KR100929723B1 - 착색 감광성 수지 조성물 - Google Patents

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Abstract

발잉크성이 보다 향상된 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.
광중합성 화합물(A)과, 발잉크성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 착색제(D)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서, 발잉크성 화합물(B)은 에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)와, 당해 에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)와 공중합 가능한 불소계 모노머(b2)를 적어도 공중합시킨 공중합체이다.
감광성, 착색, 발잉크성, 에폭시, 아크릴계, 불소계

Description

착색 감광성 수지 조성물{COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION}
본 발명은 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 특히 컬러 필터(color filter)의 블랙 매트릭스(black matrix)를 형성할 때 이용하기에 매우 적합한 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
액정 디스플레이 등의 표시체는, 서로 대향하여 짝으로 되는 전극이 형성된 2매의 기판의 사이에 액정층을 끼우는 구조로 되어 있다. 그리고, 일방의 기판의 내측에는 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 등의 각 색으로 이루어지는 화소 영역을 가지는 컬러 필터가 형성되어 있다. 이 컬러 필터에서는 통상, 콘트라스트(contrast) 향상이나 광누설 방지 등 때문에, R, G, B 각 색의 화소 영역을 구획하도록 매트릭스(matrix) 형상으로 배치된 블랙 매트릭스(black matrix)가 형성되어 있다.
일반적으로, 컬러 필터는 리소그래피(lithography)법에 의해 제조된다. 이 리소그래피법에서는 먼저, 기판에 흑색의 감광성 수지 조성물을 도포한 후 노광, 현상하고 블랙 매트릭스를 형성한다. 다음에, R, G, B 각 색의 감광성 수지 조성물마다 도포, 노광, 현상을 반복함으로써, 각 색의 패턴을 소정의 위치에 형성하여 컬러 필터를 제조한다.
또, 근래에는 컬러 필터의 생산성을 향상시키기 위해, 잉크젯(ink jet) 방식으로 컬러 필터를 제조하는 방법이 검토되고 있다. 이 잉크젯 방식에서는 먼저, 리소그래피법에 의해 블랙 매트릭스를 형성한다. 다음에, 블랙 매트릭스에 의해 구획된 각 영역에 R, G, B 각 색의 잉크를 잉크젯 노즐(nozzle)로부터 토출하고, 모인 잉크를 열 또는 광으로 경화시킴으로써, 컬러 필터를 제조한다.　
그런데, 이 잉크젯 방식에 있어서 블랙 매트릭스를 형성하기 위해서 이용되는 감광성 수지 조성물에는, 인접하는 화소 영역 간에서의 잉크의 혼색 등을 방지하기 위해, 물이나 크실렌(xylene) 등의 잉크 용제에 대한 발(撥)용제성인 이른바 발(撥)잉크성이 요구되고 있다.
이러한 발잉크성을 가지는 감광성 수지 조성물로서 예를 들면 하기 특허문헌 1에는, 수소 원자의 적어도 하나가 불소 원자로 치환된 탄소수 20 이하의 알킬기(다만, 상기 알킬기는 에테르(ether)성의 산소를 가지는 것을 포함한다.)를 가지는 중합 단위와, 에틸렌(ethylene)성 이중 결합을 가지는 중합 단위를 가지는 중합체로 이루어지는 발잉크제를 함유시킨 네가티브형(negative type) 감광성 수지 조성물이 개시되어 있다. 이 네가티브형 감광성 수지 조성물에서는, 발잉크제의 플루오로알킬(fluoroalkyl)기에 의해 발잉크성이 얻어진다. 또, 발잉크제가 에틸렌성 이중 결합을 가지는 중합 단위를 가지고 있기 때문에, 광조사에 의해 경화하고 발잉크성이 지속된다.
[특허문헌 1] 국제공개 제2004/042474호 팜플렛
그렇지만, 이 특허문헌 1에 기재되어 있는 네가티브형 감광성 수지 조성물에서는, 발잉크성을 지속시킬 수가 있지만, 발잉크성 자체는 아직도 만족할 수 있는 것은 아니고, 발잉크성을 보다 향상시키는 것이 요망되고 있었다.
본 발명은 이상의 과제를 감안하여 이루어진 것이고, 발잉크성이 보다 향상된 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 열심히 연구를 거듭한 결과, 적어도 불소계 모노머(monomer)와 에폭시(epoxy)기 함유 아크릴(acryl)계 모노머를 공중합시킨 공중합체를 이용함으로써, 높은 발잉크성이 얻어지는 것을 찾아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.　
보다 구체적으로는, 본 발명은 광중합성 화합물(A)과, 발잉크성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 착색제(D)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 발잉크성 화합물(B)은 에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)와, 당해 에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)와 공중합 가능한 불소계 모노머(b2)를 적어도 공중합시킨 공중합체인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명에 의하면, 발잉크성이 보다 향상된 착색 감광성 수지 조성물을 제공할 수가 있다. 이 착색 감광성 수지 조성물은, 예를 들면 컬러 필터의 블랙 매트릭 스를 형성할 때에 이용하기에 매우 적합하다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서 설명한다. 본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴산((meth)acrylic acid)」이란 아크릴산(acrylic acid) 및 메타크릴산(methacrylic acid)의 일방 또는 양방을 나타낸다. 마찬가지로 「(메타)아크릴레이트((meth)acrylate)」란 아크릴레이트(acrylate) 및 메타크릴레이트(methacrylate)의 일방 또는 양방을 나타낸다.
〔착색 감광성 수지 조성물〕
본 발명에 관계되는 착색 감광성 수지 조성물은 광중합성 화합물(A)과, 발잉크성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 착색제(D)를 함유하는 것이다. 이하, 각각의 성분에 대해서 설명한다.
［광중합성 화합물(A)］
광중합성 화합물(A)은 자외선 등의 광의 조사를 받아 중합하고 경화하는 물질이다. 광중합성 화합물(A)로서는, 에틸렌(ethylene)성 불포화기를 가지는 수지 또는 모노머가 바람직하고, 이들을 조합하는 것이 보다 바람직하다. 에틸렌성 불포화기를 가지는 수지와 에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머를 조합함으로써, 경화성을 향상시키고, 패턴(pattern) 형성을 용이하게 할 수가 있다. 또한, 본 명세서에서는, 에틸렌성 불포화기를 가지는 화합물 중 질량평균분자량이 1000 이상인 것을 「에틸렌성 불포화기를 가지는 수지」로 칭하고, 질량평균분자량이 1000 미만인 것을 「에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머」로 칭하는 것으로 한다.
≪에틸렌성 불포화기를 가지는 수지≫
에틸렌성 불포화기를 가지는 수지로서는, (메타)아크릴산, 푸마르산, 말레산, 푸마르산 모노메틸, 푸마르산 모노에틸, 2－히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 모노메틸 에테르 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 모노에틸 에테르 (메타)아크릴레이트, 글리세롤 (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴아미드, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 이소부틸 (메타)아크릴레이트, 2－에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올프로판 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 1, 6－헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 카도에폭시 디아크릴레이트(cardoepoxy diacrylate) 등이 중합한 올리고머류； 다가 알코올류와 1염기산 또는 다염기산을 축합하여 얻어지는 폴리에스테르 프리폴리머(prepolymer)에 (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 폴리에스테르 (메타)아크릴레이트, 폴리올과 2개의 이소시아네이트기를 가지는 화합물을 반응시킨 후, (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트； 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 페놀 또는 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 레졸형 에폭시 수지, 트리페놀메탄형 에폭시 수지, 폴리카복실산 폴리글리시딜 에스테르, 폴리올 폴리글리시딜 에스테르, 지방족 또는 지환식 에폭시 수지, 아민 에폭시 수지, 디히드록시벤젠형 에폭시 수지 등의 에폭시 수지와 (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 에폭시 (메타)아크릴레이트 수지 등을 들 수 있다. 또한 에폭시 (메타)아크릴레이트 수지에 다염기산 무수물을 반응시킨 수지를 이용할 수가 있다.
또, 에틸렌성 불포화기를 가지는 수지로서는, 에폭시 화합물(a1)과, 에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)의 반응물을, 다염기산 무수물(a3)과 더 반응시킴으로써 얻어지는 수지를 바람직하게 이용할 수가 있다.
＜에폭시 화합물(a1)＞
에폭시(epoxy) 화합물(a1)로서는, 글리시딜 에테르(glycidyl ether)형, 글리시딜 에스테르(glycidyl ester)형, 글리시딜 아민(glycidyl amine)형, 지환형, 비스페놀 A형, 비스페놀 F형, 비스페놀 S형, 비페닐형, 나프탈렌형, 플루오렌(fluorene)형, 페놀 노볼락(phenol novolak)형, 오르토 크레졸(ortho cresol)형 에폭시(epoxy) 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도 비페닐(biphenyl)형 에폭시 수지가 바람직하다. 비페닐형 에폭시 수지는 주쇄에 하기 식 (1)로 표시되는 비페닐 골격을 하나 이상 가지고, 에폭시기를 하나 이상 가지고 있다. 또, 에폭시 화합물(a1)로서는, 에폭시기를 2개 이상 가지는 것이 바람직하다. 이 에폭시 화합물(a1)은 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수가 있다.
Figure 112007078378419-pat00001
(식 (1) 중, 복수의 R1은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬(alkyl)기, 할로겐(halogen) 원자, 또는 치환기를 가져도 좋은 페닐(phenyl)기를 나타내고, l은 1∼4의 정수를 나타낸다.)　
비페닐(biphenyl)형 에폭시 수지 중 하기 식 (2)로 표시되는 에폭시 수지가 바람직하게 이용되고, 특히 하기 식 (3)으로 표시되는 에폭시 수지가 바람직하게 이용된다. 식 (3)의 에폭시 수지를 이용함으로써, 감도 및 용해성의 밸런스(balance)가 뛰어나고, 또한 화소 에지(edge)의 샤프(sharp)성, 밀착성이 뛰어난 착색 감광성 수지 조성물을 제공할 수가 있다.
Figure 112007078378419-pat00002
(식 (2), (3) 중, 복수의 R2는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 할로겐 원자, 또는 치환기를 가져도 좋은 페닐기를 나타내고, n은 1∼4의 정수를 나타낸다. m은 평균치로서 0∼10의 수를 나타내고, 1 미만인 것이 바람직하다.)
또, 비페닐형 에폭시 수지 중, 하기 식 (4)로 표시되는 에폭시 수지도 바람직하게 이용된다. 식 (4)의 에폭시 수지를 이용함으로써, 감도 및 용해성의 밸런스가 뛰어나고, 또 화소 에지의 샤프성, 밀착성이 뛰어난 착색 감광성 수지 조성물을 제공할 수가 있다.
Figure 112007078378419-pat00003
(식 (4) 중, 복수의 R3은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 할로겐 원자, 또는 치환기를 가져도 좋은 페닐기를 나타낸다. m은 평균치로서 0∼10의 수를 나타내고, 1 미만인 것이 바람직하다.)　
＜에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)＞
에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)로서는, 분자 중에 아크릴(acryl)기나 메타크릴(methacryl)기 등의 반응성의 에틸렌(ethylene)성 이중 결합을 함유하는 모노카복실산(monocarboxylic acid) 화합물이 바람직하다. 이러한 에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물로서는, 아크릴산, 메타크릴산, β－스티 릴 아크릴산(β－styrylacrylic acid), β－푸르푸릴 아크릴산(β－furfurylacrylic acid), α－시아노계피산, 계피산 등을 들 수 있다. 이 에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)은 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수가 있다.　
에폭시 화합물(a1)과 에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)을 반응시키는 방법으로서는, 공지의 방법을 이용할 수가 있다. 예를 들면, 에폭시 화합물(a1)과 에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)을, 트리에틸 아민, 벤질 에틸 아민 등의 3급 아민, 도데실 트리메틸 암모늄 클로라이드, 테트라메틸 암모늄 클로라이드, 테트라에틸 암모늄 클로라이드, 벤질 트리에틸 암모늄 클로라이드 등의 4급 암모늄염, 피리딘(pyridine), 트리페닐포스핀(triphenylphosphine) 등을 촉매로 하여 유기 용제 중, 반응 온도 50∼150℃에서 수∼수십시간 반응시키는 방법을 들 수 있다.
에폭시 화합물(a1)과 에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)의 반응에 있어서의 사용량 비는, 에폭시 화합물(a1)의 에폭시 당량과 에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)의 카복실산 당량의 비로, 통상 1：0.5∼1：2, 바람직하게는 1：0.8∼1：1.25, 보다 바람직하게는 1：1이다. 상기의 범위로 함으로써, 가교 효율이 향상되는 경향이 있어 바람직하다.
＜다염기산 무수물(a3)＞
다염기산 무수물(a3)은 2개 이상의 카복실기를 가지는 카복실산의 무수물로서, 벤젠환을 적어도 2개 가지는 화합물을 포함한다. 이러한 다염기산 무수물(a3) 로서는 예를 들면, 하기 식 (5)로 표시되는 것 같은 비페닐 골격을 가지는 산 무수물, 하기 식 (6)으로 표시되는 것 같은 2개의 벤젠환이 유기기로 결합된 산 무수물을 들 수 있다.　
Figure 112007078378419-pat00004
(식 (6) 중, R4는 탄소수 1∼10의 치환기를 가져도 좋은 알킬렌(alkylene)기를 나타낸다.)　
상기 2개 이상의 카복실기를 가지는 카복실산의 무수물을 이용함으로써, 광중합성 화합물(A) 중에 벤젠환을 적어도 2개 도입할 수가 있다.
또, 다염기산 무수물(a3)은 상기 벤젠환을 적어도 2개 가지는 산 무수물 외에, 다른 다염기산 무수물을 포함하고 있어도 좋다. 다른 다염기산 무수물로서는 예를 들면, 무수 말레산, 무수 호박산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 테트라히드로무수프탈산, 헥사히드로무수프탈산, 메틸헥사히드로무수프탈산, 메틸테트라히드로무수프탈산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산, 벤조페논테트라카복실산 2무 수물, 3－메틸헥사히드로프탈산 무수물, 4－메틸헥사히드로무수프탈산, 3－에틸헥사히드로무수프탈산, 4－에틸헥사히드로무수프탈산, 테트라히드로무수프탈산, 3－메틸테트라히드로무수프탈산, 4－메틸테트라히드로무수프탈산, 3－에틸테트라히드로무수프탈산, 4－에틸테트라히드로무수프탈산을 들 수 있다. 이들 다염기산 무수물은 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수가 있다.
에폭시 화합물(a1)과 에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)을 반응시킨 후, 다염기산 무수물(a3)을 더 반응시키는 방법으로서는, 공지의 방법을 이용할 수가 있다. 또, 사용량 비는, 에폭시 화합물(a1)과 에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)의 반응물 중의 OH기의 몰수와 다염기산 무수물(a3)의 산 무수물기의 당량비로, 통상 1：1∼1：0.1이고, 바람직하게는 1：0.8∼1：0.2이다. 상기의 범위로 함으로써, 현상액에의 용해성이 적당한 정도로 되는 경향이 있어 바람직하다.
에폭시 화합물(a1)과 에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)의 반응물을, 다염기산 무수물(a3)과 더 반응시킴으로써 얻어지는 수지의 산가는, 수지 고형분으로 10∼150mgKOH/g인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 70∼110mgKOH/g이다. 수지의 산가를 10mgKOH/g 이상으로 함으로써 현상액에 대한 충분한 용해성이 얻어지고, 또 150mgKOH/g 이하로 함으로써 충분한 경화성이 얻어지고, 표면성을 양호하게 할 수가 있다.　
또, 수지의 질량평균분자량은 1000∼40000인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2000∼30000이다. 질량평균분자량을 1000 이상으로 함으로써 내열성, 막 강도를 향상시킬 수가 있고, 또 40000 이하로 함으로써 현상액에 대한 충분한 용해성 을 얻을 수가 있다.
또, 에틸렌성 불포화기를 가지는 수지로서는, 분자 내에 카도(cardo) 구조를 가지는 수지를 바람직하게 이용할 수가 있다. 카도 구조를 가지는 수지는 내열성이나 내약품성이 높기 때문에, 광중합성 화합물(A)에 이용함으로써 착색 감광성 수지 조성물의 내열성 및 내약품성을 향상시킬 수가 있다. 예를 들면, 하기 식 (7)로 표시되는 수지를 바람직하게 이용할 수가 있다.
Figure 112007078378419-pat00005
식 (7) 중, X는 하기 식 (8)로 표시되는 기이다.
Figure 112007078378419-pat00006
또, 식 (7) 중, Y는 무수 말레산, 무수 호박산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 무수 테트라히드로프탈산, 무수 헥사히드로프탈산, 무수 메틸엔도메틸렌 테트라히드로프탈산(methylendomethylene tetrahydrophthalic anhydride), 무수 클로렌드산(chlorendic anhydride), 메틸테트라히드로무수프탈산, 무수 글루타르산 등의 디카복실산 무수물로부터 카복실산 무수물기(－CO－O－CO－)를 제거한 잔기이다.
또, 식 (7) 중, Z는 무수 피로멜리트산, 벤조페논테트라카복실산 2무수물(benzophenone tetracarboxylic dianhydride), 비페닐테트라카복실산 2무수물, 비페닐 에테르 테트라카복실산 2무수물 등의 테트라카복실산 2무수물에서 2개의 카복실산 무수물기를 제거한 잔기이다.
≪에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머≫
에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머로는 단관능 모노머와 다관능 모노머가 있다.
단관능 모노머로서는, (메타)아크릴아미드, 메틸올 (메타)아크릴아미드, 메톡시메틸 (메타)아크릴아미드, 에톡시메틸 (메타)아크릴아미드, 프로폭시메틸 (메타)아크릴아미드, 부톡시메톡시메틸 (메타)아크릴아미드, N－메틸올 (메타)아크릴아미드, N－히드록시메틸 (메타)아크릴아미드, (메타)아크릴산, 푸마르산, 말레산, 무수 말레산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산(citraconic acid), 무수 시트라콘산, 크로톤산, 2－아크릴아미드－2－메틸프로판술폰산, tert－부틸 아크릴아미도술폰산, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 2－에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 2－히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2－히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 2－히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 2－페녹시－2－히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 2－(메타)아크릴로일옥시－2－히드록시프로필 프탈레이트, 글리세린 모노(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴 (메타)아크릴레이트, 디메틸아미노(메타)아크릴레이트, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 2, 2, 2－트리플루오로에틸 (메타)아크릴레 이트, 2, 2, 3, 3－테트라플루오로프로필 (메타)아크릴레이트, 프탈산 유도체의 하프(half) (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 단관능 모노머는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수가 있다.
한편, 다관능 모노머로서는, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1, 6－헥산 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 글리세린 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트(pentaerythritol tetraacrylate), 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 2, 2－비스(4－(메타)아크릴옥시디에톡시페닐)프로판, 2, 2－비스(4－(메타)아크릴옥시폴리에톡시페닐)프로판, 2－히드록시－3－(메타)아크릴로일옥시프로필 (메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디글리시딜 에테르 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디글리시딜 에테르 디(메타)아크릴레이트, 프탈산 디글리시딜 에스테르 디(메타)아크릴레이트, 글리세린 트리아크릴레이트, 글리세린 폴리글리시딜 에테르 폴리(메타)아크릴레이트, 우레탄 (메타)아크릴레이트(즉, 톨릴렌 디이소시아네이트), 트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트와 헥사메틸렌 디이소시아네이 트 등과 2－히드록시에틸 (메타)아크릴레이트의 반응물, 메틸렌 비스(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드 메틸렌 에테르, 다가 알코올과 N－메틸올 (메타)아크릴아미드의 축합물 등의 다관능 모노머나, 트리아크릴포름알 등을 들 수 있다. 이들 다관능 모노머는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수가 있다.
이 에틸렌(ethylene)성 불포화기를 가지는 모노머의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 5∼50질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10∼40질량%의 범위이다. 상기의 범위로 함으로써, 감도, 현상성, 해상성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있어 바람직하다.
광중합성 화합물(A)의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 5∼50질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10∼40질량%의 범위이다. 상기의 범위로 함으로써, 감도, 현상성, 해상성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있어 바람직하다.　
［발잉크성 화합물(B)］
발(撥)잉크성 화합물(B)은 에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)와, 당해 에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)와 공중합 가능한 불소계 모노머(b2)를 적어도 공중합시킨 공중합체이다. 바꾸어 말하면 본 발명에서는, 상기 발잉크성 화합물(B)로서 에폭시기를 가지는 불소계 화합물을 이용하고 있다. 이러한 발잉크성 화합물(B)을 이용함으로써, 발잉크성이 매우 뛰어난 착색 감광성 수지 조성물을 제공할 수가 있다.
＜에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)＞
에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)로서는, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 하기 식 (9)∼(11)로 표시되는 지환식 에폭시 화합물, (메타)아크릴산의 카복실기와 2관능 이상의 에폭시 화합물의 에폭시기를 반응시켜 얻어지는 모노머, 측쇄에 수산기나 카복실기를 가지는 아크릴계 모노머의 수산기 또는 카복실기와 2관능 이상의 에폭시 화합물의 에폭시기를 반응시켜 얻어지는 모노머 등을 들 수 있다. 그 중에서도 글리시딜 (메타)아크릴레이트(glycidyl (meth)acrylate)가 바람직하다. 이들 에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수가 있다.
Figure 112007078378419-pat00007
(식 (10), (11) 중, R5는 수소 원자 또는 메틸(methyl)기를 나타내고, m은 1∼10의 정수를 나타내고, l 및 n은 각각 독립적으로 1∼3의 정수를 나타낸다.)
에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)로부터 유도되는 유닛(unit)의 함유량은 발잉크성 화합물(B)에 대해서 1∼40질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5∼15질량%의 범위이다. 상기의 범위로 함으로써, 발잉크성이 향상되는 경향이 있어 바람직하다.
＜불소계 모노머(b2)＞
불소계 모노머(b2)로서는, 에틸렌성 불포화기를 가지고, 에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)와 공중합 가능한 것이 바람직하다. 이러한 불소계 모노머(b2)로서는 하기 식 (12)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다. 이들 불소계 모노머(b2)는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수가 있다.　
Figure 112007078378419-pat00008
(식 (12) 중, X1 및 X2는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 불소 원자를 나타내고, X3은 수소 원자, 불소 원자, 메틸기, 또는 퍼플루오로메틸(perfluoromethyl)기를 나타내고, X4 및 X5는 수소 원자, 불소 원자, 또는 퍼플루오로메틸기를 나타내고, Rf는 탄소수 1∼40의 함불소 알킬기 또는 탄소수 2∼100의 에테르(ether) 결합을 가지는 함불소 알킬기를 나타내고, a는 0∼3의 정수를 나타내고, b 및 c는 각각 독립적으로 0 또는 1을 나타낸다.)
불소계 모노머(b2)로부터 유도되는 유닛(unit)의 함유량은 발잉크성 화합 물(B)에 대해서 30∼80질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 40∼60질량%의 범위이다. 상기의 범위로 함으로써, 발잉크성 및 착색 감광성 수지 조성물의 다른 성분과의 상용성이 양호하게 되는 경향이 있어 바람직하다.
또, 불소계 모노머(b2)에 있어서는, －(CF2)rF(r=1∼10)로 표시되는 기를 가지는 것이 바람직하다. r은 1∼8인 것이 보다 바람직하고, 2∼6인 것이 더 바람직하다. 상기의 기를 가짐으로써, 발잉크성 및 착색 감광성 수지 조성물의 다른 성분과의 상용성이 양호하게 되는 경향이 있어 바람직하다.
＜카복실기 함유 아크릴계 모노머(b3)＞
발잉크성 화합물(B)은 카복실기 함유 아크릴계 모노머(b3)를 더 공중합시킨 공중합체인 것이 바람직하다. 카복실기 함유 아크릴계 모노머(b3)를 공중합시킴으로써, 발잉크성 화합물(B)의 산가를 조정할 수가 있고, 현상액에 대한 충분한 용해성을 얻을 수가 있다.
이러한 카복실기 함유 아크릴계 모노머(b3)로서는, 하기 식 (13)으로 표시되는 화합물, 말레산(maleic acid), 이타콘산(itaconic acid), 시트라콘산(citraconic acid), 크로톤산(crotonic acid) 등을 들 수 있다. 그 중에서도 (메타)아크릴산이 바람직하고, 특히 메타크릴산이 바람직하다. 이들 카복실기 함유 아크릴계 모노머(b3)는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수가 있다.
Figure 112007078378419-pat00009
(식 (13) 중, R6은 수소 원자 또는 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타낸다.)
카복실기 함유 아크릴계 모노머(b3)로부터 유도되는 유닛의 함유량은 발잉크성 화합물(B)에 대해서 0.1∼20질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼15질량%의 범위이다. 상기의 범위로 함으로써, 현상액에의 용해성이 적당한 정도로 되는 경향이 있어 바람직하다.　
＜그 외의 모노머＞
발잉크성 화합물(B)에는 필요에 따라서 다른 모노머를 공중합시켜도 좋다. 이러한 다른 모노머로서는, 상술한 에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머를 들 수 있다. 그 중에서도 아크릴계 모노머가 바람직하다. 이 다른 모노머로부터 유도되는 유닛의 함유량은 발잉크성 화합물(B)에 대해서 0∼20질량%인 것이 바람직하다.
에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1), 불소계 모노머(b2), 카복실기 함유 아크릴계 모노머(b3), 및 필요에 따라서 그 외의 모노머를 반응시켜 공중합체를 얻는 방법으로서는, 공지의 방법을 이용할 수가 있다.
발잉크성 화합물(B)의 질량평균분자량은 2000∼50000인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5000∼20000이다. 질량평균분자량을 2000 이상으로 함으로써 내열 성, 막 강도를 향상시킬 수가 있고, 또 50000 이하로 함으로써 현상액에 대한 충분한 용해성을 얻을 수가 있다.　
또, 발잉크성 화합물(B)의 함유량은 광중합성 화합물(A)과 발잉크성 화합물(B)의 질량비가 99.9：0.1∼70：30인 것이 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 감도, 현상성, 해상성, 발잉크성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있어 바람직하다.
［광중합 개시제(C)］
광중합 개시제(C)로서는, 1－히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 2－히드록시－2－메틸－1－페닐프로판－1－온, 1－〔4－(2－히드록시에톡시)페닐〕－2－히드록시－2－메틸－1－프로판－1－온, 1－(4－이소프로필페닐)－2－히드록시－2－메틸프로판－1－온, 1－(4－도데실페닐)－2－히드록시－2－메틸프로판－1－온, 2, 2－디메톡시－1, 2－디페닐에탄－1－온, 비스(4－디메틸아미노페닐) 케톤, 2－메틸－1－〔4－(메틸티오)페닐〕－2－모폴리노－프로판－1－온, 2－벤질－2－디메틸아미노－1－(4－모폴리노페닐)－부탄－1－온, 에탄온－1－［9－에틸－6－(2－메틸벤조일)－9H－카바졸－3－일］－1－(o－아세틸옥심), 2, 4, 6－트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 4－벤조일－4＇－메틸디메틸술피드, 4－디메틸아미노안식향산, 4－디메틸아미노안식향산 메틸, 4－디메틸아미노안식향산 에틸, 4－디메틸아미노안식향산 부틸, 4－디메틸아미노－2－에틸헥실 안식향산, 4－디메틸아미노－2－이소아밀 안식향산, 벤질－β－메톡시에틸 아세탈, 벤질 디메틸 케탈, 1－페닐－1, 2－프로판디온－2－(o－에톡시카보닐)옥심, o－벤조일안식향산 메틸, 2, 4－디에틸티옥산톤, 2－클로로티옥산톤, 2, 4－디메틸티옥산톤, 1－클로로－4－프로폭시티옥산톤, 티옥 산텐, 2－클로로티옥산텐, 2, 4－디에틸티옥산텐, 2－메틸티옥산텐, 2－이소프로필티옥산텐, 2－에틸안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1, 2－벤즈안트라퀴논, 2, 3－디페닐안트라퀴논, 아조비스이소부티로니트릴, 벤조일퍼록시드(benzoylperoxide), 큐멘퍼록시드(cumeneperoxide), 2－머캅토벤즈이미다졸(2－mercaptobezimidazole), 2－머캅토벤즈옥사졸, 2－머캅토벤조티아졸, 2－(o－클로로페닐)－4, 5－디(m－메톡시페닐)－이미다졸릴 2량체, 벤조페논, 2－클로로벤조페논, p, p＇－비스디메틸아미노벤조페논, 4, 4＇－비스디에틸아미노벤조페논, 4, 4＇－디클로로벤조페논, 3, 3－디메틸－4－메톡시벤조페논, 벤질(benzil), 벤조인(benzoin), 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인－n－부틸 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤조인 부틸 에테르, 아세토페논, 2, 2－디에톡시아세토페논, p－디메틸아세토페논, p－디메틸아미노프로피오페논, 디클로로아세토페논, 트리클로로아세토페논, p－tert－부틸아세토페논, p－디메틸아미노아세토페논, p－tert－부틸트리클로로아세토페논, p－tert－부틸디클로로아세토페논, α, α－디클로로－4－페녹시아세토페논, 티옥산톤, 2－메틸티옥산톤, 2－이소프로필티옥산톤, 디벤조수베론, 펜틸－4－디메틸아미노벤조에이트, 9－페닐아크리딘, 1, 7－비스－(9－아크리디닐)헵탄, 1, 5－비스－(9－아크리디닐)펜탄, 1, 3－비스－(9－아크리디닐)프로판, p－메톡시트리아진, 2, 4, 6－트리스(트리클로로메틸)－s－트리아진, 2－메틸－4, 6－비스(트리클로로메틸)－s－트리아진, 2－［2－(5－메틸퓨란－2－일)에테닐］－4, 6－비스(트리클로로메틸)－s－트리아진, 2－［2－(퓨란－2－일)에테닐］－4, 6－비스(트리클로로메틸)－s－트리아진, 2－［2－(4－디에틸아미노－ 2－메틸페닐)에테닐］－4, 6－비스(트리클로로메틸)－s－트리아진, 2－［2－(3, 4－디메톡시페닐)에테닐］－4, 6－비스(트리클로로메틸)－s－트리아진, 2－(4－메톡시페닐)－4, 6－비스(트리클로로메틸)－s－트리아진, 2－(4－에톡시스티릴)－4, 6－비스(트리클로로메틸)－s－트리아진, 2－(4－n－부톡시페닐)－4, 6－비스(트리클로로메틸)－s－트리아진, 2, 4－비스트리클로로메틸－6－(3－브로모－4－메톡시)페닐－s－트리아진, 2, 4－비스트리클로로메틸－6－(2－브로모－4－메톡시)페닐－s－트리아진, 2, 4－비스트리클로로메틸－6－(3－브로모－4－메톡시)스티릴페닐－s－트리아진, 2, 4－비스트리클로로메틸－6－(2－브로모－4－메톡시)스티릴페닐－s－트리아진 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 옥심(oxime)계의 광중합 개시제를 이용하는 것이, 감도의 면에서 특히 바람직하다. 이들 광중합 개시제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수가 있다.
광중합 개시제(C)의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 0.5∼30질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼20질량%의 범위이다. 상기의 범위로 함으로써, 충분한 내열성, 내약품성이 얻어지고, 또 도막 형성능을 향상시켜 광경화 불량을 억제할 수가 있다.　
［착색제(D)］
착색제(D)로서는, 카본 블랙이나 티탄 블랙 등의 차광제를 들 수 있다. 또, Cu, Fe, Mn, Cr, Co, Ni, V, Zn, Se, Mg, Ca, Sr, Ba, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Hg, Pb, Bi, Si 및 Al 등의 각종 금속 산화물, 복합 산화물, 금속 황화물, 금속 황산염, 또는 금속 탄산염 등의 무기 안료도 이용할 수가 있다.
카본 블랙(carbon black)으로서는, 채널 블랙(channel black), 퍼니스 블랙(furnace black), 서멀 블랙(thermal black), 램프 블랙(lamp black) 등의 공지의 카본 블랙을 이용할 수가 있지만, 특히 채널 블랙은 차광성이 뛰어나기 때문에 매우 적합하게 이용할 수가 있다. 또, 수지 피복 카본 블랙을 이용할 수도 있다. 구체적으로는, 카본 블랙과 카본 블랙 표면에 존재하는 카복실기, 히드록실기, 카보닐기와 반응성을 가지는 수지를 혼합하고, 50∼380도로 가열하여 얻은 수지 피복 카본 블랙이나, 물－유기 용제 혼합계 또는 물－계면 활성제 혼합계에 에틸렌성 모노머를 분산하고, 중합 개시제의 존재 하에서 라디칼 중합 또는 라디칼 공중합시켜 얻은 수지 피복 카본 블랙 등을 들 수 있다. 이 수지 피복 카본 블랙은 수지 피복이 없는 카본 블랙에 비해 도전성이 낮기 때문에, 액정 디스플레이 등의 컬러 필터로서 이용한 경우에 전류의 누설이 적고, 신뢰성이 높은 저소비 전력의 디스플레이를 형성할 수 있다.　
착색제로서 상기의 무기 안료에 보조 안료로서 유기 안료를 가해도 좋다. 유기 안료는 무기 안료의 보색을 나타내는 것을 적절히 선택하여 가함으로써, 다음과 같은 효과가 얻어진다. 예를 들면, 카본 블랙은 불그스름한 흑색을 나타낸다. 따라서, 카본 블랙에 보조 안료로서 적색의 보색인 청색을 나타내는 유기 안료를 가함으로써, 카본 블랙의 붉은 기가 사라지고, 전체로서 보다 바람직한 흑색을 나타낸다. 유기 안료는 무기 안료와 유기 안료의 합계에 대해서 10∼80질량%의 범위로 이용하면 바람직하고, 보다 바람직하게는 20∼60질량%, 더 바람직하게는 20∼40질량%의 범위이다.　
상기의 무기 안료 및 유기 안료로서는, 분산제를 이용하여 안료를 적당한 농도로 분산시킨 용액을 이용할 수가 있다. 예를 들면, 무기 안료로서는, 미쿠니색소사 제조의 카본 분산액 CF 블랙(카본 농도 20% 함유), 미쿠니색소사 제조의 카본 분산액 CF 블랙(고저항 카본 24% 함유), 미쿠니색소사 제조의 티탄 블랙 분산액 CF 블랙(흑티탄 안료 20% 함유)을 들 수가 있다. 또, 유기 안료로서는 예를 들면, 미쿠니색소사 제조의 블루 안료 분산액 CF 블루(블루 안료 20% 함유), 미쿠니색소사 제조의 바이올렛 안료 분산액(바이올렛 안료 10% 함유) 등을 들 수가 있다. 또, 분산제로서는, 폴리에틸렌이민계, 우레탄 수지계, 아크릴 수지계의 고분자 분산제가 바람직하게 이용된다.
착색제의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 10∼70질량%인 것이 바람직하다. 함유량을 70질량% 이하로 함으로써 광경화 불량을 억제할 수가 있고, 또 10질량% 이상으로 함으로써 충분한 차광성을 얻을 수가 있다. 또, 착색제의 농도는, 후술하듯이 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 블랙 매트릭스를 성막했을 때에, 막 두께 1μm당의 OD(Optical　Density)값이 1.5 이상으로 되도록 조정하는 것이 바람직하다. 막 두께 1μm당의 OD값이 1.5 이상이면, 액정 디스플레이의 블랙 매트릭스에 이용한 경우에 충분한 콘트라스트(contrast)가 얻어진다.
［용제］
본 발명에 관계되는 착색 감광성 수지 조성물은 희석을 위한 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 이 용제로서는 예를 들면, 에틸렌글리콜 모노메틸 에테르, 에 틸렌글리콜 모노에틸 에테르, 에틸렌글리콜 모노－n－프로필 에테르, 에틸렌글리콜 모노－n－부틸 에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸 에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 모노－n－프로필 에테르, 디에틸렌글리콜 모노－n－부틸 에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸 에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸 에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸 에테르, 프로필렌글리콜 모노－n－프로필 에테르, 프로필렌글리콜 모노－n－부틸 에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸 에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸 에테르, 디프로필렌글리콜 모노－n－프로필 에테르, 디프로필렌글리콜 모노－n－부틸 에테르, 트리프로필렌글리콜 모노메틸 에테르, 트리프로필렌글리콜 모노에틸 에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬 에테르류； 에틸렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬 에테르 아세테이트류； 디에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 디에틸렌글리콜메틸 에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 다른 에테르류； 메틸 에틸 케톤, 시클로헥산온, 2－헵탄온, 3－헵탄온 등의 케톤류； 2－히드록시프로피온산 메틸, 2－히드록시프로피온산 에틸 등의 젖산 알킬 에스테르류； 2－히드록시－2－메틸프로피온산 에틸, 3－메톡시프로피온산 메틸, 3－메톡시프로피온산 에틸, 3－에톡시프로피온산 메틸, 3－에톡시프로피온산 에틸, 에톡시초산 에틸, 히드록시초산 에틸, 2－히드록시－3－메틸부탄산 메틸, 3－메톡시부틸 아세테이트, 3 －메틸－3－메톡시부틸 아세테이트, 3－메틸－3－메톡시부틸 프로피오네이트, 초산 에틸, 초산 n－프로필, 초산 i－프로필, 초산 n－부틸, 초산 i－부틸, 포름산 n－펜틸, 초산 i－펜틸, 프로피온산 n－부틸, 낙산 에틸, 낙산 n－프로필, 낙산 i－프로필, 낙산 n－부틸, 피루브산 메틸(methyl pyruvate), 피루브산 에틸, 피루브산 n－프로필, 아세토초산 메틸(methyl acetoacetate), 아세토초산 에틸, 2－옥소부탄산 에틸 등의 다른 에스테르류； 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류； N－메틸피롤리돈(N－methylpyrrolidone), N, N－디메틸포름아미드(N, N－dimethylformamide), N, N－디메틸아세트아미드(N, N－dimethylacetamide) 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 이들 용제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수가 있다.
용제의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 100질량부에 대해서 50∼500질량부인 것이 바람직하다.
［그 외의 성분］
본 발명에 관계되는 착색 감광성 수지 조성물에는 필요에 따라서 첨가제를 함유시킬 수가 있다. 첨가제로서는, 열중합 금지제, 소포제, 계면 활성제, 증감제, 경화 촉진제, 광가교제, 광증감제, 분산제, 분산 조제, 충전제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등을 들 수 있다.
［착색 감광성 수지 조성물의 조제 방법］
본 발명에 관계되는 착색 감광성 수지 조성물은 상기 각 성분을 모두 교반기로 혼합함으로써 얻어진다. 또한, 얻어진 혼합물이 균일한 것으로 되도록 필터를 이용하여 여과해도 좋다.
〔컬러 필터의 제조 방법〕
먼저, 본 발명에 관계되는 착색 감광성 수지 조성물을 롤 코터(roll coater), 리버스 코터(reverse coater), 바 코터(bar coater) 등의 접촉 전사형 도포 장치나 스피너(spinner)(회전식 도포 장치), 커텐 플로우 코터(curtain flow coater) 등의 비접촉형 도포 장치를 이용하여 기판 상에 도포한다. 기판은 광투과성을 가지는 기판이 이용된다.
다음에, 도포된 착색 감광성 수지 조성물을 건조시켜 도막을 형성한다. 건조 방법은 특히 한정되지 않고, 예를 들면 (1) 핫플레이트(hot plate)에서 80∼120℃, 바람직하게는 90∼100℃의 온도에서 60∼120초간 건조하는 방법, (2) 실온에서 수시간∼수일 방치하는 방법, (3) 온풍 히터나 적외선 히터 중에 수십분 ∼수시간 넣어 용제를 제거하는 방법의 어느 방법을 이용해도 좋다.
다음에, 이 도막에 네가티브형의 마스크를 개재하여 자외선, 엑시머 레이저(excimer laser) 광의 활성 에너지선을 조사하여 부분적으로 노광한다. 조사하는 에너지선량은 착색 감광성 수지 조성물의 조성에 따라서도 다르지만, 예를 들면 30∼2000mJ/cm2 정도가 바람직하다.
다음에, 노광 후의 막을 현상액에 의해 현상함으로써 소망의 형상으로 패터닝(patterning)한다. 현상 방법은 특히 한정되지 않고, 예를 들면 침지법, 스프레이(spray)법 등을 이용할 수가 있다. 현상액으로서는, 모노에탄올아민, 디에탄올아 민, 트리에탄올아민 등의 유기계의 것이나, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 암모니아, 4급 암모늄염 등의 수용액을 들 수 있다.
다음에, 현상 후의 패턴을 200℃ 정도에서 포스트베이크(postbake)를 한다. 이때, 형성된 패턴을 전면(全面) 노광하는 것이 바람직하다. 이상에 의해, 소정의 패턴 형상을 가지는 블랙 매트릭스(black matrix)를 형성할 수가 있다.
다음에, 블랙 매트릭스에 의해 구획된 각 영역에 R, G, B 각 색의 잉크를 잉크젯 노즐로부터 토출하고, 모인 잉크를 열 또는 광으로 경화시킨다. 이에 의해 컬러 필터를 제조할 수가 있다.
＜실시예 1＞
광중합성 화합물(A)로서는, 하기의 수지(A－1)와, 모노머(A－3)로서 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트(pentaerythritol tetraacrylate)를 이용하였다.
［수지 (A－1)의 합성］
수지 (A－1)의 합성 방법은 이하와 같다.
비스페놀 플루오렌(bisphenol fluorene)형 에폭시 수지 235g(에폭시 당량 235)와 테트라메틸 암모늄 클로라이드 110mg, 2, 6－디－tert－부틸－4－메틸페놀 100mg, 및 아크릴산 72.0g을, 25ml/분의 속도로 공기를 불어들이면서 90℃로부터 100℃에서 가열하여 용해시킨 후, 120℃까지 천천히 온도 상승시켰다. 이 사이 산가를 측정하고, 1.0mgKOH/g 미만이 될 때까지 약 12시간 가열 교반을 계속하였다. 그리고 실온까지 냉각하고, 무색 투명하고 고체상의 비스페놀 플루오렌형 에폭시아 크릴레이트를 얻었다.
다음에, 얻어진 상기의 비스페놀 플루오렌형 에폭시아크릴레이트 307.0g에 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(PGMEA) 350g을 가하고 용해시킨 후, 벤조페논테트라카복실산 2무수물 80.5g 및 브롬화 테트라에틸 암모늄 1g을 혼합하고, 110℃로부터 115℃에서 4시간 반응시켰다. 산 무수물기의 소실을 확인한 후, 1, 2, 3, 6－테트라히드로무수프탈산(1, 2, 3, 6-tetrahydrophthalic anhydride) 38.0g을 혼합하고, 90℃에서 6시간 반응시켜, 수지 (A－1)을 얻었다. 또한, 산 무수물기의 소실은 IR 스펙트럼에 의해 확인하였다. 얻어진 수지 (A－1)은, GPC로 측정한 질량평균분자량이 5000이고, 산가가 80mgKOH/g이었다. 이 수지 (A－1)은 3－메톡시부틸 아세테이트로 고형분 농도 55질량%로 조정하였다.
발잉크성 화합물(B)로서는 하기의 화합물(B－1)을 이용하였다.
［화합물 (B－1)의 합성］
화합물 (B－1)의 합성 방법은 이하와 같다.
글리시딜 메타크릴레이트 16g, 불소계 모노머(CH2=C(CH3)COOCH2CH2(CF2)6F) 100g, 이소보닐 메타크릴레이트 50g, 연쇄 이동제인 n－도데실 머캅탄 7g, 2, 2＇－아조비스(4－메톡시－2, 4－디메틸발레로니트릴) 2g을, 3－메톡시부틸 아세테이트 384g에 용해시키고, 질소 분위기 하 60℃에서 교반하면서 중합시켜 공중합체를 얻었다. 얻어진 화합물 (B－1)은 GPC로 측정한 질량평균분자량이 9800이었다. 또한, 이 화합물 (B－1)은 3－메톡시부틸 아세테이트로 고형분 농도 30질량%로 조정 하였다.
광중합 개시제(C)로서는, 화합물 (C－1)(치바스페셜티케미컬사 제조, IRGACURE　OXE　02)을 이용하였다.
착색제(D)로서는, 착색제 (D－1)(미쿠니색소사 제조, CF 블랙： 카본 블랙 25질량%, 용제： 3－메톡시부틸 아세테이트)을 이용하였다.
상기 각 성분과, 용제(3－메톡시부틸 아세테이트：시클로헥산온=60：40)를 표 1의 비율로 배합하고, 교반기로 2시간 혼합한 후, 5μm 멤브레인 필터(membrane filter)로 여과하여, 착색 감광성 수지 조성물을 조제하였다. 또한, 표 1 중의 수치는 질량부를 나타낸다.
＜실시예 2∼4, 비교예 1∼7＞
실시예 1에 있어서, (A), (B), (C), (D) 성분에 대해서, 표 1, 2에 나타내는 배합으로 조제한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 착색 감광성 수지 조성물을 조제하였다. 또한, 표 2 중의 수치는 질량부를 나타낸다.
표 1, 2에 기재한 각 성분에 대해서는 이하와 같다.
［수지 (A－2)의 합성］
에피코트 YX4000H(저팬에폭시레진사 제조, 에폭시 당량 192)를 400g, 트리페닐포스핀 4g, 아크릴산 153g, 3－메톡시부틸 아세테이트 600g을 혼합하고, 90∼100℃에서 반응시켰다. 그 후, 다염기산 무수물로서 테트라히드로무수프탈산 40g, 및 비페닐테트라카복실산 2무수물 360g을 가하고, 더 반응시킴으로써 비페닐 골격을 가지는 수지 (A－2)를 얻었다. 이 수지 (A－2)는 GPC로 측정한 질량평균분자량이 7000이고, 산가가 90mgKOH/g이었다. 또한, 이 수지 (A－2)는 3－메톡시부틸 아세테이트로 고형분 농도 50질량%로 조정하였다.
［화합물 (B－2)의 합성］
글리시딜 메타크릴레이트 24g, 불소계 모노머(CH2=C(CH3)COOCH2CH2(CF2)6F) 100g, 이소보닐 메타크릴레이트 25g, 메타크릴산 메틸 25g, 연쇄 이동제인 n－도데실 머캅탄을 7g, 2, 2＇－아조비스(4－메톡시－2, 4－디메틸발레로니트릴) 2g을, 3－메톡시부틸 아세테이트 406g에 용해시키고, 질소 분위기 하 40℃에서 교반하면서 중합시켜 공중합체를 얻었다. 얻어진 화합물 (B－2)는 GPC로 측정한 질량평균분자량이 10800이었다. 또한, 이 화합물 (B－2)는 3－메톡시부틸 아세테이트로 고형분 농도 30질량%로 조정하였다.
［화합물 (B－3)의 합성］
화합물 (B－1)의 합성에 있어서, 글리시딜 메타크릴레이트를 이용하지 않는 외에는 동일하게 하여 화합물 (B－3)을 합성하였다. 얻어진 화합물 (B－3)은 GPC로 측정한 질량평균분자량이 8900이었다. 또한, 이 화합물 (B－3)은 3－메톡시부틸 아세테이트로 고형분 농도 30질량%로 조정하였다.
［화합물 (B－4)의 합성］
아세톤 555.0g, 불소계 모노머(CH2=C(CH3)COOCH2CH2(CF2)6F) 72.0g, 메타크릴산 12.0g, 2－히드록시에틸 메타크릴레이트 84.0g, 연쇄 이동제 n－도데실 머캅탄 6.9g, 및 2, 2＇－아조비스(4－메톡시－2, 4－디메틸발레로니트릴) 3.2g을 혼합하 고, 질소 분위기 하에서 교반하면서 40℃에서 18시간 중합시킨 후, 물을 가하여 재침(再沈) 정제하고, 다음에 석유 에테르로 재침 정제하고, 진공 건조하여, 중합체 1을 얻었다.
중합체 1을 100g, 2－메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트(2-methacryloyloxyethylisocyanate) 41.7g, 디부틸주석 디라우레이트 0.17g, 2, 6－디－t－부틸－p－크레졸 2.1g, 및 아세톤 100g을 혼합하고, 교반하면서 30℃에서 18시간 중합시킨 후, 물을 가하여 재침 정제하고, 다음에 석유 에테르로 재침 정제하고, 진공 건조하여, 화합물 (B－4)를 얻었다. 얻어진 화합물 (B－4)는 GPC로 측정한 질량평균분자량이 9800이었다. 또한, 이 화합물 (B－4)는 용액으로 하지 않고 그대로 이용하였다.
＜평가＞
상기 실시예 1∼4, 비교예 1∼6에서 조제한 착색 감광성 수지 조성물을 유리 기판 상에 도포한 후, 90℃에서 2분간 건조시켜 약 2μm의 막 두께를 가지는 감광층을 얻었다. 다음에, 이 감광층에 네가티브 마스크(negative mask)를 개재하여 노광량 200mJ/cm2로 자외선을 선택적으로 조사하고, 현상액으로서 N－A3K(토오쿄오오카공업 제조)：순수=1：25의 용액을 이용하여 25℃에서 60초간 스프레이(spray) 현상함으로써 패턴을 형성하였다. 그 후, 형성된 패턴에 대해서 22℃에서 30분간 포스트베이크(postbake)를 함으로써, 선폭 20μm의 격자 형상 블랙 매트릭스 패턴을 형성하였다. 또한, 상기 격자의 개구부가 200μm×80μm로 되도록 블랙 매트릭스 패턴을 형성하였다. 그리고, 이하와 같이 현상성, 발잉크성, 화소 영역 내의 젖음성을 평가하였다.
(현상성)
현상성은 패턴을 형성할 수 있었던 것을 ○, 패턴은 형성할 수 있었지만, 패턴의 직진성이 나쁜 것을 △, 패턴을 형성할 수 없었던 것을 ×로 하였다. 결과를 표 1, 2에 나타낸다.
(발잉크성)
발잉크성은 유리 기판에 형성된 패턴 상에 있어서의 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(PGMEA)의 접촉각을 측정하고, 40о 이상을 ○, 30о 이상 40о 미만을 △, 30о 미만을 ×로 하였다. 결과를 표 1, 2에 나타낸다.
(화소 영역 내의 젖음성)
화소 영역 내의 젖음성은 형성된 격자 내(화소 영역 내)에 PGMEA를 20pl 적하하고, PGMEA가 격자 내의 면적의 100% 퍼진 경우를 ◎, 80∼100% 퍼진 경우를 ○, 40∼80% 퍼진 경우를 △, 40% 미만을 ×로 하였다. 결과를 표 1, 2에 나타낸다
Figure 112007078378419-pat00010
Figure 112007078378419-pat00011
표 1, 2로부터 알 수 있듯이, 발잉크성 화합물(B)로서 에폭시기를 가지는 화합물 (B－1) 또는 화합물 (B－2)를 이용한 실시예 1∼4에서는, 발잉크성·화소 영역 내의 젖음성이 모두 우수하였다. 또한, 블랙 매트릭스에 의해 구획된 화소 영역은 젖음성이 높기 때문에, 이 화소 영역에 R, G, B 각 색의 잉크를 균일하게 모을 수가 있다고 생각된다. 이에 대해서, 발잉크성 화합물(B)로서 화합물 (B－3) 또는 (B－4)를 이용한 비교예 2∼6에서는, 발잉크성이 실시예 1∼4보다도 떨어져 있을 뿐만 아니라, 화소 영역 내의 젖음성이 나쁘고, 현상성도 나쁜 것이었다. 또, 발잉크성 화합물(B)을 이용하고 있지 않은 비교예 1에서는, 화소 영역 내의 젖음성은 양호하였지만, 발잉크성이 현저하게 떨어져 있어, 잉크젯 용도로는 사용할 수 없는 것이었다.

Claims (10)

  1. 광중합성 화합물(A)과, 발잉크성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 착색제(D)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서,
    상기 발잉크성 화합물(B)은 에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)와, 당해 에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)와 공중합 가능한 불소계 모노머(b2)를 적어도 공중합시킨 공중합체이고,
    상기 광중합성 화합물(A)과 상기 발잉크성 화합물(B)의 함유 질량 비율이 99.9：0.1∼70：30인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 발잉크성 화합물(B) 중의 상기 에폭시기 함유 아크릴계 모노머(b1)로부터 유도되는 유닛의 함유량이 1∼40질량%이고, 상기 불소계 모노머(b2)로부터 유도되는 유닛의 함유량이 30∼80질량%인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 발잉크성 화합물(B)은 카복실기 함유 아크릴계 모노머(b3)를 더 공중합시킨 공중합체인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 발잉크성 화합물(B) 중의 상기 카복실기 함유 아크릴계 모노머(b3)로부 터 유도되는 유닛의 함유량이 0.1∼20질량%인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 발잉크성 화합물(B)의 질량평균분자량이 2000∼50000인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 광중합성 화합물(A)이, 에폭시 화합물(a1)과 에틸렌성 불포화기 함유 카복실산 화합물(a2)의 반응물을, 다염기산 무수물(a3)과 더 반응시킴으로써 얻어지는 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 광중합성 화합물(A)이 에틸렌성 불포화기 함유 모노머를 포함하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 착색제(D)가 차광제인 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 에폭시기 함유 아크릴계 모노머와 공중합 가능한 불소계 모노머(b2)는 －(CF2)rF(r=1∼10)로 표시되는 기를 가지는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5173543B2 (ja) * 2008-04-08 2013-04-03 東京応化工業株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
US8829070B2 (en) 2009-08-31 2014-09-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Ultraviolet-curable resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same
TWI570509B (zh) * 2010-10-05 2017-02-11 Sumitomo Chemical Co Coloring the photosensitive resin composition
JP4988032B2 (ja) * 2010-12-08 2012-08-01 株式会社東芝 磁気記録媒体の製造方法
JP5039199B2 (ja) * 2010-12-08 2012-10-03 株式会社東芝 パターン転写に用いられる紫外線硬化性樹脂材料
JP5744528B2 (ja) * 2011-01-11 2015-07-08 東京応化工業株式会社 タッチパネル用着色感光性樹脂組成物、タッチパネル、及び表示装置
KR102344138B1 (ko) * 2014-03-31 2021-12-28 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 차광막용 감광성 수지 조성물, 이것을 경화한 차광막 및 컬러 필터

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010095268A (ko) * 2000-04-03 2001-11-03 타키모토 마사아키 포지티브 감광성 수지조성물
JP2004295084A (ja) * 2003-03-12 2004-10-21 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性組成物、感光性着色組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
KR20040105575A (ko) * 2003-06-05 2004-12-16 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 블랙 레지스트용 감광성 수지조성물 및 이것을 이용하여형성된 차광막
KR20050088119A (ko) * 2002-12-16 2005-09-01 쇼와 덴코 가부시키가이샤 컬러필터 블랙 매트릭스 레지스트 조성물

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5204378A (en) * 1986-03-24 1993-04-20 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Fluorine-containing epoxy(meth)acrylate resin adhesive cured in presence of photoinitiator
CN1711503B (zh) * 2002-11-06 2010-05-26 旭硝子株式会社 负型感光性树脂组合物用于制造隔壁的用途
CN101017324A (zh) * 2003-03-12 2007-08-15 三菱化学株式会社 光敏组合物、光敏着色组合物、滤色器和液晶显示设备
JP4595374B2 (ja) * 2003-04-24 2010-12-08 住友化学株式会社 黒色感光性樹脂組成物
JP5177933B2 (ja) * 2003-08-12 2013-04-10 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 隔壁用組成物、それを用いた画素形成用基板および画素の形成方法
JP4448381B2 (ja) * 2004-05-26 2010-04-07 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP4611724B2 (ja) * 2004-12-03 2011-01-12 東京応化工業株式会社 遮光膜形成用感光性組成物、該遮光膜形成用感光性組成物で形成されたブラックマトリクス
KR101321838B1 (ko) * 2005-07-20 2013-10-25 가부시키가이샤 아데카 알칼리현상형 감광성 착색조성물

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010095268A (ko) * 2000-04-03 2001-11-03 타키모토 마사아키 포지티브 감광성 수지조성물
KR20050088119A (ko) * 2002-12-16 2005-09-01 쇼와 덴코 가부시키가이샤 컬러필터 블랙 매트릭스 레지스트 조성물
JP2004295084A (ja) * 2003-03-12 2004-10-21 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性組成物、感光性着色組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
KR20040105575A (ko) * 2003-06-05 2004-12-16 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 블랙 레지스트용 감광성 수지조성물 및 이것을 이용하여형성된 차광막

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