KR20060077960A - Reticle library cassette - Google Patents

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KR20060077960A
KR20060077960A KR1020040116608A KR20040116608A KR20060077960A KR 20060077960 A KR20060077960 A KR 20060077960A KR 1020040116608 A KR1020040116608 A KR 1020040116608A KR 20040116608 A KR20040116608 A KR 20040116608A KR 20060077960 A KR20060077960 A KR 20060077960A
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박윤혁
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삼성전자주식회사
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Abstract

레티클 수납 카세트에 관한 것으로 상기 레티클 수납 카세트는 베이스 플레이트와 상기 베이스 플레이트의 양측 가장자리로부터 수직 방향으로 서로 마주하도록 연장하는 한 쌍의 측벽과 상기 측벽들로부터 서로 마주하는 방향으로 돌출되며 다수의 레티클을 각각 수평 방향으로 지지하기 위한 다수의 지지부재 및 상기 측벽들의 상단부들로부터 서로 마주하는 방향으로 돌출되며 상기 레티클들 중 최상층에 지지되는 레티클의 이탈을 방지하기 위한 한 쌍의 가이드를 구비하되, 상기 가이드들의 하부면은 상기 최상층의 레티클의 상면과의 간섭을 방지하기 위하여 평평한 표면 프로파일을 갖는다. 이로써, 레티클 스크래치를 억제함으로 최상층의 슬롯이 사용되어져 사진 장치의 가동률을 향상시킨다.  A reticle accommodating cassette, wherein the reticle accommodating cassette protrudes in a direction facing each other from the side walls and a pair of side walls extending from the opposite sides of the base plate and the base plate in a vertical direction to face each other. A plurality of support members for supporting in the horizontal direction and a pair of guides for protruding in the direction facing each other from the upper end of the side walls and supported on the uppermost layer of the reticles to prevent separation of the guides The bottom surface has a flat surface profile to prevent interference with the top surface of the topmost reticle. As a result, the topmost slot is used by suppressing the reticle scratch, thereby improving the operation rate of the photographic apparatus.

Description

레티클 수납 카세트{RETICLE LIBRARY CASSETTE}      Reticle storing cassette {RETICLE LIBRARY CASSETTE}

도 1은 종래기술에 따른 레티클 수납 카세트를 구비하는 사진 장치를 나타내는 도이다.1 is a view showing a photographic apparatus having a reticle accommodating cassette according to the prior art.

도 2는 도시된 도 1의 레티클 수납 카세트를 설명하기 위하여 확대한 단면도이다.FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view illustrating the reticle accommodating cassette of FIG.

도 3은 본 발명에 따른 레티클 수납용 카세트를 도시한 단면도이다. 3 is a cross-sectional view showing a cassette for reticle storage according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of the code for the main part of the drawing>

100 ; 레티클 수납 카세트 102 ; 베이스 플레이트100; Reticle storage cassette 102; Base plate

104 ; 측벽 106 : 제1 연결부재104; Side wall 106: first connecting member

108 ; 레티클 110 ; 지지부재108; Reticle 110; Support member

112 ; 제1 돌기 114 : 보호부재112; First protrusion 114: protective member

116 : 제2 돌기 118 : 제1 가이드116: second projection 118: the first guide

120 : 제2 가이드 122 : 제3 가이드120: second guide 122: third guide

124 : 제2 연결부재 126 : 체결기구124: second connecting member 126: fastening mechanism

128 : 상판부재 130 : 슬롯128: top member 130: slot

본 발명은 사진 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 레티클 수납 카세트에 관한 것이다. The present invention relates to a photographic apparatus and, more particularly, to a reticle storage cassette.

근래에 컴퓨터와 같은 정보 매체의 급속한 보급 및 반도체 장치의 비약적인 발전에 따라 반도체 소자는 고속으로 동작하는 동시에 대용량의 저장 능력을 가질 것이 요구되고 있다. 이러한 요구에 부응하여, 상기 반도체 소자는 집적도, 신뢰도 및 응답 속도 등을 향상시키는 방향으로 제조 기술이 발전됨에 따라, 상기 반도체 소자의 집적도 향상을 위한 주요한 기술인 포토리소그래피(photolithography) 기술과 같은 미세 가공 기술에 대한 요구가 엄격해지고 있는 실정이다.In recent years, with the rapid spread of information media such as computers and the rapid development of semiconductor devices, semiconductor devices are required to operate at high speed and have a large storage capacity. In response to these demands, as the manufacturing technology is developed in the direction of improving the integration, reliability, and response speed, the semiconductor device has a fine processing technology such as photolithography technology, which is a major technology for improving the integration density of the semiconductor device. The demand for is becoming more stringent.

상기 포토리소그래피(potolithography) 기술을 사용하여 웨이퍼 상에 집적 회로(integrated circuit)를 제조하는 경우에는 상기 웨이퍼에 형성된 포토레지스트(photoresist)에 정해진 패턴(predetermined pattern)이 형성된 레티클을 적용하는 노광 공정을 수행해야 한다.When fabricating an integrated circuit on a wafer using the photolithography technique, an exposure process of applying a reticle having a predetermined pattern to a photoresist formed on the wafer is performed. Should be.

일반적으로 이러한 레티클은 크롬이 형성된 영역들과 쿼츠 그 자체인 부분으로 나뉘어지는데, 크롬이 형성된 영역들은 광원으로부터 웨이퍼 상에 형성된 포토레지스트가 노출되는 것을 막아주고, 반면에, 쿼츠 그 자체인 투명한 영역들은 빛이 상기 포토레지스트를 통과하도록 허락한다. 그리고, 통상적으로 이러한 레티클에는 회로의 한 층의 패턴이 형성되어 있다. 그러므로, 상기 회로의 각 층의 패턴을 형성하기 위하여 각각의 다른 레티클이 사용되어 진다.In general, such a reticle is divided into chromium-formed regions and the quartz itself, where the chromium-formed regions prevent exposure of the photoresist formed on the wafer from the light source, while the transparent regions, which are quartz itself, Allow light to pass through the photoresist. In general, a pattern of one layer of a circuit is formed on such a reticle. Therefore, different reticles are used to form the pattern of each layer of the circuit.

이러한 레티클을 적용한 노광 공정을 수행하는 사진 장치의 한 예로 네덜란 드(The Netherlands)에 본부가 위치한 ASML 사에서 제작된 STEPPER 및 SCANNER 장치가 있다. An example of a photographic apparatus for performing an exposure process using such a reticle is a STEPPER and SCANNER apparatus manufactured by ASML, headquartered in The Netherlands.

도 1은 종래기술에 따른 레티클 수납 카세트를 구비하는 사진 장치를 나타내는 도이다. 1 is a view showing a photographic apparatus having a reticle accommodating cassette according to the prior art.

도 1을 참조하면, 사진 장치(10)는 광원(23), 빛을 포커싱하기 위한 한 개 또는 다수의 렌즈들(24), 여러 개의 레티클들(25) 및 상기 레티클들을 수납하기 위한 카세트(22)를 구비하여 이루어진다. Referring to FIG. 1, the photographic apparatus 10 includes a light source 23, one or more lenses 24 for focusing light, several reticles 25, and a cassette 22 for accommodating the reticles. ) Is made.

또한, 레티클 수납 카세트(22)는 케이스(20) 내에 수용되어 있고, 이렇게 케이스(20)를 구비하는 레티클 수납 카세트(22)를 소위 "SMIF 박스(Standardized Machinical InterFace Box)"라 불린다.In addition, the reticle storage cassette 22 is accommodated in the case 20, and the reticle storage cassette 22 provided with the case 20 in this way is called a "SMIF box (Standardized Machinical InterFace Box)".

이러한 레티클 수납 카세트(22)를 구비한 사진 장치(10)를 이용한 노광 공정을 도 1을 참조하여 간략하게 설명하면 다음과 같다. 먼저, 적용하고자 하는 필요한 패턴이 형성되어 있는 레티클(25)이 레티클 수납 카세트(22)에서 언 로드(Unload)된다. 이어서 두 개의 렌즈(24) 사이에 위치시킨다. 이어서, 광원(23)으로부터 빛이 레티클(25)을 통하여 웨이퍼(30)의 상면에 선택적으로 조사된다. 이어서, 웨이퍼(30) 상면에 형성된 포트레지스트에 패턴이 조사되어 진 후에 레티클(25)은 레티클 수납 카세트(22) 에 다시 로드(Load)된다. 물론, 이러한 레티클(25)을 레티클 수납 카세트에 언 로드(Unload) 및 로드(Load)하는 것은 사진 장치(10)에 구비된 로봇(도시하지 않음)에 의하여 이루어진다. An exposure process using the photo device 10 having the reticle accommodating cassette 22 will be briefly described with reference to FIG. 1 as follows. First, the reticle 25 in which the necessary pattern to be applied is formed is unloaded from the reticle accommodating cassette 22. It is then placed between two lenses 24. Then, light from the light source 23 is selectively irradiated to the upper surface of the wafer 30 through the reticle 25. Subsequently, after the pattern is irradiated to the port resist formed on the upper surface of the wafer 30, the reticle 25 is loaded again into the reticle accommodating cassette 22. Of course, the unloading and loading of the reticle 25 into the reticle accommodating cassette is performed by a robot (not shown) provided in the photo device 10.

이러한 노광 공정이 이루어지는 동안에 레티클 수납 카세트(22)에서 레티클 을 언 로드(Unload) 및 로드(Load)하면서, 다음과 같은 문제점이 발생된다. While the exposure process is performed, the following problems occur while unloading and loading the reticle in the reticle accommodating cassette 22.

도 2는 도시된 도 1의 레티클 수납 카세트를 설명하기 위하여 확대한 단면도이다.FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view illustrating the reticle accommodating cassette of FIG.

도 2를 참조하면, 레티클 수납 카세트(22)는 최상층에 수납된 레티클의 이탈을 방지하기 위한 한 쌍의 가이드(31)를 구비하여 이루어진다. 그리고, 상기 레티클과 근접하는 가이드(31)의 일단부(A)가 하방으로 돌출되도록 형성되어 있다. 그리고, 이러한 돌출 부위 때문에 레티클(25)을 수용하는 슬롯들(32) 중에 최상층의 슬롯의 입구의 높이(B)가 다른 슬롯들의 입구의 높이(C)에 비하여 작다. 이러한 구조적인 문제로 말미암아 최상층에 수납된 레티클(25)을 상기 로봇을 이용하여 언 로드(Unload) 및 로드(Load)할 때, 상기 레티클에 스크래치를 발생시킨다. 이러한 스크래치 문제로 말미암아 최상층의 슬롯이 사용되지 않고 있다. Referring to FIG. 2, the reticle accommodating cassette 22 includes a pair of guides 31 for preventing the reticle from being stored on the uppermost layer. Then, one end A of the guide 31 close to the reticle is formed to protrude downward. And, because of this protruding portion, the height B of the inlet of the uppermost slot among the slots 32 receiving the reticle 25 is smaller than the height C of the inlet of the other slots. This structural problem causes scratches on the reticle when unloading and loading the reticle 25 housed on the top layer using the robot. Due to this scratch problem, the topmost slot is not used.

따라서, 본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해소시키기 위하여 고안된 것으로, 모든 슬롯의 높이를 동일하게 하여 스크래치 발생을 억제하는 레티클 수납 카세트를 제공하는데 그 목적이 있다.Therefore, the present invention is devised to solve such a conventional problem, and an object thereof is to provide a reticle accommodating cassette which suppresses scratches by making all slots the same height.

상기 목적을 달성하기 위한 레티클 수납 카세트는; 베이스 플레이트와 상기 베이스 플레이트의 양측 가장자리로부터 수직 방향으로 서로 마주하도록 연장하는 한 쌍의 측벽과 상기 측벽들로부터 서로 마주하는 방향으로 돌출되며 다수의 레티클을 각각 수평 방향으로 지지하기 위한 다수의 지지부재 및 상기 측벽들의 상단 부들로부터 서로 마주하는 방향으로 돌출되며 상기 레티클들 중 최상층에 지지되는 레티클의 이탈을 방지하기 위한 한 쌍의 가이드를 구비하되, 상기 가이드들의 하부면은 상기 최상층의 레티클의 상면과의 간섭을 방지하기 위하여 평평한 표면 프로파일을 갖는다.         A reticle accommodating cassette for achieving the above object; A pair of side walls extending to face each other in a vertical direction from both side edges of the base plate and the base plate, a plurality of support members protruding in a direction facing each other from the side walls and supporting a plurality of reticles in a horizontal direction, respectively; A pair of guides protruding in a direction facing each other from the upper ends of the side walls and preventing separation of the reticle supported on the uppermost layer of the reticles, the lower surfaces of the guides being the upper surface of the reticle of the uppermost layer It has a flat surface profile to prevent interference.

본 발명에 따른 레티클 수납 카세트를 사용하면, 레티클을 수용하는 슬롯들 중에 최상층의 슬롯의 입구의 높이와 다른 슬롯들의 입구의 높이가 동일하게 되어 종래의 최상층의 슬롯에서 발생하던 레티클 스크래치를 억제함으로 최상층의 슬롯이 사용되어져 사진 장치의 가동률을 향상시킨다. Using the reticle accommodating cassette according to the present invention, the height of the inlet of the uppermost slot and the height of the inlet of the other slots is the same among the slots for accommodating the reticle, thereby suppressing the reticle scratches occurring in the slots of the conventional uppermost layer. Slots are used to improve the utilization of the photographic device.

이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 레티클 수납 카세트의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.   Hereinafter, preferred embodiments of the reticle accommodating cassette according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 레티클 수납용 카세트를 도시한 단면도이다. 3 is a cross-sectional view showing a cassette for reticle storage according to the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 레티클 수납용 카세트(100)는 바람직하게 다수의 레티클을 수납하여 사진 장치에 제공하기 위한 것이다. 더 바람직하게는 6개의 레티클을 수납하여 사진 장치에 제공하기 위한 것이다. 레티클 수납용 카세트(100)는 베이스 플레이트(102), 한 쌍의 측벽(104), 다수의 지지부재(110) 및 한 쌍의 가이드(118)를 구비하여 이루어진다. Referring to FIG. 3, the reticle accommodating cassette 100 according to an exemplary embodiment of the present invention is for storing a plurality of reticles and providing them to a photographic apparatus. More preferably, six reticles are stored and provided to the photographic apparatus. The reticle receiving cassette 100 includes a base plate 102, a pair of side walls 104, a plurality of support members 110, and a pair of guides 118.

구체적으로 레티클 수납용 카세트(100)는 베이스 플레이트(102)를 구비한다. 그리고, 베이스 플레이트(102)의 양측 가장자리로부터 수직 방향으로 서로 마주하도록 연장하는 한 쌍의 측벽(104)을 구비한다. 그리고, 바람직하게 베이스 플레이트(102)와 한 쌍의 측벽(104)에 한 쌍의 제1 연결부재(106)를 개재할 수 있다. Specifically, the reticle storage cassette 100 includes a base plate 102. And it has a pair of side walls 104 which extend so as to face each other in the vertical direction from both edges of the base plate 102. As shown in FIG. In addition, the base plate 102 and the pair of sidewalls 104 may be provided with a pair of first connecting members 106.                     

그리고, 측벽(104)들로부터 서로 마주하는 방향으로 돌출되며 다수의 레티클(108)을 각각 수평 방향으로 지지하기 위한 다수의 지지부재(110)를 구비한다. 그리고, 바람직하게 다수의 지지부재(110)는 레티클(108)이 지지되는 부위, 즉 지지부재(108)의 레티클(108)이 위치하는 방향의 일단부에서 상방으로 수직한 제1 돌기(112)를 구비한다. 바람직하게 한 쌍의 측벽(104), 다수의 지지부재(110) 및 제1 돌기(112)는 일체로 제작된다.In addition, a plurality of support members 110 protrude from the side walls 104 to face each other and support the plurality of reticles 108 in a horizontal direction, respectively. In addition, the plurality of support members 110 may include a first protrusion 112 that is vertically upward from one end of the portion where the reticle 108 is supported, that is, the direction in which the reticle 108 of the support member 108 is located. It is provided. Preferably, the pair of side walls 104, the plurality of support members 110 and the first protrusion 112 are integrally manufactured.

그리고, 바람직하게 지지부재들(112) 상에 배치되어 유연한 재질, 예컨대 고무로 이루어지며 레티클(108)이 지지부재들(110)의 제1 돌기(112)에 로딩될 때에 충격으로부터 보호하기 위한 보호부재(114)를 개재한다. 더 바람직하게 보호부재(114)가 레티클(108)과 접하는 부위에 보호부재(114)로부터 돌출된 제2 돌기(116)를 구비한다. 바람직하게 보호부재(114)와 제2 돌기(116)는 일체로 제작한다. And is preferably disposed on the support members 112 and made of a flexible material, such as rubber, for protection against impact when the reticle 108 is loaded onto the first protrusion 112 of the support members 110. The member 114 is interposed. More preferably, the protection member 114 includes a second protrusion 116 protruding from the protection member 114 at a portion in contact with the reticle 108. Preferably, the protective member 114 and the second protrusion 116 are manufactured integrally.

그리고, 측벽(104)들의 상단부들로부터 서로 마주하는 방향으로 돌출되며 레티클들(108) 중 최상층에 지지되는 레티클(108)의 이탈을 방지하기 위한 한 쌍의 제1 가이드(118)를 구비한다. 그리고, 제1 가이드(118)들의 하부면은 상기 최상층의 레티클(108)의 상면과의 간섭을 방지하기 위하여 평평한 표면 프로파일을 갖는다. In addition, a pair of first guides 118 protrude in a direction facing each other from the upper ends of the sidewalls 104 and to prevent separation of the reticle 108 supported on the uppermost layer of the reticles 108. The lower surface of the first guides 118 has a flat surface profile to prevent interference with the upper surface of the uppermost reticle 108.

그리고, 바람직하게 각각의 지지부재들(110)과 각각의 제1 가이드(118)의 하면들로부터 하방으로 연장하며 레티클들(108)의 수평 위치를 한정하기 위한 다수의 제2 가이드들(120)을 구비한다. And, preferably, the plurality of second guides 120 extending downward from the bottom surfaces of the respective support members 110 and the respective first guides 118 and defining the horizontal position of the reticles 108. It is provided.

그리고, 바람직하게 베이스 플레이트(102)의 후단 부위로부터 수직 방향으로 연장하며 레티클들(108)이 베이스 플레이트(104)의 후단 방향으로 이탈되는 것을 방지하기 위한 제3 가이드(122)를 구비한다. 바람직하게 제3 가이드(122)는 베이스 플레이트(122)와 일체로 형성된 제2 연결부재(124)에 체결기구(126)로 연결된다. And, it is preferably provided with a third guide 122 for extending in the vertical direction from the rear end portion of the base plate 102 and preventing the reticles 108 from being separated in the rear end direction of the base plate 104. Preferably, the third guide 122 is connected to the second connecting member 124 integrally formed with the base plate 122 by the fastening mechanism 126.

그리고, 바람직하게 한 쌍의 제1 가이드들(118)이 서로 연결되어 파티클로부터 레티클들(108)을 보호하기 위한 상판부재(128)를 구비한다.In addition, the pair of first guides 118 are preferably connected to each other and includes a top plate 128 for protecting the reticles 108 from the particles.

본 발명의 실시예에 따른 레티클 수납 카세트(100)를 구비한 사진장치(10)를 이용한 노광 공정을 도 1을 참조하여 간략하게 설명하면 다음과 같다. 먼저, 적용하고자 하는 필요한 패턴이 형성되어 있는 레티클(108)이 레티클 수납 카세트(100)에서 언 로드(Unload)된다. 이어서 두 개의 렌즈(24) 사이에 위치시킨다. 이어서, 광원(23)으로부터 빛이 레티클(108)을 통하여 웨이퍼(30)의 상면에 선택적으로 조사된다. 이어서, 웨이퍼(30) 상면에 형성된 포트레지스트에 패턴이 조사되어 진 후에 레티클(108)은 레티클 수납 카세트(22) 에 다시 로드(Load)된다. 물론, 상기 레티클(108)을 레티클 수납 카세트에 언 로드(Unload) 및 로드(Load)하는 것은 사진 장치(10)에 구비된 로봇(도시하지 않음)에 의하여 이루어진다.An exposure process using the photo device 10 having the reticle accommodating cassette 100 according to an exemplary embodiment of the present invention will be briefly described with reference to FIG. 1. First, the reticle 108 in which the necessary pattern to be applied is formed is unloaded from the reticle accommodating cassette 100. It is then placed between two lenses 24. Light from the light source 23 is then selectively irradiated to the upper surface of the wafer 30 through the reticle 108. Subsequently, after the pattern is irradiated to the port resist formed on the upper surface of the wafer 30, the reticle 108 is loaded back into the reticle accommodating cassette 22. Of course, unloading and loading the reticle 108 into the reticle accommodating cassette is performed by a robot (not shown) provided in the photo device 10.

이로써, 본 발명에 따른 레티클 수납 카세트(100)는 제1 가이드(118)들의 하부면(D)이 평평한 표면 프로파일을 가짐으로 레티클(108)을 수용하는 슬롯들(130) 중에 최상층의 슬롯의 입구의 높이(B)와 다른 슬롯들(130)의 입구의 높이(C)가 동일하게 되어 종래의 최상층의 슬롯에서 발생하던 레티클 스크래치를 억제함으로 최상층의 슬롯이 사용되어져 사진 장치의 가동률을 향상시킨다.Thus, the reticle accommodating cassette 100 according to the present invention has an inlet of the uppermost slot of the slots 130 for receiving the reticle 108 as the lower surface D of the first guides 118 has a flat surface profile. The height (B) of the and the height (C) of the inlet of the other slots 130 is the same to suppress the reticle scratches occurring in the slot of the conventional top layer is used the slot of the top layer to improve the operation rate of the photographic apparatus.

따라서, 본 발명에 따른 레티클 수납 카세트을 사용하면, 레티클을 수용하는 슬롯들 중에 최상층의 슬롯의 입구의 높이와 다른 슬롯들의 입구의 높이가 동일하게 되어 종래의 최상층의 슬롯에서 발생하던 레티클 스크래치를 억제함으로 최상층의 슬롯이 사용되어져 사진 장치의 가동률을 향상시킨다.  Therefore, using the reticle accommodating cassette according to the present invention, the height of the inlet of the slot of the top layer and the height of the inlet of the other slots among the slots for receiving the reticle is the same, thereby suppressing the reticle scratch that occurred in the slot of the conventional top layer Slots on the top floor are used to improve the availability of the photographic device.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. I can understand that you can.

Claims (4)

베이스 플레이트; Base plate; 상기 베이스 플레이트의 양측 가장자리로부터 수직 방향으로 서로 마주하도록 연장하는 한 쌍의 측벽;A pair of side walls extending from both edges of the base plate to face each other in a vertical direction; 상기 측벽들로부터 서로 마주하는 방향으로 돌출되며 다수의 레티클을 각각 수평 방향으로 지지하기 위한 다수의 지지부재; 및A plurality of support members protruding from the side walls in a direction facing each other and supporting a plurality of reticles in a horizontal direction, respectively; And 상기 측벽들의 상단부들로부터 서로 마주하는 방향으로 돌출되며 상기 레티클들 중 최상층에 지지되는 레티클의 이탈을 방지하기 위한 한 쌍의 가이드를 구비하되,A pair of guides protruding in a direction facing each other from the upper ends of the side walls and preventing separation of the reticle supported on the uppermost layer of the reticles, 상기 가이드들의 하부면은 상기 최상층의 레티클의 상면과의 간섭을 방지하기 위하여 평평한 표면 프로파일을 갖는 것을 특징으로 하는 레이클 수납 카세트.And a lower surface of the guides having a flat surface profile to prevent interference with an upper surface of the reticle of the uppermost layer. 제1항에 있어서, 상기 각각의 지지부재와 상기 각각의 가이드의 하면들로부터 하방으로 연장하며 상기 레티클들의 수평 위치를 한정하기 위한 다수의 제2가이드들을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 레티클 수납 카세트.The reticle storage cassette according to claim 1, further comprising a plurality of second guides extending downward from the lower surfaces of the respective supporting members and the respective guides and defining the horizontal position of the reticles. 제1항에 있어서, 상기 각각의 지지부재들 상에 배치되어 유연한 재질로 이루어지며 상기 레티클들을 보호하기 위한 보호 부재를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 레티클 수납 카세트.The reticle accommodating cassette of claim 1, further comprising a protective member disposed on the respective supporting members, the flexible material being configured to protect the reticles. 제1항에 있어서, 상기 베이스 플레이트의 후단 부위로부터 수직 방향으로 연장하며 상기 레티클들이 상기 베이스 플레이트의 후단 방향으로 이탈되는 것을 방지하기 위한 제2가이드를 더 구비하는 것을 특징으로 레티클 수납 카세트.The reticle accommodating cassette of claim 1, further comprising a second guide extending in a vertical direction from a rear end portion of the base plate and preventing the reticles from escaping in a rear end direction of the base plate.
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