (SAMCHUN사, E10780) , 이소 옥칠 아크릴레이트 모노머 (SARTOMER사, 437425등) 라우릴메타크릴레이트 모노머(Aldrich사, 291811)와 벤조일퍼옥사이드 0.12g과 혼합액을 제조한 다음, 혼합액을 드롭핑 판넬을 사용하여 80∼100℃에서 3시간 동안 적하하였다.After raising the flask solution temperature to 80-90 degreeC, 2-ethylhexyl acrylate (JUNSEI company, 7A2150), hydroxyethyl methacrylate (SAMCHUN company, 03120), hydroxyethyl acryl like Example 1 of Table 1, Latex (JUNSEI, 10132-0480), glycidyl methacrylate (SAMCHUN, E10780), iso-oxyl acrylate monomer (SARTOMER, 437425, etc.) lauryl methacrylate monomer (Aldrich, 291811) and benzoyl fur 0.12 g of oxide and a mixed solution were prepared, and the mixed solution was added dropwise at 80 to 100 ° C. using a dropping panel for 3 hours.

상기 적하시의 교반속도는 250rpm으로 하였으며, 적하 종료후 동일한 온도에서 4시간 동안 반응물을 숙성시킨 다음, 에칠아세테이트 30g, 아조비스이소부틸로나이트릴 1.2g을 투입하고, 4시간 동안 유지한 후 점도 및 고형분 측정을 하고 반응을 중지시켜 아크릴 공중합체인 아크릴 점착 폴리올 바인더 수지를 제조하였다. 중합 후의 점도는 300~500cps 이고, 고형분의 함량을 40%로 보정하였다.The stirring speed at the dropwise addition was 250rpm, and after completion of the dropwise addition, the reaction product was aged at the same temperature for 4 hours, then 30g of ethyl acetate and 1.2g of azobisisobutylonitrile were added and maintained for 4 hours, followed by viscosity. And the solid content was measured and the reaction was stopped to prepare an acrylic adhesive polyol binder resin that is an acrylic copolymer. The viscosity after polymerization was 300 to 500 cps, and the content of solids was corrected to 40%.

2L의 4구 플라스크에 상기에서 합성한 아크릴 점착 폴리올 바인더 수지 100중량부에 2-Isocyanatoethyl Methacrylate(상품명 : Karenz MOI, 昭和電工(日))을 7중량부, 디부틸틴 디라우레이트(dibutyl tin dilaurate, DBTDL, Aldrich사, 291234) 20ppm을 넣고, 60℃×8hr 반응 시켜 2-Isocyanatoethyl Methacrylate 모노머의 이소시아네이트기가 바인더의 수산기와 반응하여 FT-IR상에서 없어짐을 반응의 종말점으로 하여, 에틸아세테이트를 넣어 냉각시켜, 고형분 40%의 아크릴계 점착 바인더를 합성하였다.7 parts by weight of 2-Isocyanatoethyl Methacrylate (trade name: Karenz MOI, Japan) to 100 parts by weight of the acrylic adhesive polyol binder resin synthesized above in a 2 L four-necked flask and dibutyl tin dilaurate , DBTDL, Aldrich, 291234) 20ppm was added and reacted at 60 ° C × 8hr to remove the isocyanate groups of the 2-Isocyanatoethyl Methacrylate monomer from the hydroxyl group of the binder and disappear on the FT-IR. And an acrylic pressure-sensitive adhesive binder having a solid content of 40% were synthesized.

제조예 2 : 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 제조(2)Preparation Example 2 Preparation of Acrylic Adhesive Binder Containing Vinyl Group (2)

2L의 4구 플라스크에 다음 실시예의 배합조건으로 하여 시약을 투입하였고, 반응공정은 다음과 같다. 유기용매인 에칠아세테이트 300g, 톨루엔 240g을 먼저 투입하고, 한쪽에는 환류냉각기를 설치하였고, 다른 한쪽에는 온도계를, 또 다른 한쪽에는 드롭핑 판넬을 설치하였다.The reagent was added to a 2 L four-necked flask under the mixing conditions of the following example, and the reaction process was as follows. An organic solvent, 300 g of ethyl acetate and 240 g of toluene was added first, a reflux cooler was installed on one side, a thermometer was installed on the other side, and a dropping panel was installed on the other side.

플라스크 용액 온도를 80~90℃로 올린 후, 표 1의 실시예 2와 같이 모노머 600g과 벤조일퍼옥사이드 0.12g과 혼합액을 제조한 다음, 실시예 1과 동일한 방법으로 아크릴 공중합체인 아크릴 점착 폴리올 바인더 수지를 제조하였다.After raising the flask solution temperature to 80 ~ 90 ℃, to prepare a mixed solution with a monomer 600g and 0.12g of benzoyl peroxide as in Example 2 of Table 1, the acrylic adhesive polyol binder resin of the acrylic copolymer in the same manner as in Example 1 Was prepared.

2L의 4구 플라스크에 상기에서 합성한 아크릴 점착 폴리올 바인더 수지 100중량부에 2-Isocyanatoethyl Methacrylate(상품명 : Karenz MOI, 昭和電工(日))을 10중량부, DBTDL 20ppm을 넣고, 60℃×8hr 반응 시켜 2-Isocyanatoethyl Methacrylate 모노머의 이소시아네이트 기가 바인더의 수산기와 반응하여 FT-IR상에서 없어짐을 반응의 종말점으로 하여, 에틸아세테이트를 넣어 냉각시켜, 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더를 합성하였다.Into a 2 L four-necked flask, 10 parts by weight of 2-Isocyanatoethyl Methacrylate (trade name: Karenz MOI, Japan Density) and 100 ppm of DBTDL were added to 100 parts by weight of the acrylic adhesive polyol binder resin synthesized above. When the isocyanate group of the 2-Isocyanatoethyl Methacrylate monomer reacts with the hydroxyl group of the binder and disappears on the FT-IR, an ethyl acetate was added and cooled to prepare an acrylic adhesive binder containing vinyl groups having a solid content of 40%.

비교제조예 1 : 비닐기를 포함하지 않는 아크릴계 점착 바인더 제조(3)Comparative Production Example 1 Manufacture of Acrylic Adhesive Binder Without Vinyl Group (3)

2L의 4구 플라스크에 다음 실시예의 배합조건으로 하여 시약을 투입하였고, 반응공정은 다음과 같다. 유기용매인 에칠아세테이트 300g, 톨루엔 240g을 먼저 투입하고, 한쪽에는 환류냉각기를 설치하였고, 다른 한쪽에는 온도계를, 또 다른 한쪽에는 드롭핑 판넬을 설치하였다.The reagent was added to a 2 L four-necked flask under the mixing conditions of the following example, and the reaction process was as follows. An organic solvent, 300 g of ethyl acetate and 240 g of toluene was added first, a reflux cooler was installed on one side, a thermometer was installed on the other side, and a dropping panel was installed on the other side.

플라스크 용액 온도를 80~90℃로 올린 후, 표 1의 비교예 1과 같은 모노머 조성 600g과 벤조일퍼옥사이드 0.12g과 혼합액을 제조한 다음, 실시예 1과 동일한 방법으로 아크릴 공중합체인 아크릴 점착 폴리올 바인더 수지를 제조하였다.After raising the flask solution temperature to 80 ~ 90 ℃, to prepare a mixed solution with 600g of monomer composition and 0.12g of benzoyl peroxide as in Comparative Example 1 of Table 1, and then in the same manner as in Example 1 acrylic adhesive polyol binder Resin was prepared.

비교제조예 2 : 비닐기를 포함하나, 글리시딜 메타크릴레이트를 포함하지 않 는 아크릴계 점착 바인더 제조(4)Comparative Production Example 2: Preparation of an acrylic adhesive binder containing a vinyl group but not containing glycidyl methacrylate (4)

2L의 4구 플라스크에 다음 표 1의 실시예 배합조건으로 하여 시약을 투입하였고, 반응공정은 다음과 같다. 유기용매인 에칠아세테이트 300g, 톨루엔 240g을 먼저 투입하고, 한쪽에는 환류냉각기를 설치하였고, 다른 한쪽에는 온도계를, 또 다른 한쪽에는 드롭핑 판넬을 설치하였다.Into a 2 L four-necked flask, the reagents were added as in the following Example 1 mixing conditions, and the reaction process was as follows. An organic solvent, 300 g of ethyl acetate and 240 g of toluene was added first, a reflux cooler was installed on one side, a thermometer was installed on the other side, and a dropping panel was installed on the other side.

플라스크 용액 온도를 80~90℃로 올린 후, 표 1 비교예 2와 같이 모노머 조성중 글리시딜 메타크릴레이트를 제거한 모노머 600g과 벤조일퍼옥사이드 0.12g과 혼합액을 제조한 다음, 실시예 1과 동일한 방법으로 아크릴 공중합체인 아크릴 점착 폴리올 바인더 수지를 제조하였다.After raising the flask solution temperature to 80 ~ 90 ℃, as shown in Table 1 Comparative Example 2 to prepare a mixed solution of the monomer 600g and 0.12g of benzoyl peroxide removed from the glycidyl methacrylate in the monomer composition, the same method as in Example 1 An acrylic adhesive polyol binder resin, which is an acrylic copolymer, was prepared.

2L의 4구 플라스크에 상기에서 합성한 아크릴 점착 폴리올 바인더 수지 100중량부에 2-Isocyanatoethyl Methacrylate(상품명 : Karenz MOI, 昭和電工(日))을 7중량부, DBTDL 20ppm을 넣고, 60℃×8hr 반응 시켜 2-Isocyanatoethyl Methacrylate 모노머의 이소시아네이트 기가 바인더의 수산기와 반응하여 FT-IR상에서 없어짐을 반응의 종말점으로 하여, 에틸아세테이트를 넣어 냉각시켜, 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더를 합성하였다.Into a 2 L four-necked flask, 7 parts by weight of 2-Isocyanatoethyl Methacrylate (trade name: Karenz MOI, Japan Density) and DBTDL 20 ppm were added to 100 parts by weight of the acrylic adhesive polyol binder resin synthesized above. When the isocyanate group of the 2-Isocyanatoethyl Methacrylate monomer reacts with the hydroxyl group of the binder and disappears on the FT-IR, an ethyl acetate was added and cooled to prepare an acrylic adhesive binder containing vinyl groups having a solid content of 40%.

Figure 112007090556219-pat00001
Figure 112007090556219-pat00001

실시예 1 : 점착필름 형성용 광경화성 조성물의 제조(1)Example 1 Preparation of Photocurable Composition for Adhesive Film Formation (1)

1L 비이커에 제조예 1에서 제조한 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 250g과 상온에서 점도 측정이 안되며 40℃에서 점도가 20,000 cps인 U-324A(신나카무라사) 60g을 투입하여 혼합한 후, 광개시제 0.2g(Irgacure 651, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 1.8g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 점착필름 형성용 광경화성 조성물을 제조하였다.250 g of an acrylic adhesive binder containing a vinyl group of 40% of the solid content prepared in Preparation Example 1 and 60 g of U-324A (Shin-Nakamura) having a viscosity of 20,000 cps at 40 ° C. were mixed in a 1 L beaker. Thereafter, 0.2 g of photoinitiator (Irgacure 651, Ciba-chemical) and 1.8 g of isocyanate curing agent (AK-75, Aekyung Chemical) were added to prepare a photocurable composition for forming an adhesive film.

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10 ㎛의 점착필름(4-a)을 제조후 접착필름(3-a)와 합지하여 도 1과 같은 다이싱 다이 본딩 필름(1)을 제조하였다.The photocurable composition for pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above embodiment was mixed and coated on one side of the polyolefin film, and after drying, a pressure-sensitive adhesive film (4-a) having a thickness of 10 μm was manufactured and laminated with the adhesive film (3-a). The same dicing die bonding film 1 was produced.

실시예 2 : 점착필름 형성용 광경화성 조성물의 제조(2)Example 2 Preparation of Photocurable Composition for Adhesive Film Formation (2)

1L 비이커에 제조예 2에서 제조한 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 250g과 상온에서 점도 측정이 안되며 40℃에서 점도가 20,000 cps인 U-324A(신나카무라사) 60g을 투입하여 혼합한 후, 광개시제 0.2g(Irgacure 651, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 1.8g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 점착필름 형성용 광경화성 조성물을 제조하였다.250 g of an acrylic pressure-sensitive adhesive binder containing a vinyl group of 40% of the solid content prepared in Preparation Example 2 and 60 g of U-324A (Shin-Nakamura) having a viscosity of 20,000 cps at 40 ° C. were mixed in a 1 L beaker. Thereafter, 0.2 g of photoinitiator (Irgacure 651, Ciba-chemical) and 1.8 g of isocyanate curing agent (AK-75, Aekyung Chemical) were added to prepare a photocurable composition for forming an adhesive film.

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10 ㎛의 점착필름(4-b)을 제조후 접착필름(3-a)와 합지하여 도 1과 같은 다이싱 다이 본딩 필름(1)을 제조하였다. After mixing the photocurable composition for the pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above embodiment and coating it on one side of the polyolefin film and drying the adhesive film (4-b) having a thickness of 10 ㎛ and then laminated with an adhesive film (3-a) Figure 1 The same dicing die bonding film 1 was produced.

실시예 3 : 점착필름 형성용 광경화성 조성물의 제조(3)Example 3 Preparation of Photocurable Composition for Adhesive Film Formation (3)

1L 비이커에 제조예 1에서 제조한 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 250g과 상온에서 점도 측정이 안되며 40℃에서 점도가 20,000 cps인 U-324A(신나카무라사) 100g을 투입하여 혼합한 후, 광개시제 0.2g(Irgacure 651, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 1.8g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 점착필름 형성용 광경화성 조성물을 제조하였다.250 g of an acrylic pressure-sensitive adhesive binder containing a vinyl group of 40% of the solid content prepared in Preparation Example 1 and 100 g of U-324A (Shin-Nakamura Co., Ltd.) having a viscosity of 20,000 cps at 40 ° C. were mixed and mixed in a 1 L beaker. Thereafter, 0.2 g of photoinitiator (Irgacure 651, Ciba-chemical) and 1.8 g of isocyanate curing agent (AK-75, Aekyung Chemical) were added to prepare a photocurable composition for forming an adhesive film.

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10 ㎛의 점착필름(4-c)을 제조후 접착필름(3-a)와 합지하여 도 1과 같은 다이싱 다이 본딩 필름(1)을 제조하였다.After mixing the photocurable composition for the pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above embodiment and coating it on one side of the polyolefin film and drying the adhesive film (4-c) having a thickness of 10 ㎛ and then laminated with an adhesive film (3-a) Figure 1 The same dicing die bonding film 1 was produced.

비교예 1 : 점착필름 형성용 광경화성 조성물의 제조(4)Comparative Example 1: Preparation of Photocurable Composition for Adhesive Film Formation (4)

1L 비이커에 제조예 1에서 제조한 고형분 40%의 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더 250g과 광개시제 0.2g(Irgacure 651, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 1.8g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 점착필름 형성용 광경화성 조성물을 제조하였다.250 g of an acrylic adhesive binder containing a vinyl group of 40% solids prepared in Preparation Example 1, 0.2 g of a photoinitiator (Irgacure 651, Ciba-chemical), and an isocyanate curing agent 1.8 g (AK-75, Aekyung Chemical) were added to a 1 L beaker. A photocurable composition for film formation was prepared.

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10 ㎛의 점착필름(4-d)을 제조후 접착필름(3-a)와 합지하여 도 1과 같은 다이싱 다이 본딩 필름(1)을 제조하였다.After mixing the photocurable composition for the pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above practice and coating it on one side of the polyolefin film and drying the adhesive film (4-d) having a thickness of 10 ㎛ and then laminated with an adhesive film (3-a) Figure 1 The same dicing die bonding film 1 was produced.

비교예 2 : 점착필름 형성용 광경화성 조성물의 제조(5)Comparative Example 2: Preparation of Photocurable Composition for Adhesive Film Formation (5)

1L 비이커에 비교제조예 1에서 제조한 고형분 40%의 비닐기를 포함하지 않는 아크릴계 점착 바인더 250g과 상온에서 점도 측정이 안되며 40℃에서 점도가 20,000 cps인 U-324A(신나카무라사) 60g을 투입하여 혼합한 후, 광개시제 0.2g(Irgacure 651, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 1.8g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 점착필름 형성용 광경화성 조성물을 제조하였다.250 g of an acrylic adhesive binder containing no vinyl group of 40% of the solid content prepared in Comparative Preparation Example 1 and 60 g of U-324A (Shinkakamura) having a viscosity of 20,000 cps at 40 ° C. were added to a 1 L beaker. After mixing, 0.2 g of photoinitiator (Irgacure 651, Ciba-chemical) and 1.8 g of isocyanate curing agent (AK-75, Aekyung Chemical) were added to prepare a photocurable composition for forming an adhesive film.

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10 ㎛의 점착필름(4-e)을 제조후 접착필름(3-a)와 합지하여 도 1과 같은 다이싱 다이 본딩 필름(1)을 제조하였다.After mixing the photocurable composition for the pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above embodiment and coating it on one side of the polyolefin film and drying the adhesive film (4-e) having a thickness of 10 ㎛ and then laminated with an adhesive film (3-a) Figure 1 The same dicing die bonding film 1 was produced.

비교예 3 : 점착필름 형성용 광경화성 조성물의 제조(6)Comparative Example 3: Preparation of Photocurable Composition for Adhesive Film Formation (6)

1L 비이커에 비교제조예 2에서 제조한 고형분 40%의 비닐기를 포함하나 글리시딜 메타크릴레이트를 포함하지 않는 아크릴계 점착 바인더 250g과 상온에서 점도 측정이 안되며 40℃에서 점도가 20,000 cps인 U-324A(신나카무라사) 60g을 투입하여 혼합한 후, 광개시제 0.2g(Irgacure 651, Ciba-chemical), 이소시아네이트 경화제 1.8g (AK-75, 애경화학)를 첨가하여 점착필름 형성용 광경화성 조성물을 제조하였다.250 g of an acrylic pressure-sensitive adhesive binder containing 40% of the solid group prepared in Comparative Preparation Example 2 but not containing glycidyl methacrylate in a 1L beaker and a viscosity at room temperature, and having a viscosity of 20,000 cps at 40 ° C. (Shin Nakamura Co., Ltd.) 60 g was added and mixed, followed by adding 0.2 g of photoinitiator (Irgacure 651, Ciba-chemical) and 1.8 g of isocyanate curing agent (AK-75, Aekyung Chemical) to prepare a photocurable composition for forming an adhesive film. .

상기 실시에서 제조한 점착층용 광경화성 조성물을 혼합하여 폴리올레핀 필름의 한쪽 면에 코팅하여 건조 후 두께 10 ㎛의 점착필름(4-f)을 제조후 접착필름(3-a)와 합지하여 도 1과 같은 다이싱 다이 본딩 필름(1)을 제조하였다.After mixing the photocurable composition for the pressure-sensitive adhesive layer prepared in the above practice and coating it on one side of the polyolefin film and drying the adhesive film (4-f) having a thickness of 10 ㎛ and then laminated with an adhesive film (3-a) Figure 1 The same dicing die bonding film 1 was produced.

[물성평가방법][Property evaluation method]

시험예 1 : 광경화형 점착조성물의 및 박리력 측정Test Example 1 Measurement of Photocurable Adhesive Composition and Peeling Force

점착력 측정은 한국 공업 규격 KS-A-01107(점착 테이프 및 점착 시이트의 시험 방법)의 8항에 따라 시험하였다. 다이 접착용 접착필름에 25mm, 길이 250mm의 시료를 붙인 후, 다이 접착용 접착필름면에 접착 테이프를 붙인 후 2kg 하중의 압착 롤러를 이용하여 300mm/min의 속도로 1회 왕복시켜 압착하였다. 압착 후 30분 경과 후에 시험편의 접은 부분을 180°로 뒤집어 약 25mm를 벗긴 후, 10N Load Cell에서 시험편을 인장강도기의 위쪽 클립에 다이 접착용 접착필름을 시험판 아래쪽 클립에 고정시키고, 300mm/min의 인장속도로 당겨 벗길 때의 하중을 측정하였다.Adhesion measurement was tested in accordance with Clause 8 of Korean Industrial Standard KS-A-01107 (Test Method of Adhesive Tape and Adhesive Sheet). After attaching a sample having a thickness of 25 mm and a length of 250 mm to the die-bonding adhesive film, the adhesive tape was attached to the die-bonding adhesive film surface, and then reciprocated once at a speed of 300 mm / min using a 2 kg load roller for compression. After 30 minutes after crimping, turn the folded part of the test piece to 180 ° and peel it off about 25mm.In the 10N Load Cell, fix the test piece to the upper clip of the tensile strength device and fix the die-bonding adhesive film to the lower clip of the test plate. The load at the time of pulling off at the tensile speed of was measured.

인장 시험기는 Instron Series lX/s Automated materials Tester-3343을 사용하였으며, UV 조사는 70mW/cm2의 조도를 가진 고압수은등에서 3초간 조사하여 노광량 200mJ/cm2으로 조사하였으며, 샘플은 UV 조사 전후로 각각 10개씩 측정하여 평균값을 측정하여 표 2에 나타내었다. Tensile tester used Instron Series lX / s Automated materials Tester-3343, UV irradiation was carried out for 3 seconds in a high-pressure mercury lamp with 70mW / cm2 illuminance at 200mJ / cm2, 10 samples each before and after UV irradiation The average value was measured and shown in Table 2.

시험예 2 : 광경화형 점착조성물의 점착성(tackiness) 측정Test Example 2 Measurement of Tackiness of Photocurable Adhesive Composition

상기에 의해 제조된 다이싱 다이본딩 필름 중 점착층만을 UV경화 전/후로 probe tack tester(Chemilab Tack Tester)로써 측정하였다. 이 방법은 ASTM D2979-71에 의거하여 깨끗한 Probe 끝을 10+0.1mm/sec의 속도와 9.79+1.01kPa의 접촉 하중으로 1.0+0.01sec 동안 점착제 표면에 접촉시킨 다음 떼었을 때 필요한 최대 힘을 측정한 결과를 하기 표 2에 나타내었다.Only the adhesive layer of the dicing die-bonding film prepared above was measured with a probe tack tester (Chemilab Tack Tester) before and after UV curing. This method uses ASTM D2979-71 to determine the maximum force required when a clean probe tip is brought into contact with the adhesive surface for 1.0 + 0.01 sec at a rate of 10 + 0.1 mm / sec and a contact load of 9.79 + 1.01 kPa and then released. One result is shown in Table 2 below.

이때 UV 조사는 70mW/cm2의 조도를 가진 고압수은등에서 3초간 조사하여 노광량 200mJ/cm2으로 조사하였으며, 샘플은 UV 조사 전후로 각각 5개씩 측정하여 평균값을 측정하였다.At this time, the UV irradiation was irradiated with an exposure dose of 200mJ / cm 2 for 3 seconds in a high-pressure mercury lamp having an illuminance of 70mW / cm 2, and the sample was measured by five before and after the UV irradiation each measured the average value.

시험예 3 : 광경화형 점착조성물의 부착력 측정Test Example 3 Measurement of Adhesion of Photocurable Adhesive Composition

상기에 의해 제조된 다이싱 다이본딩 필름 중에 점착층을 크로스 커트(cross cut) 시험기로 도막을 예리한 칼로 수평, 수직으로 1㎜ 간격으로 11개씩의 선을 그어 총 100개의 바둑판을 만들고, 작성 된 바둑판에 접착테이프를 붙이고 순간적으로 잡아당겨 부착력성을 측정한 결과를 상기 표 2에 나타내었다.In the dicing die-bonding film prepared as described above, a total of 100 checker boards were made by drawing 11 lines at 1 mm intervals horizontally and vertically with a knife sharpening the coating film using a cross cut tester. Attached to the adhesive tape and pulled out instantaneously measured the adhesion strength is shown in Table 2 above.

시험예 4 : 픽업(pick-up) 성공률 측정Test Example 4: Pick-up success rate measurement

상기에 의해 제조된 다이싱 다이본딩 필름에 두께 80㎛의 실리콘 웨이퍼를 60℃, 10초간 열 압착 시킨 후 DFD-650(DISCO사)을 이용하여 크기 16mm x 9mm의 크기로 다이싱하였다.The silicon wafer having a thickness of 80 μm was thermally pressed for 60 seconds at a dicing die-bonding film prepared above, and then diced into a size of 16 mm × 9 mm using DFD-650 (DISCO).

그 후 필름을 70mW/cm2의 조도를 가진 고압수은등에서 3초간 조사하여 노광량 200mJ/cm2으로 조사하였다. 조사가 완료된 후 실리콘 웨이퍼 중앙부의 칩 200개에 대하여 다이본더 장치(SDB-10M, 메카트로닉스사)를 이용하여 픽업 시험을 실시하고 그 성공률(%)을 측정한 결과를 하기 표 2에 나타내었다.Thereafter, the film was irradiated with a high-pressure mercury lamp having an illuminance of 70 mW / cm 2 for 3 seconds to irradiate with an exposure dose of 200 mJ / cm 2. After the irradiation was completed, the pick-up test was carried out using a die bonder device (SDB-10M, Mechatronics) for 200 chips in the center of the silicon wafer, and the results of measuring the success rate (%) are shown in Table 2 below.

Figure 112007090556219-pat00002
Figure 112007090556219-pat00002

상기 표 2에서 보는 바와 같이, 실시예 1 및 실시예 2와 실시예 3과 같이 비닐기를 포함하는 아크릴계 점착 바인더(A)에 UV 경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머(B)를 사용한 점착층용 광경화성 조성물을 사용한 다이싱 다이본딩 필름은 16mm x 9mm 칩 크기에서도 100% 픽업 성공률을 달성하였다.As shown in Table 2, using the photocurable composition for the pressure-sensitive adhesive layer using a UV-curable urethane acrylate oligomer (B) in the acrylic pressure-sensitive adhesive (A) containing a vinyl group, as in Examples 1, 2 and 3 The dicing die-bonding film achieved 100% pick-up success even with a 16mm x 9mm chip size.

반면에, 비교예 1은 UV 경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머(B)를 포함하지 않았고, 비교예 2는 아크릴계 점착 바인더(A)에 비닐기가 포함되지 않으므로, 비교예 3은 글리시딜 메타크릴레이트를 포함하지 않음으로 인해 UV노광후 UV 경화도가 상대적으로 낮아서 Peel값 및 택(tack)값이 실시예 1 ~ 3 대비 상대적으로 높아 16mm x 9mm 칩 크기에서도 100% 픽업 성공률을 달성하지 못하였다.On the other hand, Comparative Example 1 did not include a UV curable urethane acrylate oligomer (B), Comparative Example 2 does not contain a vinyl group in the acrylic adhesive binder (A), Comparative Example 3 includes glycidyl methacrylate Since the UV curing degree after UV exposure is relatively low, the Peel value and the tack value are relatively higher than those of Examples 1 to 3, thereby failing to achieve a 100% pickup success rate even in a 16mm x 9mm chip size.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 다이싱 다이본딩 필름의 단면개략도,1 is a schematic cross-sectional view of a dicing die bonding film according to an embodiment of the present invention;

도 2는 반도체 공정중, 웨이퍼 마운팅 공정을 나타내는 단면개략도,2 is a cross-sectional schematic diagram illustrating a wafer mounting process during a semiconductor process;

도 3은 반도체 공정중, 웨이퍼 다이싱 공정을 나타내는 단면개략도,3 is a cross-sectional schematic diagram showing a wafer dicing step in a semiconductor step;

도 4는 반도체 공정중, 웨이퍼 칩 픽업 공정을 나타내는 단면개략도,4 is a cross-sectional schematic diagram showing a wafer chip pick-up step in a semiconductor step;

도 5는 반도체 공정중, 다이본딩을 나타내는 단면개략도이다.5 is a cross-sectional schematic diagram illustrating die bonding during a semiconductor process.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1 : 다이싱 다이본딩 필름, 2 : 이형필름1: dicing die-bonding film, 2: release film

3 : 접착층, 4 : 점착층3: adhesive layer, 4: adhesive layer

5 : 기재필름, 6 : 웨이퍼5: base film, 6: wafer

7 : 지지부재7: support member

Claims (10)

아크릴계 점착 바인더(A) 100 중량부 대비 40℃에서 점도가 10,000cps 내지 100,000cps 인 UV 경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머(B) 10 내지 150 중량부, 열경화제(C) 0.5 내지 5 중량부, 및 광중합 개시제(D) 0.1 내지 3 중량부를 포함하며, 10 to 150 parts by weight of a UV curable urethane acrylate oligomer (B) having a viscosity of 10,000 cps to 100,000 cps at 40 ° C relative to 100 parts by weight of an acrylic adhesive binder (A), 0.5 to 5 parts by weight of a thermosetting agent (C), and a photopolymerization initiator (D) 0.1 to 3 parts by weight, 상기 아크릴계 점착바인더(A)가 (1) 아크릴 모노머, 하이드록시 모노머, 에폭시 모노머 및 중합개시제가 중합 반응되어 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지가 제조되고, (2) 상기 반응에서 수득된 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지와 비닐기 도입 모노머가 우레탄 부가 반응되어 제조되어 에폭시기를 2~10몰% 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.The acrylic adhesive binder (A) is (1) an acrylic monomer, a hydroxy monomer, an epoxy monomer and a polymerization initiator are polymerized to produce an acrylic polyol adhesive binder resin, and (2) an acrylic polyol adhesive binder resin obtained in the reaction. A photocurable pressure-sensitive adhesive composition, wherein the vinyl group-introducing monomer is prepared by urethane addition reaction and contains 2 to 10 mol% of an epoxy group. 제 1항에 있어서, 상기 (1) 중합반응의 모노머 중 상기 아크릴 모노머 50 내지 85중량%, 상기 하이드록시 모노머 10 내지 35중량%, 상기 에폭시기 모노머 2 내지 15중량%가 반응되는 것을 특징으로 하는 광경화형 점착 조성물.The method according to claim 1, wherein (1) 50 to 85% by weight of the acrylic monomer, 10 to 35% by weight of the hydroxy monomer, and 2 to 15% by weight of the epoxy group monomer are reacted in the monomer of the polymerization reaction. Flame adhesive composition. 제 1항에 있어서, 상기 (1) 중합반응에서 반응성 모노머가 1 내지 10 중량% 추가로 사용되는 것을 특징으로 하는 광경화형 점착 조성물.The photocurable pressure-sensitive adhesive composition of claim 1, wherein 1 to 10% by weight of the reactive monomer is further used in the polymerization reaction (1). 제 1항에 있어서, 상기 비닐기 도입 모노머의 함량이 (1) 중합반응에서 제조된 폴리올 점착 바인더 수지의 고형분 100 중량부 대비 10 내지 25중량부인 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.The photocurable pressure-sensitive adhesive composition of claim 1, wherein the content of the vinyl group-introducing monomer is 10 to 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the polyol adhesive binder resin prepared in the polymerization reaction (1). 제 1항에 있어서, 상기 (2) 반응에서는 비닐기 도입 모노머가 상기 아크릴 폴리올 점착 바인더 수지의 수산기 당량 대비 1 대 0.4 내지 0.9로 반응되는 것을 특징으로 하는 하는 광경화형 점착 조성물.The photocurable pressure-sensitive adhesive composition of claim 1, wherein in the reaction (2), the vinyl group-introducing monomer is reacted at a ratio of 0.4 to 0.9 to 1 equivalent to the hydroxyl equivalent of the acrylic polyol adhesive binder resin. 제 1항에 있어서, 상기 아크릴계 점착 바인더(A)의 유리전이 온도가 -80 ~ -40℃인 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.The photocurable pressure-sensitive adhesive composition of claim 1, wherein a glass transition temperature of the acrylic adhesive binder (A) is -80 to -40 ° C. 제 1항에 있어서, 상기 아크릴계 점착 바인더(A)의 중량평균 분자량이 15만 ~ 40만인 것을 특징으로 하는 광경화형 점착 조성물.The photocurable pressure-sensitive adhesive composition of claim 1, wherein a weight average molecular weight of the acrylic adhesive binder (A) is 150,000 to 400,000. 제 1항에 있어서, 상기 UV 경화형 우레탄 아크릴레이트 올리고머(B)는 폴리에스테르형 또는 폴리에테르형의 폴리올 화합물과 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시켜 수득한 말단 이소시아네이트우레탄 프리폴리머에 히드록실기를 갖는 아크릴레이트를 반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 광경화성 점착 조성물.2. The UV curable urethane acrylate oligomer (B) is a acrylate having a hydroxyl group in a terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting a polyol compound of a polyester type or a polyether type with a polyisocyanate compound. Photocurable pressure-sensitive adhesive composition characterized in that it is prepared by. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 광경화형 점착 조성물에 의한 광경화형 점착 필름.The photocurable adhesive film by the photocurable adhesive composition of any one of Claims 1-8. 기재필름, 제 9항에 따른 광경화형 점착 필름, 및 접착층을 포함하는 다이싱 다이 본딩 필름.A dicing die bonding film comprising a base film, a photocurable adhesive film according to claim 9, and an adhesive layer.
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