KR100924767B1

KR100924767B1 - Gas Integrated Uint

Info

Publication number: KR100924767B1
Application number: KR1020070129668A
Authority: KR
Inventors: 오기하라 타츠노리; 이노우에 타카시; 이나가키 타케야
Original assignee: 씨케이디 가부시키 가이샤
Priority date: 2006-12-25
Filing date: 2007-12-13
Publication date: 2009-11-05
Also published as: KR20080059506A; JP4355724B2; TW200828484A; CN101210317B; JP2008159905A; TWI349321B; CN101210317A

Abstract

The challenge: to provide a gas integration unit that can reduce foot space.

Solution: A plurality of fluid control devices 31 to 34, 38A to 43A, 38B to 43B connected to the first gas units 72A, 72B and 72C for controlling the supply of the first gas to the gas integration unit 1. , The second gas unit 73 that controls the purge gas joined to the first gas units 72A, 72B, and 72C by 38C to 43C, and the stack that is hit by the first gas units 72A, 72B, and 72C. Blocks 61A, 61B, 61C are provided, and portions 38A, 38B, 38C of the fluid control device are hit on the stacked blocks 61A, 61B, 61C.

Description

Gas integrated unit

본 발명은 가스 유닛과 퍼지 가스 유닛을 구비하는 가스 집적 유닛에 관한 것이다.The present invention relates to a gas integration unit having a gas unit and a purge gas unit.

종래부터, 반도체 제조 장치에서는 처리실의 웨이퍼에 작용 가스를 일정량씩 공급하여, 웨이퍼에 막을 형성하고 있다. 웨이퍼에는 여러 종류의 작용 가스가 공급되어, 성막이 적층된다. 작용가스의 유량은 성막 품질에 영향을 주기 때문에, 반도체 제조장치는 작용 가스의 공급을 제어하기 위한 프로세스 가스 유닛을 복수 탑재한 가스 집적 유닛을 처리실의 상류 쪽에 배치하고 있다.Conventionally, in the semiconductor manufacturing apparatus, a certain amount of working gas is supplied to the wafer of the processing chamber to form a film on the wafer. Various kinds of working gases are supplied to the wafer to deposit film. Since the flow rate of the working gas affects the film formation quality, the semiconductor manufacturing apparatus arranges a gas integration unit having a plurality of process gas units for controlling the supply of the working gas upstream of the processing chamber.

성막 품질을 양호하게 하기 위해서는, 웨이퍼에 공급하는 작업 가스의 성분을 엄밀히 관리할 필요가 있다. 그 때문에, 가스 집적 유닛은 각 프로세스 가스 유닛에 퍼지 가스 유닛을 접속하여 퍼지 가스를 합류시키고, 프로세스 가스 유닛의 유로 내에 잔류하는 작용 가스를 제거한다. 이것에 의해, 가스 집적 유닛은 작용 가스를 소정 성분으로 조정하여, 웨이퍼에 공급할 수 있다.In order to improve the film formation quality, it is necessary to strictly manage the components of the working gas supplied to the wafer. Therefore, the gas integration unit connects the purge gas unit to each process gas unit, joins the purge gas, and removes the working gas remaining in the flow path of the process gas unit. As a result, the gas integration unit can adjust the working gas to a predetermined component and supply it to the wafer.

특허문헌: 일본공개특허 평11-50257호 공보Patent Document: Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-50257

그러나, 종래의 가스 집적 유닛은 퍼지 유닛이 퍼지 가스의 공급을 제어하기 위한 복수의 유체 제어 기기를 구비하고, 그 퍼지 가스 유닛을 가스 유닛의 횡에 병렬로 설치하고 있기 때문에, 풋 스페이스(foot space)가 커졌다.However, the conventional gas accumulation unit has a foot space because the purge unit includes a plurality of fluid control devices for controlling the supply of purge gas, and the purge gas unit is installed in parallel to the gas unit. ) Became large.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것이고, 풋 스페이스를 작게 할 수 있는 가스 집적 유닛을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a gas integration unit capable of reducing a foot space.

본 발명에 관한 가스 집적 유닛은 다음과 같은 구성을 가진다.The gas accumulation unit according to the present invention has the following configuration.

(1) 제1 가스의 공급을 제어하는 제1 가스 유닛과, 상기 제1 가스 유닛에 접속하고, 복수의 유체 제어 기기에 의해 상기 제1 가스 유닛에 합류되는 제2 가스를 제어하는 제2 가스 유닛과, 상기 제1 가스 유닛에 적중되는 적층 블록을 가지며, 상기 유체 제어 기기의 일부를 상기 적층 블록에 적중한 가스 집적 유닛이다.(1) 2nd gas which connects to the 1st gas unit which controls supply of a 1st gas, and the 2nd gas connected to the said 1st gas unit and joined to the said 1st gas unit by a some fluid control apparatus. It is a gas integration unit which has a unit and the laminated block hitting the said 1st gas unit, and hit | attached a part of the said fluid control apparatus to the laminated block.

또한, 유체 제어 기기의 일부는, 예를 들면, 매스 플로우 컨트롤러(mass flow controller), 매스 플로우 미터(mass flow mater), 역지 밸브, 오리피스(orifice), 에어 오퍼레이터 밸브(air operator valve) 등의 가스를 제어하는 기기를 말한다. 유체 제어 기기의 일부는 1개의 유체 제어 기기이어도 좋고, 복수의 유체 제어 기기이어도 좋다.In addition, a part of the fluid control device may be, for example, a gas such as a mass flow controller, a mass flow mater, a check valve, an orifice, an air operator valve, or the like. Speak the device to control. Part of the fluid control device may be one fluid control device or a plurality of fluid control devices.

(2) (1)의 기재의 발명에 있어서, 상기 적층 블록은 상기 제1 가스 유닛에 포함되는 배관을 덮도록 설치되어 있다.(2) In the invention described in (1), the laminated block is provided so as to cover a pipe included in the first gas unit.

(3) (1)의 기재의 발명에 있어서, 상기 적층 블록은 상기 유체 제어 기기의 일부가 재치되는 하부 유로 블록을 고정하기 위한 고정부와 상기 제1 가스 유닛에 접하는 지지구를 가지며, 히터가 장착된다.(3) In the invention described in (1), the laminated block has a fixing portion for fixing a lower flow path block on which a part of the fluid control device is placed and a support for contacting the first gas unit. Is mounted.

(4) (1)의 기재의 발명에 있어서, 상기 유체 제어 기기의 일부가 매스 플로우 컨트롤러 또는 매스 플로우 미터이다.(4) In the invention described in (1), part of the fluid control device is a mass flow controller or mass flow meter.

상기 구성을 가지는 본 발명의 가스 집적 유닛은, 제1 가스의 공급을 제어하는 제1 가스 유닛에 적층 블록을 적중하고, 또한, 제2 가스 유닛을 구성하는 유체 제어 기기의 일부를 적층 블록에 적중하여 배치한다. 이것에 의해, 제2 가스 유닛을 구성하는 유체 제어 기기의 일부가 제1 가스 유닛과 이단 구조로 되기 때문에, 가스 집적 유닛의 풋 스페이스는, 적층 블록에 적중한 유체 제어 기기의 풋 스페이스만큼 작아진다. 따라서, 본 발명의 가스 집적 유닛에 의하면, 풋 스페이스를 작게 할 수 있다.The gas integration unit of the present invention having the above structure hits the stacking block on the first gas unit that controls the supply of the first gas, and also hits the stacking block on a part of the fluid control device constituting the second gas unit. Place it. As a result, a part of the fluid control device constituting the second gas unit has a two-stage structure with the first gas unit, so that the foot space of the gas integration unit is as small as the foot space of the fluid control device that hits the stacked block. . Therefore, according to the gas accumulation unit of this invention, foot space can be made small.

본 발명의 가스 집적 유닛은 제1 가스 유닛에 포함되는 배관을 덮도록 적층 블록을 배치하기 위해, 제1 가스 유닛의 폭 치수에 놓이도록 적층 블록을 배치할 수 있다.The gas integration unit of the present invention may arrange the stacking block so as to lie in the width dimension of the first gas unit, in order to arrange the stacking block to cover the piping included in the first gas unit.

본 발명의 가스 집적 유닛은 적층 블록에 고정한 하부 유로 블록에 대하여 유체 제어 기기의 일부를 고정하고, 적층 블록을 히터로 가열한다. 적층 블록의 지지구에 접하는 제1 가스 유닛은 히터의 열이 적층 블록에서 전달되어 따뜻하게 되어, 예를 들면 제1 가스가 제1 가스 유닛의 유로 내에서 굳어지는 이상을 회피할 수 있다. 따라서, 본 발명의 가스 집적 유닛에 의하면, 1개의 적층 블록에 하부 유로 블록을 고정하는 역할과, 히터의 열을 제1 가스 유닛으로 전달하는 역할을 겸비하게 하는 것이 가능하다.The gas integration unit of the present invention fixes a part of the fluid control device with respect to the lower flow path block fixed to the laminated block, and heats the laminated block with a heater. The first gas unit, which is in contact with the support of the stacking block, is warmed by the heat of the heater being transferred from the stacking block, so that, for example, an abnormality in which the first gas is solidified in the flow path of the first gas unit can be avoided. Therefore, according to the gas integration unit of the present invention, it is possible to have a role of fixing the lower flow path block to one stacked block and of transferring heat of the heater to the first gas unit.

본 발명의 가스 집적 유닛은 풋 스페이스가 큰 매스 플로우 컨트롤러 또는 매스 플로우 미터를 적층 블록에 적중하기 때문에, 유닛 전체의 풋 스페이스를 효율이 좋게 작게 할 수 있다.Since the gas integration unit of the present invention hits a mass flow controller or a mass flow meter having a large foot space on the stacked block, the foot space of the entire unit can be efficiently reduced.

다음으로, 본 발명에 관한 가스 집적 유닛의 일실시의 형태에 관하여 도면을 참조하여 설명한다.Next, an embodiment of a gas integration unit according to the present invention will be described with reference to the drawings.

<회로 설명><Circuit description>

도 1은 가스 집적 유닛의 회로도이다.1 is a circuit diagram of a gas integration unit.

가스 집적 유닛(1)은 도시하지 않은 가스 탱크와 도시하지 않은 처리실과의 사이에 배치되며, 도시하지 않은 가스 탱크의 작용 가스를 도시하지 않은 처리실에 소정량씩 공급하기 위해 제1 ~ 제3 프로세스 가스 라인(2A, 2B, 2C)을 구비한다. 또한 가스 집적 유닛(1)은 제1 ~ 제3 프로세스 가스 라인(2A, 2B, 2C)을 퍼지하기 위한 퍼지 가스 라인(6)을 구비한다.The gas accumulation unit 1 is disposed between a gas tank (not shown) and a processing chamber (not shown), and includes first to third processes for supplying a predetermined amount of the working gas of the gas tank (not shown) to the processing chamber (not shown). Gas lines 2A, 2B, and 2C. The gas integration unit 1 also includes a purge gas line 6 for purging the first to third process gas lines 2A, 2B, and 2C.

제1 ~ 제3 프로세스 가스 라인(2A, 2B, 2C)에는 복수의 유체 제어 기기가 설치되어 있다. 수동밸브(11A, 11B, 11C)는 작용가스 입력구(3A, 3B, 3C)를 통해 도시하지 않은 가스 탱크에 접속한다. 수동밸브(11A, 11B, 11C)는 필터(12A, 12B, 12C)와, 레귤레이터(13A, 13B, 13C)와 압력계(14A, 14B, 14C)를 통해, 제1 프로세 스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A, 15B, 15C)에 접속하고 있다.A plurality of fluid control devices are provided in the first to third process gas lines 2A, 2B, and 2C. The manual valves 11A, 11B and 11C are connected to a gas tank (not shown) via the working gas input ports 3A, 3B and 3C. Manual valves 11A, 11B, 11C are first process-side air operator valves 15A through filters 12A, 12B, 12C, regulators 13A, 13B, 13C, and pressure gauges 14A, 14B, 14C. , 15B, 15C).

제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A, 15B, 15C)는 프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16A, 16B, 16C)를 통해 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A, 17B, 17C)에 접속하고 있다. 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A, 17B, 17C)는 필터(18A, 18B, 18C)를 통해 공통 출력구(4A, 4B, 4C)에 접속하고 있다. 공통 출력구(4A, 4B, 4C)는 도시하지 않은 처리실에 접속된다.The 1st process side air operator valve 15A, 15B, 15C is connected to the 2nd process side air operator valve 17A, 17B, 17C via the process side mass flow controller 16A, 16B, 16C. The 2nd process side air operator valve 17A, 17B, 17C is connected to common output port 4A, 4B, 4C via the filter 18A, 18B, 18C. Common output ports 4A, 4B, 4C are connected to a processing chamber (not shown).

또한 프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16A, 16B, 16C)는 제3 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(19A, 19B, 19C)에도 접속하고 있다. 제3 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(19A, 19B, 19C)는 프로세스측 역지 밸브(20A, 20B, 20C)를 통해 배기구(5A, 5B, 5C)에 접속하고 있다. 배기구(5A, 5B, 5C)는 도시하지 않은 배기 유로에 접속된다.The process side mass flow controllers 16A, 16B and 16C are also connected to the third process side air operator valves 19A, 19B and 19C. The 3rd process side air operator valve 19A, 19B, 19C is connected to exhaust port 5A, 5B, 5C via process side check valve 20A, 20B, 20C. The exhaust ports 5A, 5B and 5C are connected to an exhaust flow path not shown.

이것에 대하여, 퍼지 가스 라인(6)도 복수의 유체 제어 기기가 설치되어 있다. 수동 밸브(31)는 퍼지 가스 입력구(7)를 통하여 도시하지 않은 퍼지 가스 탱크가 접속한다. 수동 밸브(31)는 필터(32)와 레귤레이터(33)와 압력계(34)를 통해 제1 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(35)에 접속한다. 제1 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(35)는 제1 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(36)와 제2 퍼지측 어에 오퍼레이터 밸브(37)를 통해 퍼지 가스 배기구(8)에 접속하고 있다. 퍼지 가스 배기구(8)는 도시하지 않은 배기 유로에 접속된다.In contrast, the purge gas line 6 is also provided with a plurality of fluid control devices. The manual valve 31 is connected to a purge gas tank (not shown) through the purge gas input port 7. The manual valve 31 is connected to the first purge side air operator valve 35 through the filter 32, the regulator 33, and the pressure gauge 34. The first purge side air operator valve 35 is connected to the purge gas exhaust port 8 via the first purge side mass flow controller 36 and the second purge side air operator valve 37. The purge gas exhaust port 8 is connected to an exhaust flow path not shown.

압력계(34)는 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)에도 접속하고 있다. 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)는 퍼지 역지밸브(39A, 39B, 39C)와 제3 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(40A, 40B, 40C)를 통하여, 제1 ~제3 프로세스 가스 라인(2A, 2B, 2C)의 프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16A, 16B, 16C)의 상류 쪽에 접속하고 있다.The pressure gauge 34 is also connected to the 2nd purge side mass flow controller 38A, 38B, 38C. The second purge side mass flow controllers 38A, 38B, and 38C are the first to third process gases through the purge check valves 39A, 39B and 39C and the third purge side air operator valves 40A, 40B and 40C. It is connected to the upstream side of the process side mass flow controllers 16A, 16B, and 16C of the lines 2A, 2B, and 2C.

또한, 압력계(34)는 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A, 41B, 41C)에도 접속하고 있다. 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A, 41B, 41C)는 제3 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(42A, 42B, 42C)와 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43A, 43B, 43C)를 통하여 제1 ~ 제3 프로세스 가스 라인(2A, 2B, 2C)의 필터(18A, 18B, 18C)의 상류 쪽에 접속하고 있다.The pressure gauge 34 is also connected to the fourth purge side air operator valves 41A, 41B, and 41C. The fourth purge-side air operator valves 41A, 41B, and 41C are formed through the third purge-side mass flow controllers 42A, 42B, and 42C and the fifth purge-side air operator valves 43A, 43B, and 43C. It is connected to the upstream side of the filter 18A, 18B, 18C of 3 process gas lines 2A, 2B, and 2C.

<전체구성><Overall Configuration>

도 2는 도 1에 도시한 회로를 구체화한 본 발명의 실시형태에 관한 가스 집적 유닛(1)의 평면도이다.FIG. 2 is a plan view of the gas accumulation unit 1 according to the embodiment of the present invention incorporating the circuit shown in FIG.

가스 집적 유닛(1)에는 제1 ~제3 프로세스 가스 라인(2A, 2B, 2C)을 구성하고, 「제1 가스」의 일례인 작용 가스의 공급을 제어하는 제1 ~ 제3 프로세스 가스 유닛(「제1 가스 유닛」에 상당)(72A, 72B, 72C)과, 퍼지 가스 라인(6)을 구성하며, 「제2 가스」의 일례인 퍼지 가스의 공급을 제어하는 퍼지 가스 유닛(「제2 가스 유닛」에 상당)(73)이 설치판(9)에 고정되어 있다. 제1 ~ 제3 프로세스 가스 유닛(72A, 72B, 72C)은 구성이 동일하므로, 여기서는 제1 프로세스 가스 유닛(72A)을 예로 들어 구성을 설명한다.The gas integration unit 1 comprises the first to third process gas lines 2A, 2B, and 2C, and controls the supply of the working gas which is an example of the "first gas" to the first to third process gas units ( A purge gas unit (corresponding to the "first gas unit") (72A, 72B, 72C) and the purge gas line 6, which controls the supply of purge gas which is an example of the "second gas" (the "second gas unit"). 73) is fixed to the mounting plate 9. Since the first to third process gas units 72A, 72B, and 72C have the same configuration, the configuration will be described using the first process gas unit 72A as an example.

<프로세스 가스 유닛><Process Gas Unit>

도 3은, 도 2의 A-A 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

제1 프로세스 가스 유닛(72A)은 수동밸브(11A)의 입력 포트가 입력 블록(21)에 설치된 작용 가스 입력구(3A)에 연통하고, 프로세스 가스의 입력을 제어한다. 수동 밸브(11A)는 출력 포트가 V자 유로 블록(22)을 통하여 필터(21A)의 입력 포트에 접속한다.The first process gas unit 72A communicates with the working gas input port 3A provided at the input block 21 of the input port of the manual valve 11A, and controls the input of the process gas. The manual valve 11A has an output port connected to the input port of the filter 21A via the V-shaped flow path block 22.

필터(12A)는 출력 포트가 V자 유로 블록(22)을 통하여 레귤레이터(13A)의 입력 포트에 접속하고, 파티클(particle) 등을 제거한 작용 가스를 레귤레이터(13A)에 공급한다. 레귤레이터(13A)는 출력 포트가 V자 유로 블록(22)을 통하여 압력계(14A)의 입력 포트에 접속하며, 압력계(14A)가 설정압력을 나타내도록 작용가스의 압력을 조정한다.The filter 12A has an output port connected to the input port of the regulator 13A via the V-shaped flow path block 22, and supplies the working gas from which particles and the like are removed to the regulator 13A. The regulator 13A connects the output port to the input port of the pressure gauge 14A via the V-shaped flow path block 22, and adjusts the pressure of the working gas so that the pressure gauge 14A shows the set pressure.

압력계(14A)의 출력 포트는 L자 유로가 형성된 유로 블록(23), 배관(24), 유로 블록(23), 제1 공통 유로 블록(25)을 통해 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A)의 제3 포트에 접속하고 있다. 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터(15A)는 삼방 밸브로서, 밸브 개도에 따라 작용가스의 공급량을 제어한다. 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A)의 제2 포트는 V자 유로 블록(22)을 통하여 프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16A)의 입력 포트에 접속한다.The output port of the pressure gauge 14A is the first process-side air operator valve 15A through the flow path block 23, the pipe 24, the flow path block 23, and the first common flow path block 25 in which the L-shaped flow path is formed. Is connected to the third port of. The first process-side air operator 15A is a three-way valve and controls the supply amount of the working gas in accordance with the valve opening degree. The second port of the first process-side air operator valve 15A is connected to the input port of the process-side mass flow controller 16A via the V-shaped flow path block 22.

프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16A)는 출력 포트가 V자 유로 블록(22)을 통하여 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A)의 제2 포트에 접속하여, 작용가스의 유량 조정을 행한다. 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A)는 삼방 밸브로서, 밸브 개도에 따라 작용가스의 공급량을 제어한다. 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A)의 제3 포트는 제2 공통 유로 블록(26), V자 유로 블록(22), 합류 블록(27), V자 유로 블록(22)을 통해 필터(18A)의 입력 포트에 접속한다. 필터(18A)의 출력 포트는 출력 블록(28)에 설치된 공통 출력구(4A)에 연통하여, 파티클 등을 제거한 작용가스를 출력한다.The process-side mass flow controller 16A connects the output port to the second port of the second process-side air operator valve 17A via the V-shaped flow path block 22 to adjust the flow rate of the working gas. The second process-side air operator valve 17A is a three-way valve and controls the supply amount of the working gas in accordance with the valve opening degree. The third port of the second process-side air operator valve 17A passes through the second common flow path block 26, the V-shaped flow path block 22, the joining block 27, and the V-shaped flow path block 22. To the input port. The output port of the filter 18A communicates with the common output port 4A provided in the output block 28 to output the working gas from which particles and the like are removed.

제1 프로세스 가스 유닛(72A)의 하부 유로 블록(21, 22, 23, 28)은 위쪽에서 끼워진 도시하지 않은 볼트에 의해 설치판(9)에 고정된다. 그리고, 상기 수동 밸브(11A), 필터(12A), 레귤레이터(13A), 압력계(14A), 제1 공통유로 블록(25), 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A), 프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16A), 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A), 제2 공통유로 블록(26), 합류 블록(27), 필터(18A)는 위쪽에서 끼워진 볼트(V)를 이용하여 하부 유로 블록(21, 22, 23, 28)에 각각 고정된다.The lower flow path blocks 21, 22, 23, 28 of the first process gas unit 72A are fixed to the mounting plate 9 by bolts (not shown) fitted from above. The manual valve 11A, the filter 12A, the regulator 13A, the pressure gauge 14A, the first common flow path block 25, the first process side air operator valve 15A, and the process side mass flow controller ( 16A, the second process-side air operator valve 17A, the second common flow path block 26, the joining block 27, and the filter 18A are connected to the lower flow path block 21 by using a bolt V fitted from above. 22, 23 and 28, respectively.

또한, 배관(24)의 양단은 유로 블록(23, 23)에 용접되어, 후술하는 적층 블록(61)으로 덮여 있다. 도 2에 도시한 것처럼, 적층 블록(61)은 4개의 볼트(Vp, Vp, Vp, Vp)를, 위쪽에서 네 귀퉁이를 관통하여 설치판(9)에 체결하는 것에 의해 고정되어 있다. In addition, both ends of the pipe 24 are welded to the flow path blocks 23 and 23 and covered with the laminated block 61 described later. As shown in FIG. 2, the laminated block 61 is fixed by fastening four bolts Vp, Vp, Vp, and Vp to the mounting plate 9 through four corners from above.

<퍼지 가스 유닛><Purge gas unit>

이에 대하여, 도 2에 도시한 퍼지 가스 유닛(73)은 수동 밸브(31), 필터(32), 레귤레이터(33), 압력계(34)가 상술한 수동 밸브(11A), 필터(12A), 레귤레이터(13A), 압력계(14A)와 마찬가지로 설치판(9)에 고정되며, 서로 연통하고 있다.In contrast, the purge gas unit 73 illustrated in FIG. 2 includes the manual valve 31, the filter 32, the regulator 33, the pressure gauge 34, the manual valve 11A, the filter 12A, and the regulator described above. Similarly to 13A and 14A of pressure gauges, they are fixed to the mounting plate 9 and communicate with each other.

압력계(34)는 배관(44), 분기 블록(45)을 통해 제1 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(35)의 입력 포트에 접속한다. 제1 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(35)의 출력 포트는 제1 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(36)를 통하여 제2 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(37)의 입력 포트에 접속한다. 제2 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(37)의 출력 포트는 퍼지 가스 배기구(8)에 접속한다. 따라서, 퍼지 가스는 제1 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(35)를 통과한 퍼지 가스를 제1 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(36)에 의해 유량 조정한 후, 제2 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(37)를 통해 퍼지 가스 배기구(8)에서 배기한다. The pressure gauge 34 is connected to an input port of the first purge-side air operator valve 35 through a pipe 44 and a branch block 45. The output port of the first purge side air operator valve 35 is connected to the input port of the second purge side air operator valve 37 via the first purge side mass flow controller 36. The output port of the second purge side air operator valve 37 is connected to the purge gas exhaust port 8. Accordingly, the purge gas is flow rate adjusted by the first purge side mass flow controller 36 after passing through the first purge side air operator valve 35 and then through the second purge side air operator valve 37. It exhausts from the purge gas exhaust port 8.

분기 블록(45)은 배관(46)을 통해 분류 블록(47, 48)에 접속한다. 분류 블록(47)에는 위에서 접속하는 배관(46)을 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A, 41C)의 입력 포트에 접속하게 하기 위한 유로가 형성되어 있다. 한편, 분류 블록(48)에는 위에서 접속하는 배관(46)을 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41B)의 입력 포트에 접속하게 하기 위한 유로가 형성되어 있다. 또한, 배관(46)은 분류 블록(48)의 위에서 L자형으로 굽어있고, 제1 ~ 제3 프로세스 가스 라인(2A, 2B, 2C)(도 1)을 구성하는 압력계(14A, 14B, 14C)의 옆에 설치된 V자 유로 블록(22, 22, 22)의 상면에 접속하고 있다.The branch block 45 is connected to the dividing blocks 47 and 48 through the pipe 46. The flow dividing block 47 is formed with a flow path for connecting the pipe 46 connected from above to the input ports of the fourth purge-side air operator valves 41A and 41C. On the other hand, in the dividing block 48, the flow path for connecting the piping 46 connected from the top to the input port of the 4th purge side air operator valve 41B is formed. In addition, the pipe 46 is bent L-shaped above the fractionation block 48, and the pressure gauges 14A, 14B, 14C constituting the first to third process gas lines 2A, 2B, 2C (FIG. 1). It is connected to the upper surface of the V-shaped flow path blocks 22, 22, and 22 provided next to.

도 3에 도시한 것처럼, 후술하는 적층 블록(61A)의 상면에는, 2개의 V자 유로 블록(22, 22) 위쪽에 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A)가 설치되어 있다. V자 유로 블록(22, 22)은 도시하지 않은 볼트에 의해 적층 블록(61A)에 고정되어 있다. 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A)는 위에서 끼워진 4개의 볼트(V, V, V, V)에 의해 V자 유로 블록(22, 22)에 고정되어 있다.As shown in FIG. 3, the 2nd purge side mass flow controller 38A is provided in the upper surface of 61 A of laminated blocks mentioned later above two V-shaped flow path blocks 22 and 22. As shown in FIG. The V-shaped flow path blocks 22 and 22 are fixed to the laminated block 61A by bolts (not shown). The second purge-side mass flow controller 38A is fixed to the V-shaped flow path blocks 22 and 22 by four bolts V, V, V, and V fitted above.

제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A)의 입력 포트에 연통하는 V자 유로 블 록(22)은 위에서 2개의 볼트(Vs, Vs)를 이용하여 배관(46)이 접속되어 있다. 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A)의 출력 포트에 연통하는 V자 유로 블록(22)은 위에서 2개의 볼트(Vs, Vs)를 이용하여 배관(49)이 고정되어 있다. 배관(49)은 퍼지측 역지 밸브(39A)의 상면에 접속하고, 퍼지 가스의 역류를 방지하고 있다.The V-shaped flow path block 22 communicating with the input port of the second purge-side mass flow controller 38A is connected to the pipe 46 using two bolts Vs and Vs from above. In the V-shaped flow path block 22 communicating with the output port of the second purge-side mass flow controller 38A, the pipe 49 is fixed using two bolts Vs and Vs from above. The piping 49 is connected to the upper surface of 39 A of purge side check valves, and the back flow of purge gas is prevented.

퍼지측 역지 밸브(39A, 39B, 39C)는 제3 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(40A, 40B, 40C)와 함께, 제1 공통 유로 블록(25, 25, 25)의 상면에 설치된다. 퍼지측 역지 밸브(39A, 39B, 39C)의 출력 포트는 제3 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(40A, 40B, 40C)의 입력 포트에 접속한다. 제3 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(40A, 40B, 40C)의 출력 포트는 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A)의 제1 포트에 접속하고, 제1 ~ 제3 프로세스 가스 라인(2A, 2B, 2C)(도 1 참조)에 대한 퍼지 가스의 공급을 제어한다.The purge side check valves 39A, 39B, 39C are provided on the upper surface of the first common flow path blocks 25, 25, 25 together with the third purge side air operator valves 40A, 40B, 40C. The output ports of the purge side check valves 39A, 39B, 39C are connected to the input ports of the third purge side air operator valves 40A, 40B, 40C. Output ports of the third purge-side air operator valves 40A, 40B, and 40C are connected to the first ports of the first process-side air operator valves 15A, and the first to third process gas lines 2A, 2B, and 2C. (See FIG. 1) to control the supply of purge gas.

한편, 도 2에 도시하는 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A, 41B, 41C)의 입력 포트는 분류 블록(47, 48)에 접속하고, 그 출력 포트는 제3 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(42A, 42B, 42C)의 입력 포트에 접속하고 있다. 분류 블록(47)이 역방향에서 퍼지 가스를 출력하기 때문에, 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A, 41C)는 분류 블록(47)을 사이에 두고 역방향으로 설치되어 있다.On the other hand, the input ports of the fourth purge-side air operator valves 41A, 41B, and 41C shown in FIG. 2 are connected to the dividing blocks 47 and 48, and the output ports thereof are connected to the third purge-side mass flow controller 42A, 42B and 42C). Since the dividing block 47 outputs purge gas in the reverse direction, the fourth purge-side air operator valves 41A and 41C are provided in the reverse direction with the dividing block 47 interposed therebetween.

제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A, 41B, 41C)의 출력 포트는 제3 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(42A, 42B, 42C)를 통하여 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43A, 43B, 43C)의 입력 포트에 접속하고, 퍼지 가스의 유량이 조정된다. 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43A, 43B, 43C)의 출력 포트는 배관(50, 51, 52)을 통 해 프로세스측 역지 밸브(20A, 20B, 20C)와 필터(18A, 18B, 18C)와의 사이에 배설된 합류 블록(27, 27, 27)의 상면에 각각 접속하고, 퍼지 가스의 공급을 제어한다.Output ports of the fourth purge side air operator valves 41A, 41B, and 41C are input to the fifth purge side air operator valves 43A, 43B, and 43C through the third purge side mass flow controllers 42A, 42B, and 42C. Connected to the port, the flow rate of the purge gas is adjusted. The output port of the fifth purge side air operator valve 43A, 43B, 43C is connected to the process side check valves 20A, 20B, 20C and the filter 18A, 18B, 18C through the pipes 50, 51, 52. It connects to the upper surface of the joining blocks 27, 27, and 27 arrange | positioned in between, respectively, and controls supply of purge gas.

또한, 퍼지 가스 유닛(73)에는 V자 유로 블록(22)이나 분기 블록(45), 분류 블록(47, 48) 등, 유체 제어 기기와 설치판(9)과의 사이에 배치되는 하부 유로 블록이 도시하지 않은 볼트에 의해 설치판(9)에 고정되어 있다. 상기 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A, 41B, 41C), 제3 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(42A, 42B, 42C), 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43A, 43B, 43C)는 위에서 끼워진 볼트(V)를 V자 유로 블록(22)에 체결하는 것에 의해 고정되어 있다.In addition, the purge gas unit 73 has a lower flow path block disposed between the fluid control device and the mounting plate 9, such as the V-shaped flow path block 22, the branch block 45, and the dividing blocks 47 and 48. It is fixed to the mounting plate 9 by the bolt which is not shown in figure. The fourth purge side air operator valves 41A, 41B, 41C, the third purge side mass flow controllers 42A, 42B, 42C, and the fifth purge side air operator valves 43A, 43B, 43C are bolts fitted above. It is fixed by fastening V) to the V-shaped flow path block 22.

<적층 블록><Laminated Block>

다음으로, 상술한 적층 블록(61A, 61B, 61C)에 관하여 설명한다. 적층 블록(61A, 61B, 61C)은 동일한 구성이기 때문에, 여기서는 적층 블록(61A)의 구성을 설명하고, 적층 블록(61B, 61C)의 설명은 생략한다.Next, the above-mentioned laminated block 61A, 61B, 61C is demonstrated. Since the stacked blocks 61A, 61B, 61C have the same configuration, the configuration of the stacked blocks 61A is described here, and the description of the stacked blocks 61B, 61C is omitted.

도 4는 적층 블록(61A)의 평면도이다. 도 5는 도 4의 도면 중앙의 화살표(B) 방향에서 본 적층 블록(61A)을 도시한 도면이다. 도 6은 도 4의 C-C 단면도이다. 4 is a plan view of the laminated block 61A. FIG. 5 is a view showing the stacked block 61A as viewed in the direction of an arrow B in the center of FIG. 4. 6 is a cross-sectional view taken along the line C-C of FIG.

적층 블록(61A)은 금속(예를 들면 알루미늄 등)이나 수지재료(예를 들면, 폴리테트라플루오르에틸렌(polytetrafluoroethylene; PTFE) 등)을 직방체 형상으로 성형한 것이다. 한 측면에는 배관(24A)(도 2, 도 3 참조)을 확실하게 끼워 맞춰서 배관(24A)을 지지하기 위한 지지구(62A)가 아치(arch) 형상으로 형성되어 있다. 적층 블록(61A)의 양단에는 V자 유로 블록(22, 22)을 고정하기 위한, 내주면에 수나사를 형성한 고정공(63A, 63A)이 지지구(62A)를 사이에 두고 각각 형성되어 있다. 또한 적층 블록(61A)의 양단에는 고정공(63A, 63A)보다 바깥쪽에 적층 블록(61A)을 설치판(9)에 고정하기 위한 볼트(Vp)를 끼우도록 삽통공(64A, 64A)이 지지구(62A)를 사이에 두고 형성되어 있다. 삽통공(64A)을 고정공(63A)의 바깥쪽에 형성한 이유는 적층 블록(61A)을 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A)마다 취급하도록 하여,취급성이나 유지성을 양호하게 하기 때문이다.The laminated block 61A is formed by forming a metal (for example, aluminum) or a resin material (for example, polytetrafluoroethylene (PTFE), etc.) into a rectangular parallelepiped shape. On one side, a support tool 62A for holding the pipe 24A by fitting the pipe 24A (see Figs. 2 and 3) securely is formed in an arch shape. Fixing holes 63A, 63A having male threads formed on the inner circumferential surface for fixing the V-shaped flow path blocks 22, 22 are formed at both ends of the stack block 61A with the support tool 62A interposed therebetween. In addition, insertion holes 64A and 64A are provided at both ends of the stacking block 61A so as to sandwich the bolts Vp for fixing the stacking block 61A to the mounting plate 9 outside the fixing holes 63A and 63A. It is formed with the earth 62A therebetween. The reason why the insertion hole 64A is formed outside the fixing hole 63A is because the laminated block 61A is handled for each of the second purge-side mass flow controllers 38A, so that the handling and holding properties are improved.

또한, 적층 블록(61A)은 예를 들면, 히터(71, 71)(도 2 참조)의 설치시에 있어서는, 히터(71, 71)의 열이 적층 블록(61A)을 통하여 가스가 흐르는 배관(24A)으로 전도하기 쉽도록 열전도율이 높은 알루미늄 등을 선택하여도 좋다. 한편, 적층 블록(61A)은 히터(71, 71)를 사용하지 않는 경우에는, 작용 가스의 온도변화를 적게 하기 위해, 열전도율이 낮은 스테인리스강이나 불소 수지 등을 적층블록(61A)의 재료로 하여 선택하여도 좋다.In addition, for example, in the case of installing the heaters 71 and 71 (see FIG. 2), the laminated block 61A includes a pipe through which gas of the heaters 71 and 71 flows through the laminated block 61A. Aluminum or the like having high thermal conductivity may be selected to facilitate conduction at 24 A). On the other hand, when the heaters 71 and 71 are not used, the laminated block 61A is made of stainless steel, fluorine resin, or the like having low thermal conductivity as the material of the laminated block 61A in order to reduce the temperature change of the working gas. You may select it.

<동작 설명><Description of operation>

계속해서, 상기 구성을 가지는 가스 집적 유닛(1)의 동작에 관하여 설명한다.Subsequently, the operation of the gas integration unit 1 having the above configuration will be described.

가스 집적 유닛(1)은 예를 들면, 제1 프로세스 가스 라인(2A)에서 도시하지 않은 처리실로 작용 가스를 공급하는 경우에는, 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A)와 제3 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(19A)를 밸브 개방 상태, 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15B, 15C), 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A, 17B, 17C), 제3 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(19B, 19C), 제3 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(40A, 40B, 40C), 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A, 41B, 41C), 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43A, 43B, 43C)를 밸브 폐쇄 상태로 한다.For example, when the gas integration unit 1 supplies the working gas from the first process gas line 2A to the processing chamber (not shown), the first process side air operator valve 15A and the third process side air operator are provided. The valve 19A is opened in a valve open state, the first process side air operator valves 15B and 15C, the second process side air operator valves 17A, 17B and 17C, the third process side air operator valves 19B and 19C, The 3rd purge side air operator valve 40A, 40B, 40C, the 4th purge side air operator valve 41A, 41B, 41C, and the 5th purge side air operator valve 43A, 43B, 43C are set to the valve closed state. .

작용가스 입력구(3A)에 공급된 작용 가스는 수동 밸브(11A), 필터(12A), 레귤레이터(13A), 압력계(14A)를 통과하여 압력조정된 후, 배관(24), 제1 공통 유로 블록(25), 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A), 프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16A)로 흘려서, 유량 조정된다. 작용 가스는 프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16A)에서 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A), 제3 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(19A), 프로세스측 역지 밸브(20A)를 통하여 배기 유로로 배기된다. The working gas supplied to the working gas input port 3A is pressure-adjusted through the manual valve 11A, the filter 12A, the regulator 13A, and the pressure gauge 14A, and then the pipe 24 and the first common flow path. The flow rate is adjusted by flowing through the block 25, the first process-side air operator valve 15A, and the process-side mass flow controller 16A. The working gas is exhausted from the process side mass flow controller 16A to the exhaust flow path through the second process side air operator valve 17A, the third process side air operator valve 19A, and the process side check valve 20A.

작용 가스의 압력과 유량이 소정값으로 안정되면, 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A)를 밸브 폐쇄 상태에서 밸브 개방 상태로 전환함과 동시에, 제3 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(19A)를 밸브 개방 상태에서 밸브 폐쇄 상태로 전환한다. 이것에 의해, 작용 가스는, 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A)에서 합류 블록(27)을 통해 필터(18A)로 공급되어 불순물을 제거한 후, 공통 출력구(4A)에서 도시하지 않은 처리실로 공급된다.When the pressure and flow rate of the working gas are stabilized to a predetermined value, the second process-side air operator valve 17A is switched from the valve closed state to the valve-open state, and the third process-side air operator valve 19A is valve-opened. Switch from valve to valve closed. As a result, the working gas is supplied from the second process-side air operator valve 17A to the filter 18A through the joining block 27 to remove impurities, and then to the processing chamber not shown in the common output port 4A. Supplied.

그 후, 제1 프로세스 가스 라인(2A)을 퍼지하는 경우에는, 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A)와 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A)를 밸브 개방 상태로 한 채, 제3 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(19A), 제3 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(40A), 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A), 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43A)를 밸브 폐쇄 상태에서 밸브 개방 상태로 전환한다.Subsequently, when purging the first process gas line 2A, the third process side with the first process side air operator valve 15A and the second process side air operator valve 17A in the valve open state. The air operator valve 19A, the third purge side air operator valve 40A, the fourth purge side air operator valve 41A, and the fifth purge side air operator valve 43A are switched from the valve closed state to the valve open state. .

퍼지 가스 입력구(7)에 공급된 퍼지 가스는 수동 밸브(31), 필터(32), 레귤레이터(33), 압력계(34)를 통과하여 압력 조정된 후, 배관(44), 분기 블록(45), 배관(46), V자 유로 블록(22)을 통해 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A)로 공급되어, 유량 조정된다. 그 후, 퍼지 가스는 퍼지측 역지 밸브(39A), 제3 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(40A)를 통하여 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A)로 공급되고, 작용가스가 흐르는 유로로 공급된다. 퍼지 가스는 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A)에서 프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16A)를 통해 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A)로 공급된다.The purge gas supplied to the purge gas inlet 7 is pressure-adjusted through the manual valve 31, the filter 32, the regulator 33, and the pressure gauge 34, and then the pipe 44 and the branch block 45. ), The pipe 46, and the V-shaped flow path block 22 are supplied to the second purge side mass flow controller 38A to adjust the flow rate. Thereafter, the purge gas is supplied to the first process-side air operator valve 15A through the purge side check valve 39A and the third purge-side air operator valve 40A, and is supplied to the flow path through which the working gas flows. The purge gas is supplied from the first process side air operator valve 15A to the second process side air operator valve 17A through the process side mass flow controller 16A.

퍼지 가스는 일부가 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A)에서 제3 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(19A), 프로세스측 역지 밸브(20A)를 통해 배기구(5A)에서 도시하지 않은 배기 유로로 배기된다. 그리고 남은 퍼지가스는 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17A)에서 제2 공통 유로 블록(26), 합류 블록(27), 필터(18A), 공통 출력구(4A)를 통해 도시하지 않은 처리실로 출력된다.A part of the purge gas is exhausted from the second process side air operator valve 17A to the exhaust flow path not shown in the exhaust port 5A through the third process side air operator valve 19A and the process side check valve 20A. The remaining purge gas is output from the second process-side air operator valve 17A to the processing chamber (not shown) through the second common flow path block 26, the joining block 27, the filter 18A, and the common output port 4A. do.

상기 퍼지 동작에 의해, 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15A)보다 하류 쪽의 유로가 퍼지된다.By the said purge operation | movement, the flow path downstream of 1st process side air operator valve 15A is purged.

이때, 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A)와 프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16A)의 유량을 비교하면, 프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16A)의 이상을 검출할 수 있다.At this time, when the flow rates of the second purge-side mass flow controller 38A and the process-side mass flow controller 16A are compared, an abnormality of the process-side mass flow controller 16A can be detected.

상기 퍼지 동작과 동시에, 퍼지 가스는 분류 블록(47)에서 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A), 제3 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(42A), 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43A), 배관(50)을 통하여 합류 블록(27)으로 공급되고, 합류 블록(27)에서 필터(18A)를 통하여 공통 출력구(4A)에서 도시하지 않은 처리실로 출력된다. 이것에 의해 배관(50) 안을 퍼지할 수 있다. 이때, 제3 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(42A)의 유량을 측정하는 것에 의해, 필터(18A)의 막힘(clogging)을 검출할 수 있다.At the same time as the purge operation, the purge gas is discharged to the fourth purge side air operator valve 41A, the third purge side mass flow controller 42A, the fifth purge side air operator valve 43A, and the piping ( It is supplied to the confluence block 27 via 50, and is output from the confluence block 27 through the filter 18A to the process chamber not shown in the common output port 4A. As a result, the inside of the pipe 50 can be purged. At this time, clogging of the filter 18A can be detected by measuring the flow volume of the 3rd purge-side mass flow controller 42A.

또한, 제2, 제3 프로세스 가스 라인(2B, 2C)에 작용 가스 또는 퍼지 가스가 흐르는 동작은 상기 제1 프로세스 가스 라인(2A)에 작용 가스 또는 퍼지 가스가 흐르는 동작과 동일하므로, 설명을 생략한다.In addition, since operation | movement gas or purge gas flows through the 2nd, 3rd process gas line 2B, 2C is the same as operation | movement gas or purge gas flows in the said 1st process gas line 2A, description is abbreviate | omitted. do.

<작용 효과><Action effect>

계속해서, 상기 구성을 가지는 가스 집적 유닛(1)의 작용 효과에 관하여 설명한다. 도 7은 도 1에 도시한 회로를 적층 블록(61A, 61B, 61C)을 사용하지 않고 구체화한 가스 집적 유닛(100)을 도시한 도면이다.Subsequently, the effect of the gas accumulation unit 1 having the above configuration will be described. FIG. 7 is a diagram showing a gas integration unit 100 in which the circuit shown in FIG. 1 is embodied without using the stacked blocks 61A, 61B, and 61C.

도 7에 도시한 것처럼, 적층 블록(61A, 61B, 61C)을 사용하지 않은 경우에는, 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)가 배관(24A, 24B, 24C)의 옆쪽에 설치된 영역(P11)에 배치된다. 이 경우, 풋 스페이스를 줄이기 위해, 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)는 제3 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(42A, 42B, 42C)와 각각 동렬이 되도록, 분류 블록(47, 47, 47)에 접속된다. 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)와 제3 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(42A, 42B, 42C)는 배관(101)에서 공급되는 퍼지 가스의 유량을 제어한다.As shown in FIG. 7, when the stacked blocks 61A, 61B, and 61C are not used, the second purge-side mass flow controllers 38A, 38B, and 38C are provided next to the pipes 24A, 24B, and 24C. It is arranged in the area P11. In this case, in order to reduce the foot space, the sorting blocks 47 and 47 are arranged so that the second purge side mass flow controllers 38A, 38B and 38C are aligned with the third purge side mass flow controllers 42A, 42B and 42C, respectively. , 47). The second purge side mass flow controllers 38A, 38B and 38C and the third purge side mass flow controllers 42A, 42B and 42C control the flow rates of the purge gas supplied from the pipe 101.

이것에 대해, 도 2에 도시한 것처럼, 적층 블록(61A, 61B, 61C)을 사용한 경 우에는 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)가 배관(24A, 24B, 24C) 위에 적중된 적층 블록(61A, 61B, 61C) 위에 적중되어 배치된다. 이것에 의해, 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)가 배관(24A, 24B, 24C)과 이단구조로 된다.On the other hand, as shown in FIG. 2, when the laminated blocks 61A, 61B, and 61C are used, the 2nd purge side mass flow controllers 38A, 38B, and 38C hit on the piping 24A, 24B, and 24C. The stacked blocks 61A, 61B, 61C are hit and disposed. As a result, the second purge-side mass flow controllers 38A, 38B, and 38C have a two-stage structure with the pipes 24A, 24B, and 24C.

따라서, 적층 블록(61A, 61B, 61C)을 사용하지 않는 경우에는, 도 7에 도시한 것처럼, 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)를 배치하기 위한 영역(P11)을 요하지만, 적층 블록(61A, 61B, 61C)을 사용하는 것에 의해, 도2에 도시한 것처럼, 배관(24A, 24B, 24C)을 배치하기 위한 영역(P1) 안에서 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)를 설치할 수 있다. 따라서, 본 실시형태의 가스 집적 유닛(1)에 의하면, 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)를 배치하기 위한 영역(P11)을 줄여, 풋 스페이스를 작게 할 수 있다.Therefore, in the case where the stacked blocks 61A, 61B and 61C are not used, the area P11 for arranging the second purge-side mass flow controllers 38A, 38B and 38C is required as shown in FIG. By using the stacked blocks 61A, 61B, and 61C, as shown in Fig. 2, the second purge-side mass flow controller 38A, in the region P1 for arranging the pipes 24A, 24B, and 24C, is disposed. 38B, 38C) can be installed. Therefore, according to the gas integration unit 1 of this embodiment, the area | region P11 for arrange | positioning the 2nd purge side mass flow controller 38A, 38B, 38C can be reduced, and foot space can be made small.

게다가, 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)를 배관(24A, 24B, 24C)과 이단구조로 한 것에 의해, 도 7에 도시한 영역(P11)이 빈다. 그리고, 도 2에 도시한 것처럼, 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A), 제3 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(42A), 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43A)를 분류 블록(47)을 이용하여 반대방향에 배치한다. 이것에 의해, 도 7에 도시한 영역(P21)이 도 2에 도시하는 영역(P2)으로 이동하며, 가스 집적 유닛(1)의 폭 치수를 1라인만큼 작게 할 수 있다.In addition, the region P11 shown in FIG. 7 is made empty by the second purge-side mass flow controllers 38A, 38B, and 38C having a two-stage structure with the pipes 24A, 24B, and 24C. And as shown in FIG. 2, 41 A of 4th purge side air operator valves, 42 A of purge side mass flow controllers, and 43 A of 5th purge side air operator valves are used for the classification block 47. As shown in FIG. Place it in the opposite direction. Thereby, the area | region P21 shown in FIG. 7 moves to the area | region P2 shown in FIG. 2, and the width dimension of the gas accumulation unit 1 can be made small by 1 line.

일반적으로, 반도체제조장치에서는, 사용하는 유체 제어 기기의 수가 많아 전체 길이를 짧게 하는 것이 어렵기 때문에, 폭 치수를 작게 하는 것이 바람직하 다. 그 때문에, 상기와 같이 배관(24A, 24B, 24C)과 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)를 이단구조로 하여 빈 스페이스를 만들고, 그 빈 스페이스에 퍼지 가스 라인(6)을 구성하는 제4 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(41A), 제3 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(42A), 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43A)를 배치하여 가스 집적 유닛(1)의 폭 치수를 작게 하는 것은, 비상시 유익하다.In general, in the semiconductor manufacturing apparatus, since the number of fluid control devices to be used is so large that it is difficult to shorten the overall length, it is preferable to reduce the width dimension. Therefore, as described above, the piping 24A, 24B, 24C and the second purge-side mass flow controllers 38A, 38B, 38C are formed in two-stage structures to form an empty space, and the purge gas line 6 is formed in the empty space. The fourth purge-side air operator valve 41A, the third purge-side mass flow controller 42A, and the fifth purge-side air operator valve 43A are configured to reduce the width dimension of the gas accumulation unit 1. In case of an emergency, it is beneficial.

이것에 더해, 도 7에 도시한 것처럼 적층 블록(61A, 61B, 61C)을 사용하지 않는 경우에는, 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)는 유량 조정한 퍼지 가스를 퍼지측 역지 밸브(39A, 39B, 39C)에 공급하기 위해, 배관(102, 103, 104)을 퍼지측 역지 밸브(39A, 39B, 39C)의 상면에 개별적으로 접속하도록 설치한다. 또한, 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43A, 43B, 43C)는 배관(105, 106, 107)을 L자 형상으로 만들어서, 제1 ~제3 프로세스 가스 유닛(72A, 72B, 72C)의 합류 블록(27, 27, 27)에 각각 접속시킨다.In addition, when not using the laminated blocks 61A, 61B, and 61C as shown in FIG. 7, the second purge-side mass flow controllers 38A, 38B, and 38C check the purge gas at which the flow rate is adjusted. In order to supply the valves 39A, 39B and 39C, the pipes 102, 103 and 104 are provided so as to be individually connected to the upper surfaces of the purge side check valves 39A, 39B and 39C. In addition, the fifth purge-side air operator valves 43A, 43B, and 43C make the pipes 105, 106, and 107 in an L-shape, and join blocks of the first to third process gas units 72A, 72B, and 72C. (27, 27, 27), respectively.

이에 대하여, 도 2에 도시한 것처럼 적층 블록(61A, 61B, 61C)을 사용한 경우에는, 퍼지 가스의 공급량을 엄밀히 관리할 필요가 없기 때문에, 배관(46)을 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)의 입력 포트에 접속시키고, 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)의 출력 포트를 짧은 배관(49, 49, 49)을 통해 퍼지측 역지 밸브(39A, 39B, 39C)에 접속시킨다. 또한 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43B, 43C)와 역방향으로 설치된 제5 퍼지측 에어 오퍼레이터 밸브(43A)를 가스 유닛의 사이에 생성된 간극을 지나도록 배관(50)을 만들어서, 제1 프로세스 가스 유닛(72A)의 합류 블록(27)에 접속시킨다. 제5 퍼지측 에어 오퍼레 이터 밸브(43B, 43C)에 과해서는, 배관(51, 52)을 L자 형상으로 만들어서 배관한다.In contrast, when the stacked blocks 61A, 61B, and 61C are used as shown in FIG. 2, since the supply amount of the purge gas does not need to be strictly managed, the pipe 46 is connected to the second purge-side mass flow controller 38A. And input ports of the second purge-side mass flow controllers 38A, 38B, and 38C through the short pipes 49, 49, and 49, and the output ports of the second purge-side check valves 39A, 39B, 39C). In addition, the pipe 50 is made so that the fifth purge-side air operator valve 43A provided in the opposite direction to the fifth purge-side air operator valves 43B and 43C may pass through the gap generated between the gas units, thereby providing the first process gas. It is connected to the joining block 27 of the unit 72A. Exceeding the fifth purge-side air operator valves 43B and 43C, the pipes 51 and 52 are made into an L-shape to be piped.

그 때문에, 도 2 및 도 3에 도시한 것처럼, 적층 블록(61A, 61B, 61C)을 사용하여 제1 ~제3 프로세스 가스 유닛(72A, 72B, 72C)을 이단 구조로 하는 것에 의해, 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)에서 퍼지측 역지 밸브(39A, 39B, 39C)까지의 배관 길이가 짧게 되어, 유량 제어한 퍼지 가스의 손실을 줄여서 퍼지 가스를 제어할 수 있다. 또한, 도 2에 도시하는 가스 집적 유닛(1)은 도 7에 도시하는 배관(102, 103, 104)을 1개의 배관(46)으로 합치기 때문에, 도 7에 도시하는 가스 집적 유닛(100)보다 배관 스페이스를 줄일 수 있다. 게다가, 배관(50)을 가스 유닛의 간극을 이용하여 만들기 때문에, 배관(50)을 위한 배관 스페이스를 별도 설치할 필요가 없어, 유닛 사이즈의 대형화를 초래하지 않는다.Therefore, as shown in FIG. 2 and FIG. 3, the first to third process gas units 72A, 72B, and 72C are formed in two-stage structures using the stacked blocks 61A, 61B, and 61C. The pipe length from the purge side mass flow controllers 38A, 38B, 38C to the purge side check valves 39A, 39B, 39C is shortened, so that the purge gas can be controlled by reducing the loss of the flow-controlled purge gas. In addition, since the gas integration unit 1 shown in FIG. 2 combines the piping 102, 103, and 104 shown in FIG. 7 with one piping 46, it compares with the gas accumulation unit 100 shown in FIG. Piping space can be reduced. In addition, since the piping 50 is made using the clearance of a gas unit, it is not necessary to provide the piping space for piping 50 separately, and it does not cause enlargement of a unit size.

또한, 본 실시형태의 가스 집적 유닛(1)은 도 2 및 도 3에 도시한 것처럼, 배관(24A, 24B, 24C)을 덮도록 적층 블록(61A, 61B, 61C)을 배치하기 때문에, 제1~ 제3 프로세스 가스 유닛(72A, 72B, 72C)의 폭 치수에 놓이도록 적층 블록(61A, 61B, 61C)을 배치할 수 있다.In addition, since the gas integration unit 1 of this embodiment arrange | positions the laminated block 61A, 61B, 61C so that the piping 24A, 24B, 24C may be covered, as shown to FIG. 2 and FIG. The stacked blocks 61A, 61B, 61C may be placed so as to lie in the width dimension of the third process gas units 72A, 72B, 72C.

또한, 본 실시형태의 가스 집적 유닛(1)은 도 2에 도시한 것처럼, 적층 블록(61A, 61B, 61C)이 삽통공(64A)에 끼워진 볼트(Vp)를 이용하여 설치판(9)에 고정되고, V자 유로 블록(22)이 도시하지 않은 볼트를 이용하여 적층 블록(61A, 61B, 61C)의 고정공(63A)에 각각 고정되며, 또한 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)가 볼트(V)를 이용하여 V자 유로 블록(22)에 각각 고정된다.In addition, as shown in FIG. 2, the gas integration unit 1 of this embodiment is attached to the mounting plate 9 using the bolt Vp in which the stacking blocks 61A, 61B, 61C are fitted into the insertion hole 64A. And the V-shaped flow path block 22 is fixed to the fixing holes 63A of the stacked blocks 61A, 61B, and 61C by using bolts (not shown), respectively, and the second purge-side mass flow controllers 38A and 38B. , 38C are fixed to the V-shaped flow path blocks 22 using bolts V, respectively.

그리고, 예를 들면, 제3 프로세스 가스 라인(72C)을 가열하는 경우에는, 수동밸브(11C), 필터(12C), 레귤레이터(13C), 압력계(14C), 적층 블록(61C), 제1 공통 유로 블록(25), 제1 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(15C), 프로세스측 매스 플로우 컨트롤러(16C), 제2 프로세스측 에어 오퍼레이터 밸브(17C), 제2 공통 유로 블록(26), 합류 블록(27), 필터(18C)의 양단에 테이퍼 형상의 히터(71, 71)를 설치한다. 이에 의해, 각 유체 제어 기기 및 그것의 아래에 배치된 하부 유로 블록이 가열되고, 작용 가스가 유로 안에서 굳어지지 않는다. 이때, 적층 블록(61C)은 양쪽 면에 밀착하는 히터(71, 71)에 의해 가열된다. 이 열은, 지지구(62C)의 내벽에 접촉하는 배관(24C)으로 전달되어, 배관(24C)이 가열된다. 그 때문에, 배관(24C)을 흐르는 작용 가스가 배관(24C) 안에서 굳어지지 않는다.For example, in the case of heating the third process gas line 72C, the manual valve 11C, the filter 12C, the regulator 13C, the pressure gauge 14C, the stacking block 61C, and the first common The flow path block 25, the first process side air operator valve 15C, the process side mass flow controller 16C, the second process side air operator valve 17C, the second common flow path block 26, and the joining block 27 ), Tapered heaters 71 and 71 are provided at both ends of the filter 18C. Thereby, each fluid control device and the lower flow path block disposed below it are heated, and the working gas does not solidify in the flow path. At this time, the stacking block 61C is heated by the heaters 71 and 71 in close contact with both surfaces. This heat is transmitted to the piping 24C which contacts the inner wall of the support opening 62C, and the piping 24C is heated. Therefore, the working gas which flows through the piping 24C does not harden in the piping 24C.

따라서, 본 실시형태의 가스 집적 유닛(1)에 의하면, 1개의 적층 블록(61)에, 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38)와 그 하부에 배치된 V자 유로 블록(22, 22)을 고정하는 역할과, 히터(71, 71)의 열을 배관(24A, 24B, 24C)으로 전달하는 역할을 겸비시키는 것이 가능하다.Therefore, according to the gas integration unit 1 of this embodiment, the 2nd purge side mass flow controller 38 and the V-shaped flow path blocks 22 and 22 arrange | positioned under one laminated block 61 are provided. It is possible to have a role of fixing and a role of transferring the heat of the heaters 71, 71 to the pipes 24A, 24B, 24C.

환언하면, 도 7에 도시한 것처럼, 적층 블록(61C)을 사용하지 않은 경우에 프로세스 가스 유닛을 가열할 때에는 히터 블록(110)을 배관(24C)을 덮도록 설치판(9)에 고정하지만, 히터 블록(110) 위를 유효이용할 수 없다. 이것에 대하여, 도 2 및 도 3에 도시한 것처럼, 적층 블록(61)에 배관(24)을 가열하는 역할 외에, V자 유록 블록(22, 22)을 고정하는 역할을 특정하는 것에 의해, 적층 블록(61) 위를 유효 활용하여, 풋 스페이스를 작게 할 수 있다.In other words, as shown in FIG. 7, when heating the process gas unit when the stacking block 61C is not used, the heater block 110 is fixed to the mounting plate 9 so as to cover the pipe 24C. It is not possible to effectively use the heater block 110. On the other hand, as shown to FIG. 2 and FIG. 3, in addition to the role which heats the piping 24 to the laminated block 61, the role which fixes the V-shaped block | blocks 22 and 22 is specified by laminating | stacking. By effectively utilizing the above block 61, the foot space can be reduced.

또한, 본 실시형태의 가스 집적 유닛(1)은 도 2 및 도 3에 도시한 것처럼, 풋 스페이스가 큰 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38A, 38B, 38C)를 적층 블록(61A, 61B, 61C)에 적중하기 때문에, 유닛 전체의 풋 스페이스를 효율 좋게 작게 할 수 있다.In addition, as shown in Figs. 2 and 3, the gas integration unit 1 of the present embodiment includes the second purge-side mass flow controllers 38A, 38B, and 38C having a large foot space, and the stacked blocks 61A, 61B, and 61C. ), The foot space of the whole unit can be efficiently reduced.

또한 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되는 것이 아니며, 다양한 응용이 가능하다.In addition, this invention is not limited to the said embodiment, A various application is possible.

(1) 예를 들면, 상기 실시형태에서는 작용 가스가 흐르는 제1 ~제3 프로세스 가스 유닛(72A, 72B, 72C)을 「제1 가스 유닛」의 일례로서 들고, 퍼지 가스 유닛(73)을 「제2 가스 유닛」의 일례로 들었다. 이에 대하여 예를 들면, 작용 가스의 공급을 제어하는 가스 유닛을 「제1, 제2 가스 유닛」으로 하여도 좋다.(1) For example, in the said embodiment, the 1st-3rd process gas unit 72A, 72B, 72C through which a working gas flows is taken as an example of a "first gas unit," and the purge gas unit 73 is " 2nd gas unit ". In contrast, for example, the gas unit that controls the supply of the working gas may be referred to as the "first and second gas units".

(2) 예를 들면, 상기 실시형태에서는 적층 블록(61)의 지지구(62)를 아치 형상으로 하였지만, 배관(24)의 외주면에 접촉하여 열전달할 수 있는 형상이면, 구형상이나 삼각형상 등 이어도 좋다.(2) For example, in the said embodiment, although the support opening 62 of the laminated block 61 was made into arch shape, if it is a shape which can heat-transfer by contacting the outer peripheral surface of the piping 24, even if it is spherical shape or triangle shape, etc. good.

(3) 예를 들면, 상기 실시형태에서는 적층 블록(61)은 배관(24)에 적중하여 설치되지만, 유로 블록 등에 적중되어도 좋다.(3) For example, in the said embodiment, although the laminated block 61 hits the piping 24, it is provided, but you may hit on a flow path block etc., for example.

(4) 예를 들면, 상기 실시형태에서는 제3 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(38)를 적층 블록(61) 위에 배치하였지만, 밸브나 센서 등 다른 종류의 유체 제어 기기를 적층 블록(61) 위에 배치하여도 좋다.(4) For example, in the said embodiment, although the 3rd purge side mass flow controller 38 was arrange | positioned on the lamination block 61, another kind of fluid control apparatus, such as a valve and a sensor, is arrange | positioned on the lamination block 61, Also good.

도 2는 도 1에서 도시한 회로를 구체화한 본 발명의 실시형태에 관한 가스 집적 유닛의 평면도이다.FIG. 2 is a plan view of a gas integration unit according to an embodiment of the present invention incorporating the circuit shown in FIG. 1.

도 3은 도 2의 A-A 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

도 4는 도 2에 도시하는 적층 블록의 평면도이다.4 is a plan view of the laminated block shown in FIG. 2.

도 5는 도 4의 도면 가운데 화살표(B) 방향에서 본 적층 블록을 도시한 도면이다.FIG. 5 is a diagram illustrating a stacked block viewed in the direction of an arrow B in FIG. 4.

도 6은 도 4의 C-C 단면도이다.6 is a cross-sectional view taken along the line C-C of FIG.

도 7은 도 1에서 도시하는 회로를 적층 블록을 사용하지 않으면서 구체화한 가스 집적 유닛을 도시한 도면이다.FIG. 7 is a view showing a gas integration unit in which the circuit shown in FIG. 1 is embodied without using a stacked block.

부호의 설명Explanation of the sign

1 가스 집적 유닛1 gas integration unit

24A, 24B, 24C 배관24A, 24B, 24C Piping

38A, 38B, 38C 제2 퍼지측 매스 플로우 컨트롤러(유체 제어 기기의 일부)38A, 38B, 38C Second Purge Side Mass Flow Controller (Part of Fluid Control Unit)

61A, 61B, 61C 적층 블록61A, 61B, 61C Stacked Blocks

63A, 63B, 63C 고정공(고정부)63A, 63B, 63C Fixtures (Fixed)

71 히터71 heater

72A, 72B, 72C 프로세스 가스 유닛(제1 가스 유닛)72A, 72B, 72C process gas unit (first gas unit)

73 퍼지 가스 유닛(제2 가스 유닛)73 Purge Gas Unit (Second Gas Unit)

Claims

A first gas unit for controlling the supply of the first gas;

A second gas unit connected to the first gas unit and controlling a second gas joined to the first gas unit by a plurality of fluid control devices; And

Has a laminated block hit on the first gas unit,

Hit a portion of the fluid control device onto the stacked block,

The laminated block is provided to cover the pipe included in the first gas unit,

And a concave portion that is open at both ends in the stacked block.

delete

The method of claim 1,

The stacking block includes a fixing portion for fixing a lower flow path block on which a portion of the fluid control device is placed, and transfers heat to the first gas unit when heated by a heater.

The method of claim 1,

And a portion of said fluid control device is a mass flow controller or a mass flow meter.