KR100912884B1 - Etching method for TFT-LCD Glass Using Turnicg-Roll blush - Google Patents
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Abstract
본 발명은 TFT-LCD 글라스 에칭공정에 사용되는 회전 롤 브러쉬와 에칭방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 TFT-LCD 글라스 에칭함에 있어서, 에칭 전 세정을 하는 수직 반송 TFT-LCD 글라스 전처리 챔버에 장착되는 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬를 제공하며, 이를 이용한 세정공정을 수행하는 것을 그 특징으로 한다.The present invention relates to a rotary roll brush and an etching method used in a TFT-LCD glass etching process, and specifically, a cleaning process before etching, an etching process and a post-etch cleaning in a state in which the etching glass is placed vertically in one etching equipment. In sequentially performing TFT-LCD glass etching, the present invention provides a TFT-LCD cleaning rotary roll brush mounted in a vertical conveying TFT-LCD glass pretreatment chamber which cleans before etching, and performs a cleaning process using the same. It is done.
본 발명에 따르면, TFT-LCD 글라스 에칭 공정을 위해서 수행되는 수평반송식 세정작업과 수직 반송식 에칭 공정, 그리고 수평반송방식의 세정공정으로 이어지는 일련의 공정에서 상기 에칭 전 세정공정을 원통형 회전 롤 브러쉬를 장착하여 수행함으로써, 전 공정이 글라스에 대한 수직반송방식의 에칭 공정에서 수행이 가능하도록 하여, 에칭 작업전 별도의 세정공정을 거치지 않고 하나의 프로세스로 처리함으로써, 공정의 연결성의 효율화를 통해 택 타임을 줄이고, TFT-LCD 패널의 파손으로 인한 불량율을 현저하게 줄일 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, the cylindrical pre-etch cleaning process is equipped with a cylindrical rotary roll brush in a series of processes leading to a horizontal conveyance cleaning operation, a vertical conveyance etching process, and a horizontal conveyance cleaning process performed for the TFT-LCD glass etching process. By doing so, the entire process can be performed in the vertical conveying etching process for the glass, and the tack time is improved through the efficiency of process connection by treating it as one process without undergoing a separate cleaning process before etching. There is an effect that can significantly reduce the failure rate due to breakage of the TFT-LCD panel.
TFT-LCD 글라스 에칭, 회전 롤 브러쉬 TFT-LCD Glass Etching, Rotary Roll Brush
Description
본 발명은 TFT-LCD 에칭공정의 세정공정에 사용되는 브러쉬에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 TFT-LCD 글라스 에칭공정을 위해서 수행되는 수평반송식 세정작업과 수직반송식 에칭공정, 그리고 수평반송방식의 세정공정으로 이어지는 일련의 공정에서 상기 에칭 전 세정공정을 원통형 회전 롤 브러쉬를 장착하여 수행함으로써, 전 공정이 글라스에 대한 수직반송방식의 에칭 공정에서 수행 가능하도록 하여, 에칭 작업전 별도의 세정공정을 거치지 않고 하나의 프로세스로 처리함으로써, 공정의 연결성의 효율화를 통해 택타임을 줄이고, TFT-LCD 패널의 파손으로 인한 불량율을 현저하게 줄일 수 있는 회전 롤 브러쉬에 관한 것이다.The present invention relates to a brush used in the cleaning process of the TFT-LCD etching process, and more particularly, a horizontal transfer cleaning operation, a vertical transfer etching process, and a horizontal transfer cleaning process performed for the TFT-LCD glass etching process. The pre-etch cleaning process is performed by attaching a cylindrical rotary roll brush in a series of processes, which allows the entire process to be performed in a vertical conveying etching process for glass, without undergoing a separate cleaning process before etching. By treating in one process, it is possible to reduce the tack time through the efficiency of the process connection, and to a rotary roll brush that can significantly reduce the defective rate due to the breakage of the TFT-LCD panel.
LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electroluminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display)등 여러 가지 평판표시장치가 연구되고 있다. 그 중에서도 LCD가 화질이 우수하며 저전력을 사용한다는 점에서 활발히 연구되고 있다.Various flat panel display devices such as liquid crystal display device (LCD), plasma display panel (PDP), electroluminescent display (ELD), and vacuum fluorescent display (VFD) have been studied. Among them, LCD has been actively researched in terms of excellent image quality and low power consumption.
특히, FPD(flat panel display)용으로 사용되는 TFT(thin film transistor) LCD(liquid crystal display)는 하판에 해당하는 TFT와 상판에 해당하는 CF(color filter)사이에 액정이 삽입되어 셀(cell) 형태로 제조된다. LCD의 크기나 무게를 줄이기 위해서는 여러 가지 방법이 적용될 수 있지만, 그 구조나 현재 기술상 LCD의 필수 구성요소의 중량이나 크기를 줄이는 것은 한계가 있다. 반면에 LCD의 가장 기본적인 구성요소인 유리기판은 기술이 진전되어 감에 따라 그 중량을 줄일 수 있는 여지가 남아 있다. 특히, 유리기판은 LCD를 구성하는 구조 중에서 가장 중량이 크기 때문에 그 중량을 줄이기 위한 연구가 계속되고 있다. In particular, a thin film transistor (TFT) liquid crystal display (TFT) used for a flat panel display (FPD) has a liquid crystal interposed between a TFT corresponding to a lower plate and a color filter (CF) corresponding to an upper plate. Manufactured in the form. Various methods can be applied to reduce the size or weight of the LCD, but there are limitations in the structure or current technology to reduce the weight or size of the essential components of the LCD. On the other hand, the glass substrate, the most basic component of LCD, has room to reduce its weight as technology advances. In particular, since the glass substrate has the largest weight among the structures constituting the LCD, research to reduce the weight is continued.
TFT-LCD의 경량화를 위하여 글라스의 평면을 얇게 가공할 필요가 있다. 즉 TFT와 CF가 합착된 셀(cell) 글라스를 에칭하여야 할 필요가 있다. 이제까지 행해지고 있는 글라스의 에칭 방법이나 그 장치는 여러 가지 문제점을 내포하고 있다.In order to reduce the weight of the TFT-LCD, it is necessary to process the glass flat. That is, it is necessary to etch the cell glass to which the TFT and CF are bonded. The etching method of the glass and the apparatus which are performed so far have various problems.
구체적으로 살펴보면, 도 1을 참조하여 보면, 일반적으로 TFT-LCD 글라스 에칭을 위해서는 글라스의 수평방식의 세정공정작업을 수행하게 된다(R1, R2). 이는 에칭 전 이물질과 오염원을 사전에 제거하는 작업으로 글라스를 수평으로 배치하고 세정을 수행하게 된다. 또한, 세정이 끝난 경우에는 별도의 에칭장비로 이송하고, 이후 수직으로 글라스를 세운 상태에서 에칭 공정을 수행하게 된다(R3). 이 경우 상기 에칭 후에 세정하는 공정을 위해서는 수평반송방식으로 수행되는 글라스 반송(R4)이 이루어지게 된다. Specifically, referring to FIG. 1, in general, in order to etch a TFT-LCD glass, a horizontal cleaning process of glass is performed (R1 and R2). This is to remove foreign substances and contaminants before etching in order to arrange the glass horizontally and perform cleaning. In addition, when the cleaning is finished, it is transferred to a separate etching equipment, and then the etching process is performed in a state in which the glass is upright (R3). In this case, for the cleaning process after the etching, the glass conveyance R4 is performed by the horizontal conveyance method.
이러한 TFT-LCD 패널의 반송방식의 차이에 따라 공정의 연결작업이 매끄럽게 연결되지 못하여 별개의 공정으로 수행되는 것이 일반적이며, 특히 이처럼 별개의 공정으로 수행됨으로 인해 작업시간이 길어지고 동일 TFT-LCD 패널을 여러 번 취급 을 하게 되어 얼룩이나 파손 등의 불량이 발생하게 된다. Due to the difference in the conveying method of the TFT-LCD panel, it is common that the process of connecting the processes cannot be connected smoothly, and thus, the process is performed in a separate process. If you handle it several times, defects such as staining or damage will occur.
또한, 수평반송 방식의 세종공정에서 블러쉬를 사용하여 세정을 이용하는 경우에도 기술적인 문제로 그 한계가 있었으며, 특히 수직 반송방식에의 블러쉬의 적용에의 기술적인 난제로 인해 하나의 에칭 프로세스 내로 상기 세정공정을 도입하기 어려워, 에칭 공정과 세정공정의 연결작업성이 떨어지는 문제점이 있었다.In addition, there is a technical problem in the case of using the cleaning using the blush in the horizontal conveying type Sejong process, in particular, due to technical difficulties in the application of the blush to the vertical conveying method, the cleaning in one etching process Difficult to introduce the process, there was a problem that the connection workability between the etching process and the cleaning process is inferior.
본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 TFT-LCD의 에칭공정을 형성하는 에칭 전 세정, 에칭, 에칭 후 세정공정에서 에칭 전 세정공정을 수직으로 설치된 회전 롤 브러쉬를 설치하여 에칭 공정에서 바로 수직으로 세운 상태에서 세정작업의 수행이 가능하도록 함으로써, 에칭 작업전 별도의 세정공정을 거치지 않고 하나의 프로세스로 처리함으로써, 공정의 연결성의 효율화를 통해 택타임을 줄이고, TFT-LCD 패널의 파손으로 인한 불량율을 현저하게 줄이는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a rotary roll brush installed vertically with a pre-etch cleaning process in a pre-etch cleaning, etching, and post-etch cleaning process to form an etching process of a TFT-LCD. By installing it to be able to perform the cleaning work in the vertically upright state in the etching process, by processing as a single process without a separate cleaning process before the etching work, reducing the tack time through the efficiency of the process connection, It is to significantly reduce the defective rate due to breakage of the TFT-LCD panel.
상술한 과제 해결을 위해, 본 발명은 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 TFT-LCD 글라스 에칭함에 있어서, 에칭 전 세정을 하는 수직 반송 TFT-LCD 글라스 전처리 챔버에 장착되는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공한다. 특히 상기 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬는 원통형 구조를 구비하되, 수직으로 분리되어 단면이 반원형상으로 분할되어 가공하여 조립의 용이성을 도우며, 회전 롤 브러쉬의 재질을 열경화성 수지를 이용하고, 특히 브러쉬 구동축의 상단에 구동모터를 설치하여 원통형 회전 롤 브러쉬의 회전 속도를 가변할 수 있도록 하고, 양면 대칭 블러쉬의 유격 조정을 자유롭게 조절할 수 있도록 하여 발명의 효율성을 높일 수 있도록 하였다.In order to solve the above problems, the present invention in the etching glass in a vertical etching state in a single etching equipment in order to clean the etching before and after the etching process, the etching process after etching in the TFT-LCD glass etching, cleaning before etching It provides a rotary roll brush for cleaning the TFT-LCD mounted in the vertical transfer TFT-LCD glass pretreatment chamber. In particular, the TFT-LCD cleaning roll brush has a cylindrical structure, and is vertically separated so that the cross section is divided into semi-circular shapes for easy assembly and processing, and the material of the rotating roll brush uses a thermosetting resin, in particular, a brush By installing a drive motor on the top of the drive shaft to be able to change the rotational speed of the cylindrical rotary roll brush, and to adjust the play of the double-sided symmetrical brush freely to increase the efficiency of the invention.
본 발명에 따르면, TFT-LCD 글라스 에칭공정을 위해서 수행되는 수평반송식 세정작업과 수직반송식 에칭공정, 그리고 수평반송방식의 세정공정으로 이어지는 일련의 공정에서 상기 에칭 전 세정공정을 원통형 회전 롤 브러쉬를 장착하여 수행함으로써, 전 공정이 글라스에 대한 수직반송방식의 에칭공정에서 수행이 가능하도록 하여, 에칭 작업전 별도의 세정공정을 거치지 않고 하나의 프로세스로 처리함으로써, 공정의 연결성의 효율화를 통해 택타임을 줄이고, TFT-LCD 패널의 파손으로 인한 불량율을 현저하게 줄일 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, the cylindrical pre-etch cleaning process is equipped with a cylindrical rotary roll brush in a series of processes leading to a horizontal transfer cleaning operation, a vertical transfer etching process, and a horizontal transfer cleaning process performed for the TFT-LCD glass etching process. By doing so, the entire process can be carried out in the etching process of the vertical conveying method to the glass, and by treating it as one process without undergoing a separate cleaning process before etching, the tack time through the efficiency of the process connection There is an effect that can significantly reduce the failure rate due to breakage of the TFT-LCD panel.
본 발명은 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 TFT-LCD 글라스 에칭함에 있어서, 에칭 전 세정을 하는 수직 반송 TFT-LCD 글라스 전처리 챔버에 장착되는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공하여, TFT-LCD용 글라스 에칭 공정 전 공정인 세정공정에 수직 설치된 회전롤 브러쉬를 통해 글라스를 수직으로 세운 상태에서 곧바로 세정을 수행할 수 있도록 함으로써, 하나의 에칭공정에서 세정과 에칭이 동시에 이루어질 수 있도록 하여, 공정연결성의 단축으로 인한 작업시간을 절약하고, 글라스의 파손을 방지하는 효과를 구현할 수 있도록 한다.The present invention is a vertical conveying TFT-LCD which performs cleaning before etching in TFT-LCD glass etching in a pre-etch cleaning, etching process, and post-etch cleaning process in a state in which the etching glass is placed vertically in one etching equipment. Provides a TFT-LCD cleaning rotary roll brush mounted in the glass pretreatment chamber so that cleaning can be performed immediately while the glass is upright through a rotary roll brush installed vertically in the cleaning process before the glass etching process for TFT-LCD. In this way, cleaning and etching may be simultaneously performed in one etching process, thereby saving work time due to shortening of process connectivity and realizing an effect of preventing glass breakage.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 원통형인 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공하여, 원활한 회전운동으로 글라스와의 마찰을 최소한으로 줄여 글라스의 파손을 방지할 수 있도록 한다.In addition, the present invention provides a rotary roll brush for cleaning the TFT-LCD, characterized in that the rotary roll brush is cylindrical, so as to prevent the breakage of the glass by reducing the friction with the glass to a minimum by a smooth rotation movement.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 열경화성 수지로 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공함이 바람직하다.In addition, the present invention preferably provides a rotary roll brush for cleaning TFT-LCD, wherein the rotary roll brush is formed of a thermosetting resin.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 폴리프로핀렌 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공함이 바람직하다.In addition, the present invention preferably provides a rotary roll brush for cleaning TFT-LCD, wherein the rotary roll brush is formed of polypropylene.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 롤 브러쉬 외면에 0.1 ~ 1.0mm 인 블러쉬모를 구비한 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공하여, 글라스의 훼손을 최소화하면서도 오염물의 제거의 효율성을 증진 시킬 수 있도록 한다.In addition, the present invention provides a rotary roll brush for cleaning the TFT-LCD, characterized in that the brush roll having a brush brush of 0.1 ~ 1.0mm on the outer surface of the roll brush, while minimizing the damage of the glass while removing the contamination To promote this.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 수직 반송 TFT-LCD 글라스 전처리 챔버에 장착되되 구동축이 수직으로 형성되어 장착되며, 구동모토에 의해 구동되어 회전속도를 가변할 수 있는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬를 제공하여, 세정작업의 다양성을 보장할 수 있도록 한다.In addition, the present invention, the rotary roll brush is mounted in the vertical conveying TFT-LCD glass pretreatment chamber, the drive shaft is vertically formed and mounted, and is driven by a drive moto TFT-LCD characterized in that the rotational speed can be varied A rotating roll brush for cleaning can be provided to ensure a variety of cleaning operations.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 서로 대향되는 구조로 이격되어 적어도 2이상 구비되며, 상기 이격된 간격이 조절 가능하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬를 제공하여 세정의 강약을 조절할 수 있도록 한다.In another aspect, the present invention provides a rotary roll brush for cleaning TFT-LCD cleaning, characterized in that the rotating roll brush is spaced apart from each other in a structure facing each other is provided at least two, the spaced interval is adjustable. Allow you to control your strength and weakness.
또한, 본 발명은 상기 회전 롤 브러쉬는 원통형상의 그 단면이 반원이 되도록 분리 제작되어, 조립 가능한 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 세정용 회전 롤 브러쉬를 제공하여, 분리와 조립이 용이하도록 하여 사용상의 편의성을 증진할 수 있도록 한다.In addition, the present invention is to provide a rotary roll brush for cleaning TFT-LCD, characterized in that the rotating roll brush is manufactured by separating the cylindrical cross-section is a semi-circle, so as to be assembled, so that the separation and assembly is easy. To improve the convenience of use.
또한, 본 발명은 TFT-LCD 글라스 에칭 공정에 있어서, 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 수행하되, 상기 에칭 전 세정공정은 상술한 TFT-LCD 세정용 회전 롤브러쉬에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 TFT-LCD의 에칭방법을 제공한다.In addition, the present invention in the TFT-LCD glass etching process, in the etching glass in a single etching equipment in a vertical state to perform the cleaning before etching, the etching process, and the post-etch cleaning process, but the cleaning before etching The process provides an etching method of a TFT-LCD, which is performed by the above-described rotating roll brush for cleaning a TFT-LCD.
이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the configuration and operation of the present invention will be described in detail.
도 2를 참조하면, 도 2는 본 발명에 따른 세정공정과 에칭 공정을 하나로 처리하는 장비의 개략도면이다.Referring to FIG. 2, FIG. 2 is a schematic diagram of equipment for treating a cleaning process and an etching process according to the present invention into one.
본 발명에 따른 공정의 순서로서 우선 에칭을 위한 TFT-LCD 글라스를 에칭 장비로 로딩한다(S1). 로딩 후 버퍼공정을 거쳐 안정적인 장착이 이루어진 뒤(S2), 에칭 전 세정단계를 수행하게 된다(S3). 이 에칭 전 세정단계에서는 수직으로 세워진 TFT-LCD 글라스를 세워진 상태로 세정이 이루어지게 되며, 상기 세정단계 이후에 화학적 에칭 등의 에칭 공정이 수행되게 된다(S4). 에칭이 수행되는 경우에도 상기 TFT-LCD 글라스는 수직정렬로 각 단계별로 이송하게 된다. 또한, 상기 에칭공정이 수행된 후에는 에칭 후 세정단계(S5)를 거치게 되며, 상기 에칭 후 세정단계 이후에는 에칭 공정의 약품을 충분히 제거할 수 있는 중화공정(S6)을 수행하게 된다. 이후에는 초 순수 세정(S7)단계를 거치며, 이후에는 건조와 버퍼공정 및 언로딩공정을 거쳐서 에칭 공정을 완료하게 된다(S8 ~ S10). 상기 에칭 전 세정단계(S3)에서 세정이 이루어지는 챔버 내에 수직으로 장착되는 본 발명에 따른 TFT- LCD 세정용 회전 롤 브러쉬를 장착하게 된다.As a sequence of the process according to the present invention, first, the TFT-LCD glass for etching is loaded into the etching equipment (S1). After loading, a stable mounting is performed through a buffer process (S2), and a cleaning step before etching is performed (S3). In this pre-etching cleaning step, the cleaning is performed in a standing state of the vertically-mounted TFT-LCD glass, and an etching process such as chemical etching is performed after the cleaning step (S4). Even when etching is performed, the TFT-LCD glass is transferred in each step in a vertical alignment. In addition, after the etching process is performed after the etching after the cleaning step (S5), and after the cleaning step after the etching to perform a neutralization step (S6) that can sufficiently remove the chemicals of the etching process. Subsequently, ultra pure cleaning (S7) is performed, and then the etching process is completed through drying, a buffer process, and an unloading process (S8 to S10). In the pre-etch cleaning step (S3), the TFT-LCD cleaning rotary roll brush is mounted vertically in the chamber in which the cleaning is performed.
도 3을 참조하여 보면, 상기 회전 롤 블러쉬(10)는 세정을 수행하는 챔버(100) 내에 구동축(40)을 중심으로 수직방향으로 배치된다. 이 경우 상기 회전 롤 블러쉬는 원통형으로 제조됨이 바람직하며, 특히 상기 원통형 구조는 수직으로 2 분할하여 단면이 반원형이 되도록 분할 조립 가능한 구조로 제작됨이 바람직하다. 상기 회전 롤 블러쉬(10)의 조립과 분리가 용이하게 함이다. 또한, 상기 회전 롤 블러쉬(10)는 열경화성 수지, 더욱 바람직하게는 폴리프로필렌의 재질로 형성됨이 바람직하다. 이는 강산 등의 화학약품에 견딜 수 있는 내구성을 구비하기 위함이다.Referring to FIG. 3, the
상기 회전롤 블러쉬에는 0.1~1.0mm의 블러쉬 모를 형성하여 세정의 효율성을 증진할 수 있도록 함과 동시에 글라스의 스크레치를 최소화하는 구조로 형성시킴이 바람직하다.In the rotary roll blush, it is preferable to form a brush bristle of 0.1 to 1.0 mm to form a structure that minimizes scratches of the glass and at the same time to promote cleaning efficiency.
또한, 상기 회전롤 블러쉬 일단에는 구동모터를 설치하여 상기 원통형 회전 롤블러쉬의 회전속도를 가변함으로써, 세정의 강약을 조절할 수 있도록 함이 바람직하다. 또한, 패널을 중심으로 한 양면 대칭구조의 블러쉬를 설치하여 상기 TFT-LCD 글라스를 양면에서 세정함은 물론 양면 대칭 블러쉬의 유격조정을 통하여 TFT-LCD 글라스의 크기에 따른 범용적 사용이 가능하도록 함이 바람직하다.In addition, by installing a drive motor at one end of the rotary roll blush, by varying the rotational speed of the cylindrical rotary roll blush, it is preferable to adjust the strength of the cleaning. In addition, by installing a double-sided symmetrical blush around the panel, the TFT-LCD glass can be cleaned from both sides, and through the adjustment of the double-sided symmetrical blush, it can be used universally according to the size of the TFT-LCD glass. This is preferred.
특히 상기 구동방식은 강산의 약품에도 견딜 수 있도록 마그네틱(30)방식을 상요하여 용액의 누수를 근본적으로 차단할 수 있도록 함이 바람직하다.In particular, the driving method is preferred to use the magnetic 30 method to withstand the chemicals of the strong acid to be able to fundamentally block the leakage of the solution.
상술한 원통형 회전 롤 블러쉬를 이용하면, 상술한 TFT-LCD 글라스 에칭 공 정에 있어서, 하나의 에칭장비 내에서 에칭용 글라스를 수직으로 세운 상태에서 에칭 전 세정과 에칭공정, 에칭 후 세정공정을 순차로 수행하되, 상기 에칭 전 세정공정을 글라스를 수직으로 세운 상태에서 한 프로세스로 수행이 가능하여 공정의 단순화와 효율성을 구현할 수 있는 장점이 있게 된다.Using the above-described cylindrical rotary roll blush, in the above-described TFT-LCD glass etching process, the cleaning process before the etching, the etching process and the post-etch cleaning process are performed in a state in which the etching glass is placed vertically in one etching equipment. While performing as, the cleaning process before etching can be performed in one process in a state in which the glass is upright, there is an advantage that can implement the process simplification and efficiency.
전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다. 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 기술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.In the detailed description of the invention as described above, specific embodiments have been described. However, many modifications are possible without departing from the scope of the invention. The technical spirit of the present invention should not be limited to the described embodiments of the present invention, but should be determined not only by the claims, but also by those equivalent to the claims.
도 1은 종래의 TFT-LCD 글래스 에칭시의 글라스 반송방식에 대한 흐름도이다.1 is a flowchart of a glass conveying method in the conventional TFT-LCD glass etching.
도 2는 본 발명에 따른 TFT-LCD 글래스 에칭공정을 도시한 도면이다.2 is a view illustrating a TFT-LCD glass etching process according to the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 TFT-LCD 글래스 에칭공정 내의 세정공정에 사용되는 회전 롤 블러쉬가 장착된 구조를 도시한 도면이다.3 is a view showing a structure equipped with a rotary roll blush used in the cleaning process in the TFT-LCD glass etching process according to the present invention.
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