KR100894295B1 - 실리콘 단결정 잉곳 생산장치의 유량제어방법 및 이를이용한 실리콘 단결정 잉곳 생산방법 - Google Patents
실리콘 단결정 잉곳 생산장치의 유량제어방법 및 이를이용한 실리콘 단결정 잉곳 생산방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (2)
- 실리콘 단결정 잉곳이 성장되는 챔버와, 외부로부터 상기 챔버로 불활성 가스가 유입되는 가스라인과, 상기 가스라인에 설치되어 상기 챔버로 유입되는 상기 불활성 기체의 유량을 제어하는 유량 컨트롤러(mass flow controller)와, 상기 챔버와 상기 유량 컨트롤러 사이에 설치되어 상기 가스라인을 개폐하는 밸브를 구비하는 실리콘 단결정 잉곳 생산장치를 사용하여 실리콘 단결정 잉곳을 생산하는 과정 중, 상기 챔버로 공급되는 불활성 기체의 유량을 제어하는 실리콘 단결정 잉곳 생산장치의 유량제어방법에 있어서,상기 유량 컨트롤러를 통해 상기 불활성 기체가 유입되지 않도록 상기 유량 컨트롤러가 제어되며, 상기 밸브는 개방되는 제1개방단계와,상기 가스라인에 수용되어있던 상기 불활성 기체가 상기 챔버로 확산되도록 상기 제1개방단계를 기준시간 동안 유지하는 확산단계와,상기 챔버로 상기 불활성 기체가 기준유량으로 공급되도록 상기 유량 컨트롤러가 제어되는 제2개방단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 단결정 잉곳 생산장치의 유량제어방법.
- 제1항에 있어서,상기 확산단계는 4초 이상 6초 이하로 유지되는 것을 특징으로 하는 실리콘 단결정 잉곳 생산장치의 유량제어방법.
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220161166A (ko) | 2021-05-28 | 2022-12-06 | (주)셀릭 | 실리콘 잉곳 제조장치 |
CN116043329A (zh) * | 2023-03-31 | 2023-05-02 | 苏州晨晖智能设备有限公司 | 一种具有氩气定位导向功能的单晶炉 |
WO2023131634A1 (en) * | 2022-01-06 | 2023-07-13 | Globalwafers Co., Ltd. | Methods for growing single crystal silicon ingots that involve silicon feed tube inert gas control |
US11866845B2 (en) | 2022-01-06 | 2024-01-09 | Globalwafers Co., Ltd. | Methods for growing single crystal silicon ingots that involve silicon feed tube inert gas control |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002097098A (ja) | 2000-09-26 | 2002-04-02 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シリコン単結晶の製造方法及び半導体単結晶の製造装置 |
KR20040070083A (ko) * | 2003-01-31 | 2004-08-06 | 스미토모 미츠비시 실리콘 코포레이션 | 실리콘 단결정의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된실리콘 단결정 |
KR20070116288A (ko) * | 2005-06-20 | 2007-12-07 | 가부시키가이샤 섬코 | 반도체 단결정 제조 장치 |
KR20070118312A (ko) * | 2005-06-20 | 2007-12-14 | 가부시키가이샤 사무코 | 반도체 단결정 제조 장치 |
-
2008
- 2008-02-15 KR KR1020080013808A patent/KR100894295B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002097098A (ja) | 2000-09-26 | 2002-04-02 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シリコン単結晶の製造方法及び半導体単結晶の製造装置 |
KR20040070083A (ko) * | 2003-01-31 | 2004-08-06 | 스미토모 미츠비시 실리콘 코포레이션 | 실리콘 단결정의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된실리콘 단결정 |
KR20070116288A (ko) * | 2005-06-20 | 2007-12-07 | 가부시키가이샤 섬코 | 반도체 단결정 제조 장치 |
KR20070118312A (ko) * | 2005-06-20 | 2007-12-14 | 가부시키가이샤 사무코 | 반도체 단결정 제조 장치 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220161166A (ko) | 2021-05-28 | 2022-12-06 | (주)셀릭 | 실리콘 잉곳 제조장치 |
WO2023131634A1 (en) * | 2022-01-06 | 2023-07-13 | Globalwafers Co., Ltd. | Methods for growing single crystal silicon ingots that involve silicon feed tube inert gas control |
US11866845B2 (en) | 2022-01-06 | 2024-01-09 | Globalwafers Co., Ltd. | Methods for growing single crystal silicon ingots that involve silicon feed tube inert gas control |
CN116043329A (zh) * | 2023-03-31 | 2023-05-02 | 苏州晨晖智能设备有限公司 | 一种具有氩气定位导向功能的单晶炉 |
CN116043329B (zh) * | 2023-03-31 | 2023-05-30 | 苏州晨晖智能设备有限公司 | 一种具有氩气定位导向功能的单晶炉 |
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