JP3564830B2 - シリコン単結晶中の酸素濃度制御方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はシリコン単結晶の引上げ方法に関し、詳しくはCZ法(Czochralski 法)、マルチプルCZ法、または連続チャージ引上げ法により引上げられるシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、CZ法によるシリコン単結晶の製造における酸素濃度制御方法については、種々のものが提案されている。
例えば、特公昭60−6911号公報には、一定のルツボ回転数で成長させたシリコン単結晶の軸方向の酸素濃度プロファイルに基づいて、その傾度と逆の傾度となるようにルツボ回転数の傾度を制御することにより、シリコン単結晶の軸方向の酸素濃度分布を一定の範囲内に制御するものが開示されている。
また、特開昭64−61383号公報には、単結晶引上げ装置において、ルツボ内融液の液面上を流れる不活性ガスの流速を制御することで、単結晶の酸素濃度を制御する方法が開示されている。
【0003】
ところで最近、通常のCZ法に代わる単結晶引上げ法として、上記マルチプルCZ法(RCCZ法:Recharge CZ法)、または連続チャージ引上げ法(CCCZ法:Continuous−Charging CZ法)が開発されている。
マルチプルCZ法は、シリコン単結晶の引上げを終了した後のルツボ内残留融液を固化させることなく、原料多結晶を再充填して再度引上げを行う操作を繰り返すことにより、同じルツボから複数本のシリコン単結晶を引き上げる方法である。
連続チャージ引上げ法は、原料のシリコン融液または粒状多結晶を連続的にルツボにチャージすることにより、ルツボ内の融液量を一定に保ちながら単結晶の引上げを継続するものである(志村 史夫:「半導体シリコン結晶工学」、丸善(株)を参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、本発明者はこれらマルチプルCZ法、連続チャージ引上げ法では原材料の歩留りおよび単結晶の生産性が向上する利点があるものの、CZ法(通常のCZ法)と同様に、引上げ操業時間(多結晶溶融完了直後からの経過時間をいう、以下同じ)の経過とともに引上げ中のシリコン単結晶中の酸素濃度が軸方向で次第に低下することを発見した。
すなわち、引上げ操業時間が長くなることで、同一装置・同一操作条件で引上げた場合でも、(1)CZ法およびマルチプルCZ法では、操業時間が異なる複数本のシリコン単結晶を比較した場合、同一成長位置(シリコン単結晶の軸方向において同一の位置)の酸素濃度(Oi)が引上げ操業時間の経過とともに低下し、(2)連続チャージ引上げ法では、引上げ操業時間の経過とともにシリコン単結晶中の酸素濃度が低下する結果、引き上げられたシリコン単結晶における軸方向の酸素濃度が、軸方向に漸減することを確認した。
引上げ操業時間が異なる複数本のシリコン単結晶が発生する理由としては、結晶の有転位化等の理由により引上げ中の結晶を再度溶融し、再び結晶の引上げを行うこと、引上げ結晶の次数(次数とは、同じ石英ルツボから複数本のシリコン単結晶を引上げる場合に、単結晶の引上げを完了する本数を示す。)が違うこと、その他が挙げられる。
【0005】
本発明は上記知見に基づくもので、その目的は、CZ法またはマルチプルCZ法にあっては、引き上げられたシリコン単結晶の同一成長位置の酸素濃度を、引上げ操業時間の経過に関わらず所望の範囲内に制御することであり、連続チャージ引上げ法では、引き上げられたシリコン単結晶における軸方向の酸素濃度分布を、引上げ操業時間の経過に関わらず所望の範囲内に制御することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載のシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法は、石英製ルツボを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶をCZ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの回転数をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における同一成長位置の所望の酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から前記ルツボの回転数を設定するとともに、該回転数以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度が、結晶の有転位化等の理由により引上げ中の結晶を再度溶融し、再び結晶の引上げを行う場合などにおいて、引上げ操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とする。
【0007】
請求項2に記載のシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法は、石英製ルツボと該ルツボの側壁を加熱する加熱ヒータとを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶をCZ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの上端部と加熱ヒータの発熱中心との上下方向の離間距離をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における同一成長位置の所望の酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から前記上下方向の離間距離を設定するとともに、該離間距離以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度が、結晶の有転位化等の理由により引上げ中の結晶を再度溶融し、再び結晶の引上げを行う場合などにおいて、引上げ操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とする。
【0008】
請求項3に記載のシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法は、石英製ルツボを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶をマルチプルCZ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの回転数をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における同一成長位置の所望の酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から前記ルツボの回転数を設定するとともに、該回転数以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度が、結晶の有転位化等の理由により引上げ中の結晶を再度溶融し、再び結晶の引上げを行う場合や、引上げ結晶の次数が異なる場合などにおいて、引上げ操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とする。
【0009】
請求項4に記載のシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法は、石英製ルツボと該ルツボの側壁を加熱する加熱ヒータとを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶をマルチプルCZ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの上端部と加熱ヒータの発熱中心との上下方向の離間距離をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における同一成長位置の所望の酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から前記上下方向の離間距離を設定するとともに、該離間距離以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度が、結晶の有転位化等の理由により引上げ中の結晶を再度溶融し、再び結晶の引上げを行う場合や、引上げ結晶の次数が異なる場合などにおいて、引上げ操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とする。
【0010】
請求項5に記載のシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法は、石英製ルツボを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶を連続チャージ引上げ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、該操業時間が経過した時刻に対応するシリコン単結晶における成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの回転数をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における軸方向の所望酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から、引上げ開始後の経過時間と前記ルツボの回転数との関係を設定するとともに、該回転数以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶中の引上げ軸方向の酸素濃度が引上げ操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とする。
【0011】
請求項6に記載のシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法は、石英製ルツボと該ルツボの側壁を加熱する加熱ヒータとを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶を連続チャージ引上げ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、該操業時間が経過した時刻に対応するシリコン単結晶における成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの上端部と加熱ヒータの発熱中心との上下方向の離間距離をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における軸方向の所望酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から、引上げ開始後の経過時間と前記上下方向の離間距離との関係を設定するとともに、該離間距離以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶中の引上げ軸方向の酸素濃度が操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とする。
【0012】
請求項1,3,5に記載の発明は、同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合のシリコン単結晶中の酸素濃度の低下を、ルツボ回転数を増大させることにより補償するものである。
【0013】
請求項2,4,6の発明は、同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合のシリコン単結晶中の酸素濃度の低下を、ルツボの上端部と加熱ヒータの発熱中心との上下方向の離間距離を増大することにより補償するものである。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の構成および効果を図面に基づいて説明する。
実施の形態1
図1は、CZ法(通常CZ法)またはマルチプルCZ法によるシリコン単結晶引上げ装置の要部構造を示す概略断面図である。
この引上げ装置においてステンレス製の円筒状チャンバー1内に、内周側が石英からなり外周側が黒鉛からなるルツボ2が、鉛直方向に設けた支持軸3で支持されている。ルツボ2の周囲には、炭素材からなる円筒状の加熱ヒータ4が配備され、この加熱ヒータ4の周囲には同じく炭素材からなる円筒状の断熱材5が配備されている。
前記支持軸3(従ってルツボ2)は、制御機構を備えた回転駆動装置(図示せず)により回転可能、かつ回転数が微調整可能となっている。前記加熱ヒータ4は、制御機構を備えたおよびスライド機構(図示せず)により上下動可能、かつ上下方向の位置が微調整可能となっている。
【0015】
チャンバー1の上方には、ステンレス製の円筒状プルチャンバー6が、チャンバー1と同心状に連結して設けられ、これらチャンバー1とプルチャンバー6との接続部には、アイソレーションバルブ7が配備されている。プルチャンバー6は、引き上げられたシリコン単結晶を収容し、かつ外部に取り出すための空間を形成している。
プルチャンバー6の上方には、シリコン単結晶の巻上げ装置(図示せず)が、鉛直軸を中心として回転可能に配備されている。この巻上げ装置からはワイヤー8が吊下され、このワイヤー8の下端には種保持治具9により種結晶10が取り付けられている。プルチャンバー6の上部にはAr等の不活性ガスの供給口11が、チャンバー1の底部には不活性ガスの排気口12がそれぞれ設けられている。この排気口12は真空発生装置(図示せず)に連絡され、チャンバー1およびプルチャンバー6内を所定の真空度に維持できるようになっている。
【0016】
実施の形態2
図2は、連続チャージ引上げ法によるシリコン単結晶引上げ装置の要部構造を示す概略断面図である。この装置のチャンバー1内には、連続チャージ引上げ法によるシリコン単結晶の引上げを可能とするための装置を配備してある。その他の構成は、図1の装置と同様である。
すなわち、外径がルツボ2の内径より小さい石英製の円筒状隔壁21がルツボ2と同心状に設けられ、チャンバー1の外部上方には、粒状多結晶シリコンの供給装置31が設けられている。この供給装置31は粒状多結晶シリコン41のコンテナ32、該コンテナ32の下端部に連結配備した振動フィーダ33、これらコンテナ32および振動フィーダ33を密閉状態で収容する密閉室(開閉蓋付き)34、振動フィーダ33の出口に接続した石英製の供給管35等を備えて構成されている。
供給管35の下半部はチャンバー1に挿入され、その下端部はルツボ2と前記隔壁21との間隙に挿入されている。前記密閉室34の上部にはArガス等の不活性ガスの供給口34aが、下部には不活性ガスの排気口34bがそれぞれ開口されている。なお、図1および図2において51はシリコン融液、52は引上げ途中のシリコン単結晶である。
【0017】
〔試験例1〕
次に、図1の引上げ装置を用いて行ったCZ法(通常CZ法)によるシリコン単結晶の引上げ試験について説明する。
まず、引上げ結晶No.1(1バッチ目の結晶)では、前記真空発生装置を駆動するとともに、不活性ガスを供給することにより、チャンバー1内およびプルチャンバー6内の圧力を100mbarに維持した。この状態において、あらかじめルツボ2に仕込んだ多結晶シリコンを加熱ヒータ4により溶解させた。次に、ルツボ2内のシリコン融液51の表面にワイヤー8下端部の種結晶10を浸漬し、ルツボ2をR1 rpmで回転させ、ワイヤー8を回転させながら所定の速度で引き上げた。以上の操作により、直径Diインチ、全長Liインチのシリコン単結晶を製造した。この結晶の中心部引上げ時の引上げ操業時間はTiであった。
【0018】
引上げ結晶No.2(2バッチ目の結晶)は、引上げ結晶No.1と同一条件で、これと同一寸法のシリコン単結晶として製造した。ただし、多結晶シリコンの溶解後、一定時間放置してから単結晶の引上げを開始した。
この引上げ結晶No.2の中心部の引上げ操業時間はT2 であった。さらに、引上げ結晶No.3〜No.5を引上げ結晶No.1と同一条件で、これと同一寸法のシリコン単結晶として製造した。
引上げ結晶No.1〜No.5は、多結晶シリコン溶解後の放置時間が異なり、下記の試験において単結晶直胴中心部の引上げ時の引上げ操業時間は、T1 <T2 <T3 <T4 <T5 (数字は結晶No.を示す)となる。
【0019】
〔試験例2〕
次に、図1の引上げ装置を用いて行った、マルチプルCZ法によるシリコン単結晶の引上げ試験について説明する。
まず、引上げ結晶No.11(1バッチ目の1本目で引上げた結晶)では、前記真空発生装置を駆動するとともに、不活性ガスを供給することにより、チャンバー1内およびプルチャンバー6内の圧力を100mbarに維持した。この状態において、あらかじめルツボ2に仕込んだ多結晶シリコンを加熱ヒータ4により溶解させた。次に、ルツボ2内のシリコン融液51の表面に、ワイヤー8下端部の種結晶10を浸漬し、ルツボ2をR1 rpmで回転させ、ワイヤー8を回転させながら所定の速度で引き上げた。以上の操作により、直径Diインチ、全長Liインチのシリコン単結晶を製造した。
【0020】
引上げ結晶No.12(1バッチ目の2本目で引上げた結晶)では、ルツボ2内に残留するシリコンを溶融状態に維持し、この状態で多結晶シリコン41をルツボ2に追加投入し、ルツボ2内融液の液面を引上げ結晶No.11と同一にし、以下、引上げ結晶No.11と同一条件で引上げ結晶No.12の操作を行い、引上げ結晶No.11と同一寸法のシリコン単結晶を製造した。
さらに、引上げ結晶No.12と同一の操作を繰り返すことにより、引上げ結晶No.13〜15の操作を行い、引上げ結晶No.11と同一寸法のシリコン単結晶を製造した。
【0021】
次に、ルツボ2の回転数をR1 からR2 (ただし、R2 >R1 )に変えた以外は引上げ結晶No.11と同一の条件で、引上げ結晶No.21〜25(2バッチ目の1本目から5本目に引上げた結晶)の操作を行い、以下同様に、ルツボ2の回転数をR3 ,R4 ,R5 (ただし、R5 >R4 >R3 >R2 )に変えた以外は引上げ結晶No.11と同一の条件で、引上げ結晶No.31〜35、41〜45、51〜55(それぞれ、3,4,5バッチ目の、1〜5本目に引上げた結晶)の操作を行い、引上げ結晶No.11と同一寸法のシリコン単結晶を製造した。
【0022】
このようにして得られたCZ法(通常CZ法)による5本のシリコン単結晶、およびマルチプルCZ法による25本のシリコン単結晶について、その軸方向および直径方向の中心部(直胴部の重心近傍)の酸素濃度Oicを測定した。結果は図3,4に示すとおりで、ルツボ2の回転数をパラメータとする酸素濃度変化曲線l10(図3)およびl11〜l15(図4)が得られた。すなわち図3,4は、引上げ操業時間が異なる複数本のシリコン単結晶についての引上げ結晶No.と、同一成長位置の酸素濃度との関係を、ルツボの回転数をパラメータとして求めたものである。
図3のl10および図4のl11の傾きから、CZ法(通常CZ法)とマルチプル法とで、引上げ操業時間とシリコン単結晶中の酸素濃度の低下割合との関係が同一であることが確認できた。
また、図3,4から、(1)ルツボ2の回転数を一定にした場合、あとで引上げられた結晶ほど(つまり引上げ操業時間の経過に従って)、酸素濃度Oicが低下すること、(2)引上げ操業時間が等しく、引上げバッチが異なる単結晶を比較すると、ルツボ2の回転数が大きいほど、酸素濃度Oicが高くなることが分かった。
【0023】
したがって、目標の酸素濃度がOit(ppma)である場合には、図4のグラフにおいて、縦軸の「Oit」の点を通り横軸に平行な直線Lを引き、この直線Lと、各引上げ結晶No.を示す点を通り縦軸に平行な直線との交点を通る前記酸素濃度変化曲線のルツボ回転数r1 〜r5 (ただし、r5 >r4 >r3 >r2 >r1 )を求め、各引上げ結晶No.の操作においてはルツボ回転数をr1 〜r5 に設定すれば、各引上げ結晶No.で得られるシリコン単結晶の酸素濃度OicをOitに近い値にすることができる。
なお、上記した交点を通る酸素濃度変化曲線が存在しない場合には、酸素濃度変化曲線l11〜l15を内挿または外挿することにより、望ましいルツボ回転数の近似値を求めればよい。
【0024】
以上の要領で求めた、「引上げ結晶No.と望ましいルツボ回転数」との関係を図5に示す。すなわち図5は、図4を基に作成した、シリコン単結晶中の酸素濃度制御方法を示すグラフであって、引上げ操業時間の異なる複数本のシリコン単結晶について、同一成長位置の酸素濃度を所望の範囲内に制御する場合の、シリコン単結晶の引上げ結晶No.の引上げ操業時間におけるルツボ回転数の設定値との関係を示すものである。
【0025】
次に、ルツボ2の回転数を図5に示すとおりに設定し、その他の条件は引上げ結晶No.11と同一にして引上げ結晶No.61〜65の操作を行い、引上げ結晶No.11と同一寸法のシリコン単結晶を製造した。
引上げ操業時間の異なる5本のシリコン単結晶について、酸素濃度Oicを測定した。結果は図5に併記したとおりで、酸素濃度Oicをほぼ目標値Oit±1.0(ppma ASTM’79、以下同じ)の範囲内に制御することができた。
【0026】
〔試験例3〕
試験例2では、ルツボ2の回転数と酸素濃度Oicとの関係を検討したが、この試験例3では、複数本のシリコン単結晶についての引上げ結晶No.と、同一成長位置の酸素濃度との関係を、ルツボ2の上端部と加熱ヒータ4の発熱中心Hcとの上下方向の離間距離D(図1を参照)をパラメータとして求めた。
この場合、全ての引上げ結晶No.でルツボ2の回転数をRrpmとし、CZ法(通常CZ法)での引上げ結晶No.101〜105では離間距離DをD1 に、マルチプルCZ法による引上げ結晶No.111〜115では離間距離DをD1 に、引上げ結晶No.121〜125では離間距離DをD2 に、引上げ結晶No.131〜135では離間距離DをD3 に、引上げ結晶No.141〜145では離間距離DをD4 に、引上げ結晶No.151〜155では前記離間距離DをD5 に、それぞれ設定し(ただし、D5 >D4 >D3 >D2 >D1 )、その他の操作条件は試験例1と同一にして直径Diインチ、全長Liインチのシリコン単結晶をCZ法(通常CZ法)で5本、マルチプルCZ法で25本それぞれ製造した。
この場合、前記離間距離Dの調節は、前記スライド機構により加熱ヒータ4を上下方向に移動させることで行った。
【0027】
このようにして得られたCZ法(通常CZ法)での5本および、マルチプルCZ法で25本のシリコン単結晶について、直胴部の重心近傍の酸素濃度Oicを測定した。結果は図6,7に示すとおりで、前記離間距離をパラメータとする酸素濃度変化曲線l20(図6)および、l21〜l25(図7)が得られた。すなわち図6,7は、引上げ操業時間が異なる複数本のシリコン単結晶についての引上げ結晶No.と、同一成長位置の酸素濃度との関係を前記離間距離をパラメータとして求めたものである。
図6のl20および図7のl21の傾きから、CZ法(通常CZ法)とマルチプル法とで、引上げ操業時間とシリコン単結晶中の酸素濃度の低下割合との関係が同一であることが確認できた。また、図6,7から、(1)前記離間距離を一定にした場合、あとに引き上げられる結晶ほど(つまり引上げ操業時間の経過に従って)、酸素濃度Oicが低下すること、(2)引上げ操業時間の経過が等しく、引上げバッチが異なるシリコン単結晶を比較すると、前記離間距離が長いほど、酸素濃度Oicが高くなることが分かった。
【0028】
したがって、目標の酸素濃度がOit(ppma)である場合には、図7のグラフにおいて、縦軸の「Oit」の点を通り横軸に平行な直線Lを引き、この直線Lと、各引上げ結晶No.を示す点を通り縦軸に平行な直線との交点を通る前記酸素濃度変化曲線の離間距離d1 〜d5 (ただし、d5 >d4 >d3 >d2 >d1 )を求め、各引上げ結晶No.の操作においては離間距離をd1 〜d5 に設定すれば、各引上げ結晶No.で得られるシリコン単結晶の酸素濃度OicをOitに近い値にすることができる。
なお、上記した交点を通る酸素濃度変化曲線が存在しない場合には、酸素濃度変化曲線l21〜l25を内挿または外挿することにより、望ましい離間距離の近似値を求めればよい。
【0029】
以上の要領で求めた「引上げ結晶No.と望ましい離間距離との関係」を図8に示す。すなわち図8は図7を基に作成した、シリコン単結晶中の酸素濃度制御方法を示すグラフであって、複数本のシリコン単結晶について、同一成長位置の酸素濃度を所望の範囲内に制御する場合の、シリコン単結晶の引上げ結晶No.と、該結晶No.における前記離間距離の設定値との関係を示すものである。
【0030】
次に、前記離間距離を図8に示すとおりに設定し、その他の条件は引上げ結晶No.111と同一にして引上げ結晶No.161〜165の操作を行い、引上げ結晶No.111と同一寸法のシリコン単結晶を製造した。
引上げ操業時間の異なる5本のシリコン単結晶について、酸素濃度Oicを測定した。結果は図8に併記したとおりで、酸素濃度Oicをほぼ目標値Oit±1.0(ppma)の範囲内に制御することができた。
【0031】
〔試験例4〕
図2は、連続チャージ引上げ法によるシリコン単結晶引上げ装置の要部構造を示す概略断面図である。この装置を用いて行ったシリコン単結晶の引上げ試験例について説明する。
まず、試験例1と同様にルツボ2の回転数をR11〜R15(ただし、R15>R14>R13>R12>R11)の5通りに変え、その他の操作条件は同一に設定し直径Diインチ、全長Liインチのシリコン単結晶を合計5本製造した。これにより、引上げ操業時間と、該操業時間が経過した時刻に対応するシリコン単結晶における成長位置の酸素濃度Oiとの関係を、ルツボ2の回転数をパラメータとして求めた。これを図9に示す。
なお、引上げ操作中、多結晶シリコン41を連続的に投入することにより、ルツボ2内の融液量を一定に制御した。また、チャンバー1内およびプルチャンバー6内の圧力は、実施例1と同じく100mbarに維持した。
【0032】
次に、試験例1と同様の要領で図9のグラフから、図10に示すように、引上げ開始後の経過時間とルツボ回転数r11〜r15の関係を設定する(ただし、r15>r14>13>r12>r11であり、前記経過時間が長くなるに従ってルツボ回転数を増大する。)とともに、該回転数以外の条件は、前記関係を求めたときと同一の操作条件で引上げ操作を行った。その結果、図10に併記したとおり、酸素濃度Oicをほぼ目標値Oit±1.0(ppma)の範囲内に制御することができた。
【0033】
〔試験例5〕
図2の引上げ装置を用いて行った、連続チャージ引上げ法によるシリコン単結晶の引上げ試験の別例について説明する。
この場合、全ての引上げ結晶No.でルツボ2の回転数をRrpmとし、前記離間距離をD11〜D15(ただし、D15>D14>D13>D12>D11)の5通りに変え、その他の操作条件は試験例4と同一に設定し直径Diインチ、全長Liインチのシリコン単結晶を合計5本製造した。これにより、引上げ操業時間と、該操業時間が経過した時刻に対応するシリコン単結晶における成長位置の酸素濃度Oiとの関係を、前記離間距離をパラメータとして求めた。これを図11に示す。なお、引上げ操作中、多結晶シリコン41を連続的に投入することにより、ルツボ2内の融液量を一定に制御した。また、チャンバー1内およびプルチャンバー6内の圧力は、実施例1と同じく100mbarに維持した。
【0034】
次に、試験例1と同様の要領で図11のグラフから、図12に示すように、引上げ開始後の経過時間と離間距離d11〜d15の関係を設定する(ただし、d15>d14>d13>d12>d11であり、前記経過時間が長くなるに従って離間距離を長くする。)とともに、該離間距離以外の条件は、前記関係を求めたときと同一の操作条件で引上げを行った。
その結果、図12に併記したとおり、酸素濃度Oicをほぼ目標値Oit±1.0(ppma)の範囲内に制御することができた。
【0035】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように 請求項1,3,5に記載の発明では、同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合のシリコン単結晶中の酸素濃度の低下を、ルツボ回転数を増大させることにより補償するものであるから、CZ法またはマルチプルCZ法にあっては、引き上げたシリコン単結晶の同一成長位置の酸素濃度を、引上げ操業時間の長短に関わらず所望の範囲内に制御することができるし、連続チャージ引上げ法では、引き上げられたシリコン単結晶における軸方向の酸素濃度分布を、引上げ操業時間の長短に関わらず所望の範囲内に制御することが可能となる。
また請求項2,4,6の発明では、同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合のシリコン単結晶中の酸素濃度の低下を、ルツボの上端部と加熱ヒータの発熱中心との上下方向の離間距離を増大することにより補償するものであるから、CZ法、マルチプルCZ法または連続チャージ引上げ法による引上げにおいて請求項1,3,5と同様の優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1に係るもので、CZ法(通常CZ法)またはマルチプルCZ法によるシリコン単結晶引上げ装置の要部構造を示す概略断面図である。
【図2】本発明の実施の形態2に係るもので、連続チャージ引上げ法によるシリコン単結晶引上げ装置の要部構造を示す概略断面図である。
【図3】試験例1,2の結果を示すグラフである。
【図4】試験例1,2の結果を示すグラフである。
【図5】図4を基に作成された、本発明のシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法を示すグラフである。
【図6】試験例3の結果を示すグラフである。
【図7】試験例3の結果を示すグラフである。
【図8】図7を基に作成された、本発明のシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法を示すグラフである。
【図9】試験例4の結果を示すグラフである。
【図10】図9を基に作成された、本発明のシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法を示すグラフである。
【図11】試験例5の結果を示すグラフである。
【図12】図11を基に作成された、本発明のシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法を示すグラフである。
【符号の説明】
1 チャンバー
2 ルツボ
3 支持軸
4 加熱ヒータ
5 断熱材
6 プルチャンバー
7 アイソレーションバルブ
8 ワイヤー
9 種保持治具
10 種結晶
11,34a 不活性ガスの供給口
12,34b 不活性ガスの排気口
21 隔壁
31 多結晶シリコンの供給装置
32 コンテナ
33 振動フィーダ
34 密閉室
35 供給管
41 多結晶シリコン
51 シリコン融液
52 シリコン単結晶
Claims (6)
- 石英製ルツボを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶をCZ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの回転数をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における同一成長位置の所望の酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から前記ルツボの回転数を設定するとともに、該回転数以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度が引上げ操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とするシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法。 - 石英製ルツボと該ルツボの側壁を加熱する加熱ヒータとを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶をCZ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの上端部と加熱ヒータの発熱中心との上下方向の離間距離をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における同一成長位置の所望の酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から前記上下方向の離間距離を設定するとともに、該離間距離以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度が引上げ操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とするシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法。 - 石英製ルツボを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶をマルチプルCZ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの回転数をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における同一成長位置の所望の酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から前記ルツボの回転数を設定するとともに、該回転数以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度が引上げ操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とするシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法。 - 石英製ルツボと該ルツボの側壁を加熱する加熱ヒータとを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶をマルチプルCZ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの上端部と加熱ヒータの発熱中心との上下方向の離間距離をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における同一成長位置の所望の酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から前記上下方向の離間距離を設定するとともに、該離間距離以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶における同一成長位置の酸素濃度が引上げ操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とするシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法。 - 石英製ルツボを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶を連続チャージ引上げ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、該操業時間が経過した時刻に対応するシリコン単結晶における成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの回転数をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における軸方向の所望酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から、引上げ開始後の経過時間と前記ルツボの回転数との関係を設定するとともに、該回転数以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶中の引上げ軸方向の酸素濃度が引上げ操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とするシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法。 - 石英製ルツボと該ルツボの側壁を加熱する加熱ヒータとを備えた引上げ装置を用いて、シリコン単結晶を連続チャージ引上げ法により引き上げる方法において、
(1)同一装置・同一操作条件下で引上げを行った場合の引上げ操業時間と、該操業時間が経過した時刻に対応するシリコン単結晶における成長位置の酸素濃度との関係を、前記ルツボの上端部と加熱ヒータの発熱中心との上下方向の離間距離をパラメータとして求め、
(2)あらかじめ設定した、シリコン単結晶における軸方向の所望酸素濃度範囲と、前記引上げ操業時間と酸素濃度との関係から、引上げ開始後の経過時間と前記上下方向の離間距離との関係を設定するとともに、該離間距離以外の条件は、前記関係を求めたときと同一装置・同一操作条件として引上げを行うことにより、シリコン単結晶中の引上げ軸方向の酸素濃度が操業時間の経過に伴って低下するのを抑制することを特徴とするシリコン単結晶中の酸素濃度制御方法。
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