KR100866175B1 - Glass substrate for information recording medium and information recording medium employing same - Google Patents

Glass substrate for information recording medium and information recording medium employing same Download PDF

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KR100866175B1 KR1020067008153A KR20067008153A KR100866175B1 KR 100866175 B1 KR100866175 B1 KR 100866175B1 KR 1020067008153 A KR1020067008153 A KR 1020067008153A KR 20067008153 A KR20067008153 A KR 20067008153A KR 100866175 B1 KR100866175 B1 KR 100866175B1
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Abstract

화학 강화된 정보 기록 매체용 유리에서, 화학 강화에 의한 강화층 (13)을, 외주면 및 내주면에 존재시키는 것과 동시에, 정보 기록층이 형성되는 상면 (11) 및 하면 (12)에 실질적으로 존재시키지 않게 한다. 이것에 의해 고정밀도의 기판 연마 기술을 필요로 하는 일 없이, 평탄도 등의 형상 정밀도 및 강도를 향상시킬 수 있다.In the glass for chemically strengthened information recording medium, the reinforcement layer 13 by chemical strengthening is present on the outer circumferential surface and the inner circumferential surface, and is not substantially present on the upper surface 11 and the lower surface 12 on which the information recording layer is formed. Do not Thereby, shape precision, such as flatness, and intensity | strength can be improved, without requiring a highly accurate substrate grinding | polishing technique.

연마, 파괴인성치 Polishing, fracture toughness

Description

정보 기록 매체용 유리 기판 및 이것을 이용한 정보 기록 매체{GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM AND INFORMATION RECORDING MEDIUM EMPLOYING SAME}Glass substrate for information recording medium and information recording medium using the same {GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM AND INFORMATION RECORDING MEDIUM EMPLOYING SAME}

본 발명은 정보 기록 매체용 유리 기판(이하, 간단히 "유리 기판"이라함), 및 더 상세하게는 자기 디스크, 광자기 디스크, DVD, 또는 MD와 같은 정보 기록용 매체의 기판으로서 이용하는 유리 기판에 관한 것이다.The present invention relates to a glass substrate for an information recording medium (hereinafter referred to simply as a "glass substrate"), and more particularly to a glass substrate used as a substrate for an information recording medium such as a magnetic disk, magneto-optical disk, DVD, or MD. It is about.

종래, 자기 디스크용 기판으로서는, 데스크탑 컴퓨터나 서버 등의 거치형에는 알루미늄 합금이, 한편 노트형 컴퓨터나 모바일 컴퓨터 등의 휴대형에는 유리 기판이 일반적으로 사용되고 있었지만, 알루미늄 합금은 변형하기 쉽고, 또 딱딱함이 불충분하기 때문에 연마 후에 기판 표면의 충분한 평활성을 제공하지 못한다. 게다가 헤드가 기계적으로 자기 디스크에 접촉할 때, 자성막이 기판으로부터 박리하기 쉽다고 하는 문제도 있었다. 이들 이유때문에, 변형이 적고, 평활성이 양호하고, 기계적 강도가 큰 유리 기판이, 휴대형 뿐만 아니라 거치형의 기기 및 그 외의 가정용 정보 기기에도 향후 넓게 사용될 것이 예측되고 있다.Conventionally, as a substrate for a magnetic disk, an aluminum alloy is generally used for a stationary type such as a desktop computer or a server, while a glass substrate is generally used for a portable type such as a notebook type computer or a mobile computer, but the aluminum alloy is easily deformed and its rigidity is insufficient. This does not provide sufficient smoothness of the substrate surface after polishing. In addition, when the head mechanically contacts the magnetic disk, there is a problem that the magnetic film is easily peeled from the substrate. For these reasons, there are few variations, It is anticipated that glass substrates with good smoothness and high mechanical strength will be widely used in portable as well as stationary devices and other home information devices in the future.

유리 기판으로서는, 기판 표면의 알칼리 원소를 다른 알칼리 원소로 치환하는 것으로써 압축 변형(strain)을 발생시켜, 기계적 강도를 향상시킨 화학 강화 유 리가 알려져 있다. 화학 강화 유리의 제조에서, 화학 강화 처리는 지금까지는 일반적으로 연마 처리 후에 행해지고, 화학 강화 처리된 유리 기판은 그대로 재가공되는 일 없이 제품으로서 출시되고 있었다. 화학 처리의 결과로써 유리 기판의 평탄도에 통상 불가피한 퇴화(degradation)를 허용하도록 결국 요구되는 것보다 더 높은 평탄도를 달성하는 연마 처리를 실시할 필요가 있었다. 더욱이, 화학 처리에 의해서 유리 기판에 변형이 생기면, 불량품으로서 그것들을 폐기처분하지 않을 수 없다. 이는 충분히 높은 산출률을 달성하는 것을 어렵게 만든다. 이러한 불편함을 극복하기 위해서, 예를 들면 특허 문헌 1에서는, 유리 기판을 화학 강화 처리한 후 연마 처리해 생산성 및 관련된 결과를 개선시키는 기술이 제안되고 있다. BACKGROUND ART As a glass substrate, chemically strengthened glass is known in which compressive strain is generated by substituting an alkali element on the surface of a substrate with another alkali element to improve mechanical strength. In the production of chemically strengthened glass, chemically strengthening treatment has generally been carried out after the polishing treatment, and the chemically strengthened glass substrate has been released as a product without being reworked as it is. As a result of the chemical treatment, it was necessary to perform a polishing treatment to achieve higher flatness than would eventually be required to allow for the inevitable degradation of the flatness of the glass substrate. Moreover, when deformation | transformation arises in a glass substrate by chemical processing, it is forced to discard them as a defective product. This makes it difficult to achieve a sufficiently high yield. In order to overcome this inconvenience, for example, Patent Document 1 proposes a technique for improving the productivity and related results by polishing the glass substrate after chemical strengthening treatment.

특허 문헌 1: 일본 공개 특허 공보 특허2000-76652호 공보(2000년 3월 14일 공개Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-76652 (published March 14, 2000)

발명의 개시Disclosure of the Invention

발명이 해결하려고 하는 과제Challenges the invention seeks to solve

상기 제안 기술에서는, 화학 강화 처리 후의 연마 처리에 의해 주표면의 강화층을 연마 제거하지만, 연마 처리 후 소정 두께의 강화층을 남기고 있다. 이 때문에, 연마 처리 후의 강화층이 불균일이라면, 평탄도 등의 형상 품질의 저하가 일어난다. 이것을 방지하려면 유리 기판의 상하면을 균질하게 연마 처리하지 않으면 안되어, 고정밀도의 연마 기술이 요구된다.In the proposed technique, the reinforcing layer on the main surface is removed by polishing after the chemical reinforcing treatment, but the reinforcing layer having a predetermined thickness is left after the polishing treatment. For this reason, if the reinforcement layer after a grinding | polishing process is nonuniform, deterioration of shape quality, such as flatness, will arise. To prevent this, the upper and lower surfaces of the glass substrate must be homogeneously polished, and a high precision polishing technique is required.

본 발명의 목적은 고정밀도의 연마 기술을 필요로 하는 일 없이 평탄도 등의 형상 정밀도가 뛰어나고, 높은 강도를 갖는 정보 기록 매체용 유리 기판을 제공하는 것에 있다. An object of the present invention is to provide a glass substrate for an information recording medium that is excellent in shape accuracy such as flatness and has high strength without requiring a high-precision polishing technique.

본 발명의 다른 목적은, 기계적 강도 및 내구성이 뛰어남과 동시에, 고밀도 기록이 가능한 정보 기록 매체용 유리 기판을 제공하는 것에 있다.Another object of the present invention is to provide a glass substrate for an information recording medium which is excellent in mechanical strength and durability and capable of high density recording.

과제를 해결하기 위한 수단Means to solve the problem

본 발명에 의하면, 화학 강화된 정보 기록 매체용 유리 기판으로, 화학 강화에 의해 형성된 강화층이 외주면 및 내주면에 존재하지만, 정보 기록층이 형성되어 있는 면(이하, "기록면"이라함)에는 실질적으로 존재하지 않는 것을 특징으로 하는 정보 기록 매체용 유리 기판이 제공된다. 덧붙여 본 명세서에서, 화학 강화는 유리 기판의 유리 전이점 이하의 온도 영역에 있어, 유리 표면 근방의 이온을 더 큰 이온 반경을 가지는 이온으로 치환함으로서 유리 기판 표면에 압축 응력을 발생시키는 것을 말한다.According to the present invention, a glass substrate for a chemically strengthened information recording medium, wherein a reinforcing layer formed by chemical strengthening exists on the outer circumferential surface and the inner circumferential surface, but substantially on the surface on which the information recording layer is formed (hereinafter referred to as "recording surface"). There is provided a glass substrate for an information recording medium which does not exist. In addition, in this specification, chemical strengthening means generating compressive stress on the glass substrate surface by substituting the ion near the glass surface with the ion which has a larger ion radius in the temperature range below the glass transition point of a glass substrate.

여기서, 화학 강화 처리에 의해 적당한 두께의 강화층을 안정되게 형성시키는 관점, 및 기계적 강도나 화학적 내구성 등을 한층 향상시키는 관점으로부터, 본 발명에 따른 유리 기판은 그것의 기록면에 하기 유리 성분을 함유하는 것이 바람직하다: 중량 %로, SiO2:40-75%, Al203:3-20%, B203:0-8%(단, 0을 포함한다), R20 (R=Li, Na, K)의 총량:5-15%, SiO2+Al203+B203:60-90%, R'0(R'=Mg, Ca, Sr, Ba, Zn)의 총량:0-20% (단, 0을 포함한다), TiO2+ZrO2+Lnx0y:0-15%(단, 0을 포함한다, 또 LnxOy는 란타노이드 금속 산화물 및 Y2O3, Nb205, 및 Ta2O5으로 이루어지는 군으로부터 선택된 1 이상의 화합물을 의미한다)로 하여,Here, from the viewpoint of stably forming a reinforcement layer of a suitable thickness by chemical strengthening treatment, and from the viewpoint of further improving mechanical strength, chemical durability, and the like, the glass substrate according to the present invention contains the following glass component on its recording surface. Preference is given to:% by weight SiO 2 : 40-75%, Al 2 0 3 : 3-20%, B 2 0 3 : 0-8% (including 0), R 2 0 (R = Total amount of Li, Na, K): 5-15%, SiO 2 + Al 2 0 3 + B 2 0 3 : 60-90%, of R'0 (R '= Mg, Ca, Sr, Ba, Zn) Total amount: 0-20% (including 0), TiO 2 + ZrO 2 + Ln x 0 y : 0-15% (including 0, and Ln x O y is a lanthanoid metal oxide and Y Means at least one compound selected from the group consisting of 2 O 3 , Nb 2 0 5 , and Ta 2 O 5 ),

1.5<Al203/B203 또는 B203=0%를 만족하도록 하는 것이 바람직하다. 여기서, "%"는 달리 명시되지 않는 한 "중량 %"를 의미한다.It is preferable to satisfy 1.5 <Al 2 0 3 / B 2 0 3 or B 2 0 3 = 0%. Here, "%" means "% by weight" unless otherwise specified.

여기서, 알칼리용출량을 낮추기 위해, K2O 함유량의 하한은 중량%로 0.5%인 것이 바람직하다. 더욱이, 유리의 더 안정한 구조와 그것의 향상된 강성을 위해서, TiO2+ZrO2+LnxOy의 총량은 중량%로 0.5%-13%의 범위에 있는 것이 바람직하다.
또 비탄성률(E/ρ)을 30 이상, Vickers 경도 Hv를 450-650, 알칼리용출량 A를 2.5인치 디스크 당 350ppb 이하, Si 용출량 S를 2.5인치 디스크 당 500ppb 이하, 파괴인성치 Kc를 O.80MPa/m1/2 이상 갖는 것이 바람직하다.
Here, in order to reduce the alkali elution amount, the lower limit of K 2 O content is preferably 0.5% by weight%. Moreover, for a more stable structure of the glass and its improved rigidity, the total amount of TiO 2 + ZrO 2 + Ln x O y is preferably in the range of 0.5% -13% by weight.
Inelastic modulus (E / ρ) is 30 or more, Vickers hardness Hv is 450-650, alkali elution A is 350ppb or less per 2.5 inch disc, Si elution S is 500ppb or less per 2.5 inch disc, fracture toughness Kc is O.80MPa It is preferable to have more than / m 1/2 .

덧붙여 파괴인성치 Kc는, Vickers 경도 시험기를 이용해, 하중 500g, 부하 시간 15초의 조건하에서 Vickers 압자로 만들어진 압흔을 기초로 하기식으로부터 산출했다(도 3을 참조).In addition, fracture toughness value Kc was computed from the following formula using the Vickers hardness tester based on the indentation made with Vickers indenter on condition of 500g of load and 15 second of load time (refer FIG. 3).

Kc=0.018(E/Hv)1/2(P/C3 /2)=0.026 E1 /2P1 /2a/C3 /2 Kc = 0.018 (E / Hv) 1/2 (P / C 3/2) = 0.026 E 1/2 P 1/2 a / C 3/2

(식중, Kc: 파괴인성치(Pa·m1/2), E: 탄성률(Pa), Hv:Vickers 경도(Pa), P: 프레싱 하중(N), C: 크랙 길이의 평균의 반(m), a: 압흔의 대각선 길이의 평균의 반(m). Si 용출량 S 및 알칼리 용출량 A는, 강화 처리된 유리 기판의 기록면을 연마 처리해 제작한 2.5인치 디스크 기판을, 80℃의 역침투막수 50ml에서 24시간 동안 침지한 후, ICP 발광 분광 분석 장치로 그 용출액을 분석해 산출한다. 따라서 알칼리 용출량은 Li, Na, K 용출량의 총량이다. 비탄성률(E/ρ)은 비중ρ로 나누어진 영률 E와 같다. 영률 E는 JIS(Japanese industrial Standards) R 1602 파인 세라믹스(fine ceramics)의 탄성 시험 방법의 동적 탄성률 시험 방법에 준해 측정하고, 비중ρ은 아르키메데스법에 의해 25℃의 증류수중에서 측정되었다. Vickers 경도 Hv는, Vickers 경도 시험기를 이용하여 하중 100g, 부하 시간 15초의 조건하에서 측정한다.(Kc: fracture toughness (Pam 1/2 ), E: modulus of elasticity (Pa), Hv: Vickers hardness (Pa), P: pressing load (N), C: half of the mean of crack length (m ), a: Half (m) of the average of the diagonal lengths of the indentation.Si elution amount S and alkali elution amount A are 50 ml of reverse osmosis membrane water at 80 ° C. for a 2.5 inch disk substrate prepared by polishing a recording surface of a glass substrate subjected to reinforcement. After immersion for 24 hours at, the eluate is analyzed by ICP emission spectrometry and the alkali elution is the total amount of Li, Na and K. The inelasticity (E / ρ) is the Young's modulus E divided by the specific gravity p. The Young's modulus E was measured according to the dynamic modulus test method of the elastic test method of the Japanese industrial Standards (JIS) R 1602 fine ceramics, and the specific gravity p was measured in distilled water at 25 ° C. by the Archimedes method. The hardness Hv was measured using a Vickers hardness tester under a load of 100 g and a load time of 15 seconds. Measure

그리고 본 발명에 의하면, 상기 유리 기판에 정보 기록층을 형성한 것을 특징으로 하는 정보 기록 매체가 제공된다.And according to this invention, the information recording medium provided with the information recording layer in the said glass substrate is provided.

발명의 효과Effects of the Invention

본 발명의 정보 기록 매체용 유리 기판은, 외주면 및 내주면에 강화층을 존재시키고 있으므로 외·내주면을 기점으로 한 파괴나 손상이 발생하기 어렵고, 실효적인 강도의 향상을 꾀할 수 있다. 그리고 내충격성이 뛰어나고, 따라서 제조 공정 등에서 취급되는 동안 유리 기판이 파손되는 것이 큰폭으로 저감되어 만일 파손됐을 경우에도 크게 비산해 공정을 오염시키는 것이 적다. 그리고 정보 기록층이 형성되는 면에는 강화층이 실질적으로 존재하지 않기 때문에, 표면의 평탄도 및 평활도가 높다. 이것에 의해, 정보 기록 매체로 형성될 때에 고밀도 기록이 가능해진다.Since the glass substrate for an information recording medium of the present invention has a reinforcing layer on the outer circumferential surface and the inner circumferential surface, breakage or damage starting from the outer and inner circumferential surfaces hardly occurs, and the effective strength can be improved. In addition, the impact resistance is excellent, and thus, the glass substrate is greatly damaged during handling in the manufacturing process and the like, and even if broken, it is less likely to scatter greatly and contaminate the process. Since the reinforcing layer is substantially absent on the surface where the information recording layer is formed, the surface flatness and smoothness are high. This enables high density recording when formed into an information recording medium.

그리고 본 발명의 정보 기록 매체에서는, 유리 기판에 정보 기록층을 형성했으므로, 제조 공정상의 파손을 저하시킬 수가 있고 제품의 생성율(yield rate)을 향상시킬 수가 있다. 또, 내구성의 향상이 그림, 기록 매체의 신뢰성을 높게 할 수 있다.And in the information recording medium of this invention, since the information recording layer was formed in the glass substrate, the damage in a manufacturing process can be reduced and the yield rate of a product can be improved. In addition, improved durability can increase the reliability of the picture and the recording medium.

발명을 실시하기Implement the invention 위한 최선의 형태 Best form for

본 발명자는, 유리 기판의 파괴나 파손이 내·외 단면을 기점으로서 발생하는 것이 많은 것에 착안해 열심히 검토를 거듭한 결과, 기록면인 유리 기판의 상하면이 아니라, 유리 기판의 내주면 및 외주면에 화학 강화에 의한 강화층을 형성함으로써, 유리 기판의 파괴나 손상을 효과적으로 방지하고 화학 강화에 의해 생기기 쉬운 유리 기판의 평탄도와 같은 형상 정밀도의 저하를 최소화할 수 있다는 것을 발견했다. 이러한 발견이 본 발명을 착상하도록 본 발명자를 이끌었다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventor paid much attention to the fact that the breakage | damage and the breakage of a glass substrate generate | occur | produce a starting point from an internal and an external cross-section, and since earnestly examined, the chemical reinforcement was carried out not on the upper and lower surfaces of the glass substrate which is a recording surface, but on the inner and outer peripheral surfaces of a glass substrate. By forming the reinforcement layer by using the present invention, it has been found that it is possible to effectively prevent breakage or damage of the glass substrate and to minimize degradation in shape accuracy such as flatness of the glass substrate which is likely to occur due to chemical strengthening. This finding led the inventor to conceive the present invention.

구체적으로, 파괴나 파손의 기점이 되는, 유리 기판의 내주면 및 외주면에 강화층을 형성시킨다. 이것이 유리 기판의 강도를 증가시키도록 돕는다. 기록면에 강화층을 존재시키지 않는 것이 강화층의 응력에 기인하는 유리 기판의 형상 변화를 억제했던 것이다.Specifically, a reinforcing layer is formed on the inner circumferential surface and the outer circumferential surface of the glass substrate, which are the starting points of breakage and damage. This helps to increase the strength of the glass substrate. The absence of the reinforcing layer on the recording surface suppresses the shape change of the glass substrate due to the stress of the reinforcing layer.

본 발명에서, 화학 강화는, 유리 전이점 이하로 가열한 질산염 용액에 유리 기판을 침지함으로써 달성된다. 이것은 유리 표면 근방의 이온이 더 큰 이온 반경을 가지는 이온으로 치환되도록 하고, 유리 기판 표면에 압축 응력을 발생시켜 강화를 달성한다. 화학 강화 용액으로서는, 질산칼륨, 질산나트륨, 탄산칼륨 등의 용융염이나, 하나 이상의 이러한 염들의 혼합물의 용융염, 혹은, Cu, Ag, Rb, Cs 등의 이온을 함유한 염으로 혼합된 하나 이상의 이러한 염들의 용융염이 있다. In this invention, chemical strengthening is achieved by immersing a glass substrate in the nitrate solution heated below glass transition point. This causes ions near the glass surface to be replaced with ions having a larger ionic radius, and generates compressive stress on the glass substrate surface to achieve strengthening. As the chemical strengthening solution, one or more mixed with a molten salt such as potassium nitrate, sodium nitrate, potassium carbonate, a molten salt of a mixture of one or more such salts, or a salt containing ions such as Cu, Ag, Rb, Cs, etc. There are molten salts of these salts.

화학 처리에 의한 강화층의 두께는, 후술하는 실시예로부터 이해되듯이(표 2 를 참조), 화학 강화 용액의 가열 온도와 유리 기판의 침지 시간에 의해 조정된다. 용액 온도가 높을수록, 그리고 침지 시간이 길수록 강화층은 두꺼워진다. 유리 기판의 강도를 최대화하는 것과 연마 처리 시간을 단축하는 것 사이의 균형을 위해, 강화층의 두께는 3-20μm의 범위가 바람직하다. 화학 강화 용액의 가열 온도는 유리 기판의 유리 전이점을 고려해 적절히 결정되며, 통상은 280-660℃의 범위가 바람직하고, 더 바람직하게는 320-500℃의 범위이다. 그리고 침지 시간은 O.1시간~수십 시간의 범위가 바람직하다.The thickness of the reinforcing layer by the chemical treatment is adjusted by the heating temperature of the chemical reinforcing solution and the immersion time of the glass substrate, as understood from the examples described later (see Table 2). The higher the solution temperature and the longer the immersion time, the thicker the reinforcement layer is. For the balance between maximizing the strength of the glass substrate and shortening the polishing treatment time, the thickness of the reinforcing layer is preferably in the range of 3-20 μm. The heating temperature of the chemical strengthening solution is appropriately determined in consideration of the glass transition point of the glass substrate, usually in the range of 280-660 ° C, more preferably in the range of 320-500 ° C. The immersion time is preferably in the range of 0.1 hour to several ten hours.

기록면인, 유리 기판의 상하면이 아니라 유리 기판의 내주면 및 외주면에 화학 강화에 의한 강화층을 존재시키기 위해, 유리 기판을 화학 강화 용액에 침지한 후, 상하면을 연마 처리해 강화층을 제거하는 방법, 혹은 유리 기판의 상하면을 마스킹 부재(substance)로 코팅해, 유리 기판의 내주면과 외주면만을 노출시킨 상태로 화학 강화 용액에 침지시키는 방법이 생각되지만, 생산성 등을 고려하면 연마 처리에 의한 제거가 추천된다. 이하, 연마 처리에 의한 상하면의 강화층의 제거 방법에 대해 설명한다.A method of removing the reinforcing layer by polishing the upper and lower surfaces after immersing the glass substrate in a chemical reinforcing solution so that the reinforcing layer by chemical reinforcement exists on the inner and outer circumferential surfaces of the glass substrate, not on the upper and lower surfaces of the glass substrate, which is the recording surface. Although a method of coating the upper and lower surfaces of the glass substrate with a masking member and immersing it in a chemically strengthening solution while exposing only the inner and outer peripheral surfaces of the glass substrate is conceivable, removal by polishing is recommended in consideration of productivity. Hereinafter, the removal method of the upper and lower reinforcement layers by a polishing process is demonstrated.

도 1은, 유리 기판의 제조 공정도를 나타낸다. 유리 블록을 소정의 두께를 갖는 디스크로 슬라이싱하고, 동심의 내주, 외주를 갖도록 커터를 이용해 유리 기판 (1)을 잘랐다(도 1(a)). 여기서 유리 기판 (1)의 내·외주단을 모따기(chamfer) 또는 둥근 처리를 해두는 것이 바람직하다. 도 1의 유리 기판 (1)에서는 모따기가 가해진다. 이 유리 기판 (1)의 상면 및 하면 (11) 및 (12)에 최종적으로 정보 기록층 (2)(도 2에 도시)가 형성된다. 그리고 이 유리 기판 (1)을 소정 온도로 가열한 질산염 용액에 소정 시간 침지해, 유리 기판 (1)의 표면 이하에 강화층 (13)을 형성시킨다(도 1(b)). 그리고, 유리 기판 (1)의 상면 (11)과 하면 (12)를 강화층 (13)의 두께보다 깊게 연마해, 유리 기판 (1)의 상 및 하면 (11) 및 (12)에 형성된 강화층 (13)을 연마 삭제한다(도 1(c)). 여기서 연마량은 강화층의 두께의 2-10배 정도가 바람직하다. 연마 방법으로서는 특히 한정은 없고 종래 공지의 방법을 이용할 수가 있는데, 예를 들면 브러쉬 연마나 연마 부재에 의한 연마 등을 들 수 있다. 연마 부재로서는 예를 들면, 산화 세륨이나 알루미나, 산화 크롬, 산화 지르코늄, 산화 티탄 등을 들 수 있다.1 shows a manufacturing process diagram of a glass substrate. The glass block was sliced into a disk having a predetermined thickness, and the glass substrate 1 was cut using a cutter so as to have a concentric inner and outer circumference (Fig. 1 (a)). It is preferable to chamfer or round the inner and outer peripheral ends of the glass substrate 1 here. In the glass substrate 1 of FIG. 1, a chamfer is added. The information recording layer 2 (shown in FIG. 2) is finally formed on the upper and lower surfaces 11 and 12 of the glass substrate 1. And the glass substrate 1 is immersed in the nitrate solution heated to predetermined temperature for predetermined time, and the reinforcement layer 13 is formed below the surface of the glass substrate 1 (FIG. 1 (b)). And the upper surface 11 and the lower surface 12 of the glass substrate 1 are polished deeper than the thickness of the reinforcement layer 13, and the reinforcement layer formed in the upper and lower surfaces 11 and 12 of the glass substrate 1 is carried out. (13) is polished and erased (Fig. 1 (c)). The polishing amount is preferably about 2-10 times the thickness of the reinforcing layer. There is no restriction | limiting in particular as a grinding | polishing method, A conventionally well-known method can be used, For example, brush grinding | polishing, grinding | polishing by an abrasive member, etc. are mentioned. Examples of the abrasive member include cerium oxide, alumina, chromium oxide, zirconium oxide, titanium oxide and the like.

본 발명의 유리 기판의 성분으로서는 특히 한정은 없다. 적당한 두께의 강화층의 안정적인 형성을 위해, 그리고 훨씬 더 높은 기계적 강도 및 화학적 내구성을 위해, 본 발명에 따른 유리 기판은 그 기록면에 하기 유리 성분을 중량 %로 함유하는 것이 바람직하다: SiO2:40-75%, Al203:3-20%, B203:0-8%(단, 0을 포함한다), R2O 화합물(R=Li, Na, K)의 총량:5-15%, SiO2+Al2O3+B203:60-90%, R'O 화합물(R'= Mg, Ca, Sr, Ba, Zn)의 총량:0-20%(단, 0을 포함한다), TiO2+ZrO2+Lnx0y:0-15%(LnxOy는 란타노이드 금속 산화물 및 Y2O3, Nb205, Ta205로 이루어지는 군으로부터 선택된 1 이상의 화합물을 나타낸다)로,There is no limitation in particular as a component of the glass substrate of this invention. For the stable formation of a reinforcement layer of suitable thickness, and for much higher mechanical strength and chemical durability, the glass substrate according to the invention preferably contains the following glass component by weight in the recording surface: SiO 2 : 40 -75%, Al 2 0 3 : 3-20%, B 2 0 3 : 0-8% (including 0), total amount of R 2 O compounds (R = Li, Na, K): 5- 15%, SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 0 3 : 60-90%, total amount of R'O compounds (R '= Mg, Ca, Sr, Ba, Zn): 0-20% (where 0 TiO 2 + ZrO 2 + Ln x 0 y : 0-15% (Ln x O y is selected from the group consisting of lanthanoid metal oxide and Y 2 O 3 , Nb 2 0 5 , Ta 2 0 5 1 or more compounds),

1.5<Al203/B203, 또는 B203=0%를 만족한다. 이러한 유리 성분에 대해 그 한정한 이유에 대해 설명한다.1.5 <Al 2 0 3 / B 2 0 3 , or B 2 0 3 = 0%. The limited reason for such a glass component is demonstrated.

우선 SiO2는 유리의 매트릭스를 형성하는 성분이다. 그 함유량이 40% 미만에서는, 유리의 구조가 불안정하게 되어 화학적 내구성이 저하됨과 동시에, 용융시 점성 특성이 나빠져 성형성에 지장을 초래한다. 한편 함유량이 75%를 넘으면, 용융성이 나빠져 생산성이 저하됨과 동시에, 충분한 강성을 얻을 수 없게 된다. 따라서 함유량은 40-75%의 범위가 바람직하다. 더 바람직한 범위는 50-72%의 범위이다.First, SiO 2 is a component that forms a matrix of glass. If the content is less than 40%, the structure of the glass becomes unstable, the chemical durability is lowered, and at the same time, the viscosity property at the time of melting worsens, which impairs the formability. On the other hand, when content exceeds 75%, meltability will worsen, productivity will fall, and sufficient rigidity will not be obtained. Therefore, the content is preferably in the range of 40-75%. More preferred range is 50-72%.

Al2O3는 유리의 매트릭스로 들어와, 유리 구조를 안정화시키고 화학적 내구성을 향상시키는 작용을 한다. 함유량이 3% 미만으로는 충분한 안정화 효과를 얻지 못하고, 또 강화 처리에서 이온 교환이 안정되게 진행하지 않게 된다. 한편 20%를 넘으면 용융성이 나빠져, 생산성에 지장을 초래한다. 따라서 함유량은 3-20%의 범위가 바람직하다. 더 바람직한 범위는 5-18%의 범위이다.Al 2 O 3 enters the matrix of glass and acts to stabilize the glass structure and improve chemical durability. If the content is less than 3%, a sufficient stabilization effect is not obtained, and ion exchange does not proceed stably in the strengthening treatment. On the other hand, when it exceeds 20%, meltability will worsen, and productivity will be impaired. Therefore, the content is preferably in the range of 3-20%. More preferred range is 5-18% of range.

B2O3는 용융성을 개선해 생산성을 향상시킴과 동시에, 유리 매트릭스로 들어와 유리 구조를 안정화시키고 화학적 내구성을 향상시키는 작용을 한다. 함유량이 8%를 넘으면, 용융시 점성 특성이 나빠져, 성형성에 지장을 초래함과 동시에, 유리 용액의 휘발성이 높아져 생산성 및 안정성이 현저하게 저하한다. 따라서 함유량은 8% 이하(0을 포함한다)의 범위가 바람직하다. 더 바람직한 함유량의 상한은 6%이다.B 2 O 3 improves meltability and improves productivity while simultaneously entering the glass matrix to stabilize the glass structure and improve chemical durability. When the content is more than 8%, the viscosity property at the time of melting becomes poor, causing moldability, and at the same time increasing the volatility of the glass solution, resulting in a significant decrease in productivity and stability. Therefore, the content is preferably 8% or less (including 0). The upper limit of more preferable content is 6%.

유리의 골격 성분인, 이것들 3개의 유리 성분(SiO2, Al2O3, B203)의 총량이 60%보다 적으면, 유리는 취약한 구조를 갖는다. 한편, 그것들의 총량이 90%를 넘으면, 용융성이 저하되어 생산성이 떨어진다. 따라서, 그러한 유리 성분들의 총량은 60-90%의 범위가 바람직하다. 더 바람직한 범위는 68-88%의 범위이다.If the total amount of these three glass components (SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 ), which are skeletal components of the glass, is less than 60%, the glass has a fragile structure. On the other hand, when those total amounts exceed 90%, meltability will fall and productivity will fall. Therefore, the total amount of such glass components is preferably in the range of 60-90%. More preferred range is 68-88%.

알칼리 금속 산화물 R2O(R=Li, Na, K)는, 용융성을 개선해, 생산성을 향상시킨다. 알칼리 금속 산화물의 총량이 5% 미만을 가지면, 용융 개선성에 충분한 효과를 발휘할 수 없게 됨과 동시에, 이온 교환 처리에 의해 유리 기판은 충분히 강화될 수 없게 된다. 한편 총량이 15%를 넘으면, 유리 골격 사이에 분산되는 알칼리량이 과잉이 되어 알칼리용출량이 증대해, 화학적 내구성이 현저하게 저하한다. 또 강화 처리에 대해 과도하게 이온 교환 반응이 진행해, 강화층의 두께 제어가 곤란해진다. 따라서, 알칼리 금속 산화물의 총량은 5-15%의 범위가 바람직하다. 더 바람직한 범위는 7-16%의 범위이다. 또, 알칼리용출량을 저감하는, 이른바 알칼리 혼합 효과를 얻기 위해서는, 각 알칼리 금속 산화물의 하한 함유량을 0.5%로 하는 것이 바람직하다. Alkali metal oxide R 2 O (R = Li, Na, K) improves meltability and improves productivity. If the total amount of the alkali metal oxide is less than 5%, the glass substrate can not be sufficiently strengthened by the ion exchange treatment while at the same time not exhibiting sufficient effects on the melt improving properties. On the other hand, when the total amount exceeds 15%, the amount of alkali dispersed between the glass skeletons becomes excessive, the amount of alkali elution increases, and the chemical durability significantly decreases. In addition, the ion exchange reaction proceeds excessively with respect to the reinforcement treatment, making it difficult to control the thickness of the reinforcement layer. Therefore, the total amount of alkali metal oxide is preferably in the range of 5-15%. More preferred range is 7-16% of range. Moreover, in order to acquire the so-called alkali mixing effect which reduces alkali elution amount, it is preferable to make the minimum content of each alkali metal oxide into 0.5%.

2가의 금속 산화물 R'O(R'=Mg, Ca, Sr, Ba, Zn)는, 강성을 향상시킴과 동시에 용융성을 개선해, 유리 구조를 안정화시킨다. R'O의 총량이 20%를 넘으면, 유리 구조가 불안정하게 되어 용해 생산성이 저하함과 동시에 화학적 내구성이 저하한다. 따라서, R'O의 함유량은 20% 이하가 바람직하다. R'O의 총량의 더 바람직한 상한치는 18%이다. R'O의 각 성분의 적합함유량은 하기와 같다.The divalent metal oxide R'O (R '= Mg, Ca, Sr, Ba, Zn) not only improves rigidity but also improves meltability and stabilizes the glass structure. When the total amount of R'O exceeds 20%, the glass structure becomes unstable, so that the melt productivity decreases and the chemical durability decreases. Therefore, the content of R'O is preferably 20% or less. The more preferable upper limit of the total amount of R'O is 18%. The suitable content of each component of R'O is as follows.

MgO는 강성을 향상시킴과 동시에 용융성을 개선시킨다. 함유량이 20%를 넘으면 유리 구조가 불안정하게 되어, 용융 생산성이 저하함과 동시에 화학적 내구성이 저하된다. 따라서, 함유량은 0-19%의 범위가 바람직하다. 더 바람직한 상한치는 18%이다.MgO improves stiffness while improving stiffness. When the content is more than 20%, the glass structure becomes unstable, the melt productivity is lowered and the chemical durability is lowered. Therefore, the content is preferably in the range of 0-19%. More preferred upper limit is 18%.

또 CaO는 선열팽창 계수 및 강성을 향상시킴과 동시에 용융성을 개선시킨다.함유량이 10%를 넘으면, 유리 구조가 불안정하게 되어 용융 생산성이 저하함과 동시에 화학적 내구성이 저하된다. 따라서, 함유량은 0-10%의 범위가 바람직하다. 더 바람직한 상한치는 9%이다.In addition, CaO improves the coefficient of thermal expansion and stiffness and improves meltability. When the content exceeds 10%, the glass structure becomes unstable, resulting in low melt productivity and low chemical durability. Therefore, the content is preferably in the range of 0-10%. More preferred upper limit is 9%.

SrO는 선열팽창 계수를 향상시켜 유리 구조를 안정화시킴과 동시에, 용융성을 개선시킨다. 함유량이 8%를 넘으면 유리 구조가 불안정하게 될 수 있다. 따라서, 함유량은 0-8%의 범위가 바람직하다. 더 바람직한 상한치는 6%이다.SrO improves the coefficient of thermal expansion to stabilize the glass structure and at the same time improve the meltability. If the content exceeds 8%, the glass structure may become unstable. Therefore, the content is preferably in the range of 0-8%. More preferred upper limit is 6%.

BaO는 SrO와 같은 효과를 발휘한다. 그 함유량이 8%를 넘으면 유리 구조가 불안정이 될 수 있다. 따라서, 함유량은 0-8%의 범위가 바람직하다. 더 바람직한 상한치는 6%이다.BaO exerts the same effect as SrO. If the content exceeds 8%, the glass structure may become unstable. Therefore, the content is preferably in the range of 0-8%. More preferred upper limit is 6%.

ZnO는 화학적 내구성 및 강성을 향상시키고, 용융성을 개선시킨다. 함유량이 6%를 넘으면, 유리 구조가 불안정하게 되어 용융 생산성이 저하함과 동시에 화학적 내구성이 저하된다. 따라서 함유량은 0-6%의 범위가 바람직하다. 더 바람직한 상한치는 5%이다.ZnO improves chemical durability and stiffness and improves meltability. When the content exceeds 6%, the glass structure becomes unstable, the melt productivity decreases and the chemical durability decreases. Therefore, the content is preferably in the range of 0-6%. More preferred upper limit is 5%.

TiO2는 유리의 구조를 강고하게 해, 강성을 향상시킴과 동시에 용융성을 개선시킨다. 또 ZrO2도 유리의 구조를 강고하게 해 강성을 향상시킴과 동시에 화학적 내구성을 향상시킨다. 그리고 LnxOy는 유리의 구조를 견고하게 해 강성 및 인성을 향상시킨다. 여기서, LnxOy는 란타노이드 금속 산화물 및 Y2O3, Nb205, Ta205로 이루어지는 군으로부터 선택된 1 이상의 화합물을 의미한다. 란타노이드 금속 산화물로서는, 조성물 Ln2O3, LnO 등의 다른 종류를 포함하고, Ln로서는 La, Ce, Er, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Tm, Yb, Lu 등을 들 수 있다. 여기서 TiO2 + ZrO2 + Lnx0y가 15%를 넘으면 유리가 불안정하게 되어, 인성이 큰폭으로 저하함과 동시에 실투(devitrification)경향이 높아져 생산성이 현저하게 저하한다. 따라서, 이러한 총량은 15% 이하가 바람직하다. 더 바람직한 총량은 O.5-13%의 범위이다.TiO 2 strengthens the structure of the glass, improves rigidity and improves meltability. In addition, ZrO 2 also strengthens the glass structure to improve rigidity and chemical durability. And Ln x O y strengthens the structure of the glass and improves the rigidity and toughness. Here, Ln x O y means at least one compound selected from the group consisting of lanthanoid metal oxide and Y 2 O 3 , Nb 2 0 5 , Ta 2 0 5 . Examples of the lanthanoid metal oxide include other kinds of compositions Ln 2 O 3 , LnO, and the like, and as Ln, La, Ce, Er, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Tm, Yb , Lu, and the like. If TiO 2 + ZrO 2 + Ln x 0 y exceeds 15%, the glass becomes unstable, the toughness is greatly reduced, and the devitrification tendency is increased, which leads to a significant decrease in productivity. Therefore, such total amount is preferably 15% or less. More preferred total amount is in the range of 0.5-13%.

또 본 발명의 유리 조성물에서는 B2O3의 함유량이 0이 아닌 경우, Al203/B203을 1.5보다 크게 할 필요가 있다. Al203/B203이 1.5 이하이면, 유리의 구조가 취약하게 되어, 충분한 인성을 얻을 수 없게 된다. 더욱이, 강화 처리에서, 이온 교환이 안정되게 진행되지 않는다.In addition, in case the glass composition of the present invention, the content of B 2 O 3 is not 0, it is necessary to increase the Al 2 0 3 / B 2 0 3 than 1.5. When Al 2 O 3 / B 2 O 3 is 1.5 or less, the structure of the glass becomes brittle, and sufficient toughness cannot be obtained. Moreover, in the strengthening treatment, ion exchange does not proceed stably.

본 발명의 유리 성분으로서 Sb203와 같은 청징제(clarifier)를 2% 이하의 범위에서 첨가해도 괜찮다. 그 외 필요에 의해 종래 공지의 유리 성분 및 첨가제를 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서 첨가해도 상관없다.A refining agent (clarifier), such as Sb 2 0 3 as the glass component of the invention may be added in a fine range of 2% or less. As needed, you may add a conventionally well-known glass component and an additive in the range which does not impair the effect of this invention.

상기 유리 성분으로부터 유리 기판을 제조하는 방법으로 특히 한정은 없고, 지금까지, 공지의 제조 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, 각 성분의 원료로서 각각에 상당하는 산화물, 탄산염, 질산염, 수산화물등을 사용해, 원하는 비율로 칭량하여, 분말로 충분히 혼합해 원료의 조합을 얻는다. 이것을 예를 들면 1300-1550℃로 가열된 전기로 중의 백금 도가니에 투입해, 용해시키고 청징한 후, 교반하고 균질화한 후 용융된 유리를 미리 가열된 주형에 부어, 서서히 냉각하여 유리 블록을 성형한다. 다음에, 유리 전이점 부근까지 재가열하고, 그 후 서서히 냉각하여 곧바르게 된다. 그리고 얻어진 유리 블록을 원반 형상으로 슬라이스하고, 동심의 내주 및 외주를 갖도록 코어 드릴을 이용해 절단한다. 혹은 용융 유리를 프레스 성형해 원반상으로 성형한다.There is no restriction | limiting in particular as a method of manufacturing a glass substrate from the said glass component, A well-known manufacturing method can be used so far. For example, the oxides, carbonates, nitrates, hydroxides, and the like corresponding to the raw materials of the respective components are weighed at a desired ratio, and sufficiently mixed into powder to obtain a combination of the raw materials. This is put into, for example, a platinum crucible in an electric furnace heated to 1300-1550 ° C., dissolved and clarified, stirred and homogenized, and then the molten glass is poured into a preheated mold and gradually cooled to form a glass block. . Next, it is reheated to near the glass transition point, and after that, it is gradually cooled and straightened. And the obtained glass block is sliced in disk shape, and it cuts using a core drill so that it may have concentric inner and outer periphery. Or the molten glass is press-molded and formed into disk shape.

본 발명과 관련되는 유리 기판은 다음의 여러 가지 물성을 만족시키는 것이 바람직하다. 우선, 비탄성률(E/ρ)이 30 이상인 것이 바람직하다. 강화 처리를 실시하지 않은 유리 기판에서는 기계적 강도는 기판의 강성에 의존한다. 따라서, 비탄성률이 30보다 작으면 기판의 기계적 강도가 불충분하게 되어, 하드 디스크 드라이브 탑재시에 외부로부터 충격을 받았을 때, 하드 디스크 드라이브 부재와의 체결 부분으로부터 파손되기 쉬워진다. 더 바람직한 비탄성률(E/ρ)은 31 이상이다.It is preferable that the glass substrate which concerns on this invention satisfy | fills the following various physical properties. First, it is preferable that the inelastic modulus (E / ρ) is 30 or more. In glass substrates not subjected to the strengthening treatment, the mechanical strength depends on the rigidity of the substrate. Therefore, when the inelasticity is less than 30, the mechanical strength of the substrate is insufficient, and when the hard disk drive is impacted from the outside when the hard disk drive is mounted, it is easily broken from the fastening portion with the hard disk drive member. More preferred inelastic modulus (E / ρ) is at least 31.

Vickers 경도 Hv는 450-650의 범위가 바람직하다. Vickers 경도가 450보다 작으면 충격에 의한 파손이나 제조 공정 내에서의 손상이 생기기 쉬워진다. 한편, Vickers 경도 Hv가 650보다 크면 유리 기판이 연마가공에서 연마될 수 있는 비율(rate)이 저하해 원하는 평활면을 얻기가 어려워지고, 연마 가공 후의 테이프 텍스처 연마 가공에 의한 기판의 표면 형상의 조정이나 테이프 혹은 스크럽 세정 처리에 의한 표면 결함 수정 등이 곤란해진다. Vickers 경도를 이러한 범위로 하려면, 예를 들면 목적으로 하는 주된 물성을 저하시키지 않는 범위에서, 유리중의 이온 충전율을 높이도록 성분 비율을 조정하면 좋다. Vickers 경도 Hv의 바람직한 하한치는 500이며, 더 바람직한 상한은 630이다.Vickers hardness Hv is preferably in the range of 450-650. If the Vickers hardness is less than 450, damage due to impact or damage in the manufacturing process is likely to occur. On the other hand, if the Vickers hardness Hv is larger than 650, the rate at which the glass substrate can be polished in polishing decreases, making it difficult to obtain a desired smooth surface, and the surface shape of the substrate is adjusted by polishing the tape texture after polishing. Or surface defect correction by tape or scrub cleaning treatment becomes difficult. In order to make Vickers hardness into such a range, the component ratio may be adjusted so that the ion filling rate in glass may be improved, for example in the range which does not reduce the target main physical property. The lower limit with preferable Vickers hardness Hv is 500, and a more preferable upper limit is 630.

알칼리용출량 A는 2.5인치 디스크 당 350ppb 이하가 바람직하다. 알칼리용출량 A가 350ppb보다 많으면 유리 기판을 정보 기록용 매체로서 이용했을 경우에, 유리 기판 표면에 형성되는 자성막등의 기록막이, 기판으로부터 알칼리 성분의 용출에 의해서 저하된다. 더 바람직한 알칼리용출량 A는 320ppb 이하이다.The alkali elution amount A is preferably 350 ppb or less per 2.5 inch disk. If the alkali elution amount A is greater than 350 ppb, when a glass substrate is used as the information recording medium, recording films such as magnetic films formed on the surface of the glass substrate are lowered by elution of the alkali component from the substrate. More preferable alkali elution amount A is 320 ppb or less.

Si 용출량 S는 2.5인치 디스크 당 500ppb 이하가 바람직하다. SiO2는 유리 골격의 주성분이기 때문에, Si 용출량 S는 유리 기판의 내수성, 즉 물에 대한 안정도의 지표가 된다. Si 용출량 S가 500ppb 보다 많으면 내수성이 뒤떨어져서, 제조 공정에서 연마나 세정 공정에서의 생산 안정성이 저하되고, 또 유리 기판이 대기중의 수분에 의한 영향을 받기 쉽기 때문에 보존 안정성이 나빠진다. Si 용출량 S의 더 바람직한 범위는, 2.5인치 디스크 당 400ppb 이하이다.Si elution amount S is preferably 500 ppb or less per 2.5 inch disk. Since SiO 2 is a main component of the glass skeleton, the Si elution amount S becomes an index of water resistance of the glass substrate, that is, stability to water. When the Si elution amount S is more than 500 ppb, water resistance is inferior, production stability in a grinding | polishing or washing | cleaning process in a manufacturing process falls, and storage stability worsens because a glass substrate is easy to be influenced by the moisture in air | atmosphere. The more preferable range of Si elution amount S is 400 ppb or less per 2.5 inch disk.

파괴인성치 Kc는 O.80 이상이 바람직하다. 유리 기판을 정보 기록용 매체로서 이용하는 경우, 파괴 인성치 Kc가 O.80 미만이면, 유리 기판 표면에 자성막과 같은 기록막을 형성하는 공정에서 적용되는 압력 등에 의해 유리 기판에 균열이 생길 수 있다. 또, 파괴인성치 Kc가 O.80 미만이면, 기판의 기계 가공에 대해 기판이 손상을 받기 쉬워져, 가공 수득률이 크게 저하한다. 파괴인성치 Kc의 더 바람직한 범위는 O.85 이상이다.The fracture toughness Kc is preferably at least 80. When the glass substrate is used as an information recording medium, if the fracture toughness value Kc is less than 0.80, the glass substrate may be cracked due to the pressure applied in the step of forming a recording film such as a magnetic film on the surface of the glass substrate. Moreover, when fracture toughness value Kc is less than 0.80, a board | substrate will be easy to be damaged with respect to the machining of a board | substrate, and a process yield will fall large. The more preferable range of fracture toughness Kc is O.85 or more.

본 발명의 유리 기판은, 그 크기에 한정은 없고 3.5, 2.5, 1.8인치, 혹은 그것 이하 직경의 디스크, 그 두께는 2mm나 lmm, O.63mm, 및 더 얇은 디스크를 제조하기 위해 사용될 수 있다. The glass substrates of the present invention can be used to produce discs of 3.5, 2.5, 1.8 inches, or less diameter, the thickness of which is 2 mm or lmm, 0.63 mm, and thinner discs, without being limited in size.

다음에, 본 발명의 유리 기판을 이용한 정보 기록용 매체에 대해 설명한다.정보 기록용 매체의 기판으로서 본 발명의 유리 기판을 이용하면, 내구성 및 고기록 밀도가 실현된다. 도면을 참조로 하여, 그러한 정보 기록용 매체에 대해 설명할 것이다.Next, an information recording medium using the glass substrate of the present invention will be described. When the glass substrate of the present invention is used as the substrate of the information recording medium, durability and high recording density are realized. With reference to the drawings, such an information recording medium will be described.

도 2는 자기 디스크의 사시도이다. 이 자기 디스크 D는, 원형의 유리 기판 (1)의 표면에 자성막 (2)를 직접 형성한 것이다. 자성막 (2)의 형성 방법으로서는 종래 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면 자성 입자를 분산시킨 열경화성 수지를 기판상에 스핀-코팅해 형성하는 방법, 또는 스푸터링(sputtering), 무전해도금(electroless plating)에 의해 형성하는 방법을 들 수 있다. 스핀-코팅법은 약 O.3-1.2μm의 막 두께를 제공하고, 스푸터링은 약 O.04-0.08μm의 막 두께를 제공하며, 무전해도금은 약 O.05-0.1μm의 막 두께를 제공한다. 박막화 및 고밀도화의 관점에서는 스푸터링 및 무전해도금에 따르는 막형성이 바람직하다.2 is a perspective view of a magnetic disk. This magnetic disk D forms the magnetic film 2 directly on the surface of the circular glass substrate 1. As the formation method of the magnetic film 2, a conventionally well-known method can be used. For example, the method of spin-coating and forming the thermosetting resin which disperse | distributed magnetic particle on a board | substrate, or the method of forming by sputtering and electroless plating is mentioned. The spin-coating method provides a film thickness of about O.3-1.2 μm, sputtering provides a film thickness of about O.04-0.08 μm, and electroless plating is about O.05-0.1 μm. Provide thickness. In view of thinning and high density, film formation due to sputtering and electroless plating is preferable.

자성막에 이용하는 자성 재료로서는, 특히 한정은 없고 종래 공지의 것을 사용할 수 있지만, 높은 보자력을 얻기 위해서 그것의 주성분으로서 높은 결정 이방성을 나타내는 Co를 함유하고, 잔류 자속밀도를 조정할 목적으로, Ni나 Cr을 첨가한 Co계 합금 등이 매우 적합하다. 구체적으로는, Co를 주성분으로 하는 합금의 예로는 CoPt, CoCr, CoNi, CoNiCr, CoCrTa, CoPtCr, CoNiPt, CoNiCrPt, CoNiCrTa, CoCrPtTa, CoCrPtB, CoCrPtSiO 등을 들 수 있다. 자성막은 비자성막(예를 들면, Cr, CrMo, CrV 등)으로 분할해 노이즈의 저감을 도모한 다층 구성(예를 들면, CoPtCr/CrMo/CoPtCr, CoCrPtTa/CrMo/CoCrPtTa 등)으로 해도 좋다. 상기의 자성 재료 대신에, 페라이트계, 철/희토류계나, SiO2, BN 등의 비자성막중에 분산된 Fe, Co, FeCo, CoNiPt 등의 자성 입자를 갖는 그라눌라형(granular type)의 자성 재료를 사용하는 것도 가능하다. 또, 자성막은 내면형 또는 수직형의 어느 기록 형식일 수 있다.The magnetic material used for the magnetic film is not particularly limited, and conventionally known ones can be used, but Ni and Cr are included for the purpose of adjusting the residual magnetic flux density by containing Co exhibiting high crystal anisotropy as its main component in order to obtain high coercive force. Co-based alloys having added thereto are very suitable. Specifically, examples of the alloy containing Co as a main component include CoPt, CoCr, CoNi, CoNiCr, CoCrTa, CoPtCr, CoNiPt, CoNiCrPt, CoNiCrTa, CoCrPtTa, CoCrPtB, CoCrPtSiO and the like. The magnetic film may be divided into a nonmagnetic film (for example, Cr, CrMo, CrV, etc.) to have a multilayer structure (for example, CoPtCr / CrMo / CoPtCr, CoCrPtTa / CrMo / CoCrPtTa, etc.) to reduce noise. Instead of the above magnetic materials, granular type magnetic materials having magnetic particles such as Fe, Co, FeCo, CoNiPt, etc. dispersed in a ferrite-based, iron / rare earth-based, nonmagnetic film such as SiO 2 , BN, etc. It is also possible to use. In addition, the magnetic film may be of any recording type, either internal or vertical.

또, 자기 헤드의 미끄러짐을 좋게 하기 위해, 자성막의 표면에 윤활제를 얇게 코팅해도 괜찮다. 윤활제로서는, 예를 들면 프레온계(CFC-계) 용매로 희석한, 액체 윤활제인 퍼플루오로폴리에테르(PFPE)를 들 수 있다.In addition, in order to improve the slipping of the magnetic head, a thin lubricant may be coated on the surface of the magnetic film. Examples of the lubricant include perfluoropolyether (PFPE), which is a liquid lubricant diluted with a freon-based (CFC-based) solvent.

필요하다면, 기초층이나 보호층이 추가로 형성돼도 된다. 자기 디스크에 있어서의 기초층의 재료는 자성막에 따라 선택된다. 기초층의 재료로서는, 예를 들면, Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, Al, Ni 등의 비자성 금속으로부터 선택되는 적어도 일종 이상의 재료를 들 수 있다. Co를 주성분으로 하는 자성막의 경우에는, 자기특성 향상 등의 관점으로부터 Cr 단체나 Cr 합금인 것이 바람직하다. 또, 기초층은 단층으로 이루지거나, 동일 또는 이종의 층을 적층한 복수층 구조라고 해도 상관없다. 예를 들면, Cr/Cr, Cr/CrMo, Cr/CrV, NiAl/Cr, NiAl/CrMo, NiAl/CrV 등의 다층 기초층이라고 해도 좋다.If necessary, an additional base layer or a protective layer may be formed. The material of the base layer in the magnetic disk is selected according to the magnetic film. As a material of a base layer, at least 1 type or more materials chosen from nonmagnetic metals, such as Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, Al, Ni, are mentioned, for example. In the case of a magnetic film containing Co as a main component, it is preferable that it is Cr or a Cr alloy from the viewpoint of improving magnetic properties. The base layer may be formed of a single layer or may be a multilayer structure in which the same or different layers are laminated. For example, it may be a multilayer base layer such as Cr / Cr, Cr / CrMo, Cr / CrV, NiAl / Cr, NiAl / CrMo, NiAl / CrV.

자성막의 마모나 부식을 방지하는 보호층으로서는, 예를 들면, Cr 층, Cr 합금층, 탄소층, 수소화 탄소층, 산화 지르코늄층, 실리카층 등을 들 수 있다. 이러한 보호층은, 인-라인형 스푸터링 장치를 사용하여 기초층, 자성막 등으로 연속 단계로 형성될 수 있다. 보호층은, 단층으로 이루어질 수 있고, 혹은, 다중층 보호층을 형성하기 위해 서로의 위에 놓인 동일 또는 이종의 복수의 층으로 이루어질 수도 있다. 덧붙여 상기 설명된 보호층 상에, 혹은 상기 보호층 대신에, 다른 보호층을 형성하는 것도 가능하다. 예를 들면, 상기 보호층 대신에, Cr 층 위에 알코올계의 용매로 희석한 테트라알콕시실란에서 분산된 콜로이드 실리카 미립자를 적용하고 그 후 소성해서 산화 규소(SiO2)층이 형성될 수도 있다.As a protective layer which prevents abrasion and corrosion of a magnetic film, a Cr layer, a Cr alloy layer, a carbon layer, a hydrogenation carbon layer, a zirconium oxide layer, a silica layer, etc. are mentioned, for example. Such a protective layer may be formed in a continuous step with a base layer, a magnetic film, or the like using an in-line sputtering apparatus. The protective layer may consist of a single layer or may consist of a plurality of layers of the same or different types placed on top of each other to form a multilayer protective layer. In addition, it is also possible to form another protective layer on the above-described protective layer or instead of the protective layer. For example, instead of the protective layer, colloidal silica fine particles dispersed in tetraalkoxysilane diluted with an alcohol solvent on a Cr layer may be applied and then fired to form a silicon oxide (SiO 2 ) layer.

이상, 정보 기록용 매체의 실시예로서 자기디스크에 대해 설명했지만, 정보 기록용 매체는 이것으로 한정되는 것이 아니고, 광자기디스크나 광디스크 등에도 본 발명의 유리 기판을 이용할 수 있다.As mentioned above, although the magnetic disk was demonstrated as an example of an information recording medium, the information recording medium is not limited to this, The glass substrate of this invention can also be used for an optical magnetic disk, an optical disk, etc.

[도 1] 본 발명의 유리 기판의 제조 공정도예이다.1 is a manufacturing process diagram of a glass substrate of the present invention.

[도 2] 본 발명의 정보 기록용 매체의 일례를 나타내는 사시도이다.2 is a perspective view showing an example of an information recording medium of the present invention.

[도 3] Vickers 압자로 유리 기판의 표면에 압력을 가했을 때 생성되는 압흔과 크랙의 모식도이다.It is a schematic diagram of the indentation and crack which generate | occur | produce when pressure is applied to the surface of a glass substrate with a Vickers indenter.

[도 4] 환상 굴곡 강도 시험의 개략 설명도이다.4 is a schematic explanatory diagram of an annular bending strength test.

부호의 설명Explanation of the sign

1 유리 기판1 glass substrate

2 자성막2 magnetic film

D 자기 디스크D magnetic disk

11 상면(기록면)11 Top View (Recording Surface)

12 하면(기록면)12 Bottom (recording side)

13 강화층13 reinforcement layer

실시예Example 1 One

실시예 1-9, 비교예 1-4Example 1-9, Comparative Example 1-4

실시예 1-9 및 비교예 1-4 중의 하나에 각각 해당하는 다른 유리 조성물들의 각각에 대해, 정해진 양의 원료 분말을 백금 도가니에 칭량해 넣어 혼합한 후, 전기로 중에서 1550℃로 용해했다. 원료가 충분히 용해한 후, 교반 날개를 유리 용융액에 삽입해, 약 1시간 동안 교반했다. 그 후, 교반 날개를 꺼내, 30분간 정치한 후, 주형에 융액을 흘려 넣는 것에 의해서 유리 블록을 얻었다. 그 후 각 유리의 유리 전이점 부근까지, 유리 블록을 재가열하고, 서서히 냉각시켜서 곧바르게 했다. 얻어진 유리 블록을 두께 O.635mm의 디스크로 슬라이스해, 동심의 내주 (내경20mm), 외주(외경 65mm)를 갖도록 커터를 이용해 절단했다.For each of the other glass compositions corresponding to each of Examples 1-9 and Comparative Examples 1-4, a predetermined amount of raw powder was weighed into a platinum crucible, mixed, and then dissolved at 1550 ° C. in an electric furnace. After fully dissolving the raw materials, the stirring blade was inserted into the glass melt and stirred for about 1 hour. Then, the stirring blade was taken out and left still for 30 minutes, and the glass block was obtained by pouring a melt into a mold. After that, the glass block is reheated to the vicinity of the glass transition point of each glass, and gradually cooled to did. The obtained glass block was sliced into a disk of thickness 635 mm, and cut using a cutter to have a concentric inner circumference (inner diameter of 20 mm) and outer circumference (outer diameter of 65 mm).

350℃로 가열한, 70mol%의 NaNO3와 30mol%의 KNO3의 질산염 혼합 용액에, 상기 제작한 유리 기판을 O.5 시간동안 침지하여, 유리 기판의 표면 이하에 강화층을 형성했다. 그리고, 유리 기판의 상하 양면을 산화 세륨에 의해서 거친 연마 및 미세-연마를 실시하여 총 100μm의 깊이를 제거한 후, 세정을 실시해 실시예 1-9 및 비교예 1-3의 유리 기판을 제작했다. 덧붙여 비교예 4의 유리 기판에 있어서의 연마량은 상하 양면에서 총 20μm로 했다. 제작한 유리 기판에 대해 각종 물성을, 상기 측정 방법 및 하기 측정 방법에 따라 평가했다. 측정 결과를 표 1에 나타내 보인다.The produced glass substrate was immersed in a nitrate mixed solution of 70 mol% NaNO 3 and 30 mol% KNO 3 heated at 350 ° C. for 0.5 hour to form a reinforcing layer below the surface of the glass substrate. The upper and lower surfaces of the glass substrate were roughly polished and fine-polished with cerium oxide to remove a total depth of 100 µm, and then washed to prepare glass substrates of Examples 1-9 and Comparative Examples 1-3. In addition, the grinding | polishing amount in the glass substrate of the comparative example 4 was made into 20 micrometers in total from both upper and lower sides. Various physical properties were evaluated about the produced glass substrate according to the said measuring method and the following measuring method. The measurement results are shown in Table 1.

(강화층의 두께)(Thickness of the reinforced layer)

연마 처리 후의 유리 기판의 외주면, 내주면, 기록면을 편광 현미경에 의해서 관찰해, 강화층의 두께를 측정했다.The outer circumferential surface, the inner circumferential surface, and the recording surface of the glass substrate after the polishing treatment were observed with a polarizing microscope, and the thickness of the reinforcing layer was measured.

(원환(Annular) 강도비)(Annular strength ratio)

도 4에 나타내 보이는 장치를 이용해 유리 기판의 원환 굴곡강도 시험을 실시했다. 구체적으로는, 유리 기판에 스틸 볼로서 하중을 더했고, 유리 기판이 파괴했을 때의 하중이 파괴 하중으로서 측정되었다. 이 원환 굴곡강도 시험을, 화학 강화를 한 경우 그리고 화학 강화를 하지 않은 경우에 대해 각각 수행하고, 화학 강화를 하지 않았을 경우의 강도에 대한 화학 강화를 했을 경우의 강도(파괴 하중) F의 비, 즉 F화학강화/F비화학강화를 산출했다.The annular bending strength test of the glass substrate was done using the apparatus shown in FIG. Specifically, a load was added to the glass substrate as a steel ball, and the load when the glass substrate broke was measured as the breaking load. This toroidal flexural strength test is performed for each case of chemical strengthening and without chemical strengthening, and the ratio of the strength (breakdown load) F when the chemical strengthening to the strength without chemical strengthening is performed. In other words, F chemical strengthening / F non-chemical strengthening was calculated.

(평탄도)(flatness)

Veeco Instruments에 의해 제조된 디스크 형상 측정기 WYK0 400G를 이용해 유리 기판의 평탄도를 측정했다. The flatness of the glass substrate was measured using a disk shape meter WYK0 400G manufactured by Veeco Instruments.

[표 1]TABLE 1

Figure 112006029691951-pct00001
Figure 112006029691951-pct00001

표 1은 하기를 분명히 보여준다. 실시예 1-9의 유리 기판에서는, 화학 강화하지 않았던 경우에 비해 강도가 50% 이상 향상된, 1.5 이상의 원환강도비를 가졌다. 유리 기판은 평탄도가 3μm 이하로, 정보 기록용 매체로서의 사용을 위해 만족스러웠다. Table 1 clearly shows the following. In the glass substrate of Example 1-9, it had a toroidal ring strength ratio of 1.5 or more which improved the strength 50% or more compared with the case where it was not chemically strengthened. The glass substrate had a flatness of 3 µm or less, which was satisfactory for use as an information recording medium.

한편, 알칼리 금속 산화물의 함유량이 많았던 비교예 1의 유리 기판에서는, 화학강화 처리에서 과도하게 이온 교환 반응이 진행해 강화층의 두께가 120μm에 달해, 연마 처리 후에도 기록면에 70μm의 강화층이 잔존했다. 이 때문에, 알칼리용출량이 623ppb로 많아지고, 또 평탄도도 33μm로 매우 높아져, 정보 기록용 매체에서의 사용에 부적합한 유리 기판이 되었다. 비교예 2의 유리 기판에서는, Al203 /B203이 1.3으로 화학 강화 처리에서 이온 교환 반응이 안정되게 진행하지 않고 강화층은 형성되지 않았다. 이 때문에 유리 기판은 증가된 강도를 가지지 못했다. 또, 유리 기판은 취약한 구조를 가졌고 Si 용출량이 709ppb로 높았다. 비교예 3의 유리 기판에서는, 알칼리 금속 산화물의 총량이 4.0%로 적었기 때문에 화학 강화 처리에서 강화층이 형성되지 않았다. 더욱이, 유리 기판은 655만큼 높은 Vickers 경도를 가져, 가공성이 저하되고, 또 파괴인성이 O.78만큼 낮아서, 강도가 낮았다. 또 Si 용출량 S가 563ppb로 높았다. 비교예 4의 유리 기판은, 실시예 5의 유리 기판과 같은 유리 조성을 가졌지만, 연마 처리에 의한 연마량을 상하 양면에 20μm(한 면 10μm)로 해서 기록면에 강화층을 5μm 잔존시킨 것이다. 이러한 유리 기판은 연마 후에도 평탄도가 15μm만큼 높았고, 따라서 정보 기록 매체용으로서의 사용에 부적합했다.On the other hand, in the glass substrate of Comparative Example 1 in which the alkali metal oxide content was large, the ion exchange reaction proceeded excessively in the chemical strengthening treatment, and the thickness of the reinforcing layer reached 120 μm, and the reinforcing layer of 70 μm remained on the recording surface even after the polishing treatment. For this reason, alkali elution amount increased to 623 ppb, and also the flatness became very high as 33 micrometers, and it became a glass substrate unsuitable for use in the information recording medium. In the glass substrate of Comparative Example 2, Al 2 O 3 / B 2 O 3 was 1.3, and the ion exchange reaction did not proceed stably in the chemical strengthening treatment, and no reinforcing layer was formed. Because of this, the glass substrate did not have increased strength. In addition, the glass substrate had a fragile structure and had a high Si elution rate of 709 ppb. In the glass substrate of the comparative example 3, since the total amount of alkali metal oxide was small at 4.0%, the strengthening layer was not formed in the chemical strengthening process. Moreover, the glass substrate had a Vickers hardness as high as 655, the workability was lowered, and the fracture toughness was as low as O.78, and the strength was low. Moreover, Si elution amount S was 563 ppb high. Although the glass substrate of the comparative example 4 had the same glass composition as the glass substrate of Example 5, 5 micrometers of reinforcement layers remain | survived on the recording surface with the amount of polishing by a grinding | polishing process being set to 20 micrometers (10 micrometers on one side) on both upper and lower sides. Such glass substrates were as high as 15 µm even after polishing, and thus were unsuitable for use for information recording media.

다음에, 화학 강화용액의 성분과 화학 강화 처리의 온도 및 시간을 변화시키고, 유리 기판에 형성되는 강화층의 두께를 측정했다. 여기서 유리 조성물은 실시예 1의 것을 사용했다. 그리고 그 후, 소정 두께로 연마해 각 유리 기판의 원환강도비 및 평탄도를 측정했다. 결과를 표 2에 나타내 보인다.Next, the components of the chemical strengthening solution and the temperature and time of the chemical strengthening treatment were changed, and the thickness of the strengthening layer formed on the glass substrate was measured. The glass composition used the thing of Example 1 here. Then, it grind | polished to the predetermined thickness and measured the ring strength ratio and flatness of each glass substrate. The results are shown in Table 2.

[표 2]TABLE 2

Figure 112006029691951-pct00002
Figure 112006029691951-pct00002

표 2에 의하면, 질산염의 성분비나 처리 온도, 처리 시간을 바꾸는 것으로 유리 기판에 형성되는 강화층의 두께를 제어할 수 있다는 것을 알 수 있다. 또, 기 록면에 형성된 강화층을 연마 삭제해, 유리 기판의 외주면 및 내주면에게만 강화층을 잔존시킨 상태로 하는 것에 의해서, 원환굴곡강도를 1.5-2.3배로 증가시킬 수 있고, 기록면의 평활도를 3μm 이하로 감소시킬 수 있다. According to Table 2, it turns out that the thickness of the reinforcement layer formed in a glass substrate can be controlled by changing the component ratio, processing temperature, and processing time of a nitrate. Further, by removing the reinforcing layer formed on the recording surface and leaving the reinforcing layer only on the outer and inner circumferential surfaces of the glass substrate, the ring bending strength can be increased by 1.5 to 2.3 times, and the smoothness of the recording surface is 3 μm or less. Can be reduced.

Claims (7)

삭제delete 화학 강화된 정보 기록 매체용 유리 기판으로, Glass substrate for chemically strengthened information recording media, 화학 강화에 의한 강화층이 외주면 및 내주면에 존재하지만, 정보 기록층이 형성되어 있는 면에는 실질적으로 존재하지 않고, Although a reinforcing layer by chemical strengthening exists on the outer circumferential surface and the inner circumferential surface, it does not substantially exist on the surface on which the information recording layer is formed, 상기 정보 기록층이 형성되는 면에 있어서의 유리 성분이 중량 %로,The glass component in the surface on which the information recording layer is formed is in weight%, SiO2: 40-75%;SiO 2 : 40-75%; Al203: 3-20%;Al 2 0 3 : 3-20%; B203: 0-8%(단, 0을 포함한다);B 2 0 3 : 0-8% (including 0); Li2O, Na2O 및 K2O로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 하나의 알칼리금속산화물의 총량: 5-15%;,Total amount of at least one alkali metal oxide selected from the group consisting of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O: 5-15% ;, SiO2+Al2O3+B203: 60-90%;SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 0 3 : 60-90%; R'O(R'= Mg, Ca, Sr, Ba, Zn)의 총량: 0-20%(단, 0을 포함한다);Total amount of R'O (R '= Mg, Ca, Sr, Ba, Zn): 0-20% (including 0); TiO2+ZrO2+Lnx0y: 0-15%(단 0을 포함한다, 또 LnxOy는 란타노이드 금속 산화물 및 Y2O3, Nb205, Ta205로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 화합물을 의미한다)이고,TiO 2 + ZrO 2 + Ln x 0 y : 0-15% (Including 0, where Ln x O y is a group consisting of lanthanoid metal oxide and Y 2 O 3 , Nb 2 0 5 , Ta 2 0 5 Means at least one compound selected from 1.5<Al203/B203 또는 B203=0%를 만족하는 정보 기록 매체용 유리 기판.A glass substrate for an information recording medium satisfying 1.5 <Al 2 0 3 / B 2 0 3 or B 2 0 3 = 0%. 제 2항에 있어서, 중량%로 0.5% 이상의 K2O를 포함하는 정보 기록 매체용 유리 기판.The glass substrate for an information recording medium according to claim 2, comprising 0.5% or more of K 2 O by weight. 제 2항 또는 제 3항에 있어서, 중량%로 1.0% 이상의 B2O3를 포함하는 정보 기록 매체용 유리 기판.The glass substrate for an information recording medium according to claim 2 or 3, which contains 1.0% or more of B 2 O 3 in weight percent. 제 2항 또는 제 3항에 있어서, 중량%로 총 0.5%-13%의 TiO2+ZrO2+LnxOy를 포함하는 정보 기록 매체용 유리 기판.4. A glass substrate according to claim 2 or 3, comprising 0.5% -13% of TiO 2 + ZrO 2 + Ln x O y in total by weight. 제 2항 또는 제 3항에 있어서, 비탄성률(E/ρ)이 30 이상, Vickers 경도 Hv가 450-650, 알칼리용출량 A가 2.5인치 디스크 당 350ppb 이하, Si 용출량 S가 2.5인치 디스크 당 50Oppb 이하, 파괴인성치 Kc가 O.80MPa/m1/2 이상인 것인 정보 기록 매체용 유리 기판.The inelastic modulus (E / ρ) of 30 or more, Vickers hardness Hv of 450-650, alkali elution amount A of 350 ppb or less per 2.5 inch disk, Si elution amount S of 50Oppb or less per 2.5 inch disk. And a fracture toughness Kc of not less than 0.8 MPa / m 1/2 . 제 2항 또는 제 3항에 따른, 유리 기판에 정보 기록층이 형성된 것을 특징으로 하는 정보 기록 매체.An information recording medium according to claim 2 or 3, wherein an information recording layer is formed on the glass substrate.
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