KR100867147B1

KR100867147B1 - 스캐닝 장치

Info

Publication number: KR100867147B1
Application number: KR1020070085792A
Authority: KR
Inventors: 양행석; 윤상경; 변기영; 박흥우; 김주홍; 변성호
Original assignee: 삼성전기주식회사
Priority date: 2007-08-24
Filing date: 2007-08-24
Publication date: 2008-11-06

Abstract

스캐닝 장치가 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 스캐닝 장치는 제1 입사각으로 입사된 빔은 미리 설정된 반사율로 반사시키고, 상기 제1 입사각보다 작은 제2 입사각으로 입사된 빔은 미리 설정된 투과율로 투과시키는 선택적 반사부; 상기 선택적 반사부에서 반사되어 입사된 빔을 반사하여 상기 선택적 반사부에 상기 제2 입사각으로 재입사하도록 조사하는 스캐닝 미러; 상기 스캐닝 미러가 스캐닝 각도 내에서 회동하도록 상기 스캐닝 미러를 지지하는 미러 지지대; 및 상기 선택적 반사부에 상기 제1 입사각으로 입사되는 빔과 평행하게 배치되며, 상기 스캐닝 미러 및 상기 미러 지지대를 내부에 포함하는 커버 글래스를 포함한다. 스캐닝 장치의 부피와 소모 전력이 절감될 수 있다.

빔 스플리터, 스캐닝 미러, 스캐너.

Description

스캐닝 장치{Scanning Device}

본 발명은 스캐닝 장치에 관한 것으로 보다 상세하게는 빔 스플리터나 TIR 프리즘 등의 반사 수단이 이용되는 스캐닝 장치에 관련된다.

도 1은 종래 기술에 따른 스캐닝 장치를 나타내는 도면이다. 기존의 스캐닝 장치에 있어서 입사된 빔을 스캐닝 미러(120)가 회동하면서 직접 반사시켜 스캐닝을 수행하였다.

이 경우, 입사빔의 폭(W)이 넓어지면 스캐닝 미러의 너비(bo)도 함께 증가해야 하였다. 따라서 스캐닝 장치의 부피가 커지는 문제점이 있었다. 또한 종래의 스캐닝 장치의 경우, 입사빔과 출사빔 간의 각도가 크게 벌어진다. 이런 이유에서도 스캐닝 장치의 전체적인 부피를 줄이는 것이 어려웠다.

또한 종래 기술에 따른 스캐닝 장치의 경우, 전술한 원인에 의해 스캐닝 미러(120)의 너비(bo)가 커지므로, 스캐닝 미러(120)의 무게가 증가하였다. 따라서 스캐닝 미러(120)의 회동에 따른 전력 소모량이 많았다.

또한 스캐닝 미러(120)가 회동하지 않은 상태에서, 입사빔과 스캐닝 미러(120)가 비스듬하게 배치되어야 하므로, 스캐닝 미러(120), 입사빔 및 스캐너 커버 글래스(140)가 나란하게 평행하게 배열되는 것이 불가능하였다.

본 발명은 스캐닝 미러의 길이가 줄어듦으로써 전체의 부피가 감소된 스캐닝 장치를 제공하고자 한다.

또한 본 발명은 짧은 길이의 스캐닝 미러를 사용함으로써 스캐닝 미러의 회동에 따른 소비 전력을 절감할 수 있는 스캐닝 장치를 제공하고자 한다.

또한 본 발명은 빔 스플리터나 TIR 프리즘 등의 반사 수단을 이용하여 입사빔의 방향을 바꾸어 줌으로써 전체 부피가 줄어들 수 있는 스캐닝 장치를 제공하고자 한다.

본 발명의 다른 목적들은 이하에서 서술되는 바람직한 실시예를 통하여 보다 명확해질 것이다.

본 발명의 일측면에 따르면, 제1 입사각으로 입사된 빔은 미리 설정된 반사율로 반사시키고, 상기 제1 입사각보다 작은 제2 입사각으로 입사된 빔은 미리 설정된 투과율로 투과시키는 선택적 반사부; 상기 선택적 반사부에서 반사되어 입사 된 빔을 반사하여 상기 선택적 반사부에 상기 제2 입사각으로 재입사하도록 조사하는 스캐닝 미러; 상기 스캐닝 미러가 스캐닝 각도 내에서 회동하도록 상기 스캐닝 미러를 지지하는 미러 지지대; 및 상기 선택적 반사부에 상기 제1 입사각으로 입사되는 빔과 평행하게 배치되며, 상기 스캐닝 미러 및 상기 미러 지지대를 내부에 포함하는 커버 글래스를 포함하는 스캐닝 장치가 제공된다.

여기서 상기 반사율 및 상기 투과율은 0.5보다 크고 1보다 작거나 같다.

또한 상기 제1 입사각은 미리 설정된 범위를 가지는 기준 입사각보다 큰 것을 특징으로 하고, 상기 제2 입사각은 상기 기준 입사각보다 작은 것을 특징으로 한다.

또한 상기 기준 입사각은 최소값이 40도보다 크거나 같고, 최대값이 60도보다 작거나 같은 범위를 가질 수 있다.

또한 상기 선택적 반사부는 상기 커버 글래스의 내부에 장착될 수 있다.

또한 상기 스캐닝 미러는 상기 커버 글래스와 평행한 상태를 기준으로 +α/2도 내지 - α/2도의 상기 스캐닝 각도로 회동한다.

또한 상기 스캐닝 미러가 +α/2도 회동하는 경우 상기 제2 입사각은 [δ = -45+α+3θ/2 ]도인 것을 특징으로 한다-여기서, 상기 θ는 상기 스캐닝 미러와 상기 커버 글래스가 평행한 상태인 경우 상기 선택적 반사부로부터 반사된 빔이 상기 스캐닝 미러에 입사하는 각도임-.

또한 상기 스캐닝 미러가 - α/2도 회동하는 경우 상기 제2 입사각은 [γ = 45+α- 3θ/2]도인 것을 특징으로 한다-여기서, 상기 θ는 상기 스캐닝 미러와 상 기 커버 글래스가 평행한 상태인 경우 상기 선택적 반사부로부터 반사된 빔이 상기 스캐닝 미러에 입사하는 각도임-.

여기서 상기 선택적 반사부는 빔 스플리터일 수 있다.

또한 상기 선택적 반사부는 TIR 프리즘일 수 있다.

본 발명의 실시예에 따르면 스캐닝 미러의 길이가 줄어듦으로써 전체의 부피가 감소된 스캐닝 장치를 제공할 수 있다.

또한 본 발명의 실시예에 따르면 짧은 길이의 스캐닝 미러를 사용함으로써 스캐닝 미러의 회동에 따른 스캐닝 장치의 소비 전력을 절감할 수 있다.

또한 본 발명의 실시예에 따르면 빔 스플리터나 TIR 프리즘 등의 반사 수단을 이용하여 입사빔의 방향을 바꾸어 줌으로써 스캐닝 장치의 전체 부피가 줄어들 수 있다.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체 적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.

도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 스캐닝 장치를 나타낸 도면이다.

도 2 및 도 3에 도시된 실시예에 따른 스캐닝 장치는 선택적 반사부(210), 스캐닝 미러(220), 미러 지지대(230) 및 커버 글래스(240)를 포함한다.

도 2에 도시된 실시예에 따른 스캐닝 장치는 선택적 반사부(210)가 커버 글래스 (240)의 외부에 분리되어 설치되어 있다. 반면 도 3에 도시된 실시예에 따른 스캐닝 장치는 선택적 반사부(210)가 커버 글래스(340)의 내부에 장착되어 있다.

선택적 반사부(210)는 입사빔을 반사하여 스캐닝 미러에 조사하며, 스캐닝 미러로부터 반사되어 나온 빔을 투과시킨다. 선택적 반사부(210)는 빔 스플리터 또는 TIR 프리즘일 수 있다.

빔 스플리터는 입사된 빔을 두 개 이상의 빔으로 쪼개는 역할을 하는 반사경의 일종으로 카메라에 사용되기도 한다. 본 발명의 실시예에서 빔 스플리터는 입사된 빔을 입사각에 따라 차별적으로 반사 또는 투과시킴으로써 분리하는 역할을 한다.

또한 TIR(Total Internal Reflection) 프리즘은 광원으로부터 입사된 빛을 프리즘의 전반사를 이용해 빛의 경로를 변경한 후 다른 장치로 보내고, 다른 장치에서 다시 반사되어 나오는 빛을 투과시켜 영상을 맺게 하는 광학 부품이다.

즉, 빔 스플리터나 TIR 프리즘으로 예시한 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 반사부(210)는, 입사된 빔을 반사하여 그 경로를 변경하며, 이후 다시 입사된 빔을 투과시킨다.

다만, 본 발명의 일 실시예에 따른 선택적 반사부(210)는 입사되는 빔의 입사각에 따라 다른 반사율 또는 투과율로 빔을 반사 또는 투과시킨다. 여기서 선택적 반사부(210)에 빔이 처음 입사될 때의 입사각은 제1 입사각, 다른 물체에 조사된 후 다시 선택적 반사부(210)로 빔이 입사될 때의 입사각은 제2 입사각으로 지칭하기로 한다.

도 2 및 도 3을 참조하면, 제1 입사각은 제2 입사각보다 크다. 즉 선택적 반사부(210)는 일정 각도 이상의 입사각(제1 입사각)으로 입사되는 빔은 주로 반사하고, 일정 각도 이하의 입사각으로 입사되는 빔은 주로 투과(제2 입사각)한다. 여기서 선택적 반사부(210)가 제1 입사각으로 입사된 빔을 반사할 때의 반사율 또는 제2 입사각으로 입사된 빔을 투과시킬 때의 투과율은 1일 수 있으나, 다른 다양한 실시예에 따를 경우 1 미만의 값일 수 있다.

빔의 입사각에 따라 빔을 반사할 것인지 투과시킬 것인지를 결정하는 기준이 되는 상기 일정 각도는 기준 입사각으로 지칭될 수 있다. 기준 입사각은 단일한 값을 가져야 하는 것은 아니다. 즉 일정 범위 내의 각도가 기준 입사각에 포함될 수 있다.

다시 말하면, 기준 입사각은 45도 내지 55도의 범위를 가질 수 있다. 이 경우기준 입사각의 최소값은 45도가 되고, 기준 입사각의 최대값은 55도가 된다. 따라서 제1 입사각은 55도 초과 90도 미만의 값을, 제2 입사각은 0도 이상 45도 미만의 값을 가질 수 있다. 이하 본 명세서에서 각도의 단위에 관한 특별한 언급이 없는 한, 각도의 단위로는 도(degree(˚))를 사용하도록 한다.

여기서, 선택적 반사부(210)가 기준 입사각의 제외한 나머지 각도로 입사되는 빔들에 대하여 0 또는 1의 반사율만을 가지는 경우를 가정한다. 이 경우, 제1 입사각으로 입사되는 빔에 대한 선택적 반사부(210)의 반사율은 1이 되고, 제2 입사각으로 입사되는 빔에 대한 선택적 반사부의 투과율은 1이 된다. 물론, 반사율 또는 투과율의 값이 0 또는 1로 제한되지 아니함은 전술한 바와 같다.즉, 이는 기준각을 중심으로 반사가 우세한 경우와 투과가 우세한 경우를 설명하기 위함이며, 자연계의 법칙을 위반하려는 가정은 아니다. 이는 도 4를 통하여 상세히 설명하도록 한다.

선택적 반사부(210)에 제1 입사각으로 입사하였다가 반사된 빔은 스캐닝 미러(220)에 조사된다. 스캐닝 미러(220)는 조사된 빔을 반사하여 다시 선택적 반사부(210)에 조사한다. 여기서 스캐닝 미러(220)는 소정의 구동각의 범위 내에서 회동할 수 있다.

미러 지지대(230)는 스캐닝 미러(220)를 지지하는 동시에 회동하게 한다. 스캐닝 장치에서 스캐닝 미러(220)의 지지 및 회동을 가능케 하는 미러 지지대(230)와 같은 부분은 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가지는 자에게 자명한 사항이므로, 이에 관한 상세한 설명은 생략한다.

미러 지지대(230)는 스캐닝 미러(220)를 회동하게 하는데, 이 때 스캐닝 미러의 총 구동각은 α(알파)라 한다. 여기서 스캐닝 미러(220)는 입사빔에 대하여 평행한 상태로부터 ± α/2의 각도로 회동한다.

도 2 및 도 3을 참조하여 스캐닝 미러(220)가 반시계 방향으로 α/2도 회동한 경우 +α/2도, 시계 방향으로 α/2도 회동한 경우 -α/2도 회동한 것으로 표시한다. 따라서 α(알파)는 스캐닝 미러(220)가 입사빔과 평행한 상태로부터 +α/2도 내지 - α/2도의 각도로 회동하는 구동각의 총합에 해당되는 값이다.

선택적 반사부(210)로부터 반사된 후 스캐닝 미러(220)에 입사되는 빔의 입사각을 이하에서는 θ로 표시한다.

제1 입사각(θi)은 선택적 반사부(210)에 처음 입사되는 빔의 입사각이므로 스캐닝 미러(220)의 회동 여부에 관계없이 일정한 값을 가진다. 제1 입사각의 다음 수학식에 따른 값을 가진다.

[수학식 1]

θi = 45+ θ/2

그러나 제2 입사각은 스캐닝 미러(220)의 구동각에 따라 다른 값을 가지게 된다.

스캐닝 미러(220)가 +α/2도 회동하는 경우, 제2 입사각은 다음과 같다.

[수학식 2]

δ = - 45 + α +3θ/2, if α+3 θ/2 ≥ 45

or δ = 45 - α -3θ/2, if α+3 θ/2 ≤ 45

또한 스캐닝 미러(220)가 -α/2도 회동하는 경우, 제2 입사각은 다음과 같다.

γ = 45 + α - 3θ/2

커버 글래스(240)는 내부에 선택적 반사부(210), 스캐닝 미러(220) 및 미러 지지대(230)를 포함한다. 선택적 반사부(210), 스캐닝 미러(220) 및 미러 지지대(230)는 커버 글래스(240)내에 장착되어, 커버 글래스(240)와 일체화될 수 있다. 커버 글래스(240)는 선택적 반사부(210), 스캐닝 미러(220) 및 미러 지지대(230)를 지지하고 보호하는 기능을 한다.

도 2 및 도 3에 도시된 실시예에 따르면 커버 글래스(240)는 입사되는 빔과 평행하게 놓여 있다.

또한 도 3에 도시된 실시예에 따르면 커버 글래스(240)는 스캐닝 미러(220)및 미러 지지대(230)만을 내부에 포함하며, 선택적 반사부(210)와는 분리되어 있을 수 있다.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 스캐닝 장치에 장착되는 선택적 반사부(210)의 투과율 또는 반사율 곡선을 나타낸 그래프이다.

본 발명의 실시예에 따른 선택적 반사부(210)는 빔을 입사각에 따라 선택적으로 반사 또는 투과시키는 장치이다. 이러한 물질 또는 미러의 코팅 기술은 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가지는 자에게 자명한 사항이므로, 상세한 설명은 생략하도록 한다.

그래프의 x축은 선택적 반사부(210)에 입사하는 빔의 입사각을 나타내며, 그래프의 y축은 선택적 반사부의 반사율을 나타낸다. 도 4에 도시된 그래프에 따르면, 입사각이 증가하여 일정 구간(ε)을 지남에 따라, 선택적 반사부(210)의 반사율은 급격히 증가한다.

일정 구간에 해당되는 입사각은 기준 입사각으로 지칭된다. 즉 기준 입사각은 전술한 바와 마찬가지로 어느 하나의 값을 가지는 것이 아닌 특정 범위 내의 입사각을 포함한다.

도 4에 도시된 그래프에 따르면 기준 입사각의 최소값은 γ 또는 δ보다 크고, 기준 입사각의 최대값은 θi보다 작다. 이 경우 제1 입사각은 0보다 크거나 같고 γ 또는 δ보다 작거나 같다. 또한 제2 입사각은 θi보다 크거나 같고 90도보다 작다.

도 4에서는 제1 입사각 구간에서의 선택적 반사부(210)의 반사율이 0(투과율은 1)이고 제2 입사각 구간에서의 반사율은 1(투과율은 0)인 것으로 도시되어 있 다. 그러나 선택적 반사부의 반사율은 0 또는 1의 값으로 제한되지 아니하며, 도 4에 도시된 그래프에 의한 값은 일 실시예를 나타낸 것에 불과하다.

제1 입사각 구간 및 제2 입사각 구간에서의 선택적 반사부(210)의 반사율은 각각 0 또는 1에 가까운 소수일 수 있다.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 스캐닝 미러(220)를 나타내는 도면이다.

스캐닝 미러(220)는 길이 h, 너비 b, 두께 t의 직육면체의 형상을 하고 있다. h, b, t의 단위는 mm이다. 도 5에 도시된 실시예에 따른 스캐닝 미러(220)는 그 재질이 베릴륨(Beryllium)이며, 밀도(ρ)는 1.848 g/cc(@ 300K)이다. 또한 스캐닝 미러(220)의 Youngs Elastic Modulus(E)는 287/Gpa이다.

앞서 설명한 바와 같이 스캐닝 미러(220)는 미러 지지대(230)에 의해 회동할 수 있게 된다. 이 때 스캐닝 미러(220)의 회전축(510)은 도 4에 도시된 바와 같이 수직 방향의 축(510)이다.

여기서 스캐닝 미러(220)가 회전축(510)을 중심으로 회동하게 되면, Moment of Inertia (I)의 값은 다음의 수학식에 따라 구해질 수 있다.

[수학식 3]

I = ρ h t b3 / 12

또한 토크(Torque (τ))는 다음의 수학식에 따라 도출될 수 있다.

[수학식 4]

Torque (τ) = I * α = ρh t b³α / 12

그리고 여기서 토크(τ)는 다음의 부등식을 만족한다.

[수학식 5]

τ< τ₀ (= 0.5 N.m)

도 4에서 α는 각 가속도(angular acceleration)이다.

본 실시예에서 스캐닝 미러(220)의 구동각은 다음과 같은 값일 수 있다.

α/2 = 8, α/2-(- α/2) = 16

또한 도 4에 도시된 그래프에서 ε는 10˚로 가정한다.

본 발명의 실시예에 따른 스캐닝 장치에 의하면, 스캐닝 미러의 미러폭이 작은 경우에도 입사빔을 스캐닝할 수 있다. 도 1에 도시된 종래 기술에 따른 스캐닝 미러(120)의 미러 폭은 bo, 본 발명의 실시예에 따른 스캐닝 미러의 미러 폭은 b로 표시하도록 한다. 미러 폭 감소율 b / bo 은 다음의 수학식에 의해 도출될 수 있다.

[수학식 6]

b / bo = {Cos(45 + α/2)} /{Cos(α + ε/2) }

b / bo 는 대략 0.65(65%)의 값을 갖는다. 즉, 종래 기술에 따른 스캐닝 미러에 비해 본 발명의 실시예에 따른 스캐닝 미러의 너비는 약 65%로 감소한다.

소모전력은 토크(구동 토크)에 비례하게 된다. 그리고 [수학식 4]에서 설명한 바와 같이, 토크는 너비 b의 3승에 비례한다.

Torque (τ) = I * α = (ρh t b³)/12

결과적으로 미러폭(b)이 65%로 감소하므로, 소모전력은 감소된 미러 폭의 3승에 비례하여 감소하게 된다.

(0.65)의 3승은 0.274625로서, 대략 0.3~0.2에 가까우므로, 스캐닝 미러(220)를 회동시킴에 따른 소모전력은 종래 기술에 따른 스캐닝 장치에 비해 따라서 25~30%정도 감소하게 된다.

표 1 내지 표 3은 본 발명의 일 실시예에 따라 제1 입사각, 제2 입사각, 기준 입사각, 선택적 반사부의 기울기 등에 구체적인 수치를 적용한 경우, 스캐닝 미러(220)의 미러 폭 감소율이나 소모 전력의 감소율을 나타낸 표이다.

[표 1]

[표 2]

[표 3]

제1 입사각 및 제2 입사각의 크기에 따라 기준 입사각의 크기를 파악하면, 기준 입사각은 40도 내지 60도의 범위 안에서 가변적인 값을 가진다.

기준 입사각은 표 1의 경우 대략 47도 내지 50도, 표 2의 경우 대략 46도 내지 52도, 그리고 표 3의 경우 대략 50도 내지 53도의 범위를 가진다. 그러나 이는 본 발명의 일 실시예에 불과하며, 다른 실시예에 따르면 기준 입사각의 범위와 그에 따른 제1 입사각, 제2 입사각은 다양한 값을 가질 수 있음은 자명하다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 상기한 본 발명의 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

도 1은 종래 기술에 따른 스캐닝 장치를 나타내는 도면.

도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 스캐닝 장치를 나타낸 도면.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 스캐닝 장치에 장착되는 선택적 반사부의 투과율 또는 반사율 곡선을 나타낸 그래프.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 스캐닝 미러를 나타내는 도면.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

210 : 선택적 반사부

220 : 스캐닝 미러

230 : 미러 지지대

240 : 커버 글래스

Claims

제1 입사각으로 입사된 빔은 반사시키고, 상기 제1 입사각보다 작은 제2 입사각으로 입사된 빔은 투과시키는 선택적 반사부;

상기 선택적 반사부에서 반사되어 입사된 빔을 반사하여 상기 선택적 반사부에 상기 제2 입사각으로 재입사하도록 회동하는 스캐닝 미러;

상기 스캐닝 미러가, 상기 입사된 빔을 반사하여 상기 선택적 반사부에 상기 제2입사각으로 재입사되도록 하는 구동각 내에서, 회동하도록 상기 스캐닝 미러를 지지하는 미러 지지대; 및

상기 선택적 반사부에 상기 제1 입사각으로 입사되는 빔과 평행하게 배치되며, 상기 스캐닝 미러 및 상기 미러 지지대를 내부에 포함하는 커버 글래스를 포함하는 스캐닝 장치.
제1항에 있어서,

상기 반사율 및 상기 투과율은 0.5보다 크고 1보다 작거나 같은 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치.
제1항에 있어서,

상기 제1 입사각은 미리 설정된 범위를 가지는 기준 입사각보다 큰 것을 특징으로 하고, 상기 제2 입사각은 상기 기준 입사각보다 작은 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치.
제3항에 있어서,

상기 기준 입사각은 최소값이 40도보다 크거나 같고, 최대값이 60도보다 작거나 같은 범위를 가지는 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치.
제1항에 있어서,

상기 선택적 반사부는 상기 커버 글래스의 내부에 장착되는 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치.
제1항에 있어서,

상기 스캐닝 미러는 상기 커버 글래스와 평행한 상태를 기준으로 +α/2도 내지 - α/2도의 상기 구동각으로 회동하는 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치.
제6항에 있어서,

상기 스캐닝 미러가 +α/2도 회동하는 경우 상기 제2 입사각은 [δ = -45+α+3θ/2 ]도인 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치-여기서, 상기 θ는 상기 스캐닝 미러와 상기 커버 글래스가 평행한 상태인 경우 상기 선택적 반사부로부터 반사된 빔이 상기 스캐닝 미러에 입사하는 각도임-.
제6항에 있어서,

상기 스캐닝 미러가 - α/2도 회동하는 경우 상기 제2 입사각은 [γ = 45+α- 3θ/2]도인 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치

-여기서, 상기 θ는 상기 스캐닝 미러와 상기 커버 글래스가 평행한 상태인 경우 상기 선택적 반사부로부터 반사된 빔이 상기 스캐닝 미러에 입사하는 각도임-.
제1항에 있어서,

상기 선택적 반사부는 빔 스플리터인 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치.
제1항에 있어서,

상기 선택적 반사부는 TIR 프리즘인 것을 특징으로 하는 스캐닝 장치.