KR100905475B1 - Liquid crystal display panel - Google Patents

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KR100905475B1 KR1020030000972A KR20030000972A KR100905475B1 KR 100905475 B1 KR100905475 B1 KR 100905475B1 KR 1020030000972 A KR1020030000972 A KR 1020030000972A KR 20030000972 A KR20030000972 A KR 20030000972A KR 100905475 B1 KR100905475 B1 KR 100905475B1
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오준학
김파
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Abstract

블랙 매트릭스, 하얀색 필터 및 공통 전극을 포함하는 제1 표시판; 제1 기판과 소정 간격 이격되어 상부에 위치하며, 게이트 전극을 가지는 게이트 배선, 소스 전극 및 드레인 전극을 가지는 데이터 배선 및 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극과 중첩하는 반도체층을 포함하는 제2 표시판; 제1 표시판 및 제2 표시판 사이에 형성된 액정층; 제1 표시판 아래에 배치되며, R, G, B 의 세 가지 광원을 조사하는 백라이트를 포함하고, 소스 전극은 복수개의 소스 전극 가지부를 포함하고, 드레인 전극은 복수개의 드레인 전극 가지부를 포함하며, 소스 전극 가지부와 드레인 전극 가지부는 서로 교대로 형성되어 있는 액정 표시 장치.A first display panel including a black matrix, a white filter, and a common electrode; A second display panel disposed on the first substrate and spaced apart from the first substrate, the second display panel including a gate wiring having a gate electrode, a data wiring having a source electrode and a drain electrode, and a semiconductor layer overlapping the gate electrode, the source electrode, and the drain electrode; A liquid crystal layer formed between the first display panel and the second display panel; A backlight disposed under the first display panel, the backlight irradiating three light sources R, G, and B, the source electrode including a plurality of source electrode branches, the drain electrode including a plurality of drain electrode branches, A liquid crystal display device in which electrode branch portions and drain electrode branch portions are alternately formed.

대형 TFT, FSC, 연속 가법 혼색, OCB 모드Large TFT, FSC, Continuous Mixing, OCB Mode

Description

액정 표시 장치{Liquid crystal display panel}Liquid crystal display panel {Liquid crystal display panel}

도 1은 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 대형 박막 트랜지스터 표시판을 나타내는 배치도이고,1 is a layout view illustrating a large thin film transistor array panel according to a first exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 잘라 나타낸 단면도이고,FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of FIG. 1;

도 3은 킥 백 현상에 의한 데이터 전압의 하락을 도시한 도면이고,3 is a diagram illustrating a drop in data voltage due to a kickback phenomenon;

도 4는 본 발명의 바람직한 제2 실시예에 따른 대형 박막 트랜지스터 표시판을 나타내는 배치도이고,4 is a layout view illustrating a large thin film transistor array panel according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 바람직한 제3 실시예에 따른 대형 박막 트랜지스터 표시판을 나타내는 배치도이고,5 is a layout view illustrating a large thin film transistor array panel according to a third exemplary embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 바람직한 제4 실시예에 따른 대형 박막 트랜지스터 표시판을 나타내는 배치도이다. 6 is a layout view illustrating a large thin film transistor array panel according to a fourth exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

123 ; 게이트 전극 150 ; 반도체층123; Gate electrode 150; Semiconductor layer

173a ; 소스 전극 가지부 173b ; 소스 전극 가지 연결부 173a; Source electrode branch portions 173b; Source electrode branch connection

175a ; 드레인 전극 가지부 175b ; 드레인 전극 가지 연결부175a; Drain electrode branch portion 175b; Drain electrode branch connection

본 발명은 액정 표시 장치, 특히 대형 박막 트랜지스터 표시판을 포함하는 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, in particular a liquid crystal display device comprising a large thin film transistor array panel.

최근 들어 TFT LCD(thin film transistor liquid crystal display)의 급격한 성능 향상으로 업체간 기술 격차의 폭이 줄어들고 있는 상황에서 업체간 경쟁력의 차이는 원가절감이 중요한 척도로 자리잡고 있다. 따라서 재료비의 약 25% 이상을 절감할 수 있는 FSC(field sequential color) 방식은 획기적인 기술이며 주변 기술이 성숙됨에 따라 점차 현실성을 띠고 있다. Recently, due to the rapid performance improvement of thin film transistor liquid crystal displays (TFT LCDs), the gap in technology gap between companies is narrowing, and the difference in competitiveness among companies is becoming an important measure of cost reduction. Therefore, the field sequential color (FSC) method, which can reduce more than about 25% of material costs, is a breakthrough technology and is becoming more realistic as the surrounding technology matures.

과거에는 동시 가법 혼색 방식을 사용하는 액정 표시 장치를 제작하였는데, 이 방식은 하나의 픽셀을 세 개로 나누고 각각이 R, G, B의 서브 픽셀을 구성하는 것으로 공간 분할형이라 할 수 있다.In the past, a liquid crystal display using a simultaneous additive color mixing method has been fabricated. In this method, a single pixel is divided into three and each subpixel of R, G, and B is called a spatial division type.

FSC 방식, 즉, 연속 가법 혼색 방식은 하나의 픽셀을 세 개로 나누지 않고 시간적으로 R, G, B 백라이트를 순차 점멸함으로써 픽셀을 구현하는 것으로 시간 분할형이라 할 수 있다.The FSC method, that is, the continuous additive mixed color method, implements pixels by sequentially flashing R, G, and B backlights in time without dividing one pixel into three.

그런데, 이러한 시간 분할형의 연속 가법 혼색 방식은 R, G, B 의 백라이트를 사용함으로써 색 필터를 필요로 하지 않아 광 효율이 증가하며, 픽셀을 서브 픽셀로 나누지 않으므로 개구율 및 수율 향상에 용이하며, 서브 픽셀마다 필요로 하였던 구동 회로의 수를 1/3로 줄일 수 있으며, 픽셀의 구동 시간 간격이 짧아서 동화상 구현에 용이하다는 장점을 갖는다.However, the time division type continuous additive mixed color method does not require a color filter by using a backlight of R, G, and B, and thus the light efficiency is increased, and it is easy to improve the aperture ratio and the yield since the pixels are not divided into subpixels. The number of driving circuits required for each sub pixel can be reduced to one third, and the driving time interval of the pixels is short, so that it is easy to implement a moving image.

그러나, 연속 가법 혼색 방식은 백라이트의 개수가 3개로 증가하고 시간 분 할형으로 동작하여 동기식 회로를 추가로 필요로 하며, 일정 시간 내에 하나의 픽셀에서 3개의 백라이트가 연속적으로 순차 점멸해야 하므로 고속 동작을 하는 고성능의 트랜지스터를 필요로 한다는 단점이 있다.However, the continuous additive mixed color method increases the number of backlights to three and operates in time division, which requires an additional synchronous circuit, and the three backlights in one pixel must be sequentially flashed within a predetermined time, so that high speed operation can be achieved. The disadvantage is that a high performance transistor is required.

이와 같이 FSC 방식의 액정 표시 장치에는 고성능의 TFT를 필요로 한다. 이 경우에 시간 분할 방식으로 동작하므로 Gate on time이 종래의 1/3이 되며, 고속 응답을 위해 OCB 모드(Optical compensated bend mode)를 이용함에 따라 액정의 유전율이 매우 커서 TFT의 전류 이동도(On current)가 기존의 9배 이상이나 요구된다.As described above, the FSC type liquid crystal display device requires a high performance TFT. In this case, the gate-on time becomes one-third of the conventional one because it operates in a time-dividing manner, and since the OCB mode (Optical compensated bend mode) is used for high-speed response, the liquid crystal dielectric constant is very large so that the current mobility of the TFT (On) is increased. current is more than 9 times that of existing.

15인치 FSC 방식의 액정 표시 장치를 제작하는 경우에도 이러한 문제점이 발생하는데 15인치 동시 가법 혼색 방식의 액정 표시 장치와 비교하면 다음과 같다.This problem occurs when a 15-inch FSC type liquid crystal display device is manufactured, as compared with a 15-inch simultaneous additive mixed color liquid crystal display device.

15인치 가법 혼색방식15 inch additive blending method 15인치 FSC15 inch FSC 픽셀 크기Pixel size 297㎛×99㎛297 μm × 99 μm 297㎛×297㎛297 μm × 297 μm Gate on timeGate on time 21.7㎲21.7㎲ 14.5㎲14.5㎲ 액정 용량Liquid crystal capacitance 0.5㎊0.5 ㎊ 1.6㎊1.6 ㎊ TFT 크기(W/L)TFT size (W / L) 20㎛/3.5㎛20 μm / 3.5 μm 120㎛/4.5㎛120 μm / 4.5 μm

이와 같이 FSC 방식의 액정 표시 장치를 이용하는 경우에는 액정 용량의 증가 및 Gate on time의 감소로 TFT 크기가 약 4.5배 증가되어야 한다. 이를 위해 폭/길이가 120㎛/4.5㎛인 TFT를 제작하는 경우에는 약 4 내지 5㎛ 넓이의 폭 방향으로 긴 소스 전극과 드레인 전극이 형성되어야 한다. 이 경우 소스 전곡과 드레인 전극은 단선의 우려가 있으며, 게이트 전극과 드레인 전극사이에서 형성되는 기생용량인 Cgd의 증가로 인한 킥-백 전압의 증가로 플리커(flicker) 등 화질불량의 발생이 우려된다는 단점이 있다.As described above, in the case of using the FSC type liquid crystal display, the TFT size should be increased by about 4.5 times due to the increase in the liquid crystal capacity and the decrease in the gate on time. For this purpose, when manufacturing a TFT having a width / length of 120 μm / 4.5 μm, a long source electrode and a drain electrode in the width direction of about 4 to 5 μm in width should be formed. In this case, there is a risk of disconnection between the source and drain electrodes, and an increase in the kick-back voltage due to the increase of the parasitic capacitance Cgd formed between the gate electrode and the drain electrode may cause a poor image quality such as flicker. There are disadvantages.

상기한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 대형 TFT의 형성에서 드레인 전극 또는 소스 전극의 단선을 방지할 수 있는 액정 표시 장치를 제공하는 것이다. An object of the present invention for solving the above problems is to provide a liquid crystal display device capable of preventing disconnection of a drain electrode or a source electrode in the formation of a large size TFT.

또한, 본 발명의 다른 목적은 대형 TFT의 형성에서 Cgd의 증가로 인한 킥-백 전압의 증가로 플리커 등 화질불량이 발생하는 것을 방지하는 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which prevents image quality defects such as flicker due to an increase in kick-back voltage due to an increase in Cgd in the formation of a large size TFT.

이러한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 하얀색 필터 및 공통 전극을 포함하는 제1 표시판; 상기 제1 기판과 소정 간격 이격되어 상부에 위치하며, 게이트 전극을 가지는 게이트 배선, 소스 전극 및 드레인 전극을 가지는 데이터 배선 및 상기 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극과 중첩하는 반도체층을 포함하는 제2 표시판; 상기 제1 표시판 및 제2 표시판 사이에 형성된 액정층; 상기 제1 표시판 아래에 배치되며, R, G, B 의 세 가지 광원을 조사하는 백라이트를 포함하고, 상기 소스 전극은 복수개의 소스 전극 가지부를 포함하고, 상기 드레인 전극은 복수개의 드레인 전극 가지부를 포함하며, 상기 소스 전극 가지부와 상기 드레인 전극 가지부는 서로 교대로 형성되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 상기 소스 전극 가지부 사이를 소스 전극 가지 연결부, 상기 드레인 전극 가지부 사이를 드레인 전극 가지 연결부라 할 때, 상기 소스 전극 가지부는 상기 드레인 전극 가지 연결부와 소정 간격 이격되어 대응되게 형성되어 있으며, 상기 드레인 전극 가지부는 상기 소스 전극 가지 연결부와 소정 간격 이격되어 대 응되게 형성되어 있는 것이 바람직하다. According to an aspect of the present invention, a liquid crystal display device includes: a first display panel including a black matrix, a white filter, and a common electrode; A second substrate disposed above the first substrate, the second substrate including a gate wiring having a gate electrode, a data wiring having a source electrode and a drain electrode, and a semiconductor layer overlapping the gate electrode, the source electrode and the drain electrode; Display panel; A liquid crystal layer formed between the first display panel and the second display panel; A backlight disposed under the first display panel and irradiating three light sources of R, G, and B, the source electrode including a plurality of source electrode branches, and the drain electrode including a plurality of drain electrode branches Preferably, the source electrode branch portion and the drain electrode branch portion are alternately formed. In addition, when the source electrode branch connection portion between the source electrode branch portion, and the drain electrode branch connection portion between the drain electrode branch portion, the source electrode branch portion is formed to correspond to the drain electrode branch connection portion at a predetermined interval, Preferably, the drain electrode branch portion is formed to correspond to the source electrode branch connection portion at a predetermined interval.

또한, 상기 백라이트는 R, G, B 의 세 가지 광원을 순차적으로 스위칭하는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that the backlight sequentially switches three light sources of R, G, and B.

또한, 상기 소스 전극 가지부 및 상기 드레인 전극 가지부 사이와, 상기 소스 전극 가지 연결부 및 상기 드레인 전극 가지부 사이에 상기 반도체층이 형성되어 있는 것이 바람직하다. The semiconductor layer is preferably formed between the source electrode branch portion and the drain electrode branch portion, and between the source electrode branch connection portion and the drain electrode branch portion.

또한, 상기 드레인 전극은 ㅓ 자 형상으로서, 상기 드레인 전극 가지부는 ㅓ 자 형상의 수직부인 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that the said drain electrode is U-shaped, and the said drain electrode branch part is a U-shaped vertical part.

또한, 상기 드레인 전극은 포크 형상이고, 상기 소스 전극은 물결 형상인 것이 바람직하다. In addition, the drain electrode is preferably a fork shape, the source electrode is preferably a wave shape.

또한, 상기 소스 전극 가지부 및 상기 드레인 전극 가지부 사이, 상기 소스 전극 가지 연결부 및 상기 드레인 전극 가지부 사이 및 상기 드레인 전극 가지 연결부 및 상기 소스 전극 가지부 사이에 상기 반도체층이 형성되어 있는 것이 바람직하다. The semiconductor layer may be formed between the source electrode branch portion and the drain electrode branch portion, between the source electrode branch connection portion and the drain electrode branch portion, and between the drain electrode branch connection portion and the source electrode branch portion. Do.

또한, 상기 드레인 전극 및 상기 소스 전극은 물결 형상인 것이 바람직하다. In addition, the drain electrode and the source electrode is preferably wavy.

또한, 상기 소스 전극 가지부 및 상기 드레인 전극 가지부 사이에 상기 반도체층이 형성되어 있는 것이 바람직하다. The semiconductor layer is preferably formed between the source electrode branch and the drain electrode branch.

또한, 상기 드레인 전극 및 상기 소스 전극은 포크 형상인 것이 바람직하다. In addition, the drain electrode and the source electrode is preferably in the shape of a fork.

또한, 상기 소스 전극 가지부는 상기 드레인 전극 가지부보다 하나 더 많은 것이 바람직하다. In addition, the source electrode branch is preferably one more than the drain electrode branch.                     

이러한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 하얀색 필터 및 공통 전극을 포함하는 제1 표시판; 상기 제1 기판과 소정 간격 이격되어 상부에 위치하며, 절연 기판, 상기 절연 기판 위에 가로 방향으로 형성되어 있는 게이트선과 상기 게이트선에 연결되어 있는 게이트 전극을 포함하는 게이트 배선, 상기 게이트 배선을 덮는 게이트 절연막, 상기 게이트 전극 상부의 상기 게이트 절연막 위에 형성되어 있는 반도체층, 상기 게이트 절연막 위에 세로 방향으로 형성되어 있는 데이터선, 상기 데이터선과 연결되어 있으며 상기 반도체층 위에까지 연장되어 있는 소스 전극, 상기 반도체층 위에서 상기 소스 전극과 소정 간격 이격되어 있는 드레인 전극을 포함하는 데이터 배선을 포함하는 제2 표시판; 상기 제1 표시판 및 제2 표시판 사이에 형성된 액정층; 상기 제1 표시판 아래에 배치되며, R, G, B 의 세 가지 광원을 조사하는 백라이트를 포함하고, 상기 소스 전극은 복수개의 소스 전극 가지부를 포함하고, 상기 드레인 전극은 복수개의 드레인 전극 가지부를 포함하며, 상기 소스 전극 가지부와 상기 드레인 전극 가지부는 서로 교대로 형성되어 있는 것이 바람직하다.According to an aspect of the present invention, a liquid crystal display device includes: a first display panel including a black matrix, a white filter, and a common electrode; A gate wiring disposed above the first substrate and spaced apart from the first substrate, the gate wiring including an insulating substrate, a gate line formed in a horizontal direction on the insulating substrate, and a gate electrode connected to the gate line, and a gate covering the gate wiring An insulating film, a semiconductor layer formed over the gate insulating film on the gate electrode, a data line formed vertically over the gate insulating film, a source electrode connected to the data line and extending over the semiconductor layer, and the semiconductor layer A second display panel including a data line including a drain electrode spaced apart from the source electrode by a predetermined distance from the top; A liquid crystal layer formed between the first display panel and the second display panel; A backlight disposed under the first display panel and irradiating three light sources of R, G, and B, the source electrode including a plurality of source electrode branches, and the drain electrode including a plurality of drain electrode branches Preferably, the source electrode branch portion and the drain electrode branch portion are alternately formed.

또한, 상기 백라이트는 R, G, B 의 세 가지 광원을 순차적으로 스위칭하는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that the backlight sequentially switches three light sources of R, G, and B.

이하, 첨부하는 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 본 발명의 구성에 대해 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described the configuration of the present invention according to a preferred embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명의 바람직한 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제1 표시판의 배치도이며, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 잘라 나타낸 단면도이다.  1 is a layout view of a first display panel of a liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II ′ of FIG. 1.                     

본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치는 블랙 매트릭스, 하얀색 필터 및 공통 전극을 포함하는 제1 표시판(미도시)과, 제1 기판과 소정 간격 이격되어 상부에 위치하며, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 가지는 제2 표시판과, 제1 표시판 및 제2 표시판 사이에 형성된 액정층을 포함한다. 그리고, 제1 표시판 아래에 배치되며, R, G, B 의 세 광원이 순차적으로 스위칭되는 백라이트를 포함한다. The liquid crystal display according to the first exemplary embodiment of the present invention includes a first display panel (not shown) including a black matrix, a white filter, and a common electrode, and an upper portion spaced apart from the first substrate by a predetermined distance. A second display panel having an electrode and a drain electrode, and a liquid crystal layer formed between the first display panel and the second display panel. The display device includes a backlight disposed under the first display panel and sequentially switching three light sources of R, G, and B.

종래의 액정 표시 장치와는 달리 제1 표시판에 R, G, B 의 색필터가 형성되어 있지 않고 하얀색 필터만 형성되어 있고, 백라이트 자체가 R, G, B 의 세 가지 광원을 순차적으로 조사한다. 따라서, 화소 영역이 R, G, B 세 가지 색필터에 의해 구분되지 않으므로 화소 영역이 보다 넓다.Unlike the conventional liquid crystal display, only the white filter is formed on the first display panel without the color filters R, G, and B, and the backlight itself sequentially irradiates three light sources of R, G, and B. Therefore, the pixel area is wider because the pixel area is not distinguished by three color filters of R, G, and B.

제2 표시판은 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 유리등의 투명한 절연 기판(110) 위에는 게이트 배선(121, 123)이 형성되어 있다. 게이트 배선(121, 123)은 절연 기판(110) 위에 가로 방향으로 형성되어 있는 게이트선(121)과 게이트선(121)에 연결되어 있는 게이트 전극(123)을 포함한다. 게이트 배선(121, 123)은 게이트 절연막(140)으로 덮여 있고, 게이트 절연막(140) 위에는 비정질 규소로 이루어진 반도체층(150)이 형성되어 있다. 반도체층(150)의 위에는 인등의 N형 불순물이 고농도로 도핑된 비정질 규소로 이루어진 저항성 접촉층(160)이 일정한 간격을 두고 형성되어 있다. 이러한 접촉층(160) 위에는 데이터 배선(171, 173, 175)이 형성되어 있다. 이러한 데이터 배선(171, 173, 175)은 데이터 선(171), 소스 전극(173) 및 드레인 전극(175)을 포함한다. 1 and 2, gate wirings 121 and 123 are formed on a transparent insulating substrate 110 such as glass. The gate lines 121 and 123 include a gate line 121 formed in the horizontal direction on the insulating substrate 110 and a gate electrode 123 connected to the gate line 121. The gate wirings 121 and 123 are covered with the gate insulating layer 140, and the semiconductor layer 150 made of amorphous silicon is formed on the gate insulating layer 140. An ohmic contact layer 160 made of amorphous silicon doped with N-type impurities such as phosphorus is formed on the semiconductor layer 150 at regular intervals. The data lines 171, 173, and 175 are formed on the contact layer 160. The data lines 171, 173, and 175 include a data line 171, a source electrode 173, and a drain electrode 175.                     

도 2에 도시된 바와 같이, 소스 전극(173)은 복수개의 소스 전극 가지부(173a)와 이러한 소스 전극 가지부를 연결하는 소스 전극 가지 연결부(173b)를 포함한다. 그리고, 드레인 전극(175)은 복수개의 드레인 전극 가지부(175a)와 이러한 드레인 전극 가지부를 연결하는 드레인 전극 가지 연결부(175b)를 포함한다. 드레인 전극(175)은 복수개의 가지부를 가진 포크 형상이고, 소스 전극(173)은 복수개의 가지부를 가진 물결 형상이다. 즉, 포크 형상이란 가지 연결부가 직선 형태인 것을 말하며, 물결 형상이란 가지 연결부가 다각 형태이거나 원형인 것을 말한다. As shown in FIG. 2, the source electrode 173 includes a plurality of source electrode branch portions 173a and a source electrode branch connection portion 173b connecting the source electrode branch portions. The drain electrode 175 includes a plurality of drain electrode branch portions 175a and a drain electrode branch connection portion 175b connecting the drain electrode branch portions. The drain electrode 175 has a fork shape having a plurality of branch portions, and the source electrode 173 has a wave shape having a plurality of branch portions. That is, the fork shape means that the branch connection part is a straight line shape, and the wavy shape means that the branch connection part is polygonal or circular.

소스 전극 가지부(173a)는 드레인 전극 가지부(175a)보다 하나 더 많은 것이 바람직하다. 도 1 및 도 2에는 소스 전극 가지부(173a)가 5개이고, 드레인 전극 가지부(175a)가 4개인 것으로 예시되어 있다.Preferably, the source electrode branch portion 173a is one more than the drain electrode branch portion 175a. 1 and 2 illustrate five source electrode branch portions 173a and four drain electrode branch portions 175a.

이러한 소스 전극 가지부(173a)와 드레인 전극 가지부(175a)는 소정 간격 이격되어 서로 교대로 형성되어 있다. 즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 접촉층(160) 위에는 드레인 전극 가지부(175a) 및 소스 전극 가지부(173a)가 접촉층(160)과 마찬가지로 일정한 간격을 두고 번갈아 형성되어 있다. The source electrode branch portions 173a and the drain electrode branch portions 175a are alternately formed to be spaced apart from each other by a predetermined interval. That is, as illustrated in FIG. 1, the drain electrode branch 175a and the source electrode branch 173a are alternately formed at regular intervals on the contact layer 160 like the contact layer 160.

그리고, 소스 전극 가지부(173a)는 드레인 전극 가지 연결부(175b)와 소정 간격 이격되어 대응되게 형성되어 있으며, 드레인 전극 가지부(175a)는 소스 전극 가지 연결부(173b)와 소정 간격 이격되어 대응되게 형성되어 있다. The source electrode branch portion 173a is formed to be spaced apart from the drain electrode branch connecting portion 175b by a predetermined interval, and the drain electrode branch portion 175a is formed to be spaced apart from the source electrode branch connecting portion 173b. Formed.

이러한 소스 전극 가지부(173a) 및 드레인 전극 가지부(175a) 사이에 반도체층(150)이 형성되어 있다. 그리고, 소스 전극 가지 연결부(173b) 및 이에 대응되는 드레인 전극 가지부(175a) 사이에 반도체층(150)이 형성되어 있다. 따라서, 복수개의 소스 전극 가지부(173a) 및 소스 전극 가지 연결부(173b)를 통해 인가된 전압이 반도체층(150)을 경유하여 복수개의 드레인 전극 가지부(175a)로 전달된다. The semiconductor layer 150 is formed between the source electrode branch 173a and the drain electrode branch 175a. The semiconductor layer 150 is formed between the source electrode branch connection part 173b and the drain electrode branch part 175a corresponding thereto. Accordingly, voltages applied through the plurality of source electrode branch portions 173a and the source electrode branch connection portion 173b are transferred to the plurality of drain electrode branch portions 175a via the semiconductor layer 150.

이러한 배치는 게이트 전극(123)과 드레인 전극(175)사이에서 형성되는 기생용량인 Cgd를 줄이기 위함이다. 즉 게이트 전극(123)과 복수의 드레인 전극(175) 사이에는 정전 용량이라는 것이 형성되는데, 이 정전 용량은 게이트 전극(123)과 드레인 전극(175)이 중첩되는 면적에 거의 비례하여 증가한다.This arrangement is to reduce the parasitic capacitance Cgd formed between the gate electrode 123 and the drain electrode 175. That is, a capacitance is formed between the gate electrode 123 and the plurality of drain electrodes 175. The capacitance increases in proportion to the area where the gate electrode 123 and the drain electrode 175 overlap each other.

이상과 같이, 본 발명의 바람직한 제1 실시예에서는 1개의 화소 영역 당 복수개의 소스 전극 가지부(173a)와 복수개의 드레인 전극 가지부(175a)가 형성되어 있다. 이렇게 소스 전극(173)과 드레인 전극(175)을 복수개의 소스 전극 가지부(173a)와 복수개의 드레인 전극 가지부(175a)를 포함하도록 형성하고, 이러한 소스 전극 가지부(173a)와 드레인 전극 가지부(175a)가 게이트 전극(123)과 중첩되도록 함으로써 드레인 전극(175)이 게이트 전극(123)과 중첩하는 면적을 감소시킬 수 있다. As described above, in the first preferred embodiment of the present invention, a plurality of source electrode branch portions 173a and a plurality of drain electrode branch portions 175a are formed per pixel area. Thus, the source electrode 173 and the drain electrode 175 are formed to include the plurality of source electrode branch portions 173a and the plurality of drain electrode branch portions 175a, and the source electrode branch portions 173a and the drain electrode branches By allowing the portion 175a to overlap the gate electrode 123, an area in which the drain electrode 175 overlaps with the gate electrode 123 may be reduced.

따라서, 드레인 전극(175)과 게이트 전극(123)의 중첩 면적이 감소됨에 따라 Cgd가 작아지고 이에 따라 박막 트랜지스터의 킥-백 전압이 감소되어 화질불량의 발생이 감소되는 효과를 낳는다. 이하에서는 Cgd와 킥-백 전압에 대하여 상세히 살펴본다. Therefore, as the overlapping area of the drain electrode 175 and the gate electrode 123 is reduced, the Cgd becomes smaller, thereby reducing the kick-back voltage of the thin film transistor, thereby reducing the occurrence of poor image quality. Hereinafter, the Cgd and the kick-back voltage will be described in detail.

데이터선(171)을 통해 화소 영역에 인가되는 전압에는 킥-백 현상이라는 것이 발생한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 킥-백 현상이란 데이터선 즉 드레인 전극 을 통해 화소 영역에 인가된 데이터 전압(Vd)이 시간이 지남에 따라 천천히 하락하는 경우에, 데이터 전압의 인가 초기에 발생하는 급격한 전압 하락 현상을 말한다. 도 3에서는 △Vp가 킥-백 현상에 의한 전압 하락치를 표시한다.The voltage applied to the pixel region through the data line 171 is a kick-back phenomenon. As shown in FIG. 3, the kick-back phenomenon occurs when the data voltage Vd applied to the pixel region through the data line, that is, the drain electrode, slowly decreases over time. It is a sudden voltage drop. In FIG. 3, ΔVp represents a voltage drop caused by the kick-back phenomenon.

이러한 킥-백 현상은 게이트 전극(123)과 복수개의 드레인 전극 가지부(175a) 사이에 형성된 기생 용량(Cgd)에 의해 발생한다. 따라서, 화소 영역에는 초기 데이터 전압과 △Vp의 차이에 해당하는 전압만이 실제적으로 인가된다.This kick-back phenomenon is caused by the parasitic capacitance Cgd formed between the gate electrode 123 and the plurality of drain electrode branch portions 175a. Therefore, only a voltage corresponding to the difference between the initial data voltage and ΔVp is actually applied to the pixel region.

상술한 바와 같이 킥-백 현상은 Cgd에 의해 발생하므로 이러한 전압 하락치는 Cgd에 의해 조정 가능한데, 이러한 Cgd는 게이트 전극(123)과 복수개의 드레인 전극 가지부(175a)와의 중첩 면적에 비례하여 결정되므로 Cgd를 조절함으로써 전압 하락치를 낮출 수 있다는 것이다.As described above, since the kick-back phenomenon is caused by Cgd, the voltage drop can be adjusted by Cgd, which is determined in proportion to the overlapping area between the gate electrode 123 and the plurality of drain electrode branches 175a. By adjusting Cgd, you can lower the voltage drop.

이러한 킥-백 현상에 의한 전압 하락치인 △Vp는 잔상이나 플리커(flicker) 현상을 유발하므로 최소화하는 것이 바람직하다. Since the voltage drop value ΔVp caused by the kick-back phenomenon causes afterimage or flicker, it is desirable to minimize the voltage drop.

이와 같이 중첩 영역이 작아짐으로써 예컨대, 120㎛/4.5㎛의 종래의 액정 표시 장치에서 Cgd가 0.110㎊일 때, 본 발명의 제1 실시예에서는 0.068㎊을 나타내고 있음을 확인 할 수 있다. Thus, it can be confirmed that when the overlap region is smaller, for example, when the Cgd is 0.110 mV in the conventional liquid crystal display device having a thickness of 120 m / 4.5 m, 0.068 mV is shown in the first embodiment of the present invention.

본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치에 대하여 설명한다.A liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제2 표시판의 배치도가 도 4에 도시되어 있다. 여기서, 앞서 도시된 도면에서와 동일한 참조부호는 동일한 기능을 하는 동일한 부재를 가리킨다. 4 is a layout view of a second display panel of the liquid crystal display according to the second exemplary embodiment of the present invention. Here, the same reference numerals as in the above-described drawings indicate the same members having the same function.

이 경우 드레인 전극(175)은 ㅓ 자 형상으로서, 드레인 전극 가지부(175a)는 ㅓ 자 형상의 수직부이다. 소스 전극 가지부(173a)는 굽어진 형상으로서 드레인 전극 가지부(175a)를 에워싸고 있다. In this case, the drain electrode 175 is U-shaped, and the drain electrode branch portion 175a is a U-shaped vertical portion. The source electrode branch portion 173a has a curved shape and surrounds the drain electrode branch portion 175a.

소스 전극 가지부(173a) 및 드레인 전극 가지부(175a) 사이에 반도체층(150)이 형성되어 있고, 소스 전극 가지 연결부(173b) 및 드레인 전극 가지부(175a) 사이에 반도체층(150)이 형성되어 있다. 따라서, 두개의 소스 전극 가지부(173a) 및 소스 전극 가지 연결부(173b)를 통해 인가된 전압이 반도체층(150)을 경유하여 드레인 전극 가지부(175a)로 전달된다. The semiconductor layer 150 is formed between the source electrode branch portion 173a and the drain electrode branch portion 175a, and the semiconductor layer 150 is formed between the source electrode branch connection portion 173b and the drain electrode branch portion 175a. Formed. Therefore, the voltage applied through the two source electrode branch portions 173a and the source electrode branch connection portion 173b is transferred to the drain electrode branch portion 175a via the semiconductor layer 150.

이러한 제2 실시예는 킥-백 현상을 줄이기 위해 게이트 전극(123)과 드레인 전극(175)간의 중첩 면적을 줄이는 것이다. This second embodiment is to reduce the overlap area between the gate electrode 123 and the drain electrode 175 to reduce the kick-back phenomenon.

이와 같이 중첩 영역이 작아짐으로써 예컨대, 120㎛/4.5㎛의 종래의 대형 박막 트랜지스터 표시판에서 Cgd가 0.110㎊일 때, 본 발명의 제2 실시예에서는 0.069㎊을 나타내고 있음을 확인 할 수 있다.  As the overlap region becomes smaller, it can be confirmed that, for example, when the Cgd is 0.110 mV in the conventional large-size thin film transistor array panel having a thickness of 120 m / 4.5 m, 0.069 mV is shown in the second embodiment of the present invention.

본 발명의 제3 실시예에 따른 액정 표시 장치에 대하여 설명한다.A liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 제3 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제2 표시판의 배치도가 도 5에 도시되어 있다. 여기서, 앞서 도시된 도면에서와 동일한 참조부호는 동일한 기능을 하는 동일한 부재를 가리킨다. 5 is a layout view of a second display panel of the liquid crystal display according to the third exemplary embodiment of the present invention. Here, the same reference numerals as in the above-described drawings indicate the same members having the same function.

소스 전극 가지부(173a)는 드레인 전극 가지부(175a) 보다 하나 더 많은 것이 바람직하다. 도 5에는 소스 전극 가지부(173a)가 4개이고, 드레인 전극 가지부(175a)가 3개인 것으로 예시되어 있다.The source electrode branch portion 173a is preferably one more than the drain electrode branch portion 175a. In FIG. 5, four source electrode branch portions 173a and three drain electrode branch portions 175a are illustrated.

이 경우 드레인 전극(175)은 물결 형상이고, 소스 전극(173)도 물결 형상으 로서, 소스 전극 가지부(173a)과 드레인 전극 연결부(175b) 사이의 간격, 소스 전극 가지부(173a)와 드레인 전극 가지부(175a) 사이의 간격, 드레인 전극 가지부(175a)와 소스 전극 가지 연결부(173b) 사이의 간격이 모두 동일하도록 형성되어 있다. In this case, the drain electrode 175 is wavy, and the source electrode 173 is wavy, and the gap between the source electrode branch portion 173a and the drain electrode connection portion 175b, the source electrode branch portion 173a and the drain The intervals between the electrode branch portions 175a and the intervals between the drain electrode branch portions 175a and the source electrode branch connection portions 173b are formed to be the same.

소스 전극 가지부(173a) 및 상기 드레인 전극 가지부(175a) 사이에 반도체층(150)이 형성되어 있고, 소스 전극 가지 연결부(173b) 및 드레인 전극 가지부(175a) 사이에 반도체층(150)이 형성되어 있고, 드레인 전극 가지 연결부(175b) 및 소스 전극 가지부(173a) 사이에 반도체층(150)이 형성되어 있다. 따라서, 복수개의 소스 전극 가지부(173a) 및 소스 전극 가지 연결부(173b)를 통해 인가된 전압이 반도체층(150)을 경유하여 복수개의 드레인 전극 가지부(175a) 및 드레인 전극 가지 연결부(175b)로 전달된다. The semiconductor layer 150 is formed between the source electrode branch portion 173a and the drain electrode branch portion 175a, and the semiconductor layer 150 is formed between the source electrode branch connection portion 173b and the drain electrode branch portion 175a. The semiconductor layer 150 is formed between the drain electrode branch connection portion 175b and the source electrode branch portion 173a. Accordingly, the voltages applied through the plurality of source electrode branch portions 173a and the source electrode branch connection portions 173b pass through the semiconductor layer 150, and thus, the plurality of drain electrode branch portions 175a and the drain electrode branch connection portions 175b. Is passed to.

이러한 제3 실시예는 킥-백 현상을 줄이기 위해 게이트 전극(123)과 드레인 전극(175)간의 중첩 면적을 줄이는 것이다. This third embodiment is to reduce the overlap area between the gate electrode 123 and the drain electrode 175 to reduce the kick-back phenomenon.

이와 같이 중첩 영역이 작아짐으로써 예컨대, 120㎛/4.5㎛의 종래의 대형 박막 트랜지스터 표시판에서 Cgd가 0.110㎊일 때, 본 발명의 제3 실시예에서는 0.087㎊을 나타내고 있음을 확인 할 수 있다.  As the overlap region is reduced in this manner, for example, when Cgd is 0.110 mW in a conventional large-size thin film transistor array panel having a thickness of 120 m / 4.5 m, it can be confirmed that 0.087 mW is shown in the third embodiment of the present invention.

본 발명의 제4 실시예에 따른 액정 표시 장치에 대하여 설명한다.A liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 제4 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제2 표시판의 배치도가 도 5에 도시되어 있다. 여기서, 앞서 도시된 도면에서와 동일한 참조부호는 동일한 기능을 하는 동일한 부재를 가리킨다. 5 is a layout view of a second display panel of the liquid crystal display according to the fourth exemplary embodiment of the present invention. Here, the same reference numerals as in the above-described drawings indicate the same members having the same function.                     

소스 전극 가지부(173a)는 드레인 전극 가지부(175a) 보다 하나 더 많은 것이 바람직하다. 도 5에는 소스 전극 가지부(173a)가 5개이고, 드레인 전극 가지부(175a)가 4개인 것으로 예시되어 있다. The source electrode branch portion 173a is preferably one more than the drain electrode branch portion 175a. In FIG. 5, five source electrode branch portions 173a and four drain electrode branch portions 175a are illustrated.

이 경우 드레인 전극(175)은 포크 형상이고, 소스 전극(173)도 포크 형상으로서, 소스 전극 가지부(173a)와 드레인 전극 가지부(175a) 사이의 간격이 동일하도록 형성되어 있다. 소스 전극 가지부(173a) 및 드레인 전극 가지부(175a) 사이에 반도체층(150)이 형성되어 있다. In this case, the drain electrode 175 is in a fork shape, and the source electrode 173 is also in a fork shape, and is formed such that the distance between the source electrode branch portion 173a and the drain electrode branch portion 175a is the same. The semiconductor layer 150 is formed between the source electrode branch 173a and the drain electrode branch 175a.

따라서, 복수개의 소스 전극 가지부(173a)를 통해 인가된 전압이 반도체층(150)을 경유하여 복수개의 드레인 전극 가지부(175a)로 전달된다. Accordingly, voltages applied through the plurality of source electrode branch portions 173a are transferred to the plurality of drain electrode branch portions 175a via the semiconductor layer 150.

이러한 제4 실시예는 킥-백 현상을 줄이기 위해 게이트 전극(123)과 드레인 전극(175)간의 중첩 면적을 줄이는 것이다. This fourth embodiment is to reduce the overlap area between the gate electrode 123 and the drain electrode 175 to reduce the kick-back phenomenon.

이와 같이 중첩 영역이 작아짐으로써 예컨대, 120㎛/4.5㎛의 종래의 대형 박막 트랜지스터 표시판에서 Cgd가 0.110㎊일 때, 본 발명의 제4 실시예에서는 0.097㎊을 나타내고 있음을 확인 할 수 있다.  As the overlap region becomes smaller, it can be confirmed, for example, that when Cgd is 0.110 mV in a conventional large-size thin film transistor array panel having a thickness of 120 m / 4.5 m, 0.097 mV is shown in the fourth embodiment of the present invention.

본 발명은 몇 가지의 실시예를 참고로 개시되었지만, 이것은 단지 본 발명을 예시하는 것으로서 이들 실시예에 본 발명이 제한되는 것은 아니다. 이 분야의 숙련된 기술자들은 특별히 여기에 개시하지는 않았지만 본 발명에 대해 여러 가지 다양한 변경이 가능하며 이들 변형 실시예 역시 본 발명의 사상 및 범위 내에 있음을 인식할 것이다.Although the present invention has been described with reference to several embodiments, these are merely illustrative of the present invention and the present invention is not limited to these examples. Those skilled in the art will recognize that various modifications may be made to the present invention, although not specifically disclosed herein, and that such modified embodiments are also within the spirit and scope of the present invention.

이상과 같은 본 발명에 의하면, FSC 방식의 액정 표시 장치를 실현하는 데 필요한 대형 TFT의 형성에서 게이트 전극과 드레인 전극간의 중첩 영역이 감소하도록 드레인 전극과 소스 전극을 형성함으로써 드레인 전극 또는 소스 전극의 단선을 방지할 수 있다는 효과를 갖는다. According to the present invention as described above, disconnection of the drain electrode or the source electrode is formed by forming the drain electrode and the source electrode so that the overlap region between the gate electrode and the drain electrode is reduced in the formation of the large-sized TFT required to realize the FSC type liquid crystal display device. It has the effect that it can prevent.

또한, FSC 방식의 액정 표시 장치를 실현하는 데 필요한 대형 TFT의 형성에서 게이트 전극과 드레인 전극간의 중첩 영역이 감소하도록 드레인 전극과 소스 전극을 형성함으로써 Cgd 성분을 감소시키고 이에 따라 킥-백 전압을 감소시킴으로써 플리커 등 화질불량의 발생률을 줄일 수 있다.In addition, by forming the drain electrode and the source electrode such that the overlap region between the gate electrode and the drain electrode is reduced in the formation of the large TFT required to realize the FSC type liquid crystal display device, the Cgd component is reduced and thus the kick-back voltage is reduced. This can reduce the incidence of poor image quality such as flicker.

Claims (13)

블랙 매트릭스, 하얀색 필터 및 공통 전극을 포함하는 제1 표시판;A first display panel including a black matrix, a white filter, and a common electrode; 상기 제1 표시판과 소정 간격 이격되어 상부에 위치하며, 게이트 전극을 가지는 게이트 배선, 소스 전극 및 드레인 전극을 가지는 데이터 배선 및 상기 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극과 중첩하는 반도체층을 포함하는 제2 표시판;A second substrate disposed above the first display panel and spaced apart from the first display panel and including a gate wiring having a gate electrode, a data wiring having a source electrode and a drain electrode, and a semiconductor layer overlapping the gate electrode, the source electrode and the drain electrode; Display panel; 상기 제1 표시판 및 제2 표시판 사이에 형성된 액정층;A liquid crystal layer formed between the first display panel and the second display panel; 상기 제1 표시판 아래에 배치되며, R, G, B 의 세 가지 광원을 상기 제1 표시판 방향으로 조사하는 백라이트The backlight disposed under the first display panel and irradiates three light sources of R, G, and B toward the first display panel. 를 포함하고, 상기 소스 전극은 복수개의 소스 전극 가지부를 포함하고, 상기 드레인 전극은 복수개의 드레인 전극 가지부를 포함하며, 상기 소스 전극 가지부와 상기 드레인 전극 가지부는 서로 교대로 형성되어 있는 액정 표시 장치.Wherein the source electrode includes a plurality of source electrode branch portions, the drain electrode includes a plurality of drain electrode branch portions, and the source electrode branch portion and the drain electrode branch portion are alternately formed with each other. . 제1항에서,In claim 1, 상기 백라이트는 R, G, B 의 세 가지 광원을 순차적으로 스위칭하는 액정 표시 장치. And the backlight sequentially switches three light sources of R, G, and B. 제2항에서,In claim 2, 상기 소스 전극 가지부 사이를 소스 전극 가지 연결부, 상기 드레인 전극 가지부 사이를 드레인 전극 가지 연결부라 할 때, 상기 소스 전극 가지부는 상기 드 레인 전극 가지 연결부와 소정 간격 이격되어 대응되게 형성되어 있으며, 상기 드레인 전극 가지부는 상기 소스 전극 가지 연결부와 소정 간격 이격되어 대응되게 형성되어 있는 액정 표시 장치.When the source electrode branch connecting portion is connected between the source electrode branch portion and the drain electrode branch connecting portion is the drain electrode branch connecting portion, the source electrode branch portion is formed to correspond to the drain electrode branch connecting portion at a predetermined interval. The drain electrode branch portion is formed to correspond to the source electrode branch connection portion spaced apart by a predetermined interval. 제3항에서,In claim 3, 상기 소스 전극 가지부 및 상기 드레인 전극 가지부 사이와, 상기 소스 전극 가지 연결부 및 상기 드레인 전극 가지부 사이에 상기 반도체층이 형성되어 있는 액정 표시 장치. And the semiconductor layer is formed between the source electrode branch portion and the drain electrode branch portion, and between the source electrode branch connection portion and the drain electrode branch portion. 제4항에서,In claim 4, 상기 드레인 전극은 ㅓ 자 형상으로서, 상기 드레인 전극 가지부는 ㅓ 자 형상의 수직부인 액정 표시 장치.And the drain electrode is in a U-shape, and the drain electrode branch is a U-shaped vertical part. 제4항에서,In claim 4, 상기 드레인 전극은 포크 형상이고, 상기 소스 전극은 물결 형상인 액정 표시 장치.The drain electrode has a fork shape, and the source electrode has a wave shape. 제3항에서,In claim 3, 상기 소스 전극 가지부 및 상기 드레인 전극 가지부 사이, 상기 소스 전극 가지 연결부 및 상기 드레인 전극 가지부 사이 및 상기 드레인 전극 가지 연결부 및 상기 소스 전극 가지부 사이에 상기 반도체층이 형성되어 있는 액정 표시 장치. And the semiconductor layer is formed between the source electrode branch portion and the drain electrode branch portion, between the source electrode branch connection portion and the drain electrode branch portion, and between the drain electrode branch connection portion and the source electrode branch portion. 제7항에서,In claim 7, 상기 드레인 전극 및 상기 소스 전극은 물결 형상인 액정 표시 장치.The drain electrode and the source electrode are wavy liquid crystal display device. 제3항에서,In claim 3, 상기 소스 전극 가지부 및 상기 드레인 전극 가지부 사이에 상기 반도체층이 형성되어 있는 액정 표시 장치.And the semiconductor layer is formed between the source electrode branch and the drain electrode branch. 제9항에서,In claim 9, 상기 드레인 전극 및 상기 소스 전극은 포크 형상인 액정 표시 장치.The drain electrode and the source electrode is a fork-shaped liquid crystal display device. 제4항, 제7항 또는 제9항 중의 어는 한 항에서,The word of claim 4, 7, or 9, wherein 상기 소스 전극 가지부는 상기 드레인 전극 가지부보다 하나 더 많은 액정 표시 장치.The source electrode branch portion is one more liquid crystal display than the drain electrode branch portion. 블랙 매트릭스, 하얀색 필터 및 공통 전극을 포함하는 제1 표시판;A first display panel including a black matrix, a white filter, and a common electrode; 상기 제1 표시판과 소정 간격 이격되어 상부에 위치하며, 절연 기판, 상기 절연 기판 위에 가로 방향으로 형성되어 있는 게이트선과 상기 게이트선에 연결되어 있는 게이트 전극을 포함하는 게이트 배선, 상기 게이트 배선을 덮는 게이트 절연막, 상기 게이트 전극 상부의 상기 게이트 절연막 위에 형성되어 있는 반도체층, 상기 게이트 절연막 위에 세로 방향으로 형성되어 있는 데이터선, 상기 데이터선과 연결되어 있으며 상기 반도체층 위에까지 연장되어 있는 소스 전극, 상기 반도체층 위에서 상기 소스 전극과 소정 간격 이격되어 있는 드레인 전극을 포함하는 데이터 배선을 포함하는 제2 표시판;A gate wiring disposed above the first display panel at a predetermined interval and including an insulating substrate, a gate line formed in a horizontal direction on the insulating substrate, and a gate electrode connected to the gate line, and a gate covering the gate wiring An insulating film, a semiconductor layer formed over the gate insulating film on the gate electrode, a data line formed vertically over the gate insulating film, a source electrode connected to the data line and extending over the semiconductor layer, and the semiconductor layer A second display panel including a data line including a drain electrode spaced apart from the source electrode by a predetermined distance from the top; 상기 제1 표시판 및 제2 표시판 사이에 형성된 액정층;A liquid crystal layer formed between the first display panel and the second display panel; 상기 제1 표시판 아래에 배치되며, R, G, B 의 세 가지 광원을 상기 제1 표시판 방향으로 조사하는 백라이트The backlight disposed under the first display panel and irradiates three light sources of R, G, and B toward the first display panel. 를 포함하고, 상기 소스 전극은 복수개의 소스 전극 가지부를 포함하고, 상기 드레인 전극은 복수개의 드레인 전극 가지부를 포함하며, 상기 소스 전극 가지부와 상기 드레인 전극 가지부는 서로 교대로 형성되어 있는 액정 표시 장치.Wherein the source electrode includes a plurality of source electrode branch portions, the drain electrode includes a plurality of drain electrode branch portions, and the source electrode branch portion and the drain electrode branch portion are alternately formed with each other. . 제12항에서,In claim 12, 상기 백라이트는 R, G, B 의 세 가지 광원을 순차적으로 스위칭하는 액정 표시 장치. And the backlight sequentially switches three light sources of R, G, and B.
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