KR100928020B1 - Synthetic substrate loading method in cassette - Google Patents
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Abstract
본 발명은 탄소나노튜브 생성에 사용되는 카세트에 관한 것으로, 본 발명의 카세트는 수직하게 설치되는 수직축들; 상기 수직축들에 합성기판들이 적층되어 보관되도록 합성기판을 지지하는 지지부들을 포함하되; 상기 지지부 각각은 합성기판의 가장자리 부분을 지지하는 그리고 합성기판이 놓여질 때 발생되는 충격을 완화시켜주는 완충블럭을 갖는 지지부재들을 포함한다.The present invention relates to a cassette used for producing carbon nanotubes, the cassette of the present invention includes vertical axes installed vertically; Comprising a support for supporting a composite substrate so that the composite substrate is stacked and stored on the vertical axis; Each of the supports includes support members having a buffer block for supporting an edge portion of the composite substrate and for mitigating an impact generated when the composite substrate is placed.
Description
도 1은 본 발명의 탄소 나노 튜브 생산 시스템의 일 예를 개략적으로 보여주는 구성도이다. 1 is a schematic view showing an example of a carbon nanotube production system of the present invention.
도 2는 도 1의 기판 보관부와 제 1이송장치를 보여주는 평면도이다. FIG. 2 is a plan view illustrating the substrate storage unit and the first transfer device of FIG. 1.
도 3은 기판 보관부의 측면도이다. 3 is a side view of the substrate storage portion.
도 4는 기판 보관부의 카세트를 보여주는 사시도이다. 4 is a perspective view showing a cassette of the substrate storage portion;
도 5는 제2지지부의 지지부재를 확대하여 보여주는 요부확대도이다. 5 is an enlarged view illustrating a main part of the support member of the second support part in an enlarged manner.
도 6a 및 도 6b는 카세트에 합성기판이 놓여지는 과정을 설명하기 위한 도면들이다. 6A and 6B are views for explaining a process in which a composite substrate is placed on a cassette.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* * Explanation of symbols for the main parts of the drawings *
100 : 반응 챔버100: reaction chamber
200 : 스테이션부200: station
300 : 제 1이송장치300: first transfer device
400 : 기판 보관부400: substrate storage
420 : 카세트420: cassette
500 : 촉매 도포부500: catalyst coating unit
600 : 회수부600: recovery unit
700 : 제 2이송장치700: second transfer device
본 발명은 탄소 나노 튜브의 대량 생산을 위한 탄소나노튜브 생산 자동화 설비에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 탄소나노튜브 생성에 사용되는 카세트에서의 합성기판 로딩 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a carbon nanotube production automation facility for mass production of carbon nanotubes, and more particularly, to a method for loading a composite substrate in a cassette used for producing carbon nanotubes.
탄소 나노 튜브(Carbon Nano tubes)는 하나의 탄소 원자에 이웃하는 세 개의 탄소 원자가 결합되어 육각 환형을 이루고, 이러한 육각 환형이 벌집 형태로 반복된 평면이 말려 원통형 또는 튜브를 이룬 형태를 가진다. Carbon nanotubes (carbon nanotubes) is formed by combining three carbon atoms adjacent to one carbon atom to form a hexagonal ring, and the hexagonal ring is a honeycomb-shaped plane is rolled to form a cylindrical or tube.
탄소 나노 튜브는 그 구조에 따라 금속적인 도전성 또는 반도체적인 도전성을 나타낼 수 있는 성질을 가진다. 재료로서 여러 기술 분야에 폭넓게 응용될 수 있어 미래의 신소재로 각광을 받고 있다. 예컨대, 탄소 나노 튜브는 이차 전지, 연료 전지 또는 수퍼 커패서티와 같은 전기 화학적 저장 장치의 전극, 전자파 차폐, 전계 방출 디스플레이, 또는 가스 센서 등에 적용 가능하다.Carbon nanotubes have properties that can exhibit metallic conductivity or semiconductor conductivity depending on their structure. As a material, it can be widely applied to various technical fields, and it is attracting attention as a new material of the future. For example, carbon nanotubes can be applied to electrodes of electrochemical storage devices such as secondary cells, fuel cells or supercapacitors, electromagnetic shielding, field emission displays, or gas sensors.
이러한 탄소 나노 튜브는 합성기판상에 합성되는데, 합성기판을 이송하는 과정에서 발생되는 충격으로 합성기판에 합성되어 있는 탄소나노튜브가 이탈되는 등의 손실이 발생되고 있다. The carbon nanotubes are synthesized on a synthetic substrate, and the loss of carbon nanotubes synthesized on the synthetic substrate is caused by an impact generated during the transfer of the synthetic substrate.
본 발명은 카세트와 합성기판의 충격을 완화할 수 있는 탄소나노튜브 생성에 사용되는 카세트에서의 합성기판 로딩 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method for loading a composite substrate in a cassette used to produce carbon nanotubes that can mitigate the impact of the cassette and the composite substrate.
본 발명은 탄소나노튜브의 손실을 최소화할 수 있는 탄소나노튜브 생성에 사용되는 카세트에서의 합성기판 로딩 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a method for loading a synthetic substrate in a cassette used for producing carbon nanotubes which can minimize the loss of carbon nanotubes.
본 발명은 생산성을 향상시킬 수 있는 탄소나노튜브 생성에 사용되는 카세트에서의 합성기판 로딩 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method for loading a composite substrate in a cassette used for producing carbon nanotubes which can improve productivity.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 탄소나노튜브 생성에 사용되는 카세트는 수직하게 설치되는 수직축들; 상기 수직축들에 합성기판들이 적층되어 보관되도록 합성기판을 지지하는 지지부들을 포함하되; 상기 지지부 각각은 합성기판의 가장자리 부분을 지지하는 그리고 합성기판이 놓여질 때 발생되는 충격을 완화시켜주는 완충블럭을 갖는 지지부재들을 포함한다.According to a feature of the present invention for achieving the above object, the cassette used for producing carbon nanotubes are vertical axis is installed vertically; Comprising a support for supporting a composite substrate so that the composite substrate is stacked and stored on the vertical axis; Each of the supports includes support members having a buffer block for supporting an edge portion of the composite substrate and for mitigating an impact generated when the composite substrate is placed.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 지지부재는 상기 수직축에 고정되는 고정블럭과; 상기 완충블럭을 사이에 두고 상기 고정블럭에 설치되는 지지블럭을 더 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the support member includes a fixed block fixed to the vertical axis; And a support block installed in the fixed block with the buffer block therebetween.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 완충블럭은 우레탄이나 고무와 같은 충격완화 물질이다.According to an embodiment of the present invention, the buffer block is a shock absorbing material such as urethane or rubber.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 카세트는 상기 합성기판이 로딩될 때 상기 합성기판이 로딩되는 속도보다 느린 속도로 하강한다.According to an embodiment of the present invention, the cassette is lowered at a speed slower than the speed at which the synthetic substrate is loaded when the synthetic substrate is loaded.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 특징에 의하면, 지지부를 갖는 카세트에서의 합성기판 로딩 방법은 상기 합성기판이 반송로봇에 의해 수평이동되어 상기 카세트의 지지부 상부에 위치되는 단계; 상기 지지부 상부에 위치된 합성기판이 상기 반송로봇에 의해 수직 하강되어 상기 카세트의 지지부에 로딩되는 단계를 포함하되; 상기 합성기판이 상기 카세트의 지지부에 로딩되기 직전에 상기 카세트가 상기 합성기판의 수직 하강 속도보다 느린 속도로 수직 하강한다.According to another aspect of the present invention for achieving the above object, a method for loading a composite substrate in a cassette having a support portion is the synthetic substrate is horizontally moved by a carrier robot is located on the support of the cassette; Comprising a synthetic substrate positioned above the support portion is vertically lowered by the carrier robot is loaded on the support portion of the cassette; Immediately before the synthetic substrate is loaded on the support of the cassette, the cassette is vertically lowered at a slower speed than the vertical descending speed of the synthetic substrate.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 특징에 의하면, 카세트에서의 합성기판 로딩 방법은 합성기판이 상기 카세트의 지지부 상부로 수평이동되는 단계; 상기 합성기판이 상기 지지부에 로딩되도록 수직 하강되는 단계를 포함하되; 상기 합성기판이 내려오는 속도보다 느리게 상기 카세트가 수직 하강된다.According to another aspect of the present invention for achieving the above object, a synthetic substrate loading method in a cassette comprises the steps of horizontally moving the composite substrate to the upper portion of the support of the cassette; Vertically descending the composite substrate to be loaded onto the support; The cassette is lowered vertically slower than the synthetic substrate descends.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 합성기판은 탄소 나노 튜브의 합성이 이루어지는 기저판(base plate)이다.According to an embodiment of the present invention, the synthetic substrate is a base plate (base plate) through which the synthesis of carbon nanotubes.
예컨대, 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공된 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.For example, embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. This example is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shapes of elements in the drawings and the like are exaggerated to emphasize clearer explanations.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 6b를 참조하면서 보다 상세히 설명한다. 본 발명은 자동화 및 대량 생산이 가능한 탄소 나노 튜브 생산 시스템(1)을 제공한다. Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 1 to 6B. The present invention provides a carbon
도 1은 본 발명의 탄소 나노 튜브 생산 시스템의 일 예를 개략적으로 보여주는 구성도이다. 1 is a schematic view showing an example of a carbon nanotube production system of the present invention.
도 1을 참조하면, 시스템(1)은 합성기판(10), 반응 챔버(100), 그리고 전후처리실를 갖는다. Referring to FIG. 1, the
합성기판(10)은 탄소 나노 튜브(도 7의 30)의 합성이 이루어지는 기저판(base plate)으로서 사용된다. 탄소 나노 튜브(30)가 합성되는 합성기판(10)으로는 실리콘 웨이퍼(silicon wafer), ITO(Induim Tin Oxide) 기판, 코팅된 유리(ITO-coated glass), 소다라임 유리, 코닝 유리, 전이금속, 알루미나 등이 사용될 수 있다. 그러나 탄소 나노 튜브(30)를 합성(성장,생성)시키기에 충분한 강성을 가진다면 합성 기판은 상술한 종류의 기판 외에 다양한 종류가 사용될 수 있다.The
반응 챔버(100)는 합성 기판(10) 상에 탄소 나노 튜브(30)를 생성하는 공정을 수행하고, 전후처리실은 반응 챔버(100)로/로부터 로딩/언로딩되는 합성기판(10)에 대한 전처리 공정 및 후처리 공정을 수행한다. 전처리 공정 및 후처리 공정은 기판에 촉매(20)를 도포하는 공정, 또는 합성 기판 상에 생성된 탄소 나노 튜브(30)를 회수하는 공정 등을 포함한다. 전후처리실은 스테이션부(200), 제 1이송장치(300), 기판 보관부(400), 촉매 도포부(500), 회수부(600), 그리고 제 2이송장치(700)를 가진다. The
스테이션부(200)는 반응 챔버(100)로부터 언로딩되는 합성기판(10)이 대기 중에 노출되는 것을 방지한다. 제 1이송장치(300)는 반응 챔버(100)로/로부터 합성기판을 로딩/언로딩한다. 기판 보관부(400)는 반응 챔버(100)로/로부터 로딩되거나 언로딩되는 합성기판을 저장한다. 촉매 도포부(500)는 합성기판(10)이 반응 챔버(100)로 로딩되기 전에 합성기판(10) 상에 촉매(20)를 도포하는 공정을 수행한다. 회수부(600)는 반응 챔버(100)로부터 언로딩된 합성 기판(10) 상에 생성된 탄소 나노 튜브(30)를 합성 기판(10)으로부터 회수하는 공정을 수행한다. 제 2이송장치(700)는 기판 보관부(400), 촉매 도포부(500), 그리고 회수부(600) 간에 합성기판(10)을 이송한다. The
일 예에 의하면, 스테이션부(200)는 반응 챔버(100)의 일측에 반응 챔버(100)와 나란하게 배치된다. 스테이션부(200)는 제 1영역(240)과 제 2영역(260)을 가진다. 제 1영역(240)은 반응 챔버(100)와 인접하게 배치되며, 제 1영역(240)에는 기판 저장부(400)가 위치된다. 제 2영역(260)은 제 1영역(240)을 기준으로 반응 챔버(100)와 반대 방향에 제공되며 제 1이송장치(300)가 위치된다. 반응 챔버(100)와 제 2영역(260)은 제 1방향(42)으로 동일 선상에 위치되도록 배치된다. 제 1영역(240)은 상부 영역(242)와 하부 영역(244)를 가진다. 상부 영역(242)는 반응 챔버(100) 및 제 2영역(260)과 동일 선상에 위치되는 영역이고, 하부 영역(244)는 상부 영역(244)로부터 제 1방향(42)과 수직한 제 2방향(44)으로 연장되는 영역이다. 제 1영역(240)과 제 2영역(260)은 각각 대체로 직사각의 형상을 가진다. 상술한 구조로 인해, 스테이션부(200)는 전체적으로 대체로 '??'자 형상을 가진다. 촉매 도포부(500)와 회수부(600), 그리고 제 2이송장치(400)는 스테이션부(200)와 인접하게 위치되며, 제 1영역(240)의 상부 영역(242)을 기준으로 하부 영역(244)과 반대되는 위치에 제 1방향(42)과 평행한 방향으로 나란하게 배치된다. 제 2이송장치(400)는 스테이션부(200)의 제 1영역(240)과 대향되는 위치에 배치된다. 또한, 제 2이송장치(400)는 촉매 도포부(500)와 회수부(600) 사이에 위치된다.According to an example, the
도 2는 도 1의 기판 보관부와 제 1이송장치를 보여주는 평면도이다. 도 3은 기판 보관부의 측면도이다. 도 4는 기판 보관부의 카세트를 보여주는 사시도이다. FIG. 2 is a plan view illustrating the substrate storage unit and the first transfer device of FIG. 1. 3 is a side view of the substrate storage portion. 4 is a perspective view showing a cassette of the substrate storage portion;
도 2 내지 도 4를 참조하면, 기판 보관부(400)는 합성기판(10)을 보관하는 카세트(420), 수직 레일들(442), 수평 레일(444), 그리고 이동 프레임들(446)을 가진다. 2 to 4, the
수직 레일들(442)은 제 1영역(240)의 모서리 부분에 각각 배치된다. 수직 레일들(442)은 상하 방향으로 긴 로드 형상을 가지며, 이동 프레임(446)의 상하 이동을 안내한다. 각각의 수직 레일(442)에는 수직 레일(442)을 따라 수직 구동부(도시되지 않음)에 의해 상하로 이동되는 브라켓(448)이 결합된다. 각각의 이동 프레임(446)은 제 1방향(42)을 따라 길게 제공되며, 서로 대향되도록 배치된다. 이동 프레임(446)은 브라켓(448)에 고정결합되어 브라켓(448)과 함께 수직 레일(442)을 따라 상하로 직선이동된다. The
각각의 이동 프레임(446)의 양단은 각각 제 1방향(42)으로 서로 대향되는 브라켓들에 고정 설치되며, 이동 프레임들(446)은 브라켓(448)과 함께 상하로 이동된다. 이동 프레임(446) 상에는 수평 레일(444)이 고정 설치된다. 각각의 수평 레 일(444)은 제 2방향(44)을 따라 길게 제공되며, 수평 레일들(444)은 서로 대향되도록 배치된다. 수평 레일(444)은 제 1영역(240) 전체 영역에 걸쳐 제공되며, 수평 레일(444) 상에는 수평 레일(444)을 따라 제 2방향(44)으로 이동 가능하도록 카세트(420)가 장착된다. Both ends of each moving
도 2에 도시된 바와 같이, 카세트(420)는 점선으로 표시된 대기위치와 실선으로 표시된 로딩/언로딩 위치(X2)(반응 챔버와 연결되는 제 1게이트 밸브(222) 바로 앞) 사이에서 수평 이동되고, 또한 상하로 직선 이동된다. 대기 위치(X1)는 제 1영역(240)의 하부 영역(244) 내 위치이고 로딩/언로딩 위치(X2)는 제 1영역(240)의 상부 영역(242) 내 위치이다. 카세트(420)는 반응 챔버(100)로/로부터 합성기판(10)을 로딩/언로딩할 때와 제 2이송장치(700)에 의한 합성기판(10) 이송시 로딩/언로딩 위치(X2)로 이동되며, 합성기판(10)의 온도를 낮추기 위해 대기할 때에는 대기위치(X1)로 이동한다. As shown in Fig. 2, the
도 3은 카세트(420)의 사시도이다. 반응 챔버(100)로 로딩될 합성기판(10) 및 반응 챔버(100)로부터 언로딩된 합성기판들(10)은 카세트(420)에 보관된다. 도 3을 참조하면, 카세트(420)는 지지부들(422), 상판(424) 및 하판(426), 그리고 수직축들(428)을 가진다. 상판(424)과 하판(426)은 대체로 직사각 형상으로 제공되며 상하로 서로 마주보도록 배치된다. 수직축들(428)은 상판(424)과 하판(426)의 서로 마주보는 모서리 영역을 연결하며 4개가 제공된다. 수직축(428)에는 합성기판(10)이 카세트(420)에 적층되어 보관되도록 합성기판(10)을 지지하는 지지부들(422)이 설치된다. 3 is a perspective view of the
지지부들(422)은 2개의 그룹으로 그룹지어진다. 제 1그룹에 속하는 지지부들(422a, 이하 제 1지지부)은 반응 챔버(100)로 로딩될 합성기판(10)들을 지지하며, 제 2그룹에 속하는 지지부들(422b, 이하 제 2지지부)은 반응 챔버(100)로부터 언로딩된 합성기판(10)들을 지지한다. 일 예에 의하면, 제 1지지부(422a) 및 제 2지지부(422b)는 각 4개씩 제공되며, 제 1지지부들(422a)은 제 2지지부들(422b)의 상부에 위치되도록 제공된다.The
제 2지지부들(422b) 간의 상하 간격은 제 1지지부들(422a) 간의 상하 간격보다 넓게 제공된다. 상술한 구조로 인해 카세트(420) 전체 높이는 줄이면서 반응 챔버(100)로부터 언로딩된 합성기판(10)의 상면에 생성된 탄소 나노 튜브(30)(CNT)가 인접한 합성기판(10)과 접촉되지 않도록 하는 공간을 충분히 제공할 수 있다.The vertical space between the
카세트(420)의 제 1지지부(422)들에 보관중인 합성기판(10)들은 제 1이송장치(300)에 의해 반응 챔버(100) 내부로 로딩된다. 반응 챔버(100)의 보트(160)에는 4장의 합성기판(10)들이 놓여지게 된다. 제 1이송장치(300)는 합성기판을 하나씩 순차적으로 반응 챔버(100)로/로부터 로딩하고 언로딩한다. 합성기판(10)들의 로딩이 완료되면, 반응 챔버(100)에서 탄소 나노 튜브(30) 생성을 위한 공정이 진행된다. 반응 챔버(100)에서 공정이 진행되는 동안, 또 다른 4장의 합성기판(10)들은 촉매 도포부(500)에서 촉매 도포 후 카세트(420)의 제 1지지부(422)들에서 대기하게 된다. 반응 챔버(100)에서 탄소 나노 튜브(30)의 생성 공정이 완료되면, 고온 상태의 합성기판(10)은 제 1이송장치(300)에 의해 반응 챔버(100)로부터 언로딩되어 카세트(420)의 제 2지지부(422b)에 수납되며, 고온의 합성기판(10)은 제 2지지 부(422b)에서 일정시간 동안 냉각 과정을 거친다. 냉각은 자연 냉각 방식에 의해 이루어진다. 선택적으로 냉각수 등과 같은 냉각 수단을 사용하여 강제 냉각할 수 있다. The
탄소 나노 튜브(30)가 생성된 합성기판(10)들은 일정온도 이하로 떨어질 때까지 카세트(420)의 제 2지지부(422b)들에서 대기하게 된다. 합성기판(10)들이 대기하는 카세트(420)는 스테이션부(200) 내부에 위치된다. 스테이션부(200)의 내부는 불활성가스로 채워져 있기 때문에, 카세트(420)에서 대기 중인 합성기판(10)들은 외부의 공기(특히 산소)와 접촉되지 않는다. 예컨대, 반응 챔버(100)에서 공정을 마친 합성기판(10)이 일정 온도 이하로 떨어진 상태에서는 상관없지만, 합성기판(10)이 고온 상태에서 상온의 대기 중에 노출되면, 합성기판(10) 표면에 생성된 탄소 나노 튜브(30)가 대기중의 산소와 반응하면서 변형을 일으키게 된다. 본 발명에서는 이러한 문제를 예방하기 위해 반응 챔버(100)에서 언로딩된 합성기판(10)들이 산소와의 접촉되지 않도록 상술한 바와 같이 불활성가스로 채워진 스테이션부(200)를 제공하였다. The
한편, 카세트(420)의 제 2지지부(422b)들에서 일정시간 동안 대기한 합성기판(10)들은 제 2게이트 밸브(224)를 통해 제 2이송장치(700)에 의해 회수부(600)로 옮겨진다. 그리고, 회수부(600)에서 탄소 나노 튜브(30)의 회수를 마친 합성기판(10)은 촉매 도포부(500)에서 촉매(20)를 도포한 후 다시 카세트(420)의 제 1지지부(422a)에 수납된다. Meanwhile, the
도 5는 제2지지부의 지지부재를 확대하여 보여주는 요부확대도이다. 5 is an enlarged view illustrating a main part of the support member of the second support part in an enlarged manner.
도 5에 도시된 바와 같이, 카세트(420)의 제2지지부(422b)는 합성기판(10)의 가장자리 부분을 지지하는 4개의 지지부재(423)를 가진다. 지지부재(423)는 수직축(428)에 고정되는 고정블럭(423a)과, 고정블럭(423a)상에 설치되는 완충블럭(423b) 그리고 완충블럭(423b)상에 설치되는 지지블럭(423c)을 포함한다. 지지블럭(423c)은 합성기판의 가장자리 부분이 안정적으로 놓여지도록 안착홈(423d)이 형성되어 있다. 그리고 완충블럭(423b)은 합성기판(10)이 지지부재(423)에 놓여질 때 발생되는 충격을 완화시켜주기 위해 탄성력을 갖는 우레탄 또는 고무 재질로 이루어지는 것이 바람직하다. 이처럼, 지지부재(423)는 합성기판(10)이 놓여질 때 발생되는 충격이 완충블럭(423b)에 의해 완화됨으로써, 합성기판(10)에 합성된 탄소나노튜브의 일부가 충격에 의해 이탈(떨어져나가)되는 것을 방지할 수 있다. As shown in FIG. 5, the
특히, 카세트(420)는 제 1이송장치(300)(반송로봇)에 의해 반응 챔버(100)로부터 인출된 합성기판(10)이 제2지지부(422b)의 지지부재(423)에 로딩될 때 합성기판이 로딩되는 속도(하강하는 속도)보다 느린 속도로 함께 하강하기 때문에 합성기판(10)이 카세트(420)의 제2지지부(422b)에 보다 안정적으로 놓여지게 된다. 이러한 방법은 제1이송장치(300)의 하강 스피드를 늦추는 것과 동일한 효과를 기대할 수 있다. In particular, when the
도 6a 및 도 6b는 카세트에 합성기판이 놓여지는 과정을 설명하기 위한 도면들이다. 6A and 6B are views for explaining a process in which a composite substrate is placed on a cassette.
카세트의 지지부에 합성기판이 로딩되는 과정을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the process of loading the synthetic substrate on the support of the cassette as follows.
우선, 제1이송장치(300)가 반응 챔버(100)로부터 탄소나노튜브가 합성된 합 성기판(10)을 인출한다. 그리고 그 인출한 합성기판(10)을 카세트(420)의 제2지지부(422b) 상부로 위치시키기 위해 수평 이동된다. 합성기판(10)이 카세트(420)의 제2지지부(422b) 상부에 위치되면, 합성기판(10)은 제1이송장치(300)에 의해 수직 하강되어 카세트의 제2지지부(422b)에 놓여지게 된다. 이때 카세트(420)는 합성기판(100이 제2지지부(422b)에 로딩되기 직전에 합성기판(10)의 수직 하강 속도보다 느린 속도로 하강하게 된다. 즉, 카세트(420)는 합성기판(10)이 놓여질 때 발생되는 충격을 줄이기 위해 합성기판(10)의 이동 속도보다 느린 속도로 이동하게 되고, 결국 합성기판(10)은 카세트(420)의 제2지지부(422b)에 큰 충격 없이 안정적으로 놓여지게 된다.First, the
본 발명에 의하면 합성기판이 카세트에 로딩될 때 완충블럭에 의해 충격이 완화됨으로써 합성기판에 합성되어 있는 탄소나노튜브가 충격에 의해 이탈되는 것을 예방할 수 있다. According to the present invention, when the synthetic substrate is loaded into the cassette, the impact is alleviated by the buffer block, thereby preventing the carbon nanotubes synthesized from the synthetic substrate from being separated by the impact.
또한, 본 발명은 카세트가 합성기판이 놓여질 때 발생되는 충격을 줄이기 위해 합성기판의 이동 속도보다 느린 속도로 이동하게 되고, 결국 합성기판은 카세트에 큰 충격 없이 안정적으로 놓여지게 됨으로써 합성기판에 합성되어 있는 탄소나노튜브가 충격에 의해 이탈되는 것을 예방할 수 있다. In addition, the present invention is to move the cassette at a slower speed than the movement speed of the composite substrate in order to reduce the impact generated when the composite substrate is placed, the composite substrate is synthesized to the composite substrate by being placed stably without a large impact on the cassette The carbon nanotubes can be prevented from being separated by the impact.
또한, 본 발명은 탄소나노튜브의 손실을 최소화할 수 있다. In addition, the present invention can minimize the loss of carbon nanotubes.
Claims (7)
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KR20070073397A (en) * | 2006-01-05 | 2007-07-10 | 세메스 주식회사 | Substrate transfer apparatus and system producting carbon nano tube with it |
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- 2007-10-05 KR KR1020070100174A patent/KR100928020B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
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