KR100872715B1 - 반도체 공정용 파티클 오염 방지장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 공정용 파티클 오염 방지장치에 관한 것으로서, 각 모듈 사이에 설치되는 인터셉터 에어판넬, 이송용 로봇의 동작에 따라 상기 인터셉터 에어판넬을 상하구동 시키기 위한 상하 구동 실린더, 상기 인터셉터 에어판넬의 승하강 상태를 감지하기 위한 센서, 및 상기 인터셉터 에어판넬에 설치되며 공급된 질소를 하향 분사하기 위한 노즐을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 파티클 오염 방지장치에 의하면 클리너 모듈 중 SRD로 SRD 척의 회전에 의한 돌풍현상에 의해 파티클이 날리는 현상에 의해 다른 모듈까지 오염을 주어 2차 파티클 오염일으키는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 장비의 가동률 및 팹 수율을을 높일 수 있는 효과가 있다.
파티클, 인터셉터 에어판넬, 센서

Description

반도체 공정용 파티클 오염 방지장치{Apparatus for preventing particle contamination in semiconductor process}
도1은 IPEC 776 장비의 평면도.
도2는 본 발명에 의한 반도체 공정용 파티클 오염 방지장치의 구성도.
본 발명은 반도체 공정용 파티클 오염 방지장치에 관한 것으로서, 특히 클리너 모듈 중 SRD(Spin Rince Dry)로 SRD 척의 회전에 의한 돌풍현상에 의해 주위 파티클이 날리는 현상으로 다른 모듈까지 오염시키는 것을 방지하기 위한 것에 관한 것이다.
도 1은 반도체 공정에서 사용되는 IPEC 776장비의 평면도를 나타낸 것으로 이 장비는 폴리싱부와 클리너부로 구성되어 있다.
이 장비 중 클리너부는 3개의 모듈로 구성되며, 폴리싱이 끝난 웨이퍼는 BU#1(Brush Unit #1)으로 들어온다. BU#1에서는 암모니아를 웨이퍼 표면에 분사하고 브러쉬를 사용하여 세정한다. 이후 암모니아 세정 프로세스가 끝나면 R4(Robot 4)가 웨이퍼를 로딩하여 다음 모듈인 BU#2로 이동시킨다. 이 모듈은 불화수소(HF)를 표면에 분사해 주며 브러쉬를 이용하여 세정하며, BU에서 세정이 종료된 웨이퍼는 R4에 의해 SRD로 이동된다.
SRD 척에 놓여진 웨이퍼는 하강되어 500 내지 800RPM으로 회전시켜 웨이퍼 표면에 존재하는 케미칼들을 제거하게 된다. 그러나 이러한 SRD 척의 회전에 의하여 강한 바람이 SRD 모듈 하부로 불게 되며, 이 바람은 하부에서 다시 상부로 상승하면서 주위에 가라앉은 먼지 및 파티클들을 포함하게 된다.
이러한 먼지 및 파티클들은 SRD 모듈에서 BU#2,1방향으로 이동하여, 세정중인 웨이퍼 표면 또는 세정중인 브러쉬에 붙어 공정중 파티클의 증가를 초래한다.
본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 SRD 척의 회전에 의한 돌풍현상에 의해 발생하는 2차 파티클 오염을 방지하는 반도체 공정용 파티클 오염 방지장치를 제공하는 데 있다.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 반도체 공정용 파티클 오염 방지장치는 각 모듈 사이에 설치되는 인터셉터 에어판넬, 이송용 로봇의 동작에 따라 상기 인터셉터 에어판넬을 상하구동 시키기 위한 상하 구동 실린더, 상기 인터셉터 에어판넬의 승하강 상태를 감지하기 위한 센서, 및 상기 인터셉터 에어판넬에 설치되며 공급된 질소를 하향 분사하기 위한 노즐을 구비하는 것을 특징으로 한다.
또한, 인터셉터 에어판넬의 승하강 상태를 감지하는 센서는 업(up) 센서와 다운(down) 센서로 구성되는 것을 특징하며, 상기 노즐에서 분사되는 질소 개스는 세정공정에서 사용된 케미칼 증기(Fume)를 덕트 방향으로 배기시킬 수 있도록 하는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도 2를 참조하면서 본 발명의 실시예를 보다 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명에 의한 반도체 공정용 파티클 오염 방지장치를 나타낸 도면이며, 이하 그 동작을 설명한다.
인터셉터 에어 판넬(1)은 각 모듈의 사이에 장착되며, 웨이퍼가 브러쉬 1(BRUSH 1)에서 진행을 마치고 브러쉬 2(BRUSH 2)로 이동될 때 로봇이 웨이퍼를 잡고 업되면 브러쉬 1과 브러쉬 2사이에 있는 인터셉터 에어 판넬(1)이 구동 실린더(2)에 의하여 다운된다. 이후 로봇은 브러쉬 2로 이동되고 다운된 인터셉터 에어판넬(1)은 구동 실린더(2)에 의하여 다시 업된다.
인터셉터 에어판넬(1)이 업된 동시에 다운센서(3)가 이를 인식하고 시그날을 컨트롤러에 보내어 인터셉터 에어판넬(1)에 N2를 공급한다. N2는 인터셉터 에어판넬(1) 내부로 들어가 판넬의 외부 하향노즐(4)에 의해 아래로 분사된다.
브러쉬 1에서는 암모니아를 사용하는데 암모니아 냄새를 제거하기 위하여 모듈 안쪽 아래부분에 덕트를 설치하여 배기시키고 있으며, 암모니아 냄새 중 50%는 배기되나 50%는 모듈 밖으로 나간다. 이 문제를 해결하기 위해 인터셉터 에어판넬(1)에 하향 노즐(4)로 덕트 방향으로 N2를 불어 암모니아를 배기시키는 것도 가능하다.
브러쉬 2와 SRD사이에 있는 판넬의 기능도 브러쉬 1과 브러쉬 2 사이에 있는 인터셉터 에어판넬(1)과 같은 원리로 작동한다.
SRD에서 발생하는 돌풍은 인터셉터 에어판넬(1)에 의해 차단되고 또한 각각 모듈별로 공간을 차단하여 파티클 2차 오염을 방지할 수 있다.
이상에서, 본 발명에 따른 장치의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
이와 같은 본 발명의 파티클 오염 방지장치에 의하면 클리너 모듈 중 SRD로 SRD 척의 회전에 의한 돌풍현상에 의해 파티클이 날리는 현상에 의해 다른 모듈까지 오염을 주어 2차 파티클 오염일으키는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 장비의 가동률 및 팹 수율을 높일 수 있는 효과가 있다.

Claims (3)

  1. 반도체 공정용 파티클 오염 방지장치에 있어서,
    클리너 모듈(module) 사이에 설치되는 인터셉터 에어판넬;
    이송용 로봇의 동작에 따라 상기 인터셉터 에어판넬을 상하구동 시키기 위한 구동 실린더;
    상기 인터셉터 에어판넬의 승하강 상태를 감지하기 위한 센서; 및
    상기 인터셉터 에어판넬에 설치되며, 상기 인터셉터 에어판넬을 통하여 공급된 질소를 하향 분사함으로써 세정공정에서 사용된 케미칼 증기를 덕트 방향으로 배기시키는 노즐을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 반도체 공정용 파티클 오염 방지장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 센서는 상기 인터셉터 에어판넬의 승하강상태를 판단하기 위하여 업 센서와 다운 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정용 파티클 오염 방지장치.
  3. 삭제
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