KR100921390B1 - Wafer membrane cutter - Google Patents
Wafer membrane cutter Download PDFInfo
- Publication number
- KR100921390B1 KR100921390B1 KR1020080019697A KR20080019697A KR100921390B1 KR 100921390 B1 KR100921390 B1 KR 100921390B1 KR 1020080019697 A KR1020080019697 A KR 1020080019697A KR 20080019697 A KR20080019697 A KR 20080019697A KR 100921390 B1 KR100921390 B1 KR 100921390B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- film
- wafer
- press
- frame
- membrane
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
본 발명은 웨이퍼 막 절단장치로, 이는 프레스 막 윗 프레임, 프레스 막 아래 프레임, 막이 나오는 유닛, 막을 거두는 유닛 및 탑재유닛이 설치되는데, 상기 프레스 막 윗 프레임에는 다수의 윗 칼 자리가 설치되고, 상기 프레스 막 아래 프레임에는 다수의 아래 칼 자리가 설치되며, 이 아래 칼 자리 내부의 직경 넓이는 웨이퍼의 직경 넓이보다 작거나 같으며, 상기 막이 나오는 유닛과 막을 거두는 유닛은 각각 프레스 막 윗 프레임과 프레스 막 아래 프레임의 양측에 설치되어 막이 프레스 막 윗 프레임과 아래 프레임 사이에 맞게 설치되게 하며, 상기 프레스 막 윗 프레임의 상방에는 윗,아래 칼 자리에 대응되게 흡수 부착판이 설치되는데 이 흡수 부착판의 내측에는 각각 적어도 하나의 예비붙임유닛이 설치되며, 이로써 웨이퍼 면적의 막보다 작거나 같게 절단하는 기능을 가지며, 동시에 절단 크기를 변경하는 기능을 가진다.The present invention is a wafer film cutting device, which is installed on the upper frame of the press film, the frame under the press film, the film outgoing unit, the film collecting unit and the mounting unit, a plurality of upper knife is installed on the press film upper frame, The frame under the press membrane is provided with a number of lower cuts, the diameter inside the lower cut is less than or equal to the diameter of the wafer, and the unit from which the membrane emerges and the membrane retrieving unit are the frame above the press membrane and the press membrane, respectively. It is installed on both sides of the lower frame so that the membrane is installed between the upper frame of the press membrane and the lower frame. An upper portion of the upper frame of the press membrane is provided with an absorbent adhesive plate corresponding to the upper and lower knife positions. At least one preliminary pasting unit is installed each so that it is smaller than the film of the wafer area It has the function of cutting, at the same time has a function of changing the cut size.
웨이퍼, 막, 절단, 프레임, 칼, 탑재, 흡수, 부착 Wafer, Membrane, Cutting, Frame, Knife
Description
본 발명은 웨이퍼 막 절단장치에 관한 것으로, 상세히 말하면 웨이퍼 상방의 프레스 막의 위,아래 프레임을 이용해 막을 자르는 조작을 실행하여 웨이퍼 면적의 막보다 크거나 혹은 같게 절단하는 웨이퍼 막 절단장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer film cutting device, and more particularly, to a wafer film cutting device which cuts a film larger than or equal to a film of a wafer area by performing a film cutting operation using a frame above and below a wafer.
종래의 웨이퍼 막 절단장치는 장방형의 막 재료를 이용하고 막 재료를 웨이퍼에 부착하며, 다시 레이저 혹은 다이아몬드 칼로 여분의 부위를 절단하는데 레이저 혹은 다이아몬드 칼과 웨이퍼의 접촉을 피하기 위해서는 절단한 막 재료가 웨이퍼 면적보다 커야만 하므로 웨이퍼 제작과정에서 웨이퍼 외부둘레에 막 재료가 부착되지 않는 부분을 두어야한다. 현재기술은 여분의 막 재료를 노출 혹은 현상의 방식으로 제거하는데 이러한 방식은 제작과정 중의 순서와 원가를 증가하게 된다. 이러한 기술을 개선하기 위해 일반적으로 먼저 막 재료를 절단 완성하고, 다시 인공방식으로 완성된 막 재료를 절단하여 웨이퍼에 놓는다. 그러나 이러한 방식은 효율이 높지 않아 효과적인 생산이 가능하지 못하다. Conventional wafer film cutting equipment uses a rectangular film material and attaches the film material to the wafer, and then cuts the excess area with a laser or diamond knife. To avoid contact between the laser or diamond knife and the wafer, the cut film material is a wafer. Since it must be larger than the area, a part of the wafer fabrication where the film material is not attached should be placed on the outer circumference of the wafer. Current technology removes excess membrane material in the form of exposure or development, which increases the order and cost of the fabrication process. To improve this technique, the membrane material is generally first cut and then artificially cut and placed on the wafer. However, this method does not have high efficiency and thus cannot be produced effectively.
따라서 업자들은 개량방식을 제출하였는데 가령 중화민국 특허출원 제096202954호의 "웨이퍼의 부착막 절단기"는 하나의 수평모양을 드러내는 프레임에 틀체, 윗면 부착 절단기구, 아래 부착 절단기구, 재료가 들어오는 유닛, 재료가 나가는 유닛을 설치하는데, 상기 틀체는 프레임에 설치하고, 상기 윗면 부착 절단기구는 틀체의 하방에 매달리게 설치하고, 상기 윗면 부착 절단기구는 틀체에 대응하여 여러 개의 활동 막대를 이용해 상하로 이동하며, 상기 윗면 부착 절단기구의 아랫부분은 윗면 둘레체, 내부 둘레체와 칼 조각환을 포함하고, 상기 아래 부착 절단기구는 위면 부착 절단기구 하방의 프레임에 설치되며 아래판, 아래 외부둘레체와 재료방치판을 포함하며, 상기 재료가 들어오는 유닛은 아래 부착 절단기구의 한 측에 설치되어 아교막 두루마리를 방치하고 동시에 재료를 공급하는데 쓰이며, 상기 재료가 나가는 유닛은 아래 부착 절단기구의 재료가 들어오는 유닛에 대응되는 한 측에 설치되어 아교막 두루마리를 말아 거두는데 쓰인다. Therefore, the contractors submitted an improved method. For example, the "wafer attachment membrane cutter" of the Republic of China Patent Application No. 096202954 is a frame, a top cutting tool, a bottom cutting tool, a material entering the unit, material Install the outgoing unit, the frame is installed on the frame, the upper cutting tool is installed to hang below the frame, the upper cutting tool is moved up and down by using a plurality of activity bars, corresponding to the frame, The lower part of the upper attachment cutter tool includes a top peripheral body, an inner peripheral body and a knife carving ring, and the lower attachment tool tool is installed in a frame below the upper attachment tool tool and has a lower plate, a lower outer circumferential material and a material placing plate. It includes, the material is coming into the unit is installed on one side of the lower cutting tool is attached throughout the glue film Lee and allowed to stand at the same time sseuyimyeo for supplying the material, the material leaving the unit is installed at a side corresponding to the material of the unit attached to the cutting mechanism used under the incoming I do not reap the glue film roll.
종래의 막 절단설비는 상기 윗면 부착 절단기구를 이용해 아래를 향해 이동하고, 상기 윗면 둘레체가 먼저 아래를 눌러 아교막을 펴고, 내부둘레체를 웨이퍼의 재료방치판까지 하강시켜 아교막이 웨이퍼와 틀체의 윗면에 부착되게 하고 동시에 내부둘레체 외부둘레의 칼조각환이 하강하여 아교막을 절단하며, 다시 공기 충전유닛을 이용해 아교막을 웨이퍼에 긴밀히 부착시킨다. 그러나 이러한 종래의 설비는 아교막을 웨이퍼에 부착하는 것을 이용해는 것으로 아교막이 우선 펴져야 웨이퍼에 부착이 가능하기 때문에 과정이 복잡하고 아교막을 웨이퍼에 붙일 때 쉽게 접촉으로 인해 손상되기 때문에 사용이 불리하며 또한 아교막이 웨이퍼에 부착된 후 다시 절단작업이 진행되는데 칼조각환 둘레와 웨이퍼가 접촉되는 것을 피하기 위해 아교막이 반드시 웨이퍼보다 커야 하기 때문에 이렇게 하려면 웨이퍼 외부둘 레에 선로를 장치해야 하는데 아교막이 웨이퍼보다 작거나 같기 때문에 종래 설비로서는 이러한 수요에 부합될 수 없다. Conventional film cutting equipment is moved downward using the upper cutting tool, the upper periphery first press down to spread the glue film, and lower the inner periphery to the material plate of the wafer, the glue film is the top surface of the wafer and the frame At the same time, the outer ring of the inner circumference of the outer ring is cut down to cut the glue film, and again attach the glue film to the wafer using an air charging unit. However, such a conventional apparatus uses attaching a gluing film to a wafer, which is disadvantageous because the process is complicated because the gluing film needs to be first unrolled to attach to the wafer, and the process is complicated and easily damaged due to contact when the gluing film is attached to the wafer. After the glue is attached to the wafer, the cutting process is carried out again.As the glue film must be larger than the wafer in order to avoid contact between the circumference of the knife ring and the wafer, to do this, a line must be installed on the outer circumference of the wafer. As such, conventional equipment cannot meet this demand.
또한 일본공개특허 63-096907호 "반도체 보호막의 자동 절단장치"는 두루마리통 장치를 이용해 얇은 막을 수송하고 절단을 진행하고자 하는 얇은 막을 웨이퍼 표면에 수송하여 아래 코르크 막대가 웨이퍼를 받아 아래 코르크 막대를 위에서 아래로 작동하여 웨이퍼 외부둘레의 원형 칼날이 돌출되게 하고 아래 코르크 막대를 아래로 향해 밀어 얇은 막을 절단하며 다시 절단된 얇은 막을 웨이퍼와 함께 옆으로 밀어 이동시킨다. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-096907, "Automatic Cutting Device for Semiconductor Protective Film," uses a roll barrel device to transport a thin film and transports a thin film to be cut to the wafer surface so that the cork bar below receives the wafer and the cork bar below the top. Working downwards, the circular blade around the outside of the wafer protrudes, the bottom cork bar is pushed down to cut the thin film, and the cut thin film is then pushed sideways with the wafer.
그러나 이러한 종래 방식은 웨이퍼 외부 둘레의 원형 칼날을 이용하여 중앙에 위치하며 웨이퍼를 탑재하는 아래 코르크 막대를 이용해 웨이퍼를 얇은 막과 함께 아래로 위치이동시키며 위 코르크 막대를 아래로 작동하여 얇은 막을 절단한다. 그러나 칼날이 웨이퍼 외부둘레에 위치하므로 절단을 거친 얇은 막이 웨이퍼보다 크기 때문에 동일하게 아교막이 웨이퍼보다 작아야하는 수요를 만족시킬 수가 없다. 또한 이런 방식 설비의 원형 칼날은 웨이퍼를 탑재하는 아래 코르크 막대의 외부둘레에 설치하여 웨이퍼 칼날 크기의 변경이 매우 복잡하여 제작과정에 이용하기가 쉽지 않다. However, this conventional method uses a circular blade around the outside of the wafer to be centered and uses the lower cork bar to mount the wafer to move the wafer down with the thin film and operate the upper cork bar to cut the thin film. . However, since the blade is located at the outer periphery of the wafer, the cut thin film is larger than the wafer, so the glue cannot be equally satisfied. In addition, the circular blade of this type of equipment is installed on the outer circumference of the cork bar under which the wafer is mounted, so the size of the wafer blade is very complicated, and thus it is not easy to use in the manufacturing process.
또한 상술한 두 종류의 종래 방식은 모두 한 번에 한 단위의 웨이퍼 막 절단, 막 부착을 완성하기 때문에 생산에 제한을 받게 되며 만약 대량의 기계가 동일 제작과정을 생산할 경우 그 경비가 많이 들어 원가가 상승된다. In addition, the two types of conventional methods described above are limited to production because they complete cutting one unit of wafer film and attaching the film at a time. If a large number of machines produce the same manufacturing process, the cost is high. Is raised.
본 발명은 웨이퍼 막 절단장치를 제공하는 것으로, 종래 막 절단장치가 웨이퍼의 막보다 작거나 같지 못하는 것을 개선하고, 한 번에 한 단위의 막만을 절단하여 쉽게 절단 크기를 변경하기 어려운 결점을 개선한 것이다. The present invention provides a wafer film cutting device, which improves that the conventional film cutting device is not smaller than or equal to the film of the wafer, and improves a defect that is difficult to easily change the cutting size by cutting only one film at a time. will be.
전술한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 프레스 막 윗 프레임, 프레스 막 아래 프레임, 막이 나오는 유닛, 막을 거두는 유닛 및 탑재유닛이 설치되는데, 상기 프레스 막 윗 프레임에는 다수의 윗 칼 자리가 설치되고, 상기 프레스 막 아래 프레임에는 다수의 아래 칼 자리가 설치되며, 이 아래 칼 자리 내부의 직경 넓이는 웨이퍼이 직경 넓이보다 작거나 같으며, 이 프레스 막 아래 프레임 상면에는 오목 안치대를 설치하여 아래 칼 자리와 연통되게 한다. 상기 오목 안치대의 외부둘레는 어깨부가 둥글게 설치되고 이 어깨부의 높이는 웨이퍼의 두께보다 크다. 상기 프레스 막 윗 프레임에는 흡수 부착판 프레임이 설치되는데, 이 흡수 부착판 프레임의 하면에는 다수의 흡수 부착판이 설치되고, 이 흡수 부착판은 프레스 막 위 프레임의 위 칼 자리에 대응되게 설치된다. 상기 흡수 부착판의 내측에는 각각 적어도 하나의 예비붙임유닛이 설치되는데 이 예비붙임유닛은 열융합 효과를 제공하는 장치이며 절단된 막이 열융합을 받아 웨이퍼 위에 접착하게 된다. In order to achieve the above object, the present invention is provided with a press membrane upper frame, a frame under the press membrane, a membrane exit unit, a membrane retrieval unit and a mounting unit, a plurality of upper cutlery is installed on the press membrane upper frame, A number of lower cuts are installed in the frame under the press membrane, and the diameter width inside the lower cut sheet is less than or equal to the diameter of the wafer, and the upper surface of the frame under the press membrane is provided with a recessed base to communicate with the lower cut. To be. The outer circumference of the concave set is provided with a rounded shoulder and the height of the shoulder is larger than the thickness of the wafer. An absorbent adhesion plate frame is installed on the press film upper frame, and a plurality of absorbent adhesion plates are installed on the lower surface of the absorbent adhesion plate frame, and the absorption attachment plate is installed to correspond to the upper cut of the frame on the press membrane. At least one preliminary pasting unit is installed inside each of the absorption attaching plates. The preliminary pasting unit is a device for providing a thermal fusion effect, and the cut film is thermally fused to adhere onto the wafer.
종래의 웨이퍼 막 절단장치는 노출 혹은 현상과정을 진행하거나 또는 인공으 로 막을 방치하는데 이렇게 하면 한 번에 한 단위의 막만을 절단하게 되어 칼날 절단방식에 제한을 받게 되고 웨이퍼 면적보다 큰 막만을 절단하게 되어 웨이퍼 면적보다 작거나 같은 수요에 부합되지 못하게 되고 칼날로 절단된 크기를 변경할 수가 없다. Conventional wafer film cutting equipment undergoes exposure or development, or artificially leaves the film, which cuts only one film at a time, which limits the cutting method and cuts only the film larger than the wafer area. As a result, they cannot meet demands less than or equal to the wafer area and cannot change the cut size with the blade.
본 발명은 웨이퍼 탑재유닛의 상방에 위치한 프레스 막 위,아래 프레임에 다수의 위,아래 칼날 자리를 이용하여 한 번에 프레스로 절단작업을 진행하는 것으로 다수의 막을 절단할 수 있어 생산효율을 높이고 노출 혹은 현상 등 과정을 생략할 수 있다. The present invention can cut a plurality of membranes at a time by using a plurality of upper and lower blade seats on the upper and lower frames of the press film located above the wafer mounting unit to cut a plurality of films to increase production efficiency and exposure. Alternatively, the process may be omitted.
본 발명은 웨이퍼 상에 위,아래 칼 자리를 설치하여 막을 절단하는 것으로 상기 아래 칼 자리 내의 직경 넓이는 웨이퍼 직경 넓이보다 작거나 같아 웨이퍼 면적보다 작거나 같은 막을 절단할 수 있어 사용자가 웨이퍼 외부둘레에 전기도금점을 분포시키는데 편리하다. 또한 상기 막은 흡수 부착판을 이용해 먼저 위를 향해 흡입하였다가 다시 놓기 때문에 절단한 찌꺼기를 제거하여 웨이퍼가 오염되는 것을 피할 수 있다. 또한 상기 흡수 부착판에는 예비붙임유닛이 설치되어 막에 열융합을 가해 막이 웨이퍼 상에 놓일 때 웨이퍼에 부착되게 하여 막 붙임의 기능을 도달한다. 또한 상기 프레스 막 위 프레임과 프레스 막 아래 프레임은 교환할 수 있으며, 각기 다른 크기의 위,아래 칼날 자리로 변경이 가능하여 각종 웨이퍼 크기의 수요의 부합되며 이로써 기타 기구의 구매필요 없이 각기 다른 웨이퍼 크기로 절단작업을 진행할 수 있다. The present invention is to cut the film by installing the upper and lower cuts on the wafer, the diameter width in the lower cut is less than or equal to the width of the wafer diameter can cut the film less than or equal to the wafer area, so that the user can cut the film It is convenient to distribute the electroplating shop. In addition, since the film is first sucked upwards through the absorbent plate and then placed again, the film can be removed to avoid contamination of the wafer. In addition, the absorbing plate is provided with a pre-gluing unit to apply heat fusion to the film so that the film adheres to the wafer when the film is placed on the wafer to reach the function of the film sticking. In addition, the frame above the press membrane and the frame below the press membrane can be exchanged, and can be changed to the upper and lower blade positions of different sizes to meet the demand of various wafer sizes, thereby allowing different wafer sizes without the need for purchasing other instruments. You can proceed with the cutting.
본 발명은 웨이퍼 막 절단장치로서 도 1과 2를 참고하면, 프레스 막 윗 프레임(10), 프레스 막 아래 프레임(20), 막이 나오는 유닛(61), 막을 거두는 유닛(62) 및 탑재유닛(40)으로 구성되고, 상기 프레스 막 윗 프레임(10)은 프레스 막 아래 프레임(20)의 상방에 설치되어 고정상태를 유지하며, 이 프레스 막 윗 프레임(10)에는 다수의 윗 칼 자리(11)가 설치되고, 이 윗 칼 자리(11)는 프레스 막 윗 프레임(10) 하면에 설치되고 안으로 오목하게 들어간 원형모양의 열린 입구 구조를 가지며, 이 윗 칼 자리(11)의 내측벽의 하면 내 직경 넓이는 상면 내 직경 넓이보다 크다. 1 and 2 of the present invention, the upper frame of the
상기 프레스 막 아래 프레임(20)은 상하로 이동가능한 구조이며, 이 프레스 막 아래 프레임(20)에는 다수의 아래 칼 자리(21)가 설치되며, 이 아래 칼 자리(21)는 프레스 막 아래 프레임(20)의 상면에 설치되어 돌출된 원형의 열린 입구 구조를 나타내며, 이 아래 칼 자리(21)의 상하 내부 직경 넓이는 동일하여 평평한 직선이 내측벽이 된다. 상기 아래 칼 자리(21)의 외측벽의 상방 외부 직경 넓이는 하방 외부 직경 넓이보다 작고 이 아래 칼 자리(21)의 내부 직경 넓이는 웨이퍼(41)의 직경 넓이보다 작거나 같아 돌출된 아래 칼 자리(21)의 돌출된 외부둘레가 윗 칼 자리(11) 내측벽의 경사각도에 대응하게 되며, 이 아래 칼 자리(21)는 윗 칼 자리(11) 내에 설치된다. The frame under the
상기 프레스 막 아래 프레임(20)의 하며에는 오목 안치대(22)가 설치되고, 이 안치대(22)는 아래 칼 자리(21)에 대응해 설치되고 아래 칼 자리(21)와 연통되며, 이 안치대(22)의 외부 둘레에는 둥글게 어깨부(23)가 설치되며 이 어깨부(23) 의 높이는 웨이퍼(41)의 두께보다 크다. In the frame under the
상기 막이 나오는 유닛(61)과 막을 거두는 유닛(62)은 각각 프레스 막 윗 프레임(10), 프레스 막 아래 프레임(20)의 양측에 설치되고, 상기 막이 나오는 유닛(61)과 막을 거두는 유닛(62)은 두루마리식의 막(60)을 장치하는데 제공되며, 막(60)이 프레스 막 윗 프레임(10)과 프레스 막 아래 프레임(20)의 사이에 설치되어 프레스 막 윗 프레임(10)의 하면에 붙여지게 되고, 상기 막이 나오는 유닛(61)은 아직 잘려지지 않은 막(60)을 출력하는데 제공되고, 상기 막을 거두는 유닛(62)은 잘린 후의 나머지 막(60)을 감아 거두는데 제공된다. The
이 프레스 막 윗 프레임(10)의 상방에는 흡수 부착판 프레임(30)이 설치되는데, 이 흡수 부착판 프레임(30)의 하면에는 다수의 흡수 부착판(31)이 설치되고, 이 흡수 부착판(31)은 프레스 막 윗 프레임(10)의 윗 칼 자리(11)에 대응되게 설치되고, 이 흡수 부착판(31)의 흡인력이 윗 칼 자리(11)와 아래 칼 자리(21)를 지나 절단한 막(60)을 흡인한다. 이 흡수 부착판(31)의 내측에는 각각 적어도 하나의 예비붙임유닛(32)이 설치되며 이 예비 붙임유닛(32)은 열융합 효과를 제공하는 장치로 잘린 후의 막(60)이 열융합을 받아 웨이퍼(41) 위에 부착되게 한다. An absorbent
이로써 작업을 진행할 때 상기 탑재유닛(40)은 프레스 막 아래 프레임(20)의 하방으로 이동하여 막이 나오는 유닛(61)으로부터 탑재유닛(40)에 배합해 절단을 거치지 않은 막(60)을 출력하고, 상기 흡수 부착판 프레임(30)은 윗 칼 자리(11), 아래 칼 자리(21)에 대응되게 설치된 흡수 부착판(31)을 이용하여 먼저 절단되지 않은 막(60)을 위로 흡인하여 프레스 막 윗 프레임(10)의 하면에 부착시킨다. As a result, when the operation proceeds, the
승강유닛(50)은 유압 혹은 기압 등 기술수단으로 아래로부터 위로 승강판 프레임(51)을 밀어 탑재유닛(40)과 함께 위를 향해 위치이동하여 탑재유닛(40)이 프레스 막 아래 프레임(20)을 밀고, 프레스 막 아래 프레임(20)과 탑재유닛(40)의 접촉면에 있는 오목 안치대(22)가 탑재유닛(40)의 웨이퍼(41)보다 크고 또한 어깨부(23)를 이용하여 탑재유닛(40)과 접촉하여 견제하고 웨이퍼(41)가 프레스 막 아래 프레임(20)에 접촉되지 못하게 한다. The elevating
상기 승강유닛(50)은 계속 위를 향해 밀려져 프레스 막 아래 프레임(20)과 프레스 막 윗 프레임(10)이 서로 접합되게 하며, 아래 칼 자리(21)는 윗 칼 자리(11) 내에 설치되어 프레스 막 아래 프레임(20)과 프레스 막 윗 프레임(10) 중간의 막(60)이 윗 칼 자리(11)와 아래 칼 자리(21)에 의해 둥근 모양으로 절단된다. The elevating
또한 흡수 부착판(31)은 절단작업을 진행하기 전에 이미 막(60)을 흡수함에 따라 이 막(60)은 절단 후 위를 향해 흡인되고 동시에 흡수 부착판(31) 내측의 예비붙임유닛(32)에 위치하여 막(60)에 열융합을 가해 흡수 부착판(31)이 다시 막(60)을 아래로 놓게 하여 막(60)을 절단한 찌꺼기를 제거하는데 편리하며, 동시에 열융합의 막(60)을 웨이퍼(410에 부착하여 막의 절단과 붙임 기능에 도달하며 웨이퍼(41) 표면적보다 작은 막(60)을 절단해 낸다. In addition, as the
도 3에서 6의 조작 개략도를 참고하면, 도 3에서와 같이, 탑재유닛(40)에는 약간의 웨이퍼(41)를 놓고 이 탑재유닛(40)은 기계팔, 전송대(도면에는 미표시)등의 수단으로 프레스 막 아래 프레임(20) 하방으로 밀어 넣어지고 프레스 막 윗 프레임(10)과 프레스 막 아래 프레임(20) 양측에 위치한 막이 나오는 유닛(61)과 막 을 거두는 유닛(62)이 사용한 막(60)을 감아 거두고 아직 절단되지 않은 막(60)을 말아 프레스 막 아래 프레임(20)과 프레스 막 윗 프레임(10)의 사이로 보낸다. Referring to the operation schematic of Figs. 3 to 6, as shown in Fig. 3, some
도 4,5를 참고하면, 도 4에서와 같이 흡수 부착판(30)은 초기에 절단되지 않은 막(60)을 위를 향해 흡인하여 프레스 막 윗 프레임(10) 하면에 부착하고 승강유닛(50)이 탑재유닛(40)을 아래로부터 위를 향해 밀어 탑재유닛(40)이 위를 향해 프레스 막 아래 프레임(20)을 밀게 하고, 이 프레스 막 아래 프레임(20)과 탑재유닛(40)의 접촉면에 오목 안치대(22)를 설치하여, 이 오목 안치대(22)가 그 어깨부(23)를 이용해 탑재유닛(40)을 이어 견제하고, 웨이퍼(41)가 프레스 막 아래 프레임(20)과 어떠한 접촉도 일어나지 않게 하여 웨이퍼(41)가 훼손되는 것을 방지한다. 4 and 5, as shown in FIG. 4, the
도 5에서와 같이 탑재유닛(40)은 프레스 막 아래 프레임(20)과 함께 승강유닛(50)의 밀림을 받아 위를 향해 밀어 올려지고, 프레스 막 윗 프레임(10)과 프레스 막 아래 프레임(20)의 접합이 이루어지게 하며 확대부분으로부터 명확하게 볼 수 있듯이 아래 칼 자리(21)는 윗 칼 자리(11)에 끼어져 설치되며, 프레스 막 윗 프레임(10)과 프레스 막 아래 프레임(20) 사이에 위치하는 막(60)은 윗 칼 자리(11)와 아래 칼 자리(21)에 의해 원형으로 절단된다. As shown in FIG. 5, the mounting
상기 아래 칼 자리(21)는 윗 칼 자리(11) 내에 끼어져 설치되며, 이 아래 칼 자리(21) 내부 직경 넓이는 웨이퍼(41) 직경 넓이보다 작거나 같다. 따라서 절단된 막(60)은 웨이퍼(41) 표면적보다 작거나 같다. 초기 때 잘려지지 않은 막(60)은 흡수 부착판 프레임(30)에 의해 흡수 부착되기 때문에 윗 칼 자리(11)와 아래 칼 자 리(21)의 접합으로 막(60)을 절단하고 이 절단된 후의 막(60)은 위를 향해 흡인되어 막(60) 절단으로 잔류하는 찌꺼기를 제거하는데 편리하고 웨이퍼(41)가 오염되는 것을 방지한다. 흡수 부착판(31)의 내측에는 예비붙임유닛(32)이 설치되어 이 예비붙임유닛(32)이 위를 향해 흡인된 막(60) 주변에 열융합을 가한다. The
도 6,7을 참고하면 도 6에서 분명하게 볼 수 있듯이, 흡수 부착판(31)의 흡인작업이 끝나면 이 흡수 부착판 프레임(30)은 열융합을 경과한 막(60)을 아래로 밀어 웨이퍼(41)에 예비로 붙여 막을 붙이는 효과에 도달하며 상술한 아래 칼 자리(21) 내부의 직경이 웨이퍼(41) 직경보다 작거나 같기 때문에 이로써 절단된 막(60)의 면적이 웨이퍼(41)의 면적보다 작거나 같아 웨이퍼(41) 외부 주변에 전기도금점을 분포하는 효과에 이른다. Referring to FIGS. 6 and 7, as shown in FIG. 6, when the absorbing work of the absorbing
또한 프레스 막 윗 프레임(10)과 프레스 막 아래 프레임(20)에는 다수의 윗 칼 자리(11)와 아래 칼 자리(21)가 설치되어 동시에 다수의 막(60)을 프레스 절단할 수 있어 생산효율이 높다. 절단 작업이 완성된 후 승강유닛(50)이 하강하여 승강 프레임(51), 탑재유닛(40)을 하강시키고, 프레스 막 아래 프레임(20)이 견제를 받지 않아 원래 위치로 돌아오며 기계팔, 전송대 등 기술수단을 통해 탑재유닛(40)을 웨이퍼(41),웨이퍼(41)에 부착된 막(60)과 함께 자동으로 막을 누르는 기계 혹은 진공누름기로 눌려져 접합하거나 기타 제조과정을 진행한다.In addition, a plurality of
도 1과 2는 본 발명인 웨이퍼 막 절단장치의 외관 입체도. 1 and 2 is a three-dimensional appearance of the wafer film cutting device of the present invention.
도 3에서 도 7은 본 발명인 웨이퍼 막 절단장치의 측면 조작 개략도. 3 to 7 is a schematic side view of the wafer film cutting apparatus of the present invention.
** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ** ** Explanation of symbols for main parts of drawings **
10:프레스 막 윗 프레임 11:윗 칼 자리 10: Press curtain upper frame 11: Upper cut
20:프레스 막 아래 프레임 21:아래 칼 자리 20: Frame under press curtain 21: Lower knife seat
22:오목 안치대 23:어깨부 22: concave rest 23: shoulder
30:흡수 부착판 프레임 31:흡수 부착판 30: absorption board plate 31: absorption board
32:예비붙임유닛 40:탑재유닛 32: spare unit 40: mounting unit
41:웨이퍼 50:승강유닛 41: Wafer 50: Lifting unit
51:승강 프레임 60:막51: Lifting frame 60: Film
61:막이 나오는 유닛 62:막을 거두는 유닛 61: the unit which the curtain comes out 62: the unit that the curtain comes out
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080019697A KR100921390B1 (en) | 2008-03-03 | 2008-03-03 | Wafer membrane cutter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080019697A KR100921390B1 (en) | 2008-03-03 | 2008-03-03 | Wafer membrane cutter |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090094629A KR20090094629A (en) | 2009-09-08 |
KR100921390B1 true KR100921390B1 (en) | 2009-10-14 |
Family
ID=41295005
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080019697A KR100921390B1 (en) | 2008-03-03 | 2008-03-03 | Wafer membrane cutter |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100921390B1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115196084A (en) * | 2021-04-13 | 2022-10-18 | 常州星宇车灯股份有限公司 | Automatic film pasting device for lamp |
CN116646255B (en) * | 2023-05-24 | 2024-03-22 | 浙江嘉辰半导体有限公司 | Wafer level packaging technology meeting electromagnetic compatibility requirement |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030057196A (en) * | 2001-12-28 | 2003-07-04 | 동부전자 주식회사 | multi cutter of wafer |
JP2008012654A (en) | 2006-06-09 | 2008-01-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for manufacturing semiconductor device |
-
2008
- 2008-03-03 KR KR1020080019697A patent/KR100921390B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030057196A (en) * | 2001-12-28 | 2003-07-04 | 동부전자 주식회사 | multi cutter of wafer |
JP2008012654A (en) | 2006-06-09 | 2008-01-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for manufacturing semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090094629A (en) | 2009-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4801829B2 (en) | Method and apparatus for trimming photoelectric conversion module | |
JP2010135436A (en) | Apparatus for sticking adhesive tape to substrate | |
CN210040148U (en) | Full-automatic wafer cleaning and pasting all-in-one machine | |
CN101961886B (en) | Cutting device | |
JP4302838B2 (en) | Method and apparatus for trimming photoelectric conversion module | |
CN114473822B (en) | Wafer thinning and polishing device | |
KR100921390B1 (en) | Wafer membrane cutter | |
US7215407B2 (en) | Transport method and transport apparatus for semiconductor wafer | |
JP2009212173A (en) | Wafer film cutting apparatus | |
CN107329299B (en) | A kind of full applying method of liquid crystal display and display device | |
CN210025469U (en) | Film cutting device | |
CN218229559U (en) | Wafer protection film cutting device | |
TWI353646B (en) | ||
JP5011364B2 (en) | Wafer laminating dicing saw | |
CN210745878U (en) | Material bearing device of high-speed chip mounter | |
CN210480401U (en) | Sponge pastes dress device, production line | |
JP5554100B2 (en) | Sheet cutting method and sheet cutting apparatus | |
KR20160105353A (en) | Bonding appraratus for wafer and Bonding Method thereof | |
CN219313172U (en) | Luggage case handle film feeding device | |
CN220509974U (en) | Wafer film removing device | |
TWI713134B (en) | Integration system for manufacturing semiconductor device | |
CN213960429U (en) | Novel pre-pasting machine | |
CN211389627U (en) | Clamping device of wafer cutting machine | |
CN221212754U (en) | Film pasting equipment for special-shaped shell material | |
CN214608294U (en) | Film pasting equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |